JPWO2013108618A1 - 有機el素子及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
まず、実施の形態1に係る有機EL素子1について、図1を用いて説明する。図1は、実施の形態1に係る有機EL素子の構成を模式的に示す断面図である。
次に、実施の形態1の変形例1に係る有機EL素子について説明する。本変形例に係る有機EL素子は、図1に示す有機EL素子1と基本的な構成は同じであるので、以下、両者の異なる点について説明する。
次に、実施の形態1の変形例2に係る有機EL素子について説明する。本変形例に係る有機EL素子は、図1に示す有機EL素子1と基本的な構成は同じであるので、以下、両者の異なる点について説明する。
次に、実施の形態2に係る有機EL素子について説明する。本実施の形態に係る有機EL素子は、図1に示す有機EL素子1と基本的な構成は同じであるので、以下、両者の異なる点について説明する。また、本実施の形態における有機EL素子の構成は実施の形態1と同様であるので、本実施の形態でも図1を参照しながら説明する。
以下、本実施の形態に係る有機EL素子の変形例について説明する。なお、本変形例の構成は、上記実施の形態1、2のいずれに対しても適用可能である。
まず、変形例1に係る有機EL素子1Aについて、図5を用いて説明する。図5は、変形例1に係る有機EL素子の構成を模式的に示す図である。
次に、変形例2に係る有機EL素子について説明する。
以上、有機EL素子及びその製造方法について、実施の形態及び変形例に基づいて説明したが、本発明は、上記の実施の形態及び変形例に限定されるものではない。例えば、各実施の形態及び変形例に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態や、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で各実施の形態及び変形例における構成要素および機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本発明に含まれる。
11、111 反射電極
12、12A、112 有機層
13、113 透明電極
14、114 透明基板
15 低屈折率層
Claims (15)
- 反射電極と、
前記反射電極に対向して設けられた透明電極と、
前記反射電極と前記透明電極との間に設けられた発光層と、
前記反射電極と前記発光層との間に設けられた低屈折率層とを備え、
前記低屈折率層は、電子あるいは正孔を輸送又は注入する機能を有すると共に、前記発光層よりも屈折率が低く、
前記反射電極の表面と前記発光層の中心発光位置との間の距離は300nm以下であり、
前記反射電極は、Alによって形成されており、
前記発光層にて発生した光の中心発光波長をλとし、
前記発光層の屈折率を基準にしたときの前記低屈折率層と前記発光層との屈折率差をΔnとし、
前記低屈折率層の厚みをdとすると、
Δn×d/λ≦−0.009である
有機EL素子。 - 反射電極と、
前記反射電極に対向して設けられた透明電極と、
前記反射電極と前記透明電極との間に設けられた発光層と、
前記反射電極と前記発光層との間に設けられた低屈折率層とを備え、
前記低屈折率層は、電子あるいは正孔を輸送又は注入する機能を有すると共に、前記発光層よりも屈折率が低く、
前記反射電極の表面と前記発光層の中心発光位置との間の距離は300nm以下であり、
前記反射電極は、Agによって形成されており、
前記発光層にて発生した光の中心発光波長をλとし、
前記発光層の屈折率を基準にしたときの前記低屈折率層と前記発光層との屈折率差をΔnとし、
前記低屈折率層の厚みをdとすると、
Δn×d/λ≦−0.02である
有機EL素子。 - さらに、前記反射電極と前記低屈折率層との間に、電子あるいは正孔を注入又は輸送する有機層を備える
請求項1又は2に記載の有機EL素子。 - 前記低屈折率層は前記発光層に接している
請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機EL素子。 - 当該有機EL素子における屈折率が変化する界面に、回折格子、光拡散層、マイクロレンズ、及びピラミッド構造のいずれか一つを備える
請求項1〜4のいずれか1項に記載の有機EL素子。 - 前記低屈折率層は、電子あるいは正孔を輸送又は注入する機能を有する材料と、当該材料に混合されたナノ粒子とからなる
請求項1〜5のいずれか1項に記載の有機EL素子。 - 前記低屈折率層は、ナノ粒子からなるナノ粒子層と、当該ナノ粒子層の上に積層された、電子あるいは正孔を輸送又は注入する機能を有する材料からなる機能層とを含む
請求項1〜5のいずれか1項に記載の有機EL素子。 - 前記低屈折率層は、各々が電子あるいは正孔を輸送又は注入する機能を有する2つの機能層と、当該2つの機能層の間に形成された、ナノ粒子からなるナノ粒子層とを含む
請求項1〜5のいずれか1項に記載の有機EL素子。 - 前記ナノ粒子の粒径が前記低屈折率層の膜厚以下である
請求項6〜8のいずれか1項に記載の有機EL素子。 - 前記ナノ粒子は多孔質粒子である
請求項6〜9のいずれか1項に記載の有機EL素子。 - 前記ナノ粒子の屈折率は、1.5以下である
請求項6〜10のいずれか1項に記載の有機EL素子。 - 反射電極を形成する工程と、
前記反射電極の上に、ナノ粒子を含む低屈折率層を形成する工程と、
前記低屈折率層の上に発光層を形成する工程と、
前記発光層の上に透明電極を形成する工程と、を含み、
前記低屈折率層は、電子あるいは正孔を輸送又は注入する機能を有すると共に、前記発光層よりも屈折率が低い
有機EL素子の製造方法。 - 前記低屈折率層を形成する工程において、電子あるいは正孔を輸送又は注入する機能を有する材料にナノ粒子を混合することで前記低屈折率層を形成する
請求項12に記載の有機EL素子の製造方法。 - 前記低屈折率層を形成する工程は、ナノ粒子からなるナノ粒子層を形成する工程と、前記ナノ粒子層の上に電子あるいは正孔を輸送又は注入する機能を有する材料からなる機能層を形成する工程とを含む
請求項12に記載の有機EL素子の製造方法。 - 前記低屈折率層を形成する工程は、電子あるいは正孔を輸送又は注入する機能を有する材料からなる第1の機能層を形成する工程と、前記第1の機能層の上にナノ粒子からなるナノ粒子層を形成する工程と、前記ナノ粒子層の上に電子あるいは正孔を輸送又は注入する機能を有する材料からなる第2の機能層を形成する工程とを含む
請求項12に記載の有機EL素子の製造方法。
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