JPWO2010150577A1 - 偏光板、及び液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

本発明の目的は、高温高湿条件下での部分的な変形故障の発生抑制と視認性（クリア性）の両立を図った偏光板、及びそれを用いた液晶表示装置を提供することにある。本発明の偏光板は、保護フィルム、偏光膜及び基材フィルム上にハードコート層を有するハードコートフィルムがこの順序で積層された偏光板において、該ハードコート層が５００〜２０００００個／ｍｍ２の突起を有し、該ハードコート層の算術平均粗さＲａ（ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１）が２〜２０ｎｍであり、かつ該ハードコートフィルムのヘーズ値（Ｈｈ）が０．２〜０．６％であることを特徴とする。

Description

本発明は偏光板、及び液晶表示装置に関する。

一般に、液晶表示装置（ＬＣＤ）の液晶表示パネルを構成する液晶セルには、２枚の偏光板が貼り合わされている。この偏光板は、２枚のセルロース系保護フィルムの間に、ヨウ素または二色性染料を吸着させ染着させたポリビニルアルコール（以下ＰＶＡと略す）系フィルムを一定方向に延伸配向させた偏光素子（偏光膜）を挟んだ３層構造である。また、偏光板と液晶セルの基板とを貼り合わせるためにセルロース系保護フィルム片面には粘着剤層が設けられている。

前記液晶セルに使用される偏光板の最表面の保護フィルムは、特に物理的な損傷を受け易く、損傷を受けると表示画像品質を損なうので、セルロース系保護フィルムの基材上にハードコート層が設けられたハードコートフィルムが用いられている。

また近年、ハードコートフィルムは、より高いコントラストや視認性（クリア性）の点から、表面に反射した像の輪郭をぼかす防眩処理タイプよりもクリアタイプのものが求められている。

一方、液晶表示装置の用途が益々拡がるにつれて、液晶表示パネルの耐久性が求められており、温度や湿度の高い過酷な環境で長時間保管したり、或いは使用したりする必要性が生じて来た。

液晶表示パネルの粘着剤層が設けられた偏光板を、輸送を想定して、重ねた状態で長期に高温高湿下で保存しておくと、ブロッキング等により部分的に偏光板の最表面で変形故障が発生しやすく、品質的に問題であった。

高温高湿条件での耐久性を向上させる偏光板の技術については、例えば特許文献１に開示されている。該技術は、親水性高分子フィルムである偏光膜を酸性溶液で処理して、保護フィルムに重合性樹脂組成物を硬化させた層を設けることで、偏光板の耐久性を向上させるものである。しかしながら、前記技術では、偏光板の変色はある程度改善されるものの、本発明の課題である変形故障の発生を防止することはできない。

特許文献２には、少なくとも重合性官能基を有する１種以上の有機成分、無機超微粒子、並びに該無機超微粒子の一次粒子径よりも大きい一次粒子径の無機及び／又は有機微粒子を含む塗膜成分から形成されたハードコート膜によって、ハードコートフィルムのブロッキングを防止する技術が開示されている。しかしながら、ブロッキングを十分に防止しようとして微粒子を添加すると、ヘーズが上昇し易く、本発明の課題である変形故障の発生の防止と、視認性（クリア性）を両立することには依然として問題があった。

特開２００８−７０５７１号公報 特開２００１−１３３０３号公報

本発明の目的は、高温高湿条件下での部分的な変形故障の発生抑制と視認性（クリア性）の両立を図った偏光板、及びそれを用いた液晶表示装置を提供することにある。

本発明の上記課題は以下の構成により達成される。

１．保護フィルム、偏光膜及び基材フィルム上にハードコート層を有するハードコートフィルムがこの順序で積層された偏光板において、該ハードコート層が５００〜２０００００個／ｍｍ^２の突起を有し、該ハードコート層の算術平均粗さＲａ（ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１）が２〜２０ｎｍであり、かつ該ハードコートフィルムのヘーズ値（Ｈｈ）が０．２〜０．６％であることを特徴とする偏光板。

２．前記ハードコートフィルムのヘーズ値（Ｈｈ）と前記ハードコートフィルムの基材フィルムのヘーズ値（Ｈｆ）との差（Ｈｈ−Ｈｆ）が、０．０２％〜０．３％であることを特徴とする前記１に記載の偏光板。

３．前記ハードコート層の算術平均粗さＲａが４ｎｍ〜２０ｎｍであることを特徴とする前記１または２に記載の偏光板。

４．前記ハードコート層が２層構成からなることを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載の偏光板。

５．前記ハードコートフィルムの基材フィルムが熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂を含有し、該熱可塑性アクリル樹脂と該セルロースエステル樹脂の含有質量比が、熱可塑性アクリル樹脂：セルロースエステル樹脂＝９５：５〜５０：５０であることを特徴とする前記１〜４のいずれか１項に記載の偏光板。

６．前記保護フィルムが熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂を含有し、該熱可塑性アクリル樹脂と該セルロースエステル樹脂の含有質量比が、熱可塑性アクリル樹脂：セルロースエステル樹脂＝９５：５〜５０：５０であることを特徴とする前記１〜５のいずれか１項に記載の偏光板。

７．前記１〜６のいずれか１項に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方に有することを特徴とする液晶表示装置。

本発明によれば、高温高湿条件下での部分的な変形故障の発生抑制と視認性（クリア性）の両立を図った偏光板、及びそれを用いた液晶表示装置を提供することができる。

本発明に係る突起の説明図である。 本発明に係る偏光板の模式図である。 偏光板の耐久試験の評価を行う際の概略図である。

以下本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

本発明者は上記課題に対して鋭意検討した結果、偏光板に貼合されるハードコートフィルムのハードコート層に特定数の突起形状を設け、更にハードコート層の表面粗さとハードコートフィルムのヘーズ値をコントロールすることで、偏光板を重ねた状態で保存した際に各偏光板にかかる応力を分散でき、高温高湿条件下の保存による偏光板の弾性率低下により発生する部分的な変形故障を防止できることを見出し、本発明を成すに至った次第である。また、本発明に係るハードコートフィルムはヘーズ値が低く、液晶表示装置としてのクリア性も損なわれない為、部分的な変形故障の発生抑制と視認性（クリア性）の両立が可能となった。

以下、各要素毎に詳細に説明する。

＜突起数、突起形状＞
本発明に係るハードコート層には、５００〜２０００００個／ｍｍ^２の突起を有することが特徴であり、存在する突起数は下記の方法で測定した値である。

また上記突起数は、液晶表示装置等の表示装置で使用した場合、視認側に配置されたハードコート層からも測定できる。

突起数の測定は、ハードコート層を光学干渉式表面粗さ計（ＲＳＴ／ＰＬＵＳ、ＷＹＫＯ社製、倍率５０倍）で測定した。次に、この測定面積（１００μｍ×１００μｍ角）内の突起数を画像から読みとった。この一連の測定を１０回行い、１０回の平均値からハードコートフィルムのハードコート層の突起数を求めた。

尚、突起数としては粗さ曲線の平均線から３ｎｍ以上の高さの突起をカウントした。

突起形状のサイズは、高さが１ｎｍ〜５μｍ、好ましくは１ｎｍ〜１μｍ、好ましくは１０ｎｍ〜０．５μｍである。幅は、５０ｎｍ〜１００μｍ、好ましくは、５０ｎｍ〜５０μｍである。

上記突起形状の幅及び高さは下記の断面観察から求めることができる。図１に突起の説明図を示した。

ハードコートフィルムの断面切削をミクロトーム（（株）日本ミクロトーム研究所製）を用いて、角度０°において室温でフィルム幅方向に切削した。次に、この断面を透過電子顕微鏡（ＴＥＭ、倍率２０００倍）を用いて観察した。その断面観察した画像から、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１の定義に従い、図に示されているように、画像に中心線ａを引き、山の麓を形成する線ｂ、ｃと中心線ａとの２つの交点の距離を、突起サイズの幅ｔとした。また、山頂と中心線ａまでの距離を突起サイズの高さｈとして求められる。

本発明に係るハードコート層のＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１に規定されている算術平均粗さＲａは２〜２０ｎｍであり、より好ましくは４〜２０ｎｍである。

前記範囲とすることで、視認性（クリア性）に優れ、かつ耐久試験後の部分的な変形故障の発生抑制にも良好に効果を発揮する。

ハードコート層の算術平均粗さは、市販の表面粗さ測定器を用いて測定と解析を行うことができる。本発明においては、小型表面粗さ測定器（型番；ＳＪ−４０１、（株）ミツトヨ製）を用いて求めることができる。また、光干渉式の表面粗さ測定器で測定することもでき、例えばＷＹＫＯ社製非接触表面微細形状計測装置ＷＹＫＯ ＮＴ−２０００を用いて測定することができる。

上記突起形状を形成させる方法としては、微粒子を添加する方法、鋳型を押し当てて表面に突起を形成させる方法、またＳＰ値（溶解度パラメーター）が異なる樹脂を混ぜて、表面凹凸を形成させる方法（例えば、特開２００７−１８２５１９号、特開２００９−１３３８４号に記載された方法）などがその例として挙げられる。

突起形成に用いられる鋳型ロールとしては、凹凸が細かいもの、粗いものまで、適宜選択して適用でき、模様、マット状、レンチキュラーレンズ状、球状の凹凸が規則正しく、もしくはランダムに配列されたものが使用できる。

本発明においては、特に限定されるものではないが、微粒子を添加することによって突起を形成する方法が生産性、再現性の観点から好ましい。

＜ヘーズ＞
本発明に係るハードコートフィルムのヘーズ値（Ｈｈ）は０．２〜０．６％で用いられる。ハードコートフィルムのヘーズ値（Ｈｈ）を０．２〜０．６％とすることで本発明の目的効果を達成するばかりか、大型化された液晶表示装置やデジタルサイネージ等の屋外で用いられる際の、十分な輝度や高いコントラストが得られる点でも好ましい。また、ハードコートフィルムのヘーズ値（Ｈｈ）が０．２％未満では、ハードコートフィルムの取り扱い性の点から、設計が実情困難である。

また、前記ハードコートフィルムのヘーズ値（Ｈｈ）と基材フィルムのヘーズ値（Ｈｆ）との差（Ｈｈ−Ｈｆ）が、０．０２％〜０．３％であることが、本発明の効果を達成する上で好ましい。

ハードコート層のヘーズ値を制御するには、ハードコート層を構成する樹脂、添加剤等の種類、量を調整することや、添加する微粒子の種類、粒径、添加量を調整することで達成される。

また、表面の粗さも表面ヘーズとしてヘーズ値に影響するため、上記突起の形状、数などを制御することが有効である。

＜ハードコートフィルム＞
本発明に係るハードコートフィルムは、少なくとも基材フィルムとハードコート層によって構成されており、該ハードコート層は活性線硬化樹脂を含有し、紫外線や電子線のような活性線（活性エネルギー線ともいう）照射により、架橋反応を経て硬化する樹脂を主たる成分とする層であることが好ましい。

活性線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて活性線硬化樹脂層が形成される。

活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が機械的膜強度（耐擦傷性、鉛筆硬度）に優れる点から好ましい。

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。

紫外線硬化型アクリレート系樹脂としては、多官能アクリレートが好ましい。該多官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、およびジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれることが好ましい。ここで、多官能アクリレートとは、分子中に２個以上のアクリロイルオキシ基またはメタクロイルオキシ基を有する化合物である。

多官能アクリレートのモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、イソボロニルアクリレート等が好ましく挙げられる。これらの化合物は、それぞれ単独または２種以上を混合して用いられる。また、上記モノマーの２量体、３量体等のオリゴマーであってもよい。

また、ハードコート層には活性線硬化樹脂の硬化促進のため、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤量としては、質量比で、光重合開始剤：活性線硬化樹脂＝２０：１００〜０．０１：１００で含有することが好ましい。

光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等およびこれらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。

本発明に係るハードコート層には、突起を５００〜２０００００個／ｍｍ^２有し、算術平均粗さＲａが２〜２０ｎｍとなるように、無機化合物または有機化合物の微粒子を含むことが好ましい。

無機微粒子としては、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ＩＴＯ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムを挙げることができる。特に、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム等が好ましく用いられる。

これら無機微粒子は、ハードコートフィルムの透明性を維持しつつ耐擦傷性が向上することから、表面の一部に反応性官能基を有する有機成分が被覆されたものが好ましい。表面の一部に反応性官能基を有する有機成分を被覆する方法としては、例えば、金属酸化物微粒子の表面に存在する水酸基にシランカップリング剤等の有機成分を含む化合物が反応して、表面の一部に有機成分が結合した態様、金属酸化物微粒子の表面に存在する水酸基に水素結合等の相互作用により有機成分を付着させた態様や、ポリマー粒子中に１個又は２個以上の無機微粒子を含有する態様などが挙げられる。

また、有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、またはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等を添加することができる。

好ましい微粒子は、架橋ポリスチレン粒子（例えば、綜研化学製ＳＸ−１３０Ｈ、ＳＸ−２００Ｈ、ＳＸ−３５０Ｈ）、ポリメチルメタクリレート系粒子（例えば、綜研化学製ＭＸ１５０、ＭＸ３００）、フッ素含有アクリル樹脂微粒子が挙げられる。フッ素含有アクリル樹脂微粒子としては、例えば日本ペイント製：ＦＳ−７０１等の市販品が挙げられる。また、アクリル粒子として、例えば日本ペイント製：Ｓ−４０００、アクリル−スチレン粒子として、例えば日本ペイント製：Ｓ−１２００、ＭＧ−２５１等が挙げられる。

これらの微粒子粉末の平均粒子径は特に制限されないが、０．０１〜５μｍが好ましく、更には、０．０１〜１．０μｍであることが特に好ましい。また、粒径の異なる２種以上の微粒子を含有しても良い。微粒子の平均粒子径は、例えばレーザー回折式粒度分布測定装置により測定することができる。

紫外線硬化樹脂組成物と微粒子の割合は、樹脂組成物１００質量部に対して、１０〜４００質量部となるように配合することが望ましく、更に望ましくは、５０〜２００質量部である。

これらのハードコート層はグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法を用いて、ハードコート層を形成する塗布組成物を塗布し、塗布後、加熱乾燥し、ＵＶ硬化処理することで形成できる。

塗布量はウェット膜厚として０．１〜４０μｍが適当で、好ましくは、０．５〜３０μｍである。また、ドライ膜厚としては平均膜厚０．１〜３０μｍ、好ましくは１〜２０μｍ、特に好ましくは６〜１５μｍである。

ＵＶ硬化処理の光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。

照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常５〜５００ｍＪ／ｃｍ^２、好ましくは５〜２００ｍＪ／ｃｍ^２である。

また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は３０〜３００Ｎ／ｍが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、または２軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性の優れたフィルムを得ることができる。

更に、本発明に係るハードコート層には、帯電防止性を付与するために導電剤を含んでも良く、好ましい導電剤としては、金属酸化物粒子またはπ共役系導電性ポリマーが挙げられる。また、イオン液体も導電性化合物として好ましく用いられる。

また、更にハードコート層には、塗布性の観点、及び微粒子の均一な分散性の観点から、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤或いはポリオキシエーテル等の非イオン性界面活性剤、アニオン界面活性剤等を含有させることもできる。これらは塗布性を高める。また、これら成分は、塗布液中の固形分成分に対し、０．０１〜３質量％の範囲で添加することが好ましい。

図２に本発明に係るハードコート層を有するハードコートフィルム、及び偏光板の模式図を示す。図２ではハードコート層２ａ、２ｂのように２層積層されているが、１層でも或いは更に複数の層でもよい。本発明の目的効果をより良く発揮することやハードコート層のハードコート性、ヘーズ、表面に形成する突起形状、及び算術表面粗さＲａを制御し易くする為に２層以上に分割して設けることが好ましい。

２層以上設ける場合の最上層の膜厚は、０．０５〜２μｍの範囲であることが好ましい。

２層以上の積層は同時重層で形成しても良い。同時重層とは、乾燥工程を経ずに基材上に２層以上のハードコート層をｗｅｔ ｏｎ ｗｅｔで塗布して、ハードコート層を形成することである。第１ハードコート層の上に乾燥工程を経ずに、第２ハードコート層をｗｅｔ ｏｎ ｗｅｔで積層するには、押し出しコーターにより逐次重層するか、若しくは複数のスリットを有するスロットダイにて同時重層を行えばよい。

本発明でのハードコートフィルムとは、硬度の指標で有る鉛筆硬度が、Ｈ以上であり、より好ましくは３Ｈ以上である。３Ｈ以上であれば、液晶表示装置の偏光板化工程で、傷が付きにくいばかりではなく、屋外用途で用いられることが多い、大型の液晶表示装置や、デジタルサイネージ用液晶表示装置の表面保護フィルムとして用いた際も優れた膜強度を示す。鉛筆硬度は、作製したハードコートフィルムを温度２３℃、相対湿度５５％の条件で２時間以上調湿した後、ＪＩＳ Ｓ ６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ Ｋ５４００が規定する鉛筆硬度評価方法に従い測定した値である。

＜基材フィルム＞
基材フィルムは製造が容易であること、ハードコート層と接着し易いこと、光学的に等方性であることが好ましい。また、基材フィルムをそのまま本発明に係る保護フィルムとして使用することもできる。

これらの性質を有していれば何れでもよく、例えば、トリアセチルセルロースフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等のセルロースエステル系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルムまたはアクリルフィルム等を挙げることができる。

これらの内、セルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタックＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、およびＫＣ１２ＵＲ（以上、コニカミノルタオプト（株）製））、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリエステルフィルムが好ましく、本発明においては、特にセルロースエステルフィルムが、製造上、コスト面、等方性、接着性（鹸化適性）、および本発明の目的効果が好適に得られることから好ましい。

本発明に係る基材フィルムの屈折率は、１．３０〜１．７０であることが好ましく、１．４０〜１．６５であることがより好ましい。屈折率は、アタゴ社製 アッペ屈折率計２Ｔを用いてＪＩＳ Ｋ７１４２の方法で測定する。

〈セルロースエステルフィルム〉
次に基材フィルムとして好ましいセルロースエステルフィルムについて説明する。

セルロースエステル樹脂（以下、セルロースエステルともいう）は、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等や、特開平１０−４５８０４号、同０８−２３１７６１号、米国特許第２，３１９，０５２号等に記載されているようなセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることができる。

上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルはセルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは単独或いは混合して用いることができる。

セルローストリアセテートの場合には、平均酢化度（結合酢酸量）５４．０〜６２．５％のものが好ましく用いられ、更に好ましいのは、平均酢化度が５８．０〜６２．５％のセルローストリアセテートである。

平均酢化度が小さいと寸法変化が大きく、また偏光板の偏光度が低下する。平均酢化度が大きいと溶剤に対する溶解度が低下し生産性が下がる。

セルローストリアセテート以外で好ましいセルロースエステルは炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をＹとした時、下記式（Ｉ）および（II）を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロースエステルである。

式（Ｉ） ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（II） ０≦Ｘ≦２．５
この内特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、中でも１．９≦Ｘ≦２．５、０．１≦Ｙ≦０．９であることが好ましい。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在しているものである。これらは公知の方法で合成することができる。アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することができる。

セルロースエステルの分子量は数平均分子量（Ｍｎ）で６００００〜３０００００のものが好ましく、７００００〜２０００００のものが更に好ましく、１０００００〜２０００００のものが特に好ましい。本発明で用いられるセルロースエステルは重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）比が４．０以下であることが好ましく、更に好ましくは１．４〜２．３である。

セルロースエステルの平均分子量および分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用い測定できるので、これを用いて数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）を算出し、その比を計算することができる。

測定条件は以下の通りである。

溶媒：メチレンクロライド
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー（株）製）
Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。

＜セルロースエステル樹脂・熱可塑性アクリル樹脂含有フィルム＞
本発明に係る基材フィルムは、より過酷な耐久試験においても、本発明の目的効果を発揮させる観点から、熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂とを含有し、熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の含有質量比が、熱可塑性アクリル樹脂：セルロースエステル樹脂＝９５：５〜５０：５０の構成の基材フィルム（以下、セルロースエステル樹脂・熱可塑性アクリル樹脂フィルムと呼ぶ）にすることが好ましい。より好ましくは９０：１０〜６０：４０である。

熱可塑性アクリル樹脂は、メタクリル樹脂も含まれる。熱可塑性アクリル樹脂としては、特に制限されるものではないが、メチルメタクリレート単位５０〜９９質量％、およびこれと共重合可能な他の単量体単位１〜５０質量％からなるものが好ましい。共重合可能な他の単量体としては、アルキル数の炭素数が２〜１８のアルキルメタクリレート、アルキル数の炭素数が１〜１８のアルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸、スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β−不飽和ニトリル、無水マレイン酸、マレイミド、Ｎ−置換マレイミド、グルタル酸無水物等が挙げられ、これらは単独で、あるいは２種以上の単量体を併用して用いることができる。

これらの中でも、共重合体の耐熱分解性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやｎ−ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。また、重量平均分子量（Ｍｗ）は８００００〜５０００００であることが好ましく、更に好ましくは、１１００００〜５０００００の範囲内である。熱可塑性アクリル樹脂の重量平均分子量は、測定条件含めて、上記記載のゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定することができる。熱可塑性アクリル樹脂の製造方法としては、特に制限は無く、懸濁重合、乳化重合、塊状重合、あるいは溶液重合等の公知の方法のいずれを用いても良い。ここで、重合開始剤としては、通常のパーオキサイド系およびアゾ系のものを用いることができ、また、レドックス系とすることもできる。重合温度については、懸濁または乳化重合では３０〜１００℃、塊状または溶液重合では８０〜１６０℃で実施しうる。得られた共重合体の還元粘度を制御するために、アルキルメルカプタン等を連鎖移動剤として用いて重合を実施することもできる。また、市販品も使用することができる。例えば、デルペット６０Ｎ、８０Ｎ（旭化成ケミカルズ（株）製）、ダイヤナールＢＲ５２、ＢＲ８０、ＢＲ８３、ＢＲ８５、ＢＲ８８（三菱レイヨン（株）製）、ＫＴ７５（電気化学工業（株）製）等が挙げられる。熱可塑性アクリル樹脂は２種以上を併用することもできる。また、熱可塑性アクリル樹脂には、特開２００９−８４５７４号に記載の（メタ）アクリル系ゴムと芳香族ビニル化合物の共重合体に（メタ）アクリル系樹脂がグラフトされたグラフト共重合体を用いてもよい。前記グラフト共重合体は、（メタ）アクリル系ゴムと芳香族ビニル化合物の共重合体がコア（ｃｏｒｅ）を構成し、その周辺に前記（メタ）アクリル系樹脂がシェル（ｓｈｅｌｌ）を構成するコア−シェルタイプのグラフト共重合体であることが好ましい。

基材フィルムにおける熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の総質量は、基材フィルムの５５質量％以上であることが好ましく、更に好ましくは６０質量％以上であり、特に好ましくは、７０質量％以上である。

基材フィルムは、熱可塑性アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂以外の樹脂や添加剤を含有して構成されていても良い。

〈アクリル粒子〉
基材フィルムは脆性の改善や優れた鉛筆硬度が得られる点から、アクリル粒子を含有することが好ましい。

アクリル粒子とは、前記熱可塑性アクリル樹脂及びセルロースエステル樹脂を相溶状態で含有する基材フィルム中に粒子の状態（非相溶状態ともいう）で存在するアクリル成分を表す。

アクリル粒子は特に限定されるものではないが、２層以上の層構造を有するアクリル粒子であることが好ましく、特に多層構造アクリル系粒状複合体であることが好ましい。

多層構造重合体であるアクリル系粒状複合体の市販品の例としては、例えば、三菱レイヨン社製“メタブレン”、鐘淵化学工業社製“カネエース”、呉羽化学工業社製“パラロイド”、ロームアンドハース社製“アクリロイド”、ガンツ化成工業社製“スタフィロイド”およびクラレ社製“パラペットＳＡ”などが挙げられ、これらは、単独ないし２種以上を用いることができる。

また、アクリル粒子として好適に使用されるグラフト共重合体であるアクリル粒子の具体例としては、ゴム質重合体の存在下に、不飽和カルボン酸エステル系単量体、不飽和カルボン酸系単量体、芳香族ビニル系単量体、および必要に応じてこれらと共重合可能な他のビニル系単量体からなる単量体の混合物を共重合せしめたグラフト共重合体が挙げられる。

グラフト共重合体であるアクリル粒子に用いられるゴム質重合体には特に制限はないが、ジエン系ゴム、アクリル系ゴムおよびエチレン系ゴムなどが使用できる。具体例としては、ポリブタジエン、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−ブタジエンのブロック共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリル酸ブチル−ブタジエン共重合体、ポリイソプレン、ブタジエン−メチルメタクリレート共重合体、アクリル酸ブチル−メチルメタクリレート共重合体、ブタジエン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−プロピレン−ジエン系共重合体、エチレン−イソプレン共重合体、およびエチレン−アクリル酸メチル共重合体などが挙げられる。これらのゴム質重合体は、１種または２種以上の混合物で使用することが可能である。

また、基材フィルムにアクリル粒子を添加する場合は、熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂との混合物の屈折率とアクリル粒子の屈折率が近いことが、透明性が高いフィルムを得る点では好ましい。具体的には、アクリル粒子と熱可塑性アクリル樹脂の屈折率差が０．０５以下であることが好ましく、より好ましくは０．０２以下、とりわけ０．０１以下であることが好ましい。

熱可塑性アクリル樹脂に、アクリル粒子を配合する方法には、特に制限はなく、熱可塑性アクリル樹脂とその他の任意成分を予めブレンドした後、通常２００〜３５０℃において、アクリル粒子を添加しながら一軸または二軸押出機により均一に溶融混練する方法が好ましく用いられる。

また、アクリル粒子を予め分散した溶液を、熱可塑性アクリル樹脂、及びセルロースエステル樹脂を溶解した溶液（ドープ液）に添加して混合する方法や、アクリル粒子及びその他の任意の添加剤を溶解、混合した溶液をインライン添加する等の方法を用いることができる。

アクリル粒子としては、市販のものも使用することができる。例えば、メタブレンＷ−３４１（Ｃ２）（三菱レイヨン（株）製）を、ケミスノーＭＲ−２Ｇ（Ｃ３）、ＭＳ−３００Ｘ（Ｃ４）（綜研化学（株）製）等を挙げることができる。

アクリル微粒子は、該フィルムを構成する熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の総質量に対して、含有質量比でアクリル微粒子：熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂総質量＝０．５：１００〜３０：１００の範囲で含有させることで、目的効果がより良く発揮される点から好ましく、更に好ましくは、アクリル微粒子：熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の総質量＝１．０：１００〜１５：１００の範囲である。

〈その他の添加剤〉
基材フィルムには、組成物の流動性や柔軟性を向上するために、可塑剤を併用することも可能である。可塑剤としては、フタル酸エステル系、脂肪酸エステル系、トリメリット酸エステル系、リン酸エステル系、ポリエステル系、あるいはエポキシ系等が挙げられる。この中で、ポリエステル系とフタル酸エステル系の可塑剤が好ましく用いられる。ポリエステル系可塑剤は、フタル酸ジオクチルなどのフタル酸エステル系の可塑剤に比べて非移行性や耐抽出性に優れるが、可塑化効果や相溶性にはやや劣る。

従って、用途に応じてこれらの可塑剤を選択、あるいは併用することによって、広範囲の用途に適用できる。

ポリエステル系可塑剤は、一価ないし四価のカルボン酸と一価ないし六価のアルコールとの反応物であるが、主に二価カルボン酸とグリコールとを反応させて得られたものが用いられる。代表的な二価カルボン酸としては、グルタル酸、イタコン酸、アジピン酸、フタル酸、アゼライン酸、セバシン酸などが挙げられる。

特に、アジピン酸、フタル酸などを用いると可塑化特性に優れたものが得られる。グリコールとしてはエチレン、プロピレン、１，３−ブチレン、１，４−ブチレン、１，６−ヘキサメチレン、ネオペンチレン、ジエチレン、トリエチレン、ジプロピレンなどのグリコールが挙げられる。これらの二価カルボン酸およびグリコールはそれぞれ単独で、あるいは混合して使用してもよい。

このエステル系の可塑剤はエステル、オリゴエステル、ポリエステルの型のいずれでもよく、分子量は１００〜１００００の範囲が良いが、好ましくは６００〜３０００の範囲が、可塑化効果が大きい。

また、可塑剤の粘度は分子構造や分子量と相関があるが、アジピン酸系可塑剤の場合相溶性、可塑化効率の関係から２００〜５０００ＭＰａ・ｓ（２５℃）の範囲が良い。さらに、いくつかのポリエステル系可塑剤を併用してもかまわない。

可塑剤は基材フィルム１００質量部に対して、０．５〜３０質量部を添加するのが好ましい。可塑剤の添加量が３０質量部を越えると、表面がべとつくので、実用上好ましくない。

基材フィルムは、紫外線吸収剤を含有することも好ましく、用いられる紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、２−ヒドロキシベンゾフェノン系またはサリチル酸フェニルエステル系のもの等が挙げられる。例えば、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類を例示することができる。ここで、紫外線吸収剤のうちでも、分子量が４００以上の紫外線吸収剤は、高沸点で揮発しにくく、高温成形時にも飛散しにくいため、比較的少量の添加で効果的に耐候性を改良することができる。

分子量が４００以上の紫外線吸収剤としては、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］等のベンゾトリアゾール系、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート等のヒンダードアミン系、さらには２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等の分子内にヒンダードフェノールとヒンダードアミンの構造を共に有するハイブリッド系のものが挙げられ、これらは単独で、あるいは２種以上を併用して使用することができる。これらのうちでも、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾールや２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］が特に好ましい。

さらに、基材フィルムには、成形加工時の熱分解性や熱着色性を改良するために各種の酸化防止剤を添加することもできる。また帯電防止剤を加えて、光学フィルムに帯電防止性能を与えることも可能である。

基材フィルムには、リン系難燃剤を配合した難燃アクリル系樹脂組成物を用いても良い。

ここで用いられるリン系難燃剤としては、赤リン、トリアリールリン酸エステル、ジアリールリン酸エステル、モノアリールリン酸エステル、アリールホスホン酸化合物、アリールホスフィンオキシド化合物、縮合アリールリン酸エステル、ハロゲン化アルキルリン酸エステル、含ハロゲン縮合リン酸エステル、含ハロゲン縮合ホスホン酸エステル、含ハロゲン亜リン酸エステル等から選ばれる１種、あるいは２種以上の混合物を挙げることができる。

具体的な例としては、トリフェニルホスフェート、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキシド、フェニルホスホン酸、トリス（β−クロロエチル）ホスフェート、トリス（ジクロロプロピル）ホスフェート、トリス（トリブロモネオペンチル）ホスフェート等が挙げられる。

本発明に係る基材フィルムは、「延性破壊が起こらないフィルム」であることが好ましい。ここで、延性破壊とは、ある材料が有する強度よりも、大きな応力が作用することで生じる破断のことであり、最終破断までに材料の著しい伸びや絞りを伴う破壊と定義される。その破面には、ディンプルと呼ばれる窪みが無数に形成される特徴がある。

「延性破壊が起こらないフィルム」であるか否かは、フィルムを２つに折り曲げるような大きな応力を作用させても破断等の破壊がみられないことにより評価するものとする。

液晶表示装置が大型化され、バックライト光源の輝度が益々高くなっていることに加え、デジタルサイネージ等の屋外用途への利用により、より高い輝度が求められていることから、基材フィルムはより高温の環境下での使用に耐えられることが求められており、本発明に係る基材フィルムは張力軟化点が、１０５℃〜１４５℃であれば、十分な耐熱性を示すものと判断でき好ましく、特に１１０℃〜１３０℃に制御することが好ましい。

張力軟化点の具体的な測定方法としては、例えば、テンシロン試験機（ＯＲＩＥＮＴＥＣ社製、ＲＴＣ−１２２５Ａ）を用いて、光学フィルムを１２０ｍｍ（縦）×１０ｍｍ（幅）で切り出し、１０Ｎの張力で引っ張りながら３０℃／ｍｉｎの昇温速度で昇温を続け、９Ｎになった時点での温度を３回測定し、その平均値により求めることができる。

また、耐熱性の観点で、基材フィルムは、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１１０℃以上であることが好ましい。より好ましくは１２０℃以上である。特に好ましくは１５０℃以上である。

尚、ここでいうガラス転移温度とは、示差走査熱量測定器（Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ社製ＤＳＣ−７型）を用いて、昇温速度２０℃／分で測定し、ＪＩＳ Ｋ７１２１（１９８７）に従い求めた中間点ガラス転移温度（Ｔｍｇ）である。

また、液晶表示装置の偏光板用保護フィルムとして基材フィルムが用いられる場合は、吸湿による寸法変化によりムラや位相差値の変化が発生してしまい、コントラストの低下や色むらといった問題を発生させる。特に屋外で使用される液晶表示装置に用いられる偏光板保護フィルムであれば、上記の問題は顕著となる。このため、寸法変化率（％）は０．５％未満が好ましく、更に、０．３％未満であることが好ましい。

また、基材フィルムは、フィルム面内の直径５μｍ以上の欠点が１個／１０ｃｍ四方以下であることが好ましい。更に好ましくは０．５個／１０ｃｍ四方以下、一層好ましくは０．１個／１０ｃｍ四方以下である。

ここで欠点の直径とは、欠点が円形の場合はその直径を示し、円形でない場合は欠点の範囲を下記方法により顕微鏡で観察して決定し、その最大径（外接円の直径）とする。

欠点の範囲は、欠点が気泡や異物の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の透過光で観察したときの影の大きさである。欠点が、ロール傷の転写や擦り傷など、表面形状の変化の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の反射光で観察して大きさを確認する。

なお、反射光で観察する場合に、欠点の大きさが不明瞭であれば、表面にアルミや白金を蒸着して観察する。

かかる欠点頻度にて表される品位に優れたフィルムを生産性よく得るには、ポリマー溶液を流延直前に高精度濾過することや、流延機周辺のクリーン度を高くすること、また、流延後の乾燥条件を段階的に設定し、効率よくかつ発泡を抑えて乾燥させることが有効である。

欠点の個数が１個／１０ｃｍ四方より多いと、例えば後工程での加工時などでフィルムに張力がかかると、欠点を基点としてフィルムが破断して生産性が低下する場合がある。また、欠点の直径が５μｍ以上になると、偏光板観察などにより目視で確認でき、光学部材として用いたとき輝点が生じる場合がある。

また、目視で確認できない場合でも、該フィルム上にハードコート層などを形成したときに、塗剤が均一に形成できず欠点（塗布抜け）となる場合がある。ここで、欠点とは、溶液製膜の乾燥工程において溶媒の急激な蒸発に起因して発生するフィルム中の空洞（発泡欠点）や、製膜原液中の異物や製膜中に混入する異物に起因するフィルム中の異物（異物欠点）を言う。

また、基材フィルムは、ＪＩＳ−Ｋ７１２７−１９９９に準拠した測定において、少なくとも一方向の破断伸度が、１０％以上であることが好ましく、より好ましくは２０％以上である。

破断伸度の上限は特に限定されるものではないが、現実的には２５０％程度である。破断伸度を大きくするには異物や発泡に起因するフィルム中の欠点を抑制することが有効である。

基材フィルムの厚みは、２０μｍ以上であることが好ましい。より好ましくは３０μｍ以上である。

厚みの上限は特に限定される物ではないが、溶液製膜法でフィルム化する場合は、塗布性、発泡、溶媒乾燥などの観点から、上限は２５０μｍ程度である。なお、フィルムの厚みは用途により適宜選定することができる。

基材フィルムは、その全光線透過率が９０％以上であることが好ましく、より好ましくは９３％以上である。また、現実的な上限としては、９９％程度である。かかる全光線透過率にて表される優れた透明性を達成するには、可視光を吸収する添加剤や共重合成分を導入しないようにすることや、ポリマー中の異物を高精度濾過により除去し、フィルム内部の光の拡散や吸収を低減させることが有効である。

また、製膜時のフィルム接触部（冷却ロール、カレンダーロール、ドラム、ベルト、溶液製膜における塗布基材、搬送ロールなど）の表面粗さを小さくしてフィルム表面の表面粗さを小さくすることや、熱可塑性アクリル樹脂の屈折率を小さくすることによりフィルム表面の光の拡散や反射を低減させることが有効である。

〈基材フィルムの製膜〉
基材フィルムの製膜方法の例を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。基材フィルムの製膜方法としては、インフレーション法、Ｔ−ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できる。

セルロースエステル樹脂や熱可塑性アクリル樹脂を溶解に用いた溶媒の残留抑制の点からは溶融流延製膜法で作製する方法が好ましい。溶融流延によって形成される方法は、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの中で、機械的強度及び表面精度などに優れるフィルムが得られる、溶融押出し法が好ましい。また、着色抑制、異物欠点の抑制、ダイラインなどの光学欠点の抑制などの観点からは流延法による溶液製膜が好ましい。

また、本発明では、フィルム形成材料が加熱されて、その流動性を発現させた後、ドラム上またはエンドレスベルト上に押出し製膜する方法も溶融流延製膜法として含まれる。

（有機溶媒）
基材フィルムを溶液流延法で製造する場合のドープを形成するのに有用な有機溶媒は、熱可塑性アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることが出来る。

例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることが出来、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用し得る。

ドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４０質量％の炭素原子数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有させることが好ましい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になり、また、アルコールの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒系での熱可塑性アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂の溶解を促進する役割もある。

特に、メチレンクロライド、及び炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有する溶媒に、熱可塑性アクリル樹脂と、セルロースエステル樹脂と、アクリル粒子の３種を、少なくとも計１５〜４５質量％溶解させたドープ組成物であることが好ましい。

炭素原子数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールを挙げることが出来る。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等からエタノールが好ましい。

（溶液流延法）
セルロースエステルフィルム、およびセルロースエステル樹脂・熱可塑性アクリル樹脂フィルムは、溶液流延法による製造では、セルロースエステル或いはセルロースエステル樹脂・熱可塑性アクリル樹脂、および添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状もしくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻き取る工程により行われる。

ドープ中のセルロースエステル、およびセルロースエステル樹脂・熱可塑性アクリル樹脂の濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースエステルの濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜３５質量％が好ましく、更に好ましくは、１５〜２５質量％である。

流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。

キャストの幅は１〜４ｍとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。

好ましい支持体温度としては０〜１００℃で適宜決定され、５〜３０℃が更に好ましい。または、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。

金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。

温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。

特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度および乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。

セルロースエステルフィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０〜１５０質量％が好ましく、更に好ましくは２０〜４０質量％または６０〜１３０質量％であり、特に好ましくは、２０〜３０質量％または７０〜１２０質量％である。

残留溶媒量は下記式で定義される。

残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
なお、Ｍはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。

また、セルロースエステルフィルム或いはセルロースエステル樹脂・熱可塑性アクリル樹脂フィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０〜０．０１質量％以下である。

フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式（上下に配置した多数のロールをウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。

（溶融製膜法）
セルロースエステルフィルム、およびセルロースエステル樹脂・熱可塑性アクリル樹脂フィルムは、溶融製膜法によって製膜されることも好ましい。溶融製膜法は、セルロースエステルおよびセルロースエステル樹脂・熱可塑性アクリル樹脂、および可塑剤などの添加剤を含む組成物を、流動性を示す温度まで加熱溶融し、その後、流動性のセルロースエステルを含む溶融物を流延することをいう。

加熱溶融する成形法は、更に詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。

これらの中で、機械的強度および表面精度などに優れるセルロースエステルフィルム、およびセルロースエステル樹脂・熱可塑性アクリル樹脂フィルムを得るためには、溶融押出し法が優れている。

溶融押出しに用いる複数の原材料は、通常予め混錬してペレット化しておくことが好ましい。

ペレット化は、公知の方法でよく、例えば、乾燥セルロースエステルや可塑剤、その他添加剤をフィーダーで押出し機に供給し１軸や２軸の押出し機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押出し、水冷または空冷し、カッティングすることでできる。

添加剤は、押出し機に供給する前に混合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。

粒子や酸化防止剤等少量の添加剤は、均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。

押出し機は、剪断力を抑え、樹脂が劣化（分子量低下、着色、ゲル生成等）しないようにペレット化可能でなるべく低温で加工することが好ましい。例えば、２軸押出し機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。

以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム製膜を行う。もちろんペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出し機に供給し、そのままフィルム製膜することも可能である。

上記ペレットを１軸や２軸タイプの押出し機を用いて、押出す際の溶融温度を２００〜３００℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルターなどで濾過し異物を除去した後、Ｔダイからフィルム状に流延し、冷却ロールと弾性タッチロールでフィルムをニップされ、冷却ロール上で固化させる。

供給ホッパーから押出し機へ導入する際は真空下または減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。

押出し流量は、ギヤポンプを導入するなどして安定に行うことが好ましい。また、異物の除去に用いるフィルターは、ステンレス繊維焼結フィルターが好ましく用いられる。

可塑剤や粒子などの添加剤は、予め樹脂と混合しておいてもよいし、押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサーなどの混合装置を用いることが好ましい。

冷却ロールと弾性タッチロールでフィルムをニップする際のタッチロール側のフィルム温度はフィルムのＴｇ以上Ｔｇ＋１１０℃以下にすることが好ましい。このような目的で使用する弾性体表面を有するロールは、公知のロールが使用できる。

弾性タッチロールは挟圧回転体ともいう。弾性タッチロールとしては、登録特許３１９４９０４号、登録特許３４２２７９８号、特開２００２−３６３３２号、特開２００２−３６３３３号などで開示されているタッチロールを好ましく用いることができる。これらは市販されているものを用いることもできる。

冷却ロールからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。

また、上記のようにして得られたフィルムは、冷却ロールに接する工程を通過後、前記延伸操作により延伸することが好ましい。

延伸する方法は、公知のロール延伸機やテンターなどを好ましく用いることができる。延伸温度は、通常フィルムを構成する樹脂のＴｇ〜Ｔｇ＋６０℃の温度範囲で行われることが好ましい。

巻き取る前に、製品となる幅に端部をスリットして裁ち落とし、巻き中の貼り付きやすり傷防止のために、ナール加工（エンボッシング加工）を両端に施してもよい。ナール加工の方法は凸凹のパターンを側面に有する金属リングを加熱や加圧により加工することができる。なお、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、フィルムが変形しており製品として使用できないので切除されて、再利用される。

＜機能性層＞
本発明に係るハードコートフィルムには、帯電防止層、バックコート層、反射防止層、易滑性層、接着層、防眩層、バリアー層等の機能性層を設けることができる。

〈バックコート層〉
本発明に係るハードコートフィルムは、基材フィルムのハードコート層を設けた側と反対側の面に、カールやくっつき防止の為にバックコート層を設けてもよい。

バックコート層に添加される粒子としては無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムを挙げることができる。

バックコート層に含まれる粒子は、バインダーに対して０．１〜５０質量％が好ましい。バックコート層を設けた場合のヘーズの増加は１．５％以下であることが好ましく、０．５％以下であることが更に好ましく、特に０．１％以下であることが好ましい。

バインダーとしては、ジアセチルセルロース等のセルロースエステル樹脂が好ましい。

〈反射防止層〉
本発明に係るハードコートフィルムは、ハードコート層の上層に反射防止層を塗設して、外光反射防止機能を有する反射防止フィルムとして用いることができる。

反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層されていることが好ましい。反射防止層は、支持体よりも屈折率の低い低屈折率層、もしくは支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と低屈折率層を組み合わせて構成されていることが好ましい。特に好ましくは、３層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる３層を、中屈折率層（支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているものが好ましく用いられる。または、２層以上の高屈折率層と２層以上の低屈折率層とを交互に積層した４層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。

反射防止フィルムの層構成としては下記のような構成が考えられるが、これに限定されるものではない。

基材フィルム／ハードコート層／低屈折率層
基材フィルム／ハードコート層／中屈折率層／低屈折率層
基材フィルム／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
基材フィルム／ハードコート層／高屈折率層（導電性層）／低屈折率層
基材フィルム／ハードコート層／防眩性層／低屈折率層
反射防止フィルムには必須である低屈折率層は、シリカ系微粒子を含有することが好ましく、その屈折率は、支持体である基材フィルムの屈折率より低く、２３℃、波長５５０ｎｍ測定で、１．３０〜１．４５の範囲であることが好ましい。

低屈折率層の膜厚は、５ｎｍ〜０．５μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜０．３μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ〜０．２μｍであることが最も好ましい。

低屈折率層形成用組成物については、シリカ系微粒子として、特に外殻層を有し内部が多孔質または空洞の粒子を少なくとも１種類以上含むことが好ましい。特に該外殻層を有し内部が多孔質または空洞である粒子が、中空シリカ系微粒子であることが好ましい。

なお、低屈折率層形成用組成物には、下記一般式（ＯＳｉ−１）で表される有機珪素化合物もしくはその加水分解物、或いは、その重縮合物を併せて含有させても良い。

一般式（ＯＳｉ−１）：Ｓｉ（ＯＲ）_４
前記一般式で表される有機珪素化合物は、式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基を表す。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が好ましく用いられる。

他に溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等を添加してもよい。

＜偏光板＞
本発明に係るハードコートフィルムを用いた本発明の偏光板について述べる。偏光板は一般的な方法で作製することができる。本発明に係るハードコートフィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理したハードコートフィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。

もう一方の面に該ハードコートフィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。本発明に係るハードコートフィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは、前記ハードコートフィルムの基材フィルムと同様に、熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂を含有し、該熱可塑性アクリル樹脂と該セルロースエステル樹脂の含有質量比が、熱可塑性アクリル樹脂：セルロースエステル樹脂＝９５：５〜５０：５０である保護フィルムを用いることが好ましい。構成の詳細は前述の通りであり、具体的には、特開２００３−１２８５９号記載のリターデーションＲｏが５９０ｎｍで０〜５ｎｍ、Ｒｔが−２０〜＋２０ｎｍの無配向フィルムが一例として挙げられる。

また、他に面内リターデーションＲｏが５９０ｎｍで、２０〜７０ｎｍ、Ｒｔが７０〜４００ｎｍの位相差を有する光学補償フィルム（位相差フィルム）を用いて、視野角拡大可能な偏光板とすることもできる。これらは例えば、特開２００２−７１９５７号の方法で作製することができる。または、更にディスコチック液晶等の液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開２００３−９８３４８号記載の方法で光学異方性層を形成することができる。

また、好ましく用いられる市販の偏光板保護フィルムとしては、ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ４ＵＥＷ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＣＲ−５、ＫＣ４ＦＲ−１、ＫＣ４ＦＲ−２、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ４ＵＥ（コニカミノルタオプト（株）製）等が挙げられる。

偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがあるがこれのみに限定されるものではない。

偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。偏光膜の膜厚は５〜３０μｍ、好ましくは８〜１５μｍの偏光膜が好ましく用いられる。

該偏光膜の面上に、本発明に係るハードコートフィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。

＜粘着層＞
液晶セルの基板と貼り合わせるために保護フィルムの片面に用いられる粘着剤層は、光学的に透明であることはもとより、適度な粘弾性や粘着特性を示すものが好ましい。

具体的な粘着層としては、例えばアクリル系共重合体やエポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーン系ポリマー、ポリエーテル、ブチラール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、合成ゴムなどの接着剤もしくは粘着剤等のポリマーを用いて、乾燥法、化学硬化法、熱硬化法、熱熔融法、光硬化法等により膜形成させ、硬化せしめることができる。なかでも、アクリル系共重合体は、最も粘着物性を制御しやすく、かつ透明性や耐候性、耐久性などに優れていて好ましく用いることができる。

＜液晶表示装置＞
本発明に係るハードコートフィルムを用いて作製した本発明の偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた画像表示装置を作製することができる。

本発明に係るハードコートフィルムは偏光板に組み込まれ、反射型、透過型、半透過型液晶表示装置またはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型、ＯＣＢ型等の各種駆動方式の液晶表示装置で好ましく用いられる。

以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

実施例１
＜基材フィルム１の作製＞
（ドープ液の調製）
下記の材料を、順次密閉容器中に投入し、容器内温度を２０℃から８０℃まで昇温した後、温度を８０℃に保ったままで３時間攪拌を行って、セルロースエステルを完全に溶解した。酸化ケイ素微粒子は予め添加する溶媒と少量のセルロースエステルの溶液中に分散して添加した。このドープを濾紙（安積濾紙株式会社製、安積濾紙Ｎｏ．２４４）を使用して濾過し、ドープ液Ａを得た。

（ドープ液Ａの調製）
セルローストリアセテート（アセチル基置換度２．９） １００質量部
トリメチロールプロパントリベンゾエート ５質量部
エチルフタリルエチルグリコレート ５質量部
酸化ケイ素微粒子 ０．１質量部
（アエロジルＲ９７２Ｖ、日本アエロジル株式会社製）
チヌビン１０９（チバ・ジャパン社製） １質量部
チヌビン１７１（チバ・ジャパン社製） １質量部
メチレンクロライド ４００質量部
エタノール ４０質量部
ブタノール ５質量部
上記の材料を混合してドープ液Ａを調製し、得られたドープ液Ａを、温度３５℃に保温した流延ダイを通より、ステンレス鋼製エンドレスベルトよりなる温度３５℃の支持体上に流延して、ウェブを形成した。

ついで、ウェブを支持体上で乾燥させ、ウェブの残留溶媒量が８０質量％になった段階で、剥離ロールによりウェブを支持体から剥離した。

ついで、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で９０℃の乾燥風にて乾燥させながら搬送し、続いてテンターでウェブ両端部を把持した後、１３０℃で幅方向に延伸前の１．１倍となるように延伸した。テンターでの延伸の後、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で１３０℃の乾燥風にて乾燥させた。乾燥工程の雰囲気置換率１５（回／時間）とした雰囲気内で１５分間熱処理した後、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ１０μｍのナーリング加工を施し、室温まで冷却してコアに巻き取り、幅１．５ｍ、膜厚４０μｍ、長さ４０００ｍの基材フィルム１を作製した。

＜ハードコートフィルム１の作製＞
上記作製した基材フィルム１上に、下記のハードコート層塗布組成物１−１を孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液を調製し、マイクログラビアコーターを用いて塗布し、８０℃で乾燥の後、紫外線ランプを用いて、照射部の照度が８０ｍＷ／ｃｍ^２、照射量を８０ｍＪ／ｃｍ^２として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚８μｍのハードコート層１を形成した。連続して、ハードコート層１上に、ハードコート層塗布組成物１−２を押し出しコーターで塗布し、８０℃にて乾燥し、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が１５０ｍＷ／ｃｍ^２、照射量を２５０ｍＪ／ｃｍ^２として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚０．６μｍのハードコート層２を形成した。また、ハードコート層２を形成後、下記バックコート層塗布組成物１をウェット膜厚１０μｍとなるように、ハードコート層を塗布した面とは反対の面に押し出しコーターで塗布し、５０℃にて乾燥し、バックコート層１を設け、巻き取り、ロール状のハードコートフィルム１を作製した。

（ハードコート層塗布組成物１−１）
下記材料を攪拌、混合しハードコート層塗布組成物１とした。

ペンタエリスリトールトリアクリレート ２０質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ３０質量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート ３０質量部
イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製） ５．０質量部
ポリエーテル変性シリコーン（ＫＦ３５４Ｌ、信越化学社製）
２．０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル １０質量部
酢酸メチル ４５質量部
メチルエチルケトン ６５質量部
シクロヘキサノン １０質量部
（ハードコート層塗布組成物１−２）
（シリカ粒子分散液の調製）
平均粒子径０．５μｍのシリカ粒子（ＫＥ−Ｐ５０、日本触媒社製）２５質量部に、メチルエチルケトン５０質量部を加えた後、超音波ホモジナイザーで１５分間処理し、シリカ粒子分散液を調製した。

次いで、下記材料を攪拌、混合しハードコート層塗布組成物１−２とした。

ウレタンアクリレート 紫光ＵＶ１７００Ｂ（日本合成化学社製）
６０質量部
イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製） ３．０質量部
シリカ粒子分散液 ９０質量部
ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン
（ＢＹＫ−ＵＶ３５１０、ビックケミージャパン社製）２．０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ２００質量部
メチルエチルケトン １００質量部
（バックコート層塗布組成物１）
酢酸メチル ８０質量部
メタノール ３０質量部
＜ハードコートフィルム２の作製＞
ハードコートフィルム１の作製において、ハードコート層塗布組成物１−２のシリカ粒子を平均粒径が０．３μｍ（ＫＥ−Ｐ３０、日本触媒社製）のシリカ粒子に変更し、ハードコート層２の膜厚を０．３５μｍに変更した以外は、同様にしてハードコートフィルム２を作製した。

＜ハードコートフィルム３の作製＞
ハードコートフィルム１の作製において、ハードコート層２を設けず、ハードコート層塗布組成物１−１をハードコート層塗布組成物３−１に変更した以外は同様にして、ハードコートフィルム３を作製した。

（ハードコート層塗布組成物３−１）
〈反応性シリカ粒子（Ｘａ）の作製〉
（重合性不飽和基を有する有機化合物（Ｘ）の作製）
メルカプトプロピルトリメトキシシラン２３部、ジブチルスズジラウレート０．５部からなる溶液にイソホロンジイソシアネート６０部を攪拌しながら５０℃で１時間かけて滴下後、８０℃で３時間攪拌した。これに新中村化学製ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ（ペンタエリスリトールトリアクリレート６０質量％とペンタエリスリトールテトラアクリレート４０質量％とからなる溶液）２０２部を３０℃で１時間かけて滴下後、６０℃で３時間加熱攪拌することで特定有機化合物（Ｓ１）を得た。生成物の赤外吸収スペクトルは原料中のメルカプト基に特徴的な２５５０ｃｍ−１の吸収ピーク及びイソシアネート基に特徴的な２２６０ｃｍ−１の吸収ピークが消失し、新たに、［−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−］基及び［−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−］基中のカルボニルに特徴的な１６６０ｃｍ−１のピーク及びアクリロイル基に特徴的な１７２０ｃｍ−１のピークが観察され、重合性不飽和基としてのアクリロイル基と［−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−］基、［−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−］基を共に有する特定有機化合物が生成していることを示した。上記製造した組成物９．５部（重合性不飽和基を有する有機化合物（Ｘ）を７．３部含む）、シリカ粒子分散液（シリカ濃度３５％、日産化学製ＭＥＫゾル）９８部、イオン交換水０．１３部、及びｐ−ヒドロキシフェニルモノメチルエーテル０．０１部の混合液を、６０℃、５時間攪拌後、オルト蟻酸メチルエステル１．４５部を添加し、さらに１時間同一温度で加熱攪拌することで反応性シリカ粒子（Ｘａ）の分散液を得た。この分散液をアルミ皿に２ｇ秤量後、１７５℃のホットプレート上で１時間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、３６％であった。またこのシリカ粒子の平均粒子径は３５ｎｍであった。ここで、平均粒子径は透過型電子顕微鏡により測定した。次いで、下記材料を攪拌、混合しハードコート層塗布組成物３−１とした。

ペンタエリスリトールトリアクリレート ２．５質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート ６．５質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ３．８質量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート ３．８質量部
イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製） ０．８５質量部
反応性シリカ粒子分散液（反応性シリカ粒子（Ｘａ）３６％）
１００質量部
ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン
（ＢＹＫ−ＵＶ３５１０、ビックケミージャパン社製）１．０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ５質量部
＜ハードコートフィルム４の作製＞
ハードコートフィルム１の作製において、ハードコート層２の膜厚を０．０８μｍ、塗布組成物のシリカ粒子をアクリル架橋微粒子・平均粒子径１４ｎｍ（ＭＧ−１５３・日本ペイント社製）に変更した以外は、同様にしてハードコートフィルム４を作製した。

＜ハードコートフィルム５の作製＞
ハードコートフィルム１の作製において、ハードコート層塗布組成物１−２のシリカ粒子を平均粒径が１μｍのシリカ粒子（ＫＥ−Ｐ１００、日本触媒社製）にし、シリカ粒子分散液の添加量を１１０質量部とし、ハードコート層２の膜厚を１．１μｍに変更した以外は、同様にしてハードコートフィルム５を作製した。

＜ハードコートフィルム６の作製＞
ハードコートフィルム１の作製において、ハードコート層２を設けなかった以外は同様にして、ハードコートフィルム６を作製した。

＜ハードコートフィルム７の作製＞
ハードコートフィルム１の作製において、ハードコート層２を設けず、ハードコート層塗布組成物１−１をハードコート層塗布組成物７−１に変更した以外は同様にして、ハードコートフィルム７を作製した。

下記材料を攪拌、混合しハードコート層塗布組成物７−１とした。

（ハードコート層塗布組成物７−１）
ペンタエリスリトールトリアクリレート ５．０質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート １３質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ７．０質量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート ７．０質量部
イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製） １．６質量部
反応性シリカ粒子分散液（反応性シリカ粒子（Ｘａ）３６％）
１５質量部
ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン
（ＢＹＫ−ＵＶ３５１０、ビックケミージャパン社製）１．０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ５質量部
メチルエチルケトン ３３質量部
＜ハードコートフィルム８の作製＞
ハードコートフィルム１の作製において、ハードコート層２を設けず、ハードコート層塗布組成物１−１をハードコート層塗布組成物８−１に変更した以外は同様にして、ハードコートフィルム８を作製した。

（ハードコート層塗布組成物８−１）
下記材料を攪拌、混合しハードコート層塗布組成物８−１とした。

ペンタエリスリトールトリアクリレート ５．０質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート １３質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ７．０質量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート ７．０質量部
イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製） １．６質量部
反応性シリカ粒子分散液（反応性シリカ粒子（Ｘａ）３６％）
５８質量部
ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン
（ＢＹＫ−ＵＶ３５１０、ビックケミージャパン社製） １．０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ５質量部
メチルエチルケトン ２５質量部
＜ハードコートフィルム９の作製＞
ハードコートフィルム５の作製において、シリカ粒子分散液の添加量を１２５質量部とし、ハードコート層２の膜厚を０．９５μｍに変更した以外は同様にして、ハードコートフィルム９を作製した。

＜ハードコートフィルム１０の作製＞
ハードコートフィルム５の作製において、ハードコート層２の紫外線照射において、窒素パージを行わず、更にハードコート層２の上にハードコート層塗布組成物１−１を押し出しコーターで塗布、８０℃にて乾燥し、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が１５０ｍＷ／ｃｍ^２、照射量を２５０ｍＪ／ｃｍ^２として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚０．１μｍのハードコート層３を形成し、３層構成とした以外は、同様にして、ハードコートフィルム１０を作製した。

＜ハードコートフィルム１１の作製＞
ハードコートフィルム１の作製において、ハードコート層塗布組成物１−２のシリカ粒子を平均粒径が１μｍのシリカ粒子（ＫＥ−Ｐ１００、日本触媒社製）にし、シリカ粒子分散液の添加量を１０質量部とし、ハードコート層２の膜厚を１．１５μｍに変更した以外は、同様にしてハードコートフィルム１１を作製した。

＜ハードコートフィルム１２の作製＞
ハードコートフィルム１の作製において、ハードコート層２を設けず、ハードコート層塗布組成物１−１をハードコート層塗布組成物１２−１に変更した以外は同様にして、ハードコートフィルム１２を作製した。

（ハードコート層塗布組成物１２−１）
〈反応性シリカ粒子（Ｘｂ）の作製〉
反応性シリカ粒子（Ｘａ）の作製において、シリカ粒子分散液を粒子径が異なる粒子に変更した以外は同様にして、反応性シリカ粒子（Ｘｂ）を作製した。反応性シリカ粒子（Ｘｂ）の粒子径は１５ｎｍであり、固形分含量は３６％であった。

下記材料を攪拌、混合しハードコート層塗布組成物１２−１とした。

ペンタエリスリトールトリアクリレート ２．５質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート ６．５質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ３．８質量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート ３．８質量部
イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製） ０．８５質量部
反応性シリカ粒子分散液（反応性シリカ粒子（Ｘｂ）３６％）
１１５質量部
ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン
（ＢＹＫ−ＵＶ３５１０、ビックケミージャパン社製）１．０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ５質量部
＜ハードコートフィルム１３の作製＞
ハードコートフィルム１の作製において、ハードコート層２を設けず、ハードコート層塗布組成物１−１を塗布、乾燥後、特開２００８−２７６１９８号公報の実施例を参考にして作製した鋳型ロールで型押し後（ここで、鋳型ロールは鋳型が規則正しく配列されたものを使用した）、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が１５０ｍＷ／ｃｍ^２、照射量を２５０ｍＪ／ｃｍ^２として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚１０μｍのハードコート層１を形成した以外は、同様にして、ハードコートフィルム１３を作製した。

＜ハードコートフィルム１４の作製＞
ハードコートフィルム１３の作製において、鋳型ロールの形状を変更した以外は同様にしてハードコートフィルム１４を作製した。

＜ハードコートフィルム１５の作製＞
ハードコートフィルム１３の作製において、鋳型ロールの形状を変更した以外は同様にしてハードコートフィルム１５を作製した。

＜偏光板１０１の作製＞
（アルカリ鹸化処理）
ハードコートフィルム１と基材フィルム１の各々１枚を偏光板の保護フィルムとして用いて、偏光板１０１を作製した。

（ａ）偏光膜の作製
けん化度９９．９５モル％、重合度２４００のポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡと略記する）１００質量部に、グリセリン１０質量部、及び水１７０質量部を含浸させたものを溶融混練し、脱泡後、Ｔダイから金属ロール上に溶融押出し、製膜した。その後、乾燥・熱処理して、ＰＶＡフィルムを得た。

得られたＰＶＡフィルムは、平均厚みが２５μｍ、水分率が４．４％、フィルム幅が３ｍであった。

次に、得られたＰＶＡフィルムを、予備膨潤、染色、湿式法による一軸延伸、固定処理、乾燥、熱処理の順番で、連続的に処理して、偏光膜を作製した。すなわち、ＰＶＡフィルムを温度３０℃の水中に３０秒間浸して予備膨潤し、ヨウ素濃度０．４ｇ／リットル、ヨウ化カリウム濃度４０ｇ／リットルの温度３５℃の水溶液中に３分間浸した。続いて、ホウ酸濃度４％の５０℃の水溶液中でフィルムにかかる張力が７００Ｎ／ｍの条件下で、６倍に一軸延伸を行い、ヨウ化カリウム濃度４０ｇ／リットル、ホウ酸濃度４０ｇ／リットル、塩化亜鉛濃度１０ｇ／リットルの温度３０℃の水溶液中に５分間浸漬して固定処理を行った。その後、ＰＶＡフィルムを取り出し、温度４０℃で熱風乾燥し、更に温度１００℃で５分間熱処理を行った。得られた偏光膜は、平均厚みが１３μｍ、偏光性能については透過率が４３．０％、偏光度が９９．５％、２色性比が４０．１であった。

（ｂ）偏光板の作製
下記工程１〜４に従って、偏光膜と、基材フィルム１とハードコートフィルム１を貼り合わせて偏光板１０１を作製した。

工程１：前述の偏光膜を、固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤溶液の貯留槽中に１〜２秒間浸漬した。

工程２：基材フィルム１とハードコート層に剥離性のプロテクトフィルム（ＰＥＴ製）を張り付けたハードコートフィルム１を下記条件でアルカリ鹸化処理を実施した。次いで、工程１でポリビニルアルコール接着剤溶液に浸漬した偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く取り除き、この偏光膜に基材フィルム１と、ハードコートフィルム１とを図２のように挟み込んで、積層配置した。

（アルカリ鹸化処理）
ケン化工程 ２．５Ｍ−ＫＯＨ ５０℃ １２０秒
水洗工程 水 ３０℃ ６０秒
中和工程 １０質量部ＨＣｌ ３０℃ ４５秒
水洗工程 水 ３０℃ ６０秒
ケン化処理後、水洗、中和、水洗の順に行い、次いで１００℃で乾燥。

工程３：積層物を、２つの回転するローラにて２０〜３０Ｎ／ｃｍ^２の圧力で約２ｍ／ｍｉｎの速度で貼り合わせた。このとき、気泡が入らないように注意して実施した。

工程４：工程３で作製した試料を、温度１００℃の乾燥機中にて５分間乾燥処理し、偏光板を作製した。

工程５：工程４で作製した偏光板の基材フィルム１に市販のアクリル系粘着剤を乾燥後の厚みが２５μｍとなるように塗布し、１１０℃のオーブンで５分間乾燥して粘着層を形成し、粘着層に剥離性のプロテクトフィルムを張り付けた。この偏光を５７６×３２４ｍｍサイズに裁断（打ち抜き）し、偏光板１０１を作製した。

＜偏光板１０２〜１１５の作製＞
偏光板１０１の作製において、ハードコートフィルム１をハードコートフィルム２〜１５に、それぞれ変更した以外は同様にして偏光板１０２〜１１５を作製した。

＜液晶表示装置４０１の作製＞
ＮＥＣ製ノートＰＣ ＬａＶｉｅ Ｇタイプの液晶パネルの偏光板を剥がし、視認側の偏光板として上記作製した偏光板１０１（構成は図２参照）をハードコート層が視認側となるようにして、粘着剤層５と液晶セルガラスとを貼合した。また、バックライト側には、上記手順と同様にアルカリ鹸化処理した基材フィルム１で偏光膜を挟持するように積層配置して貼合した偏光板２０１を厚さ２５μｍのアクリル系粘着剤を用いて液晶セルガラスに貼合して、液晶パネル３０１を作製した。次に液晶パネル３０１を液晶テレビにセットし、液晶表示装置４０１を作製した。

＜液晶表示装置４０２〜４１５の作製＞
液晶表示装置４０１の作製において、偏光板１０１を偏光板１０２〜１１５に、それぞれ変更した以外は同様にして液晶表示装置４０２〜４１５を作製した。

《評価》
上記作製したハードコートフィルム１〜１５、偏光板１０１〜１１５及び画像表示装置４０１〜４１５について下記の評価を行った。

（ハードコートフィルム）
ａ．表面粗さ（Ｒａ）測定
上記作製したハードコートフィルム１〜１５のハードコート層を、光学干渉式表面粗さ計（ＲＳＴ／ＰＬＵＳ、ＷＹＫＯ社製）を用いて１０回測定し、その測定結果の平均から、各ハードコートフィルムの表面粗さ（Ｒａ）を求めた。得られた結果を表１に示した。

ｂ．突起数測定
上記の表面粗さ（Ｒａ）の測定時に、突起形状の個数をカウント（測定面積０．０１ｍｍ^２あたりの個数）した。次に、カウントした１０回の結果を平均して、各ハードコートフィルムのハードコート層の突起数を求めた。

尚、突起数としては粗さ曲線の平均線から３ｎｍ以上の高さの突起をカウントした。

得られた結果を表１に示した。

ｃ．ヘーズ測定
基材フィルムのヘーズ（Ｈｆ）をＪＩＳ−Ｋ７１３６に準じて、ヘーズメーター（ＮＤＨ２０００；日本電色工業株式会社製）を用いて測定した。次に、上記作製した各ハードコートフィルム（Ｈｈ）のヘーズを基材フィルムと同様にして測定した。

これら各ハードコートフィルムのヘーズ値（Ｈｈ）から基材フィルムのヘーズ値（Ｈｆ）の差を引き、ハードコート層の塗布前後のヘーズ変化（Δヘーズ）を測定した。ハードコートフィルムのヘーズ値（Ｈｈ）及び、ヘーズ変化（Δヘーズ）の結果を表１に示す。

なお、基材フィルムのヘーズ値（Ｈｆ）は、０．２６％であった。

（偏光板）
ａ．耐久性試験
偏光板１０１〜１１５のハードコート層の剥離性のプロテクトフィルムを剥離したのち、偏光板を図３のように各５０枚重ね、一番下の偏光板は更に粘着層介してガラス板上に貼り合わせ、８５℃９５％の条件で１６８時間保存した。

ｂ．変形故障の観察
上記耐久試験を実施した偏光板をハードコート層側から観察して、変形故障の状態を以下の基準で観察した。

◎：変形故障が全くみられない
○：僅かな部分で変形故障がみられるが、実害上問題なし
△：部分的に変形故障がみられる。実害上問題あり
×：部分的な変形故障が、遠くから見てもはっきりと発生している事がみえる。

（液晶表示装置）
ａ．視認性（クリア性）評価
上記作製した液晶表示装置４０１〜４１５について、床から８０ｃｍの高さの机上に配置し、床から３ｍの高さの天井部に、昼色光直管蛍光灯（ＦＬＲ４０Ｓ・Ｄ／Ｍ−Ｘ パナソニック（株）製）４０Ｗ×２本を１セットとして、１．５ｍ間隔で１０セット配置した。この場合、評価者が液晶表示パネルの表示面の正面にいるときに、評価者の頭上より後方に向けて天井部に蛍光灯がくるように配置した。次に、液晶表示装置４０１〜４１５の視認性を以下の基準で評価した。得られた結果を表１に示した。

○：蛍光灯がはっきりと見える
△：蛍光灯が僅かに白っぽくぼけて見える
×：蛍光灯がぼけて白っぽく見える。

表１の結果から判るように、ハードコートフィルムのハードコート層の突起数が５００〜２０００００個／ｍｍ^２、更にハードコート層の算術平均粗さＲａが２ｎｍ〜２０ｎｍ、かつハードコートフィルムのヘーズ値（Ｈｈ）が０．２〜０．６％である本発明の偏光板は、高温高湿下で保存した際の変形故障の防止と、液晶表示装置に用いた際の視認性（クリア性）の両方に優れた性能を発揮する。

本発明の中でも、ハードコート層の算術平均粗さＲａが４ｎｍ〜２０ｎｍ、或いはハードコート層が２層構成からなる本発明の偏光板は、特に優れた変形故障の防止効果を発揮する。なお、本発明に係わるハードコートフィルム及び偏光板について、２３℃５５％ＲＨで２４時間調湿後、ＪＩＳ−Ｓ６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ−Ｋ５４００が規定する鉛筆硬度評価法に従い、５００ｇのおもりを用いて鉛筆硬度の試験を行った。本発明に係わるハードコートフィルム及び偏光板の鉛筆硬度は、いずれも３Ｈ以上であった。

実施例２
ハードコートフィルム１の作製において、基材フィルム１を以下の基材フィルム２〜６に変更した以外は同様にしてハードコートフィルム１６〜２０を作製した。これら作製したハードコートフィルム１６〜２０を用いて、偏光板１１６〜１２０、及び液晶表示装置４１６〜４２０を作製した。

＜ハードコートフィルム１６の作製＞
（基材フィルム２の作製）
（ドープ液Ｂの調整）
市販の熱可塑性アクリル樹脂（ダイヤナールＢＲ８５（三菱レイヨン（株）製） Ｍｗ２８００００） ７０質量部
セルロースエステル（セルロースアセテートプロピオネート アシル基総置換度：２．７５、アセチル基置換 度０．１９、プロピオニル基置換度２．５６、Ｍｗ＝２０００００） ３０質量部
メチレンクロライド ３００質量部
エタノール ４０質量部
上記組成物を、加熱しながら十分に溶解し、ドープ液を作製した。

（製膜）
上記作製したドープ液Ｂを、ベルト流延装置を用い、温度２２℃、２ｍ幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が１００％になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。剥離した熱可塑性アクリル樹脂・セルロースエステル樹脂のウェブを３５℃で溶媒を蒸発させ、１．６ｍ幅にスリットし、その後、テンターで幅方向に１．１倍に延伸しながら、１３０℃の乾燥温度で乾燥させた。このときテンターで延伸を始めたときの残留溶剤量は１０％であった。テンターで延伸後、１３０℃で５分間緩和を行った後、１２０℃、１４０℃の乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、１．５ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ１０μｍのナーリング加工を施し、コアに巻き取り、基材フィルム２を得た。膜厚は４０μｍ、巻長は４０００ｍであった。

（基材フィルム３〜６の作製）
基材フィルム２の作製において、熱可塑性アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂の種類と含有比率を、表２に記載のように変化して基材フィルム３〜６を作製した。

＜偏光板１１６〜１２０の作製＞
偏光板１０１の作製において、ハードコートフィルム１をハードコートフィルム１６〜２０に、それぞれ変更した以外は同様にして偏光板１１６〜１２０を作製した。

＜液晶表示装置４１６〜４２０の作製＞
液晶表示装置４０１の作製において、偏光板１０１を偏光板１１６〜１２０に、それぞれ変更した以外は同様にして液晶表示装置４１６〜４２０を作製した。

《評価》
実施例１の偏光板の耐久性試験において、保存時間を３３６時間に変更した以外は同様にして、実施例１で作製した偏光板１０１及び液晶表示装置４０１と、上記作製したハードコートフィルム１６〜２０、偏光板１１６〜１２０及び液晶表示装置４１６〜４２０を評価した。得られた結果を表２に示した。

表２の結果から判るように、より過酷な試験では、基材フィルムに熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂を含有し、熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の含有質量比を、熱可塑性アクリル樹脂：セルロースエステル樹脂＝９５：５〜５０：５０の範囲のフィルムを用いることで、変形故障の防止効果に特に優れ、液晶表示装置に用いた際の視認性（クリア性）も良好な効果が得られる。

実施例３
実施例１の偏光板１０１の作製において、保護フィルムを基材フィルム２〜６に変更した以外は、偏光板１２１〜１２５を作製した。これら作製した偏光板を用いて、液晶表示装置４２１〜４２５を作製した。

《評価》
実施例２と同様にして、実施例１で作製した偏光板１０１及び液晶表示装置４０１と、上記作製した偏光板１２１〜１２５及び液晶表示装置４２１〜４２５を評価した。得られた結果を表３に示した。

表３の結果から判るように、より過酷な試験では、保護フィルムに熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂を含有し、熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の含有質量比を、熱可塑性アクリル樹脂：セルロースエステル樹脂＝９５：５〜５０：５０の範囲のフィルムを用いることで、変形故障の防止効果に特に優れ、液晶表示装置に用いた際の視認性（クリア性）も良好な効果が得られる。

１ 基材フィルム
２ａ、２ｂ ハードコート層
３ 偏光膜
４ 保護フィルム
５ 粘着層
６ ハードコートフィルム
７ 偏光板
８ ガラス板

Claims (7)

1. 保護フィルム、偏光膜及び基材フィルム上にハードコート層を有するハードコートフィルムがこの順序で積層された偏光板において、該ハードコート層が５００〜２０００００個／ｍｍ^２の突起を有し、該ハードコート層の算術平均粗さＲａ（ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１）が２〜２０ｎｍであり、かつ該ハードコートフィルムのヘーズ値（Ｈｈ）が０．２〜０．６％であることを特徴とする偏光板。
2. 前記ハードコートフィルムのヘーズ値（Ｈｈ）と前記ハードコートフィルムの基材フィルムのヘーズ値（Ｈｆ）との差（Ｈｈ−Ｈｆ）が、０．０２％〜０．３％であることを特徴とする請求項１に記載の偏光板。
3. 前記ハードコート層の算術平均粗さＲａが４ｎｍ〜２０ｎｍであることを特徴とする請求項１または２に記載の偏光板。
4. 前記ハードコート層が２層構成からなることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の偏光板。
5. 前記ハードコートフィルムの基材フィルムが熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂を含有し、該熱可塑性アクリル樹脂と該セルロースエステル樹脂の含有質量比が、熱可塑性アクリル樹脂：セルロースエステル樹脂＝９５：５〜５０：５０であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の偏光板。
6. 前記保護フィルムが熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂を含有し、該熱可塑性アクリル樹脂と該セルロースエステル樹脂の含有質量比が、熱可塑性アクリル樹脂：セルロースエステル樹脂＝９５：５〜５０：５０であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の偏光板。
7. 請求項１〜６のいずれか１項に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方に有することを特徴とする液晶表示装置。