JPWO2011152359A1 - セラミックスを含有したチタン合金複合粉およびその製造方法、これを用いた緻密化されたチタン合金材およびその製造方法 - Google Patents

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Abstract

チタン合金スクラップおよびチタン合金インゴットを原料として、粉末法により、品質の優れたチタン合金粉、チタン合金材およびその製造方法を提供する。チタン合金原料を水素化して水素化チタン合金とし、粉砕・篩別により、水素化チタン合金粉を得、SiC、TiC、SiOX、TiOX(ここで、添字xは、1≦x≦2の範囲をとる実数である)、またはAl2O3から選択されたセラミックス粉を添加し、水素化チタン合金粉とセラミックス材料粉との混合物を脱水素処理するチタン合金複合粉。また、このチタン合金複合粉をCIP処理後、次いでHIP処理して得られる緻密なチタン合金材、及びこれらの製造方法、およびこのチタン合金複合粉をカプセル封入後HIP処理して得られる緻密なチタン合金材及びこれらの製造方法。

Description

本願発明は、チタン合金複合粉およびその製造方法、これを用いたチタン合金材およびその製造方法に係り、特に、チタン合金スクラップまたはチタン合金インゴットを原料としたチタン合金材料およびその製造方法に関する。
チタン合金は、中でも特にTi−6Al−4V合金は、航空機用として古くから知られている。このチタン合金は、Al−V合金を適切な量だけ配合した後、プレス成形してブリケットとし、次いで前記ブリケットを相互に接合することで溶解用電極とし、この溶解用電極を真空アーク溶解炉にセットして真空中で溶解して、合金インゴットを製造する真空アーク溶解法で製造される。または、チタン材およびAl−V母合金からなる溶解原料をハースに供給して電子ビームを照射してこれらを溶解させ、この溶湯を下流に設けた鋳型に流し込んで合金インゴットを製造する電子ビーム溶解法によっても製造される。
しかしながら、溶解法においては、合金原料である微細な顆粒状原料を溶湯に分散させようとしても、顆粒状原料同士が溶解時に溶湯内で凝集し、均一に分散させることが難しい、という課題を有する。
さらに、Ti−6Al−4V合金では、合金原料であるAl−V母合金が高価なために、結果的に溶製されたチタン合金インゴットのコストが高価になり、更なる市場拡大のためには、現状に比べて安価なチタン合金材の製造方法が求められている。
上述の溶解法に対して、粉末法においては、原料粉末と微細粒子の混合が均一であれば、焼結後の製品も微細粒子が均一に分散した状態が維持される。
しかしながら、チタン合金粉は、純チタン粉に比べて、加工性あるいは成形性が悪く、その結果、焼結密度が上がりにくいという別の課題があることが知られている。特に、Ti−6Al−4V合金に対しては、塑性変形能が小さく、よって、粉末法による通常の方法では、焼結密度が上がり難いという課題がある(例えば、特許文献1参照)。
そのために、6Al−4V合金の粉末法では、チタン合金粉末ではなく、純チタン粉末とAl−40%V金粉末を原料とする素元素混合法(以降、BE法「Blended Elemental Powder Metallurgy Process」と呼ぶ場合がある。)が用いられている。
しかしながら、素元素混合法の場合に用いるAl−40%V粉末またはAl粉末およびV粉末は、いずれも非常に高価であるために、粉末法で製造したチタン合金も非常に高価なものとなる。
また、通常は、粉末成形された固形分を真空焼結後、更に、HIP(Hot Isostatic Press、熱間等方圧圧縮)処理することにより緻密なチタン合金材が製造されている。しかし、一般にHIP処理は、プロセス費用が高く、製品も非常に高額となってしまうために、特殊な用途に限定されているのが現状である。
このような点については、例えば、素粉末混合法をハンター法で製造された安価なチタン粉末とする技術、第三成分を添加して強度や靭性が改善されることを記した公知文献も知られている(例えば、特許文献1および非特許文献1参照)。
しかしながら、特許文献1には、焼結後のチタン合金中の気孔径が、50μm以下と規定されており、同文献に開示されている材料よりも、更に高い強度が求められる材料には、更に気孔径の小さいチタン合金が求められ、この点についての改善が求められている。
このように、チタン合金粉を真空焼結後、更にHIP処理した場合であっても、残留空孔が生じて、製造されたチタン合金材の焼結密度が上がらないという課題が残されている。
特開平5−009630号公報
齋藤卓、古田忠彦著、豊田中央研究所R&Dレビュー Vol.29(1994) No.3(9月)第49頁
本願発明は、チタン合金スクラップまたはチタン合金インゴットを原料として、粉末法により、品質の優れたチタン合金複合粉、チタン合金材およびその製造方法を提供することを目的とする。
かかる実情に鑑み前記課題について鋭意検討を進めたところ、前記チタン合金スクラップまたはチタン合金インゴットを原料として、これを、水素化して、水素化チタン合金とした後、粉砕・篩別して水素化チタン合金粉とし、これに、第三の成分を添加した後、脱水素することにより、または、前記チタン合金スクラップまたはチタン合金インゴットを原料として、これを、水素化して、水素化チタン合金とした後、粉砕・篩別して水素化チタン合金粉とし、脱水素することにより、チタン合金粉を得、これに、第三の成分を添加することにより、組成の均一なチタン合金複合粉を安価に製造できることを知見し、本願発明を完成するに至った。
すなわち、本願発明のチタン合金複合粉は、セラミックス粉が添加されていることを特徴とするもので、さらに、前記セラミックスが、SiC、TiC、SiO、TiOまたは、Alの中から少なくとも1種以上選択されたものであることを好ましい態様とするものである。ここで、添字xは、1≦x≦2の範囲をとる実数である。
本願発明にかかるチタン合金粉は、チタン合金粉に添加するセラミックス粉のそれぞれの添加量が、0.01〜0.15wt%であって、更に、2種以上複合添加した場合の合計量が、0.01〜0.3wt%であることを好ましい態様とするものである。
本願発明にかかるチタン合金粉は、チタン合金粉の粒度が、150μm以下であることを好ましい態様とするものである。
本願発明にかかるチタン合金粉は、前記チタン合金粉原料が、アルミニウムおよびバナジウムを含有、または、アルミニウムおよびバナジウムに加えてジルコニウム、スズ、モリブデン、鉄、クロムの中から少なくとも1種または2種以上含有されていることを特徴とするものである。
本願発明にかかるチタン合金粉の製造方法は、チタン合金原料を水素化して水素化チタン合金原料とした後、粉砕して水素化チタン合金粉とし、セラミックス粉を添加してから脱水素するか、または、脱水素してからセラミックス粉を添加混合することを特徴とするものである。
本願発明に係るチタン合金材の製造方法は、上述のチタン合金複合粉を、CIP処理(Cold Isostatic Press、冷間等方圧圧縮)後、次いでHIP処理する、または、上述のチタン合金複合粉をカプセル封入後HIP処理することを好ましい態様とするものである。
本願発明に係るチタン合金材は、上述の方法で製造されたものであることを特徴とするものである。
更に、本願発明に係るチタン合金材の真密度に対する合金材の密度の比が、99%以上であることを好ましい態様とするものである。
以上本願発明に係るチタン合金粉は、溶解および凝固を経ないため、セラミックス成分の分布がCIP処理後、次いでHIP処理することにより、または、カプセルに封入後HIP処理することにより、添加時の均一微細な状態が維持され、その結果、セラミックス粒子が均一微細に分布したチタン合金材が製造でき、強度、靭性の高いチタン合金材を安価に提供することができるという効果を奏するものである。
本願発明に係るチタン合金粉およびチタン合金材の製造に係る好ましい態様を表すチャート図である(セラミックスを脱水素化前に添加)。 本願発明に係るチタン合金粉およびチタン合金材の製造に係る好ましい態様を表すチャート図である(セラミックスを脱水素化後に添加)。
本願発明の最良の実施形態について図面を参照しながら以下に説明する。
本願発明に係るチタン合金複合粉は、セラミックス粉が配合されていることを特徴とするものである。本願発明に係るセラミックス粉は、SiC、TiC、SiO、TiOまたは、Alの中から少なくとも1種以上選択されたものであることを好ましい態様とするものである。ここで、添字xは、1≦x≦2の範囲をとる実数であり、x=1の場合は、SiOを意味し、x=2の場合には、SiOを意味する。TiOについても同様である。
これらのセラミックス粉をチタン合金粉に適量添加してチタン合金複合粉とした後、これを加圧成形して生成されるチタン焼結合金の製造過程において、チタン合金中に均一に拡散し、結果的にセラミックス粉による分散強化されたチタン焼結合金を得ることができるという効果を奏するものである。
また、前記SiCやTiCは、粉末状のみならず、ウィスカー状のSiCやTiCを使用することもできる。ウィスカー状のSiCやTiCをチタン粉に配合することにより、焼結生成されたチタン合金の強度も格段に改善することができるという効果を奏するものである。前記したウィスカー状のSiCやTiCは、アスペクト比が5〜50の範囲の中にあるものを使用することが好ましい。
また、上述のセラミックス粉のうち、SiCやTiCは、チタン合金と反応して、新たに、TiSiやTiCを生成させることができる。
その結果、TiSiは、チタン合金の靭性を改善することができるという効果を奏するものである。また、成形加工中に生成したTiCは、チタン合金マトリックスとの整合性が良好であり、合金元素としてTiCを添加した場合に比べてより高い強度を発揮させることができるという、従来にはない効果を奏するものである。
本願発明係るチタン合金原料は、チタン合金切粉、チタン合金鍛造片、あるいは、チタン合金棒の端材等の合金スクラップ及び合金インゴットを好適に使用することができる。
これらのチタン合金原料は、所定の長さ、あるいは、大きさにサイジングすることが好ましい。例えば、合金切粉の場合には、100mm以下の長さに、切断することが好ましい。前記のような長さに切断することにより、次工程の水素化工程を効率よく進めることができるという効果を奏するものである。また、鍛造片のようなブロック状の合金スクラップでは、水素化炉に入る程度の大きさであれば特に支障がない。チタン合金インゴットでは、切削加工で切粉とし、所定のサイズに調整することが好ましい。
前記のように処理して調整されたチタン合金原料は、水素雰囲気下での水素化処理工程に供される。水素化処理は、500〜650℃の温度域で行なうことが好ましい。合金原料の水素化処理反応は、発熱反応であるため、水素化反応の進行に伴い、加熱炉による昇温操作は不要であり自発的に水素化反応を進めることができる。
水素化処理された合金原料(以降、単に「水素化チタン合金」と略称する場合がある。)は、室温まで冷却後、アルゴンガス等の不活性雰囲気で所定の粒度になるまで粉砕・篩別することが好ましい。続いて、本願発明に係るセラミックス粉を適量添加することが好ましい。
セラミックス粉を添加した水素化チタン合金粉は、次いで、脱水素処理することが好ましく、減圧雰囲気に保持された雰囲気中で高温域まで加熱処理することで効果的に脱水素処理を進めることができる。
脱水素処理温度は、500℃〜800℃の温度域で行うことが好ましい。脱水素反応は、前記の水素化処理反応と異なり吸熱反応であるために、水素化合金粉からの水素の発生がなくなるまで、加熱操作が必要とされる。
前記脱水素処理が完了した水素化チタン合金粉は、相互に焼結している場合があり、この場合には、再度、粉砕および篩別処理を行なうことが好ましい。
所定の粒度になるまで粉砕・篩別された水素化チタン合金粉末は、そのまま脱水素処理されても良い。脱水素処理が完了したチタン合金粉に、本願発明に係るセラミックス粉をチタン合金粉に添加混合することが好ましい。この場合の添加・混合はV型混合機等、通常の混合手段を用いることができる。
前述のようにセラミックス粉の添加は、脱水素処理前でも、脱水素処理後でも良い。脱水素処理前にセラミックス粉を添加すると、脱水素処理時のチタン合金粉末の凝集・焼結を防止することができ、また、チタン合金粉末の酸素含有量を低く抑える事が出来る。しかし、脱水素処理炉や、脱水素処理後の粉砕・篩別の設備を添加するセラミックスの品種別管理する必要があり、工程負荷が増えるという欠点も有する。
セラミックス粉を添加する前に脱水素処理を行なうと、脱水素処理をより効率よく行なう事が出来る。また、脱水素炉、粉砕・篩別設備の管理が容易という長所を有する。
本願発明においては、粉砕・篩別後の水素化チタン合金粉の粒度は、10μm〜150μmの範囲に整粒しておくことが好ましい。前記のような粒度範囲に整粒しておくことにより、緻密化工程での緻密化が促進される。
本願発明に用いるセラミックス粉は、SiC、SiO、TiO、TiC、またはAlの粒度から、少なくとも1種以上用いることが好ましい。セラミックス粉の粒度は、0.01〜50μm、より好ましくは0.1〜20μmの範囲が好ましい。
セラミックス粉が、0.01μm未満の微細粉では、チタン合金粉との混合時に第三成分の粉末同士が凝集する場合が有り、好ましくない。一方、セラミックス粉が、50μm超では、分散性が十分でなく好ましくない。
本願発明においては、前記セラミックス粉の配合比率は、TiC、TiO、SiC、SiO、Alの単独添加の場合、それぞれの含有量が0.01〜0.15wt%、2種以上複合添加した場合の合計含有量が0.01〜0.3wt%が好ましい範囲とされる。前記のような範囲に配合することにより、本願発明に係るチタン合金材粉を原料として加工成形処理されたチタン合金材の機械的特性を最大限に引き出すことができる。
本願発明においては、前記緻密化処理は、CIPまたはHIPを適宜、組み合わせて処理することが好ましい。
例えば、上述の方法で得られたチタン合金複合粉をCIPラバーに充填して、100〜200MPaで処理した後、次いで、HIPカプセルに充填し、β変態点を越えない温度において50〜200MPaの圧力で1〜5Hr、HIP処理することが好ましい。このようなCIP処理後、次いで行うHIP処理を行なうことにより緻密化されたチタン合金材料を得ることができる。
また、前記した上述の方法で得られたチタン合金複合粉を、CIP処理しないで、HIPカプセルに充填し、β変態点を越えない温度において50〜200MPaの圧力で1〜5Hr、HIP処理することが好ましい。このようなHIP処理単独でも行なうことにより緻密化されたチタン合金材料を得ることができる。
次に、合金スクラップに配合した各種セラミックス粉の添加によるチタン合金材には、前記した焼結過程でその作用効果を奏するものである。
そこで、本願発明に係るセラミックス粉の個別の効果について以下に述べる。
SiC添加の作用効果
水素化合金粉に添加するSiCは、市販されている粉末状の試料を用いることができる。 当該実施態様においては、前記チタン合金粉の重量に対して、SiC粉を0.01%〜0.15%の範囲に配合することが好ましい。また、添加するSiCの粒度は0.01μm〜50μmが好ましく、更には0.1μm〜20μmがより好ましい。
前記した範囲に制御することにより、本願発明に係るチタン合金粉をCIP処理後、次いでHIP処理することにより、または、カプセルに封入後HIP処理することにより最終製品であるチタン合金材の特性に悪い影響を与えることなく、最終製品の組織中に存在する分散相の寸法と存在頻度を好ましく制御することが可能になるという効果を奏するものである。
チタン合金複合粉に配合されたSiC粉は、HIP処理時に、マトリックス中のチタンと反応して、次式によりTiC、Siが生成される。
SiC + Ti → TiC + Si
上記反応で生成されたTiCは、チタン中のマトリックスと整合性を保ったままマトリクスに均一に分散されるため、結果的には、SiCを添加しない場合に比べて、引っ張り強度の点でも優れているという効果を奏するものである。勿論、HIP処理時間中に上記反応が全量終了せずに、SiCのままマトリクスに残存する粒子もある。これらの残存粒子も分散強化に寄与するのは言うまでもない。
また、SiCを添加した場合には、マトリックス中にTiCを生成するのみならず、金属Siも生成する。マトリックス中に生成された金属Siは、マトリックス中のチタンと反応してTiSiを生成する。
2Si+Ti → TiSi
マトリックス中に生成したTiSiは、マトリックス相と整合性を保って析出し、チタン合金材料の靭性を高めることができるという効果を奏するものである。
TiC添加の作用効果
当該実施態様においては、前記チタン合金粉に対して、TiCを配合することが好ましい。TiCの配合比率は、チタン合金粉の重量に対して、0.01〜0.15wt%の範囲にて制御することが好ましい。添加するTiCの粒度は0.01μm〜50μmが好ましく、更には0.1μm〜20μmがより好ましい。
前記した範囲に制御することにより、本願発明に係るチタン合金粉を緻密化処理された後の最終製品であるチタン合金材料の特性に悪い影響を与えることなく、最終製品の組織中に存在する分散相の寸法と存在頻度を好ましく制御することが可能になるという効果を奏するものである。
チタン合金粉とTiC粉とで構成されたチタン合金複合粉は、CIP処理後、次いでHIP処理することにより、または、カプセルに封入後HIP処理することにより、本願発明に係る緻密化されたチタン合金材を得ることができる。
HIP処理後のチタン合金材中のTiCの寸法は、添加時の粒度0.01〜50μmのままで、その存在頻度は5個/mm以上である。マトリックスに均一、微細に分散したTiC相は、分散強化によって、引っ張り強さ、疲労強度などの機械的特性の改善に大きく寄与する。
SiO 添加の作用効果
チタン合金粉に、SiOの一例としてSiO粉を0.01%〜0.15%を添加することにより、SiC添加の場合と同様に、CIP処理後、次いでHIP処理することにより、または、カプセルに封入後HIP処理することにより、チタン合金材の機械的特性を改善することが出来る。すなわちチタン相と反応して生成したTiO相、反応途中の残存SiO相、反応の結果生成したSi相がTiと反応して生成したTiSi相がチタンマトリクスに存在し、均一微細に存在し機械的強度アップに寄与し、添加による延び低下が抑制される。
チタン合金複合粉に配合されたSiO粉は、HIP処理時に、マトリックス中のチタンと反応して、次式によりTiO、Si、およびTiSiが生成される。
SiO + Ti → TiO + Si
2Si+Ti → TiSi
前記反応で生成したTiOは、チタン合金中に残留し、結果として、チタン合金自身が分散強化される。また、前記反応で生成したTiSiは、チタン合金の靭性の改善に寄与するものである。
なお、SiO粉に替えて、SiO等のSiOを使用した場合にも上記の反応式と同様にTiOとSiが生成され、これがTiと反応してTiSiを生成し、チタン合金の靭性改善に寄与するものである。
TiO 添加の作用効果
チタン合金粉に、TiOの一例としてTiO粉を適量添加することにより、TiC添加の場合と同様に、CIP処理後、次いで行うHIP処理、または、チタン合金粉をカプセルに封入してのHIP処理を行うことにより機械的特性を改善することが出来る。TiO粉の添加量、好ましい粒度範囲はTiC添加の場合と同じである。
また、チタン合金粉にTiO等のTiOを添加した場合にも同様にチタン合金の機械的特性を改善することができるという効果を奏するものである。
Al 添加の作用効果
チタン合金粉にAl粉を適量添加することによっても、TiC添加、TiO添加の場合と同様に、CIP処理後、次いで行うHIP処理、または、チタン合金粉をカプセルに封入してのHIP処理を行うことにより、チタン合金材の機械的特性を改善することが出来る。この場合、Al粒子が安定で、Tiとの反応が全くないために、添加時点の粒子の粒度、存在頻度がそのまま維持されるので、チタン合金材の組織制御はHIP処理条件に殆ど影響を受けない。そのために、材料の設計がより容易になる、という効果を有する。Al相が強度改善に寄与するのは、分散効果による。
セラミックス系粉末の複合添加(TiC、TiO 、SiC、SiO 、Al
本願発明に用いるセラミックス粉末は、1種類のみならず、2種類以上を適宜処方して添加することもできる。その場合には、セラミックス粉末の原料が、0.01〜0.3wt%の範囲が好ましい。添加するそれぞれのセラミックスの粒度は0.01〜50μm、より好ましくは、0.01〜20μmの範囲が好ましい。この範囲に添加量、粒度を制御することにより、本願発明に係るチタン合金材の組織におけるセラミックス粒子の寸法、存在頻度を好ましく制御できる。
以上述べた方法により調整されたチタン合金複合粉は、CIP処理後、次いで行うHIP処理、または、チタン合金複合粉をカプセルに封入してのHIP処理を行うことにより、効率よく緻密化することができる。
特に、本発明では、SiC、TiC、SiO、TiOまたはAlから選択されたセラミックス粉をチタン合金粉に適宜配合することにより、チタン合金中での分散強化、結晶粒微細化、引張強度向上、靭性向上の効果を奏するものであり、特にTiSiを生成するSiCおよびSiOの添加においては延性低下抑制効果が顕著である。
また、本願発明においては、前記のチタン合金粉は、Ti−6Al−4V合金、Ti−3Al−2.5V合金、Ti−6Al−2Sn−4Zr−6Mo合金,Ti−6Al−6V−2Sn合金、Ti−10V−2Fe−3Al合金(10−2−3)、Ti−5Al−4V−0.6Mo−0.4Fe合金(Timetal 54M)、Ti−4.5Al−3V−2Fe−2Mo合金(SP700)、Ti−15V−3Cr−3Al−3Sn合金(15−3−3−3)、Ti−4Al−2.5V−1.5Fe合金(ATI425)、Ti−5Al−5V−5Mo−3Cr合金(Ti−5553)から構成されるチタン合金を原料として使用することができる。
以上述べた方法により緻密化された銅、クロム、鉄を含有するチタン合金材料は、その後の例えば圧延、押出、引抜き等の加工と熱処理により、一層機械的特性を制御することができるという効果を奏するものである。
[実施例1]
水素化チタン合金粉の作製について、以下に説明する。
Ti−6Al−4V合金スクラップ切粉を、長さ10mm以下のチップに切断した後、容器に挿入し炉にセット、真空排気後加熱を開始し、炉内温度が300℃になってから水素を炉内に導入、炉内を水素でやや加圧常態にしながら650℃まで加熱を続けた。この間Ti―6Al−4V合金スクラップ切粉と水素が反応、炉内温度が上昇したので、ヒーター出力をゼロとし、反応が収まるまで持続させた。
反応が完全に終了したら、炉を冷却し材料を取り出した。X線回折で確認したところ、水素化チタンのピークのみが検出され、材料は全て水素化物になったことが確認された。この水素化物をアルゴンガス雰囲気で粉砕、300メッシュの篩で篩い分け48μm以下の粒度の水素化チタン合金粉を得た。
[実施例2]
実施例1で得られたTi−6%Al−4%Vの組成を有する水素化チタン合金粉に対して0%、0.05wt%、0.1wt%、0.15wt%、0.5wt%の比率でTiO粉を添加した5種の試料を準備して、V型混合機で混合した。使用したTiO粉はTiClの酸素燃焼法で作製した粉末で、平均粒度は0.8μmである。
TiOを添加した水素化チタン合金粉をTi製の容器に挿入し、真空加熱炉で脱水素処理した。真空排気後加熱を開始すると、300℃前後の温度から水素ガスを乖離する反応(脱水素)が起こり、そのまま、500℃、600℃と温度を上昇させ、脱水素化を促した。脱水素化反応は吸熱反応であるため、脱水素化を効率よく行うためには、炉内温度を一定に維持することが重要で、650℃に1Hr保持すると、真空度が回復、1x10−3mbarの真空度が得られたので、ヒーターを停止、冷却した。取り出した粉末は、一部凝集していたので、塊砕機により塊砕し、300μm以下のチタン合金粉を得た。
[実施例3]
実施例2に記載のTiO添加チタン合金粉を、CIPラバーに充填、150MPaでCIP処理、CIP成形体を軟鋼カプセルに封入してHIP処理し、本願発明に係るチタン合金材を得た。HIP条件は900℃、100MPa、1Hrである。HIP処理後、チタン合金材を取り出し、その見掛け密度を測定し理論密度の比(以降、単に「密度比」と呼ぶ場合がある。)を測定し、表1にその結果を示した。
TiO添加量が0.05wt%から0.15wt%まで増加すると、チタン合金材の密度比は、99.1%から99.5%の範囲に増加した。
[実施例3−2]
実施例2に記載のTiO添加チタン合金粉を、軟鋼カプセルに封入してHIP処理した。HIP条件は900℃、100MPa、1Hrである。HIP処理後、チタン合金材を取り出しその密度を測定したところ99%以上であったなお、ここでいう密度とは、真密度に対する見掛け密度の比を意味する。
[実施例4]
実施例3で製造されたチタン合金材料(TiO2添加Ti−6Al−4V合金材)の引張り試験を行った。結果は表1に示す通りである。表1には、密度測定結果も合わせて示す。TiO添加量が、0.05wt%〜0.15wt%まで増加すると、伸びは、13%から10%まで低下するものの、引っ張り強さは、1050から1100MPaまで上昇する傾向を示した。
[実施例4−2]
実施例3−2で製造されたチタン合金材料(TiO添加Ti−6Al−4V合金材)の引張り試験を行った。結果は表1に示す通りである。表1には、密度測定結果も合わせて示す。TiO添加Ti−6Al−4V合金粉末をカプセル封入後HIP処理した場合と、CIP処理後HIP処理した場合とで、密度比、引張り強さ、伸びに違いは認められなかった。
Figure 2011152359
[実施例5]
実施例4、比較例1の試料の組織を確認したところ、TiO相が、マトリクス内に均一に分散して存在していることが確認された。TiO相の寸法と存在頻度は表2に示す通りである。ここで、TiO相の寸法とは、マトリックス内に分散しているTiO相の最大径を現している。また、TiO相存在頻度とは、マトリックス単位面積あたりに確認されたTiO粒子の個数を意味する。
チタン合金粉に添加するTiOの添加量が0.05から0.15%まで増えると、チタン合金焼結体のマトリックス中のTiO相の最大径も、5μmから15μmまで増加する傾向を示した。また、マトリックス単位面積当たりのTiO粒子の個数も15個/mmから40個/mmまで増加する傾向を示した。
Figure 2011152359
[実施例6]
実施例2のTiO粉の代わりに、2μmのSiO粉をチタン合金粉に対して0.05wt%、0.1wt%、0.15wt%、0.5wt%になるよう配合して、実施例3、実施例4と同様にCIP処理後、次いでHIP処理して本願発明に係るチタン合金材を得た。次いで、得られたチタン合金材の密度比測定と引張り試験を行った。
[実施例6−2]
実施例2に記載のSiO添加チタン合金粉を、軟鋼カプセルに封入してHIP処理した。HIP条件は900℃、100MPa、1Hrである。HIP処理後、チタン合金材を取り出し得られたチタン合金材の密度比測定と引張り試験を行った。
その結果、チタン合金粉に対するSiO粉の添加量が、0.05から0.15wt%まで増加すると、引っ張り強さは、1050MPaから1100MPaまで増加する傾向を示した。これに対して、伸びは、15%から13%まで低下した。一方、密度比は、99.2〜99.5%の範囲まで増加した。SiO添加Ti−6Al−4V合金粉末をカプセル封入後HIP処理した実施例6−2についても、密度比、引張り強さ、伸びに違いは認められなかった。
次いで、得られたチタン合金材の結晶組織観察を行い、分散相の定性分析を行った。
その結果、TiSi相およびTiO相が検出された。これに対してSiO相は定性分析の検出感度以下にあった。それぞれの結果を表3に示す。
Figure 2011152359
[比較例1−A]
実施例1のチタン合金水素化粉にセラミックス粉を添加しない試料を準備し、実施例3、実施例4と同じ方法でCIP処理、HIP処理し、密度測定、引張り試験を行った。結果は表1に示した通りである。
TiOを全く添加しない場合には、伸びは15%程度示したものの、引っ張り強さは、900MPaまで低下した。
[比較例1−B]
また、実施例1のチタン合金水素化粉にTiOを0.5wt%添加した粉を準備し、実施例3、実施例4と同じ方法でCIP処理、HIP処理し、密度測定、引張り試験を行った。結果は表1に示した通りである。また、TiOを0.5wt%添加した場合には伸びは2%まで低下してまった。
[比較例2]
比較例1のTiOを0.5wt%添加した試料の組織を観察した。その結果を表2に示す。
[比較例3−A]
また、実施例1のチタン合金水素化粉にSiO粉を全く添加しない粉を準備し、実施例3、実施例4と同じ方法でCIP処理後、次いでHIP処理して、チタン合金材を得た。その結果、得られたチタン合金材の密度比が98%まで低下してしまった。
[比較例3−B]
実施例1のチタン合金水素化粉にSiO粉を0.5wt%添加した粉を準備し、実施例3、実施例4と同じ方法でCIP処理後、次いでHIP処理して、チタン合金材を得た。得られたチタン合金材の密度測定、引張り強度測定および結晶組織観察を行った。その結果表3に示すように、チタン合金材の伸びは4%近傍まで急激な低下が見られた。
本願発明は、チタン合金スクラップ及びチタン合金インゴットを原料として、粉末冶金法により、機械的特性に優れるチタン合金粉、チタン合金材を得るもので、チタン合金粉、チタン合金材及びその製造方法を提供するものである。

Claims (11)

  1. チタン合金粉に、セラミックス粉が配合されていることを特徴とするチタン合金複合粉。
  2. 前記セラミックスが、SiC、TiC、SiO、TiO(ここで、添字xは、1≦x≦2の範囲をとる実数である)または、Alの中から少なくとも1種以上選択されたものであることを特徴とする請求項1に記載のチタン合金複合粉。
  3. 前記セラミックス粉の添加量は、1種類の混合の場合は0.01〜0.15wt%であり、2種類以上複合添加した場合の合計量は0.01〜0.3wt%であることを特徴とする請求項1または2に記載のチタン合金複合粉。
  4. 前記チタン合金粉の粒度が、150μm以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のチタン合金複合粉。
  5. 前記チタン合金粉は、アルミニウムおよびバナジウムを含有、または、アルミニウムおよびバナジウムに加えて、ジルコニウム、スズ、モリブデン、鉄、クロムの中から少なくとも1種または2種以上含有されていることを特徴とする請求項1に記載のチタン合金複合粉。
  6. チタン合金原料を水素化して水素化チタン合金原料とし、
    前記水素化チタン合金原料を粉砕して水素化チタン合金粉とした後にセラミックス粉を添加するか、または脱水素してからセラミックス粉を添加することを特徴とするチタン合金複合粉の製造方法。
  7. 請求項1〜5のいずれかに記載のチタン合金複合粉を原料とし、これを加圧成形されて得られたことを特徴とするチタン合金材。
  8. チタン合金材の真密度に対するチタン合金材の密度の比が、99%以上であることを特徴とする請求項7に記載のチタン合金材。
  9. 前記チタン合金中には、チタン化合物が分散しており、前記チタン化合物が、チタン合金粉に添加されたセラミックス粉がチタン合金粉中に固溶する際に副生したものであることを特徴とする請求項7または8に記載のチタン合金材。
  10. 前記チタン化合物が、TiC、TiSiまたはTiOであることを特徴とする請求項7〜9のいずれかに記載のチタン合金材。
  11. 請求項1〜5のいずれかに記載のチタン合金複合粉に対してCIP処理後次いでHIP処理を行う方法、または、チタン合金複合粉をカプセル封入後HIP処理する方法のいずれかの方法で緻密化することを特徴とするチタン合金材の製造方法。
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