JPWO2009098887A1 - 光学材料用重合性組成物、光学材料および光学材料の製造方法 - Google Patents
光学材料用重合性組成物、光学材料および光学材料の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2009098887A1 JPWO2009098887A1 JP2009552411A JP2009552411A JPWO2009098887A1 JP WO2009098887 A1 JPWO2009098887 A1 JP WO2009098887A1 JP 2009552411 A JP2009552411 A JP 2009552411A JP 2009552411 A JP2009552411 A JP 2009552411A JP WO2009098887 A1 JPWO2009098887 A1 JP WO2009098887A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bis
- optical material
- compounds
- resin
- mercaptomethylthio
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 53
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 49
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 46
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 claims abstract description 16
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 229920006295 polythiol Polymers 0.000 claims abstract description 16
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- OCGYTRZLSMAPQC-UHFFFAOYSA-N 3-(2-sulfanylethylsulfanyl)-2-[1-sulfanyl-3-(2-sulfanylethylsulfanyl)propan-2-yl]sulfanylpropane-1-thiol Chemical compound SCCSCC(CS)SC(CS)CSCCS OCGYTRZLSMAPQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- CEUQYYYUSUCFKP-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(2-sulfanylethylsulfanyl)propane-1-thiol Chemical compound SCCSCC(CS)SCCS CEUQYYYUSUCFKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- QNSUVMHSJGIMDL-UHFFFAOYSA-N [6-(sulfanylmethylsulfanyl)-1,3-dithian-4-yl]sulfanylmethanethiol Chemical compound SCSC1CC(SCS)SCS1 QNSUVMHSJGIMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- FDJWTMYNYYJBAT-UHFFFAOYSA-N 1,3,3-tris(sulfanylmethylsulfanyl)propylsulfanylmethanethiol Chemical compound SCSC(SCS)CC(SCS)SCS FDJWTMYNYYJBAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- VLCCKNLIFIJYOQ-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propyl] 2,2,3,3-tetrakis(sulfanyl)propanoate Chemical compound OCC(CO)(CO)COC(=O)C(S)(S)C(S)S VLCCKNLIFIJYOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- KSJBMDCFYZKAFH-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethylsulfanyl)ethanethiol Chemical compound SCCSCCS KSJBMDCFYZKAFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- COYTVZAYDAIHDK-UHFFFAOYSA-N [5-(sulfanylmethyl)-1,4-dithian-2-yl]methanethiol Chemical compound SCC1CSC(CS)CS1 COYTVZAYDAIHDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- NITQFNYRKUAWHQ-UHFFFAOYSA-N [2-(1,3-dithietan-2-yl)-1-(sulfanylmethylsulfanyl)ethyl]sulfanylmethanethiol Chemical compound SCSC(SCS)CC1SCS1 NITQFNYRKUAWHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 15
- -1 isocyanate compounds Chemical class 0.000 description 67
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 59
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 59
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 43
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 22
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 22
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 18
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 16
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 16
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 14
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 239000000047 product Substances 0.000 description 13
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 13
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 10
- 150000002483 hydrogen compounds Chemical class 0.000 description 9
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 9
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 8
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 8
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 8
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 8
- PKKGKUDPKRTKLJ-UHFFFAOYSA-L dichloro(dimethyl)stannane Chemical compound C[Sn](C)(Cl)Cl PKKGKUDPKRTKLJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 8
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 8
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 5
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 5
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 5
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 5
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N Lysine Natural products NCCCCC(N)C(O)=O KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004472 Lysine Substances 0.000 description 3
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 3
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOC(=O)C(C)=C XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCLSOMLVSHPPFV-UHFFFAOYSA-N 3-(2-carboxyethyldisulfanyl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCSSCCC(O)=O YCLSOMLVSHPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGUJJOYLOCXENZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]propan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 DGUJJOYLOCXENZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUMBMVFBXHLACL-UHFFFAOYSA-N Melanin Chemical compound O=C1C(=O)C(C2=CNC3=C(C(C(=O)C4=C32)=O)C)=C2C4=CNC2=C1C XUMBMVFBXHLACL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- INBDPOJZYZJUDA-UHFFFAOYSA-N methanedithiol Chemical compound SCS INBDPOJZYZJUDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical class OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N sulfanyl Chemical class [SH] PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- UVZICZIVKIMRNE-UHFFFAOYSA-N thiodiacetic acid Chemical compound OC(=O)CSCC(O)=O UVZICZIVKIMRNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-M thioglycolate(1-) Chemical compound [O-]C(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N β‐Mercaptoethanol Chemical compound OCCS DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(CO)COC(=O)C=C LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- CAYNCHQZXZMUEX-UHFFFAOYSA-N (hydroxymethyldisulfanyl)methanol 2-sulfanylacetic acid Chemical compound OC(=O)CS.OC(=O)CS.OCSSCO CAYNCHQZXZMUEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXGKVFOHNHSLHH-UHFFFAOYSA-N (hydroxymethyldisulfanyl)methanol 3-sulfanylpropanoic acid Chemical compound OCSSCO.OC(=O)CCS.OC(=O)CCS BXGKVFOHNHSLHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHMKQRWOFRAOHS-UHFFFAOYSA-N (sulfanylmethyldisulfanyl)methanethiol Chemical compound SCSSCS RHMKQRWOFRAOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical class C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- MKLWPNHZCPMADB-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(2-isocyanatoethylsulfanyl)ethane Chemical compound O=C=NCCSC(C)SCCN=C=O MKLWPNHZCPMADB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXRRAZIZHCWBQY-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(isocyanatomethyl)cyclohexane Chemical compound O=C=NCC1(CN=C=O)CCCCC1 QXRRAZIZHCWBQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAWJNGTVHKRBAT-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(isocyanatomethylsulfanyl)ethane Chemical compound O=C=NCSC(C)SCN=C=O OAWJNGTVHKRBAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIWYMIQKLPZIAJ-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(isothiocyanatomethyl)cyclohexane Chemical compound S=C=NCC1(CN=C=S)CCCCC1 YIWYMIQKLPZIAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVNGTGZGWDPIRR-UHFFFAOYSA-N 1,2,2-tris(sulfanylmethylsulfanyl)ethylsulfanylmethanethiol Chemical compound SCSC(SCS)C(SCS)SCS XVNGTGZGWDPIRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRNVQLOKVMWBFR-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzenedithiol Chemical compound SC1=CC=CC=C1S JRNVQLOKVMWBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROLAGNYPWIVYTG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(4-methoxyphenyl)ethanamine;hydrochloride Chemical compound Cl.C1=CC(OC)=CC=C1CC(N)C1=CC=C(OC)C=C1 ROLAGNYPWIVYTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZROIUBWZBSCSE-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(CN=C=O)C(CN=C=O)=CC=C21 WZROIUBWZBSCSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYMPLPIFKRHAAC-UHFFFAOYSA-N 1,2-ethanedithiol Chemical compound SCCS VYMPLPIFKRHAAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIGYLAKFCGVRAN-UHFFFAOYSA-N 1,3,4-thiadiazolidine-2,5-dithione Chemical compound S=C1NNC(=S)S1 BIGYLAKFCGVRAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC(CN=C=O)=C1 RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSYVWTFRPITMBO-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(isothiocyanatomethyl)benzene Chemical compound S=C=NCC1=CC=CC(CN=C=S)=C1 MSYVWTFRPITMBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFLJVRLBIZHFSU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dithiane-2,5-dithiol Chemical compound SC1CSC(S)CS1 JFLJVRLBIZHFSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATOUXIOKEJWULN-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-2,2,4-trimethylhexane Chemical compound O=C=NCCC(C)CC(C)(C)CN=C=O ATOUXIOKEJWULN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGLRLXLDMZCFBP-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-2,4,4-trimethylhexane Chemical compound O=C=NCC(C)CC(C)(C)CCN=C=O QGLRLXLDMZCFBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZZPYUKWXDLMGI-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisothiocyanatohexane Chemical compound S=C=NCCCCCCN=C=S VZZPYUKWXDLMGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFIHENVLWCXMNE-UHFFFAOYSA-N 1-(propylsulfanylmethyl)-2,5,7-trithiabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound S1C2(SCCSC21)CSCCC IFIHENVLWCXMNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHTGWMSMTTXVOC-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-2-(2-isocyanatoethyldisulfanyl)ethane Chemical compound O=C=NCCSSCCN=C=O JHTGWMSMTTXVOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUVLJNYSCQAYLV-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-2-(2-isocyanatoethylsulfanyl)ethane Chemical compound O=C=NCCSCCN=C=O QUVLJNYSCQAYLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSKIHBCMFWMQEA-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-2-(2-isocyanatoethylsulfanylmethylsulfanyl)ethane Chemical compound O=C=NCCSCSCCN=C=O OSKIHBCMFWMQEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBVBOTITFSOHTL-UHFFFAOYSA-N 1-isothiocyanato-2-(2-isothiocyanatoethylsulfanyl)ethane Chemical compound S=C=NCCSCCN=C=S XBVBOTITFSOHTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)butyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(CC)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTZVWTOVHGKLOX-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(sulfanylmethyl)propane-1,3-dithiol Chemical compound SCC(CS)(CS)CS MTZVWTOVHGKLOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYLVUSZHVURAOY-UHFFFAOYSA-N 2,2-dibromoethenylbenzene Chemical compound BrC(Br)=CC1=CC=CC=C1 CYLVUSZHVURAOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXDDGAZCUPULGL-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(sulfanylmethylsulfanyl)propylsulfanylmethanethiol Chemical compound SCSCC(SCS)CSCS WXDDGAZCUPULGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRHRHYSCLREHLE-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(isocyanatomethyl)-1,4-dithiane Chemical compound O=C=NCC1CSC(CN=C=O)CS1 YRHRHYSCLREHLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEAAXJONQWQISB-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(isocyanatomethyl)bicyclo[2.2.1]heptane Chemical compound C1C2C(CN=C=O)CC1C(CN=C=O)C2 LEAAXJONQWQISB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVLMYSAVQJGHAN-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(isocyanatomethyl)thiolane Chemical compound O=C=NCC1CCC(CN=C=O)S1 BVLMYSAVQJGHAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDLJDZLEOKUVHM-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(isocyanatomethyl)thiophene Chemical compound O=C=NCC1=CC=C(CN=C=O)S1 BDLJDZLEOKUVHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHVYPMRJFURVKL-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(isothiocyanatomethyl)-1,4-dithiane Chemical compound S=C=NCC1CSC(CN=C=S)CS1 OHVYPMRJFURVKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWXVIDODXWMIHR-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(isothiocyanatomethyl)bicyclo[2.2.1]heptane Chemical compound C1C2C(CN=C=S)CC1C(CN=C=S)C2 BWXVIDODXWMIHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQSFKADTXUZEFP-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(isothiocyanatomethyl)thiolane Chemical compound S=C=NCC1CCC(CN=C=S)S1 NQSFKADTXUZEFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHSNOFWFFGXZOU-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(isothiocyanatomethyl)thiophene Chemical compound S=C=NCC1=CC=C(CN=C=S)S1 PHSNOFWFFGXZOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNVYHRRERQYAEF-UHFFFAOYSA-N 2,5-diisocyanato-1,4-dithiane Chemical compound O=C=NC1CSC(N=C=O)CS1 JNVYHRRERQYAEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWROYNZKLNPZHR-UHFFFAOYSA-N 2,5-diisocyanatothiolane Chemical compound O=C=NC1CCC(N=C=O)S1 YWROYNZKLNPZHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNKIKONDIUVILW-UHFFFAOYSA-N 2,5-diisocyanatothiophene Chemical compound O=C=NC1=CC=C(N=C=O)S1 QNKIKONDIUVILW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHPDXGCRAJEBTA-UHFFFAOYSA-N 2,5-diisothiocyanato-1,4-dithiane Chemical compound S=C=NC1CSC(N=C=S)CS1 MHPDXGCRAJEBTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBSFTGJNSRLRRT-UHFFFAOYSA-N 2,5-diisothiocyanatothiophene Chemical compound S=C=NC1=CC=C(N=C=S)S1 XBSFTGJNSRLRRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXASCLUSQYBUFW-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethyldisulfanyl)ethanol 2-sulfanylacetic acid Chemical compound OC(=O)CS.OC(=O)CS.OCCSSCCO SXASCLUSQYBUFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSYGHMBJXWRQFD-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylacetyl)oxyethyl 2-sulfanylacetate Chemical compound SCC(=O)OCCOC(=O)CS PSYGHMBJXWRQFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNDCQWGRLNGNNO-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethoxy)ethanethiol Chemical compound SCCOCCS CNDCQWGRLNGNNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQFQASKMKKPUKN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethoxy)ethanethiol;3-sulfanylpropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCS.OC(=O)CCS.SCCOCCS CQFQASKMKKPUKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SPAAESPYCDSRIW-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethyldisulfanyl)ethanethiol Chemical compound SCCSSCCS SPAAESPYCDSRIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDNOXVONDLWZCI-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethylsulfanylmethylsulfanyl)ethanethiol Chemical compound SCCSCSCCS RDNOXVONDLWZCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAQZWTGSNCDKTK-UHFFFAOYSA-N 2-(3-sulfanylpropanoyloxy)ethyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCCOC(=O)CCS HAQZWTGSNCDKTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDZGTNIUZZMDIA-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethyl)-2-methylpropane-1,3-diol 2-sulfanylacetic acid Chemical compound OC(=O)CS.OC(=O)CS.OC(=O)CS.OCC(C)(CO)CO WDZGTNIUZZMDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQPZDTQSGNKMOM-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethyl)-2-methylpropane-1,3-diol;3-sulfanylpropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCS.OC(=O)CCS.OC(=O)CCS.OCC(C)(CO)CO HQPZDTQSGNKMOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YERNBOHEDMCHPZ-UHFFFAOYSA-N 2-(isocyanatomethyl)-1,3-dithiolane Chemical compound O=C=NCC1SCCS1 YERNBOHEDMCHPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UREAOTFLSRRYKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(sulfanylmethylsulfanyl)ethylsulfanylmethanethiol Chemical compound SCSCCSCS UREAOTFLSRRYKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISGHUYCZFWLBRU-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-sulfanylacetyl)oxyethoxy]ethyl 2-sulfanylacetate Chemical compound SCC(=O)OCCOCCOC(=O)CS ISGHUYCZFWLBRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVRGPYMAUJRKF-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-sulfanylethyl)phenyl]ethanethiol Chemical compound SCCC1=CC=CC=C1CCS HVVRGPYMAUJRKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXTOXODEXBYZFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-sulfanylethylsulfanyl)ethylsulfanyl]ethanethiol Chemical compound SCCSCCSCCS MXTOXODEXBYZFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQLHFUHXRDOCBC-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(3-sulfanylpropanoyloxy)ethoxy]ethyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCCOCCOC(=O)CCS ZQLHFUHXRDOCBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKPZXQVJXKNNSB-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(2-sulfanylethyl)phenyl]ethanethiol Chemical compound SCCC1=CC=CC(CCS)=C1 RKPZXQVJXKNNSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIVDBXVDNQFFFL-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(2-sulfanylethylsulfanyl)-2,2-bis(2-sulfanylethylsulfanylmethyl)propyl]sulfanylethanethiol Chemical compound SCCSCC(CSCCS)(CSCCS)CSCCS KIVDBXVDNQFFFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PESHQGQMMIRLMA-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2-sulfanylethyl)phenyl]ethanethiol Chemical compound SCCC1=CC=C(CCS)C=C1 PESHQGQMMIRLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTXZVAUCFCSYES-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-(thiiran-2-ylmethylsulfanyl)phenyl]sulfanylmethyl]thiirane Chemical compound C1SC1CSC(C=1)=CC=CC=1SCC1CS1 RTXZVAUCFCSYES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNDOBZLRZOCGAS-JTQLQIEISA-N 2-isocyanatoethyl (2s)-2,6-diisocyanatohexanoate Chemical compound O=C=NCCCC[C@H](N=C=O)C(=O)OCCN=C=O GNDOBZLRZOCGAS-JTQLQIEISA-N 0.000 description 1
- QNQBPLJBKMDKLK-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzene-1,4-dithiol Chemical compound CC1=CC(S)=CC=C1S QNQBPLJBKMDKLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KETNVDBWXCXKAF-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid;2-(2-sulfanylethylsulfanyl)ethanethiol Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.SCCSCCS KETNVDBWXCXKAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEXQWAAGPPNOQF-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 CEXQWAAGPPNOQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- YJMZXQRVPTXXEX-UHFFFAOYSA-N 2-propylsulfanyl-7-thiabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C(CC)SC1C2C(CCC1)S2 YJMZXQRVPTXXEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTLMBCCGUMJDFH-UHFFFAOYSA-N 2-propylsulfanylethanethiol Chemical compound CCCSCCS ZTLMBCCGUMJDFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEHCVHLWJWZUGM-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylacetic acid;2-(2-sulfanylethoxy)ethanethiol Chemical compound OC(=O)CS.OC(=O)CS.SCCOCCS OEHCVHLWJWZUGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODJQKYXPKWQWNK-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Thiobispropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCSCCC(O)=O ODJQKYXPKWQWNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVLKIWFNAPTXLZ-UHFFFAOYSA-N 3,4-bis(isocyanatomethyl)thiolane Chemical compound O=C=NCC1CSCC1CN=C=O TVLKIWFNAPTXLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDYNKXAAJXGXCP-UHFFFAOYSA-N 3,4-bis(isothiocyanatomethyl)thiolane Chemical compound S=C=NCC1CSCC1CN=C=S JDYNKXAAJXGXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOLVZNOYNJFEBK-UHFFFAOYSA-N 3,5-bis(isocyanatomethyl)bicyclo[2.2.1]heptane Chemical compound C1C(CN=C=O)C2C(CN=C=O)CC1C2 FOLVZNOYNJFEBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFQXTKRWPRMWAJ-UHFFFAOYSA-N 3,5-bis(isothiocyanatomethyl)bicyclo[2.2.1]heptane Chemical compound C1C(CN=C=S)C2C(CN=C=S)CC1C2 HFQXTKRWPRMWAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOXMQACSWCZQLX-UHFFFAOYSA-N 3,9-bis(ethenyl)-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecane Chemical compound C1OC(C=C)OCC21COC(C=C)OC2 OOXMQACSWCZQLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODJQKYXPKWQWNK-UHFFFAOYSA-L 3-(2-carboxylatoethylsulfanyl)propanoate Chemical compound [O-]C(=O)CCSCCC([O-])=O ODJQKYXPKWQWNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GZWIBBZCQMNKPK-UHFFFAOYSA-N 3-(3-sulfanylpropylsulfanyl)propane-1-thiol Chemical compound SCCCSCCCS GZWIBBZCQMNKPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWIVSXKDFACZTO-UHFFFAOYSA-N 3-(3-sulfanylpropylsulfanylmethylsulfanyl)propane-1-thiol Chemical compound SCCCSCSCCCS SWIVSXKDFACZTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUYICINCNBSZMH-UHFFFAOYSA-N 3-[2,3-bis(3-sulfanylpropylsulfanyl)propylsulfanyl]propane-1-thiol Chemical compound SCCCSCC(SCCCS)CSCCCS DUYICINCNBSZMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQTMWMRJFVGAOW-UHFFFAOYSA-N 3-[2,3-bis(sulfanyl)propylsulfanyl]propane-1,2-dithiol Chemical compound SCC(S)CSCC(S)CS SQTMWMRJFVGAOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDXBQTHGMFDWIW-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(3-sulfanylpropylsulfanyl)ethylsulfanyl]propane-1-thiol Chemical compound SCCCSCCSCCCS UDXBQTHGMFDWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 3-mercaptopropanoic acid Chemical class OC(=O)CCS DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-M 3-mercaptopropionate Chemical compound [O-]C(=O)CCS DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BLCAQXILLNOIIG-UHFFFAOYSA-N 4,5-bis(isothiocyanatomethyl)-1,3-dithiolane Chemical compound S=C=NCC1SCSC1CN=C=S BLCAQXILLNOIIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOTLTOXPCLYKTL-UHFFFAOYSA-N 4,5-diisocyanato-1,3-dithiolane Chemical compound O=C=NC1SCSC1N=C=O OOTLTOXPCLYKTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXAVKNRWVKUTLY-UHFFFAOYSA-N 4-sulfanylphenol Chemical compound OC1=CC=C(S)C=C1 BXAVKNRWVKUTLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 4-vinylcyclohexene dioxide Chemical compound C1OC1C1CC2OC2CC1 OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDAAWQWWHSCSMS-UHFFFAOYSA-N 5-propylsulfanyl-7-thiabicyclo[4.1.0]hepta-1(6),2,4-triene Chemical compound CCCSC1=CC=CC2=C1S2 UDAAWQWWHSCSMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CC(C)=CC2C(=O)OC(=O)C12 MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1C(=O)OCC1CC2OC2CC1 YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007088 Archimedes method Methods 0.000 description 1
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N Bisphenol F Natural products C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCKJGCJLCYCDEG-UHFFFAOYSA-N CCCSCC1[S+](CC)S1 Chemical compound CCCSCC1[S+](CC)S1 OCKJGCJLCYCDEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004970 Chain extender Substances 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004386 Erythritol Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWGOWIIEVDAYTC-UHFFFAOYSA-N ICR-170 Chemical compound Cl.Cl.C1=C(OC)C=C2C(NCCCN(CCCl)CC)=C(C=CC(Cl)=C3)C3=NC2=C1 PWGOWIIEVDAYTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NPBTYNRGLVLCSG-UHFFFAOYSA-N N=C=O.C1CCCCC1C(C)(C)C1CCCCC1 Chemical compound N=C=O.C1CCCCC1C(C)(C)C1CCCCC1 NPBTYNRGLVLCSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMRDSWJXRLDPBB-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.C1CCCCC1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.C1CCCCC1 OMRDSWJXRLDPBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDONYZHVZVCMLR-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CC1CCCCC1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.CC1CCCCC1 HDONYZHVZVCMLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDUDBMDNVSGEQW-UHFFFAOYSA-N N=C=S.N=C=S.C1CCCCC1 Chemical compound N=C=S.N=C=S.C1CCCCC1 XDUDBMDNVSGEQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALOIFHIQZPVPDK-UHFFFAOYSA-N N=C=S.N=C=S.C1CCCCC1CC1CCCCC1 Chemical compound N=C=S.N=C=S.C1CCCCC1CC1CCCCC1 ALOIFHIQZPVPDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYUDQGZYSQXOEW-UHFFFAOYSA-N N=C=S.N=C=S.CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 Chemical compound N=C=S.N=C=S.CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 QYUDQGZYSQXOEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTWVMLVAIXYCEJ-UHFFFAOYSA-N N=C=S.N=C=S.CC1CCCCC1 Chemical compound N=C=S.N=C=S.CC1CCCCC1 XTWVMLVAIXYCEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQBULADVXFFSCF-UHFFFAOYSA-N OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.SCCSCCS Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.SCCSCCS MQBULADVXFFSCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWTBZQOYIMBDQQ-UHFFFAOYSA-N OCSCO.OC(=O)CCS.OC(=O)CCS Chemical compound OCSCO.OC(=O)CCS.OC(=O)CCS SWTBZQOYIMBDQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKFFYKLCPLSDRT-UHFFFAOYSA-N SCC(=O)O.SCC(=O)O.OCSCO Chemical compound SCC(=O)O.SCC(=O)O.OCSCO OKFFYKLCPLSDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGILEVNTXKHSHZ-UHFFFAOYSA-N SCC(=O)O.SCC(=O)O.S(CCO)CCO Chemical compound SCC(=O)O.SCC(=O)O.S(CCO)CCO PGILEVNTXKHSHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPQRYTGFZCBZCD-UHFFFAOYSA-N SCCC(=O)O.SCCC(=O)O.OCCSCCO Chemical compound SCCC(=O)O.SCCC(=O)O.OCCSCCO GPQRYTGFZCBZCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003490 Thiodipropionic acid Substances 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N [(e)-2-bromoethenyl]benzene Chemical compound Br\C=C\C1=CC=CC=C1 YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N [2,2-dimethyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C(C)=C ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUFXNPIFCQCRTR-UHFFFAOYSA-N [2,5-dimethyl-5-(sulfanylmethyl)-1,4-dithian-2-yl]methanethiol Chemical compound SCC1(C)CSC(C)(CS)CS1 RUFXNPIFCQCRTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCCLJFJGIDIZKK-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2-(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(CO)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS OCCLJFJGIDIZKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNJWFWSBENPGEY-UHFFFAOYSA-N [2-(sulfanylmethyl)phenyl]methanethiol Chemical compound SCC1=CC=CC=C1CS NNJWFWSBENPGEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STWRQBYJSPXXQE-UHFFFAOYSA-N [3,5-bis(sulfanylmethyl)phenyl]methanethiol Chemical compound SCC1=CC(CS)=CC(CS)=C1 STWRQBYJSPXXQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSNABGZJVWSNOB-UHFFFAOYSA-N [3-(sulfanylmethyl)phenyl]methanethiol Chemical compound SCC1=CC=CC(CS)=C1 JSNABGZJVWSNOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLDJWLWRDVWISM-UHFFFAOYSA-N [3-(sulfanylmethylsulfanyl)-2,2-bis(sulfanylmethylsulfanylmethyl)propyl]sulfanylmethanethiol Chemical compound SCSCC(CSCS)(CSCS)CSCS VLDJWLWRDVWISM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKMBKKFLJMFCSA-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)OC(=O)C(C)=C UKMBKKFLJMFCSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYPNRTQAOXLCQW-UHFFFAOYSA-N [4-(sulfanylmethyl)phenyl]methanethiol Chemical compound SCC1=CC=C(CS)C=C1 IYPNRTQAOXLCQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N [4-[2-(4-prop-2-enoyloxyphenyl)propan-2-yl]phenyl] prop-2-enoate Chemical compound C=1C=C(OC(=O)C=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSUCJIJELNXPQI-UHFFFAOYSA-N [4-[[4-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl]methyl]phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1CC1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 RSUCJIJELNXPQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXBFLNPZHXDQLV-UHFFFAOYSA-N [cyclohexyl(diisocyanato)methyl]cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1C(N=C=O)(N=C=O)C1CCCCC1 KXBFLNPZHXDQLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical class [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 1
- KXCKKUIJCYNZAE-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3,5-trithiol Chemical compound SC1=CC(S)=CC(S)=C1 KXCKKUIJCYNZAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWOASCVFHSYHOB-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-dithiol Chemical compound SC1=CC=CC(S)=C1 ZWOASCVFHSYHOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYLQRHZSKIDFEP-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-dithiol Chemical compound SC1=CC=C(S)C=C1 WYLQRHZSKIDFEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical class N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDNFTNPFYCKVTB-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=C(C(=O)OCC=C)C=C1 ZDNFTNPFYCKVTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate;2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCO.C=CCOC(=O)OCC=C SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWCNRESNZMCPJW-UHFFFAOYSA-N bis(sulfanylmethylsulfanyl)methylsulfanylmethanethiol Chemical compound SCSC(SCS)SCS QWCNRESNZMCPJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N bisphenol A dimethacrylate Chemical compound C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- YKRCKUBKOIVILO-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dithiol Chemical compound SC1CCCCC1S YKRCKUBKOIVILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- RJGHQTVXGKYATR-UHFFFAOYSA-L dibutyl(dichloro)stannane Chemical compound CCCC[Sn](Cl)(Cl)CCCC RJGHQTVXGKYATR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WQABCVAJNWAXTE-UHFFFAOYSA-N dimercaprol Chemical compound OCC(S)CS WQABCVAJNWAXTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006471 dimerization reaction Methods 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002019 disulfides Chemical class 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N erythritol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- 235000019414 erythritol Nutrition 0.000 description 1
- 229940009714 erythritol Drugs 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- BGXUHYCDVKDVAI-UHFFFAOYSA-N isocyanato(isocyanatomethylsulfanyl)methane Chemical compound O=C=NCSCN=C=O BGXUHYCDVKDVAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZHWJTCDUSSCFOZ-UHFFFAOYSA-N isocyanato(isocyanatomethylsulfanylmethylsulfanyl)methane Chemical compound O=C=NCSCSCN=C=O ZHWJTCDUSSCFOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFUBORBAMWUXTI-UHFFFAOYSA-N isocyanato-(isocyanatomethyldisulfanyl)methane Chemical compound O=C=NCSSCN=C=O OFUBORBAMWUXTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBKFYXZXZJPWNQ-UHFFFAOYSA-N isothiocyanate group Chemical group [N-]=C=S ZBKFYXZXZJPWNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMXVCNCLYPZFPK-UHFFFAOYSA-N isothiocyanato(isothiocyanatomethylsulfanyl)methane Chemical compound S=C=NCSCN=C=S CMXVCNCLYPZFPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 1
- VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N methylhexahydrophthalic anhydride Chemical compound C1CCCC2C(=O)OC(=O)C21C VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJUIMOJAAPLTRJ-UHFFFAOYSA-N monothioglycerol Chemical compound OCC(O)CS PJUIMOJAAPLTRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAPAGLBSROJFGM-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-dithiol Chemical compound C1=CC=C2C(S)=CC=CC2=C1S AAPAGLBSROJFGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMHBJPKFTZSWRJ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dithiol Chemical compound C1=C(S)C=CC2=CC(S)=CC=C21 XMHBJPKFTZSWRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- UWHMFGKZAYHMDJ-UHFFFAOYSA-N propane-1,2,3-trithiol Chemical compound SCC(S)CS UWHMFGKZAYHMDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- WTSBJMAOQNCZBF-UHFFFAOYSA-N sulfanylmethylsulfanylmethanethiol Chemical compound SCSCS WTSBJMAOQNCZBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNITWMBGUWZSSI-UHFFFAOYSA-N sulfanylmethylsulfanylmethylsulfanylmethanethiol Chemical compound SCSCSCS QNITWMBGUWZSSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- YODZTKMDCQEPHD-UHFFFAOYSA-N thiodiglycol Chemical compound OCCSCCO YODZTKMDCQEPHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019303 thiodipropionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940071127 thioglycolate Drugs 0.000 description 1
- TWXMZYPORGXIFB-UHFFFAOYSA-N thiophene-3,4-dithiol Chemical compound SC1=CSC=C1S TWXMZYPORGXIFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005628 tolylene group Chemical group 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
- C08G18/30—Low-molecular-weight compounds
- C08G18/38—Low-molecular-weight compounds having heteroatoms other than oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
- C08G18/30—Low-molecular-weight compounds
- C08G18/38—Low-molecular-weight compounds having heteroatoms other than oxygen
- C08G18/3855—Low-molecular-weight compounds having heteroatoms other than oxygen having sulfur
- C08G18/3876—Low-molecular-weight compounds having heteroatoms other than oxygen having sulfur containing mercapto groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/70—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
- C08G18/72—Polyisocyanates or polyisothiocyanates
- C08G18/721—Two or more polyisocyanates not provided for in one single group C08G18/73 - C08G18/80
- C08G18/724—Combination of aromatic polyisocyanates with (cyclo)aliphatic polyisocyanates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/70—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
- C08G18/72—Polyisocyanates or polyisothiocyanates
- C08G18/74—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic
- C08G18/76—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic aromatic
- C08G18/7614—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic aromatic containing only one aromatic ring
- C08G18/7621—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic aromatic containing only one aromatic ring being toluene diisocyanate including isomer mixtures
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
- G02B1/041—Lenses
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/08—Processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/70—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
- C08G18/72—Polyisocyanates or polyisothiocyanates
- C08G18/73—Polyisocyanates or polyisothiocyanates acyclic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2120/00—Compositions for reaction injection moulding processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G2261/50—Physical properties
- C08G2261/57—Physical properties photorefractive, e.g. change of refractive index
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
- Eyeglasses (AREA)
Abstract
Description
(1)トリレンジイソシアネートと、ヘキサメチレンジイソシアネートと、4−メルカプトメチル−1,8−ジメルカプト−3,6−ジチアオクタン、4,8または4,7または5,7−ジメルカプトメチル−1,11−ジメルカプト−3,6,9−トリチアウンデカン、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトアセテート、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート、2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4−ジチアン、ビス(メルカプトエチル)スルフィド、1,1,3,3-テトラキス(メルカプトメチルチオ)プロパン、4,6−ビス(メルカプトメチルチオ)−1,3−ジチアン、2−(2,2−ビス(メルカプトメチルチオ)エチル)−1,3−ジチエタンから選ばれる1種以上のポリチオールとを含むことを特徴とする光学材料用重合性組成物;
(2)(1)に記載の光学材料用重合性組成物を硬化して得た光学材料;
(3)(1)または(2)に記載の光学材料用重合性組成物を硬化する光学材料の製造方法;
(4)(3)に記載の製造方法において、注型重合により前記光学材料用重合性組成物を成形することを特徴とする光学材料の製造方法。
本実施形態の光学材料用重合性組成物は、トリレンジイソシアネートと、ヘキサメチレンジイソシアネートと、4−メルカプトメチル−1,8−ジメルカプト−3,6−ジチアオクタン、4,8または4,7または5,7−ジメルカプトメチル−1,11−ジメルカプト−3,6,9−トリチアウンデカン、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトアセテート、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート、2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4−ジチアン、ビス(メルカプトエチル)スルフィド、1,1,3,3-テトラキス(メルカプトメチルチオ)プロパン、4,6−ビス(メルカプトメチルチオ)−1,3−ジチアン、2−(2,2−ビス(メルカプトメチルチオ)エチル)−1,3−ジチエタンから選ばれる1種以上のポリチオールとを含むことを特徴としている。
2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアナトメチルエステル、リジントリイソシアネート、m−キシリレンジイソシアネート、α,α,α′,α′−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ビス(イソシアナトメチル)ナフタリン、メシチリレントリイソシアネート、ビス(イソシアナトメチル)スルフィド、ビス(イソシアナトエチル)スルフィド、ビス(イソシアナトメチル)ジスルフィド、ビス(イソシアナトエチル)ジスルフィド、ビス(イソシアナトメチルチオ)メタン、ビス(イソシアナトエチルチオ)メタン、ビス(イソシアナトエチルチオ)エタン、ビス(イソシアナトメチルチオ)エタン等の脂肪族ポリイソシアネート化合物;
イソホロンジイソシアネート、ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、ジシクロヘキシルジメチルメタンイソシアネート、2,5−ビス(イソシアナトメチル)ビシクロ−[2.2.1]−ヘプタン、2,6−ビス(イソシアナトメチル)ビシクロ−[2.2.1]−ヘプタン、3,8−ビス(イソシアナトメチル)トリシクロデカン、3,9−ビス(イソシアナトメチル)トリシクロデカン、4,8−ビス(イソシアナトメチル)トリシクロデカン、4,9−ビス(イソシアナトメチル)トリシクロデカン等の脂環族ポリイソシアネート化合物;
4,4'−ジフェニルメタンジイソシアネート、ジフェニルスルフィド−4,4−ジイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネート化合物;
2,5−ジイソシアナトチオフェン、2,5−ビス(イソシアナトメチル)チオフェン、2,5−ジイソシアナトテトラヒドロチオフェン、2,5−ビス(イソシアナトメチル)テトラヒドロチオフェン、3,4−ビス(イソシアナトメチル)テトラヒドロチオフェン、2,5−ジイソシアナト-1,4−ジチアン、2,5−ビス(イソシアナトメチル)−1,4−ジチアン、4,5−ジイソシアナト-1,3−ジチオラン、4,5−ビス(イソシアナトメチル)−1,3−ジチオラン等の複素環ポリイソシアネート化合物等
を挙げることができるが、これら例示化合物のみに限定されるものではない。
ヘキサメチレンジイソチオシアネート、リジンジイソチオシアネートメチルエステル、リジントリイソチオシアネート、m−キシリレンジイソチオシアネート、ビス(イソチオシアナトメチル)スルフィド、ビス(イソチオシアナトエチル)スルフィド、ビス(イソチオシアナトエチル)ジスルフィド等の脂肪族ポリイソチオシアネート化合物;
イソホロンジイソチオシアネート、ビス(イソチオシアナトメチル)シクロヘキサン、ジシクロヘキシルメタンジイソチオシアネート、シクロヘキサンジイソチオシアネート、メチルシクロヘキサンジイソチオシアネート、2,5−ビス(イソチオシアナトメチル)ビシクロ−[2.2.1]−ヘプタン、2,6−ビス(イソチオシアナトメチル)ビシクロ−[2.2.1]−ヘプタン、3,8−ビス(イソチオシアナトメチル)トリシクロデカン、3,9−ビス(イソチオシアナトメチル)トリシクロデカン、4,8−ビス(イソチオシアナトメチル)トリシクロデカン、4,9−ビス(イソチオシアナトメチル)トリシクロデカン等の脂環族ポリイソチオシアネート化合物;
トリレンジイソチオシアネート、4,4−ジフェニルメタンジイソチオシアネート、ジフェニルジスルフィド−4,4−ジイソチオシアネート等の芳香族ポリイソチオシアネート化合物;
2,5−ジイソチオシアナトチオフェン、2,5−ビス(イソチオシアナトメチル)チオフェン、2,5−イソチオシアナトテトラヒドロチオフェン、2,5−ビス(イソチオシアナトメチル)テトラヒドロチオフェン、3,4−ビス(イソチオシアナトメチル)テトラヒドロチオフェン、2,5−ジイソチオシアナト−1,4−ジチアン、2,5−ビス(イソチオシアナトメチル)−1,4−ジチアン、4,5−ジイソチオシアナト-1,3−ジチオラン、4,5−ビス(イソチオシアナトメチル)−1,3−ジチオラン等の含硫複素環ポリイソチオシアネート化合物等
を挙げることができるが、これら例示化合物のみに限定されるものではない。
2−メルカプトエタノール、3−メルカプト−1,2−プロパンジオール、グルセリンビス(メルカプトアセテート)、4−メルカプトフェノール、2,3−ジメルカプト−1−プロパノール、ペンタエリスリトールトリス(3−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールトリス(チオグリコレート)等
を挙げることができるが、これら例示化合物のみに限定されるものではない。
メタンジチオール、1,2-エタンジチオール、1,2,3-プロパントリチオール、1,2-シクロヘキサンジチオール、ビス(2-メルカプトエチル)エーテル、テトラキス(メルカプトメチル)メタン、ジエチレングリコールビス(2-メルカプトアセテート)、ジエチレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート)、エチレングリコールビス(2-メルカプトアセテート)、エチレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート)、トリメチロールプロパントリス(2-メルカプトアセテート)、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート)、トリメチロールエタントリス(2-メルカプトアセテート)、トリメチロールエタントリス(3-メルカプトプロピオネート)、ビス(メルカプトメチル)スルフィド、ビス(メルカプトメチル)ジスルフィド、ビス(メルカプトエチル)ジスルフィド、ビス(メルカプトプロピル)スルフィド、ビス(メルカプトメチルチオ)メタン、ビス(2-メルカプトエチルチオ)メタン、ビス(3-メルカプトプロピルチオ)メタン、1,2-ビス(メルカプトメチルチオ)エタン、1,2-ビス(2-メルカプトエチルチオ)エタン、1,2-ビス(3-メルカプトプロピルチオ)エタン、1,2,3-トリス(メルカプトメチルチオ)プロパン、1,2,3-トリス(2-メルカプトエチルチオ)プロパン、1,2,3-トリス(3-メルカプトプロピルチオ)プロパン、テトラキス(メルカプトメチルチオメチル)メタン、テトラキス(2-メルカプトエチルチオメチル)メタン、テトラキス(3-メルカプトプロピルチオメチル)メタン、ビス(2,3-ジメルカプトプロピル)スルフィド、2,5-ジメルカプト-1,4-ジチアン、2,5-ジメルカプトメチル-2,5-ジメチル-1,4-ジチアン、およびこれらのチオグリコール酸およびメルカプトプロピオン酸のエステル、ヒドロキシメチルスルフィドビス(2-メルカプトアセテート)、ヒドロキシメチルスルフィドビス(3-メルカプトプロピオネート)、ヒドロキシエチルスルフィドビス(2-メルカプトアセテート)、ヒドロキシエチルスルフィドビス(3-メルカプトプロピオネート)、ヒドロキシメチルジスルフィドビス(2-メルカプトアセテート)、ヒドロキシメチルジスルフィドビス(3-メルカプトプロピオネート)、ヒドロキシエチルジスルフィドビス(2―メルカプトアセテート)、ヒドロキシエチルジスルフィドビス(3―メルカプトプロピネート)、2-メルカプトエチルエーテルビス(2-メルカプトアセテート)、2-メルカプトエチルエーテルビス(3-メルカプトプロピオネート)、チオジグリコール酸ビス(2-メルカプトエチルエステル)、チオジプロピオン酸ビス(2-メルカプトエチルエステル)、ジチオジグリコール酸ビス(2-メルカプトエチルエステル)、ジチオジプロピオン酸ビス(2-メルカプトエチルエステル)、1,1,3,3-テトラキス(メルカプトメチルチオ)プロパン、1,1,2,2-テトラキス(メルカプトメチルチオ)エタン、4,6-ビス(メルカプトメチルチオ)-1,3-ジチアシクロヘキサン、トリス(メルカプトメチルチオ)メタン、トリス(メルカプトエチルチオ)メタン等の脂肪族ポリチオール化合物;
1,2-ジメルカプトベンゼン、1,3-ジメルカプトベンゼン、1,4-ジメルカプトベンゼン、1,2-ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,3-ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,4-ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2-ビス(メルカプトエチル)ベンゼン、1,3-ビス(メルカプトエチル)ベンゼン、1,4-ビス(メルカプトエチル)ベンゼン、1,3,5-トリメルカプトベンゼン、1,3,5-トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,3,5-トリス(メルカプトメチレンオキシ)ベンゼン、1,3,5-トリス(メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、2,5-トルエンジチオール、3,4-トルエンジチオール、1,5-ナフタレンジチオール、2,6-ナフタレンジチオール等の芳香族ポリチオール化合物;
2-メチルアミノ-4,6-ジチオール-sym-トリアジン、3,4-チオフェンジチオール、ビスムチオール、4,6−ビス(メルカプトメチルチオ)−1,3−ジチアン、2−(2,2−ビス(メルカプトメチルチオ)エチル)−1,3−ジチエタン等の複素環ポリチオール化合物等
を挙げることができるが、これら例示化合物のみに限定されるものではない。
ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,4-ブタンジオール、チオジエタノール、ジチオジエタノール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、さらにこれらのオリゴマー
を挙げることができるが、これら例示化合物のみに限定されるものではない。
ビスフェノールAグリシジルエーテル等の多価フェノール化合物とエピハロヒドリン化合物との縮合反応により得られるフェノール系エポキシ化合物;
水添ビスフェノールAグリシジルエーテル等の多価アルコール化合物とエピハロヒドリン化合物との縮合により得られるアルコール系エポキシ化合物;
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3',4'−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等の多価有機酸化合物とエピハロヒドリン化合物との縮合により得られるグリシジルエステル系エポキシ化合物;
一級および二級ジアミン化合物とエピハロヒドリン化合物との縮合により得られるアミン系エポキシ化合物;
ビニルシクロヘキセンジエポキシド等の脂肪族多価エポキシ化合物等
を挙げることができるが、これら例示化合物のみに限定されるものではない。
ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)スルフィド、ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)ジスルフィド、ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)メタン、1,2−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)エタン、1,5−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)−3−チアペンタン等の鎖状脂肪族の2,3−エピチオプロピルチオ化合物;
1,3−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)シクロヘキサン、2,5−ビス(2,3−エピチオプロピルチオメチル)−1,4−ジチアン等の環状脂肪族、複素環を有する2,3−エピチオプロピルチオ化合物;
1,3−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)ベンゼン、1,4−ビス(2,3−エピチオプロピルチオ)ベンゼン等の芳香族2,3−エピチオプロピルチオ化合物等
を挙げることができるが、これら例示化合物のみに限定されるものではない。
チオジグリコール酸、チオジプロピオン酸、ジチオジプロピオン酸、無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸等を挙げることができるが、これら例示化合物のみに限定されるものではない。
ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシメチルメタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、エチレングリコールビスグリシジルアクリレート、エチレングリコールビスグリシジルメタクリレート、ビスフェノールAジアクリレート、ビスフェノールAジメタクリレート、ビスフェノールFジアクリレート、ビスフェノールFジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、グリセロールジアクリレート、グリセロールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、キシリレンジチオールジアクリレート、キシリレンジチオールジメタクリレート、メルカプトエチルスルフィドジアクリレート、メルカプトエチルスルフィドジメタクリレート等の(メタ)アクリレート化合物;
アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、ジアリルテレフタレート、ジアリルイソフタレート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等のアリル化合物;
スチレン、クロロスチレン、メチルスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ジビニルベンゼン、3,9−ジビニルスピロビ(m−ジオキサン)等のビニル化合物等
を挙げることができるが、これら例示化合物のみに限定されるものではない。
このような光学材料は、光照射による色相の経時的変化が小さいという観点から、耐久性に優れる。ここで色相は、例えば48時間光照射後におけるQUV試験機による黄色度(以下、「YI」という)の変化(以下、「ΔYI」という)の測定値で評価することができ、光学材料のΔYI値は、耐久性に優れるという観点から、できるだけ小さい方が好ましい。
更に、得られるプラスチックレンズに要求される物性によっては、必要に応じて、減圧下での脱泡処理や加圧、減圧等での濾過処理等を行うことが好ましい場合が多い。
重合硬化の温度は、混合物の組成、触媒の種類、モールドの形状等によって条件が異なるため限定できないが、およそ、−50〜200℃の温度で1〜100時間かけて行われる。
通常、5℃から40℃の範囲の温度で開始し、その後徐々に80℃から130℃の範囲にまで昇温させ、その温度で1時間から4時間加熱するのが一般的である。
硬化成形終了後、レンズ注型用鋳型から取り出すことで、プラスチックレンズを得ることができる。
これらのコーティング層には、それぞれ、紫外線からレンズや目を守る目的で紫外線吸収剤、赤外線から目を守る目的で赤外線吸収剤、レンズの耐候性を向上させる目的で光安定剤や酸化防止剤、レンズのファッション性を高める目的で染料や顔料、さらにフォトクロミック染料やフォトクロミック顔料、帯電防止剤、その他、レンズの性能を高める目的で公知の添加剤を併用してもよい。塗布性の改善を目的として各種レベリング剤を使用してもよい。
プライマー層は、例えば、塗布法や乾式法にて形成される。塗布法では、プライマー組成物をスピンコート、ディップコートなど公知の塗布方法で塗布した後、固化させることによりプライマー層が形成される。乾式法では、CVD法や真空蒸着法などの公知の乾式法で形成される。プライマー層を形成するに際し、密着性の向上を目的として、必要に応じて、レンズの表面をアルカリ処理、プラズマ処理、紫外線処理などの前処理を行ってもよい。
プライマー組成物としては、固化したプライマー層がレンズ基材(本実施形態の重合性組成物から得られる光学材料)と密着性の高い素材が好ましく、通常、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、メラニン系樹脂、ポリビニルアセタールを主成分とするプライマー組成物などが使用される。プライマー組成物は、無溶剤での使用も可能であるが、組成物の粘度を調整する等の目的でレンズに影響を及ぼさない適当な溶剤を用いてもよい。
ハードコート層は、通常、ハードコート組成物をスピンコート、ディップコートなど公知の塗布方法で塗布した後、硬化して形成される。硬化方法としては、熱硬化、紫外線や可視光線などのエネルギー線照射による硬化方法等が挙げられる。ハードコート層を形成するに際し、密着性の向上を目的として、必要に応じて、被覆表面(レンズ基材あるいはプライマー層)を、アルカリ処理、プラズマ処理、紫外線処理などの前処理を行ってもよい。
ハードコート組成物としては、一般的には、硬化性を有する有機ケイ素化合物とSi,Al,Sn,Sb,Ta,Ce,La,Fe,Zn,W,Zr,InおよびTi等の酸化物微粒子(複合酸化物微粒子を含む)の混合物が使用されることが多い。更にこれらの他に、アミン類、アミノ酸類、金属アセチルアセトネート錯体、有機酸金属塩、過塩素酸類、過塩素酸類の塩、酸類、金属塩化物および多官能性エポキシ化合物等を使用してもよい。ハードコート組成物は、無溶剤での使用も可能であるが、レンズに影響を及ぼさない適当な溶剤を用いてもよい。
反射防止層は単層であっても多層であってもよいが、単層で用いる場合はハードコート層の屈折率よりも屈折率が少なくとも0.1以上低くなることが好ましい。効果的に反射防止機能を発現するには多層膜反射防止膜とすることが好ましく、その場合、通常は、低屈折率膜と高屈折率膜とを交互に積層する。この場合も低屈折率膜と高屈折率膜との屈折率差は0.1以上であることが好ましい。高屈折率膜としては、例えば、ZnO、TiO2、CeO2、Sb2O5、SnO2、ZrO2、Ta2O5等の膜が、低屈折率膜としては、SiO2膜等が挙げられる。膜厚は、通常、50〜150nm程度である。
このようなプラスチックレンズは、薄型化が可能であることから、メガネ用のレンズ、特に視力補正用レンズとして有用である。
重合により得られたレンズは性能試験を行い評価した。性能試験は屈折率・アッベ数、耐熱性、強度とし、以下の試験法により評価した。
・ 屈折率(ne)アッベ数(νe): 島津製作所製プルフリッヒ屈折計KPR−30を用いて、20℃で測定した。
・ 耐熱性: 島津製作所製TMA−60を使用し、TMAペネトレーション法(50g荷重、ピン先0.5mmφ)でのTgを耐熱性とした。
・ 比重:20℃にてアルキメデス法により測定した。
・ 色相:厚さ9mmの樹脂平板を作製し、色彩色差計(ミノルタ社製CR−200)において黄色度(YI)を測定した。
・ 粘度: 20℃におけるモノマー混合物の粘度をB型粘度計で測定した。
・ 耐光性試験:厚さ2mmの樹脂平板を作製し、QUV試験機において48時間照射後、照射前後の樹脂色相からΔYIを測定した。(QUVの試験条件として、光源としてUVB−340を用い、照度0.35W/m2、ブラックパネル温度50℃で実施した。)
トリレンジイソシアネート34.65gとヘキサメチレンジイソシアネート14.34gとを混合溶解させ、更に硬化触媒としてジメチル錫ジクロライド0.0075gと、紫外線吸収剤としてバイオソーブ583を0.05g、内部離型剤としてZelec UN(酸性リン酸エステル:登録商標、Stepan社製)0.05gを添加し、20℃で混合溶解させた。溶解後、4−メルカプトメチル−1,8−ジメルカプト−3,6−ジチアオクタン51.01gを加え、混合溶解させ均一溶液とした(溶液中の(NCO+NCS)/(SH+OH)=1.0/1.0)。この均一溶液の粘度は、13mPa・sであった。この均一溶液を、600Paにて1時間脱泡を行った後、1μmテフロン(登録商標)フィルターにてろ過を行った後、ガラスモールドとテープからなるモールド型へ注入した。このモールド型をオーブンへ投入、25℃〜120℃までおよそ24時間かけて徐々に昇温して重合した。重合終了後、オーブンからモールド型を取り出し、離型して樹脂を得た。得られた樹脂を更に120℃において4時間アニールを行った。得られた樹脂は、屈折率(ne)1.668、アッベ数(νe)28、耐熱性113℃、YI値10.9、樹脂比重1.35であった。また、得られた樹脂の耐光性試験におけるΔYIは5.1であった。
トリレンジイソシアネート30.68gとヘキサメチレンジイソシアネート15.95gとを混合溶解させ、更に硬化触媒としてジメチル錫ジクロライド0.005gと、紫外線吸収剤としてバイオソーブ583を0.05g、内部離型剤としてZelec UN(酸性リン酸エステル:登録商標、Stepan社製)0.05gを添加し、20℃で混合溶解させた。溶解後、4,8または4,7または5,7−ジメルカプトメチル−1,11−ジメルカプト−3,6,9−トリチアウンデカン53.37gを加え、混合溶解させ均一溶液とした(溶液中の(NCO+NCS)/(SH+OH)=1.0/1.0)。この均一溶液の粘度は、21mPa・sであった。この均一溶液を、600Paにて1時間脱泡を行った後、1μmテフロン(登録商標)フィルターにてろ過を行った後、ガラスモールドとテープからなるモールド型へ注入した。このモールド型をオーブンへ投入、25℃〜120℃までおよそ24時間かけて徐々に昇温して重合した。重合終了後、オーブンからモールド型を取り出し、離型して樹脂を得た。得られた樹脂を更に120℃において4時間アニールを行った。得られた樹脂は、屈折率(ne)1.669、アッベ数(νe)29、耐熱性125℃、YI値10.5、樹脂比重1.36であった。また、得られた樹脂の耐光性試験におけるΔYIは5.4であった。
トリレンジイソシアネート16.50gとヘキサメチレンジイソシアネート29.50gとを混合溶解させ、更に硬化触媒としてジメチル錫ジクロライド0.05gと、紫外線吸収剤としてバイオソーブ583を0.05g、内部離型剤としてZelec UN(酸性リン酸エステル:登録商標、Stepan社製)0.10gを添加し、20℃で混合溶解させた。溶解後、1,1,3,3−テトラキス(メルカプトメチルチオ)プロパン、および、4,6−ビス(メルカプトメチルチオ)−1,3−ジチアンを含む混合物54.00gを加え、混合溶解させ均一溶液とした(溶液中の(NCO+NCS)/(SH+OH)=1.0/1.0)。この均一溶液の粘度は、25mPa・sであった。この均一溶液を、600Paにて1時間脱泡を行った後、1μmテフロン(登録商標)フィルターにてろ過を行った後、ガラスモールドとテープからなるモールド型へ注入した。このモールド型をオーブンへ投入、25℃〜120℃までおよそ24時間かけて徐々に昇温して重合した。重合終了後、オーブンからモールド型を取り出し、離型して樹脂を得た。得られた樹脂を更に120℃において4時間アニールを行った。得られた樹脂は、屈折率(ne)1.671、アッベ数(νe)29、耐熱性104℃、YI値5.5、樹脂比重1.36であった。また、得られた樹脂の耐光性試験におけるΔYIは4.5であった。
4,4'−ジフェニルメタンジイソシアネート40.56gとヘキサメチレンジイソシアネート14.68gとを混合溶解させ、更に硬化触媒としてジメチル錫ジクロライド0.0075gと、紫外線吸収剤としてバイオソーブ583を0.05g、内部離型剤としてZelec UN(酸性リン酸エステル:登録商標、Stepan社製)0.05gを添加し、20℃で混合溶解させた。溶解後、4−メルカプトメチル−1,8−ジメルカプト−3,6−ジチアオクタン44.76gを加え、混合溶解させ均一溶液とした(溶液中の(NCO+NCS)/(SH+OH)=1.0/1.0)。この均一溶液の粘度は、23mPa・sであった。この均一溶液を、600Paにて1時間脱泡を行った後、1μmテフロン(登録商標)フィルターにてろ過を行った後、ガラスモールドとテープからなるモールド型へ注入した。このモールド型をオーブンへ投入、25℃〜120℃までおよそ24時間かけて徐々に昇温して重合した。重合終了後、オーブンからモールド型を取り出し、離型して樹脂を得た。得られた樹脂を更に120℃において4時間アニールを行った。得られた樹脂は、屈折率(ne)1.674、アッベ数(νe)26、耐熱性112℃、YI値9.0、樹脂比重1.33であった。また、得られた樹脂の耐光性試験におけるΔYIは24.9であった。
4,4'−ジフェニルメタンジイソシアネート36.24gとヘキサメチレンジイソシアネート16.24gとを混合溶解させ、更に硬化触媒としてジメチル錫ジクロライド0.005gと、紫外線吸収剤としてバイオソーブ583を0.05g、内部離型剤としてZelec UN(酸性リン酸エステル:登録商標、Stepan社製)0.05gを添加し、20℃で混合溶解させた。溶解後、4,8または4,7または5,7−ジメルカプトメチル−1,11−ジメルカプト−3,6,9−トリチアウンデカン47.52gを加え、混合溶解させ均一溶液とした(溶液中の(NCO+NCS)/(SH+OH)=1.0/1.0)。この均一溶液の粘度は、33mPa・sであった。この均一溶液を、600Paにて1時間脱泡を行った後、1μmテフロン(登録商標)フィルターにてろ過を行った後、ガラスモールドとテープからなるモールド型へ注入した。このモールド型をオーブンへ投入、25℃〜120℃までおよそ24時間かけて徐々に昇温して重合した。重合終了後、オーブンからモールド型を取り出し、離型して樹脂を得た。得られた樹脂を更に120℃において4時間アニールを行った。得られた樹脂は、屈折率(ne)1.674、アッベ数(νe)27、耐熱性125℃、YI値7.3、樹脂比重1.33であった。また、得られた樹脂の耐光性試験におけるΔYIは23.1であった。
トリレンジイソシアネート34.64gとヘキサメチレンジイソシアネートのトリマー体22.85gとを混合溶解させ、更に硬化触媒としてジメチル錫ジクロライド0.0075gと、紫外線吸収剤としてバイオソーブ583を0.05g、内部離型剤としてZelec UN(酸性リン酸エステル:登録商標、Stepan社製)0.20gを添加し、20℃で混合溶解させた。溶解後、4−メルカプトメチル−1,8−ジメルカプト−3,6−ジチアオクタン42.51gを加え、混合溶解させ均一溶液とした(溶液中の(NCO+NCS)/(SH+OH)=1.0/1.0)。この均一溶液の粘度は、43mPa・sであった。この均一溶液を、600Paにて1時間脱泡を行った後、1μmテフロン(登録商標)フィルターにてろ過を行った後、ガラスモールドとテープからなるモールド型へ注入した。このモールド型をオーブンへ投入、25℃〜120℃までおよそ24時間かけて徐々に昇温して重合した。重合終了後、オーブンからモールド型を取り出し、離型して樹脂を得た。得られた樹脂を更に120℃において4時間アニールを行った。得られた樹脂は、屈折率(ne)1.651、アッベ数(νe)28、耐熱性124℃、YI値5.8、樹脂比重1.34であった。また、得られた樹脂の耐光性試験におけるΔYIは10.8であった。
トリレンジイソシアネート31.18gとヘキサメチレンジイソシアネートのトリマー体25.31gとを混合溶解させ、更に硬化触媒としてジメチル錫ジクロライド0.005gと、紫外線吸収剤としてバイオソーブ583を0.05g、内部離型剤としてZelec UN(酸性リン酸エステル:登録商標、Stepan社製)0.20gを添加し、20℃で混合溶解させた。溶解後、4,8または4,7または5,7−ジメルカプトメチル−1,11−ジメルカプト−3,6,9−トリチアウンデカン43.51gを加え、混合溶解させ均一溶液とした(溶液中の(NCO+NCS)/(SH+OH)=1.0/1.0)。この均一溶液の粘度は、126mPa・sであった。この均一溶液を、600Paにて1時間脱泡を行った後、1μmテフロン(登録商標)フィルターにてろ過を行った後、ガラスモールドとテープからなるモールド型へ注入した。このモールド型をオーブンへ投入、25℃〜120℃までおよそ24時間かけて徐々に昇温して重合した。重合終了後、オーブンからモールド型を取り出し、離型して樹脂を得た。得られた樹脂を更に120℃において4時間アニールを行った。得られた樹脂は、屈折率(ne)1.647、アッベ数(νe)29、耐熱性135℃、YI値5.6、樹脂比重1.34であった。また、得られた樹脂の耐光性試験におけるΔYIは13.3であった。
トリレンジイソシアネート44.45gに硬化触媒としてジメチル錫ジクロライド0.005gと、紫外線吸収剤としてバイオソーブ583を0.05g、内部離型剤としてZelec UN(酸性リン酸エステル:登録商標、Stepan社製)0.05gを添加し、20℃で混合溶解させた。溶解後、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート22.91gと、4,8または4,7または5,7−ジメルカプトメチル−1,11−ジメルカプト−3,6,9−トリチアウンデカン32.64gを加え、混合溶解させ均一溶液とした(溶液中の(NCO+NCS)/(SH+OH)=1.0/1.0)。この均一溶液の粘度は、40mPa・sであった。この均一溶液を、600Paにて1時間脱泡を行った後、1μmテフロン(登録商標)フィルターにてろ過を行った後、ガラスモールドとテープからなるモールド型へ注入した。このモールド型をオーブンへ投入、25℃〜120℃までおよそ24時間かけて徐々に昇温して重合した。重合終了後、オーブンからモールド型を取り出し、離型して樹脂を得た。得られた樹脂を更に120℃において4時間アニールを行った。得られた樹脂は、屈折率(ne)1.659、アッベ数(νe)27、耐熱性138℃、YI値11.0、樹脂比重1.38であった。また、得られた樹脂の耐光性試験におけるΔYIは8.9であった。
Claims (4)
- トリレンジイソシアネートと、ヘキサメチレンジイソシアネートと、4−メルカプトメチル−1,8−ジメルカプト−3,6−ジチアオクタン、4,8または4,7または5,7−ジメルカプトメチル−1,11−ジメルカプト−3,6,9−トリチアウンデカン、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトアセテート、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート、2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4−ジチアン、ビス(メルカプトエチル)スルフィド、1,1,3,3-テトラキス(メルカプトメチルチオ)プロパン、4,6−ビス(メルカプトメチルチオ)−1,3−ジチアン、2−(2,2−ビス(メルカプトメチルチオ)エチル)−1,3−ジチエタンから選ばれる1種以上のポリチオールとを含むことを特徴とする光学材料用重合性組成物。
- 請求項1に記載の光学材料用重合性組成物を硬化して得た光学材料。
- 請求項1に記載の光学材料用重合性組成物を硬化する光学材料の製造方法。
- 請求項3に記載の製造方法において、注型重合により前記光学材料用重合性組成物を成形することを特徴とする光学材料の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009552411A JP5226016B2 (ja) | 2008-02-07 | 2009-02-06 | 光学材料用重合性組成物、光学材料および光学材料の製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008027935 | 2008-02-07 | ||
JP2008027935 | 2008-02-07 | ||
PCT/JP2009/000454 WO2009098887A1 (ja) | 2008-02-07 | 2009-02-06 | 光学材料用重合性組成物、光学材料および光学材料の製造方法 |
JP2009552411A JP5226016B2 (ja) | 2008-02-07 | 2009-02-06 | 光学材料用重合性組成物、光学材料および光学材料の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2009098887A1 true JPWO2009098887A1 (ja) | 2011-05-26 |
JP5226016B2 JP5226016B2 (ja) | 2013-07-03 |
Family
ID=40951966
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009552411A Active JP5226016B2 (ja) | 2008-02-07 | 2009-02-06 | 光学材料用重合性組成物、光学材料および光学材料の製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9505872B2 (ja) |
EP (2) | EP2246378B1 (ja) |
JP (1) | JP5226016B2 (ja) |
KR (2) | KR101043485B1 (ja) |
CN (3) | CN103483521B (ja) |
BR (1) | BRPI0908394B1 (ja) |
WO (1) | WO2009098887A1 (ja) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102143984B (zh) * | 2008-09-22 | 2013-08-21 | 三井化学株式会社 | 光学材料用聚合性组合物、光学材料及光学材料的制造方法 |
JP5602741B2 (ja) * | 2009-08-05 | 2014-10-08 | 三井化学株式会社 | 光学材料用重合性組成物、光学材料および光学材料の製造方法 |
ES2726954T3 (es) * | 2010-12-29 | 2019-10-10 | Koc Solution Co Ltd | Procedimiento para la fabricación de una resina para un material óptico a base de uretano, composición de resina para el mismo, y material óptico fabricado de este modo |
JP6180934B2 (ja) * | 2011-08-19 | 2017-08-16 | Hoya株式会社 | ウレタン系光学部材及びその製造方法 |
JP5823220B2 (ja) * | 2011-09-12 | 2015-11-25 | Hoya株式会社 | ウレタン系光学部材の製造方法 |
WO2013103276A1 (ko) * | 2012-01-06 | 2013-07-11 | 주식회사 케이오씨솔루션 | 티오에폭시 화합물, 폴리이소시아네이트 화합물 및 폴리티올 화합물을 포함하는 고굴절 광학렌즈용 공중합체 조성물과 광학렌즈의 제조방법 |
WO2013112028A1 (ko) * | 2012-01-27 | 2013-08-01 | 주식회사 케이오씨솔루션 | 3-메르캅토프로피온산의 제조방법과 이를 이용한 메르캅토기를 갖는 카르본산에스테르화합물 및 티오우레탄계 광학재료의 제조방법 |
JP5747001B2 (ja) * | 2012-06-12 | 2015-07-08 | Hoya株式会社 | ウレタン系光学部材及びその製造方法 |
JP2014105303A (ja) * | 2012-11-29 | 2014-06-09 | Hoya Corp | プラスチックレンズの製造方法 |
EP2963457B1 (en) | 2013-02-27 | 2018-07-11 | Mitsui Chemicals, Inc. | Optical material, composition for use therein, and use thereof |
EP2801586B1 (de) * | 2013-05-07 | 2016-04-13 | Bruno Bock Chemische Fabrik GmbH & Co. KG | Gießharz auf Polythiourethanbasis mit hoher Bruchfestigkeit und niedrigem spezifischen Gewicht |
EP3081965B1 (en) | 2013-12-13 | 2020-01-22 | Mitsui Chemicals, Inc. | Polymerizable composition for optical materials |
EP3103824B1 (en) * | 2014-02-06 | 2020-03-25 | Mitsui Chemicals, Inc. | Polymerizable composition for optical material and optical material |
TW201629153A (zh) * | 2015-01-12 | 2016-08-16 | 科思創德意志股份有限公司 | 具有良好尺寸安定性之透明可撓性熱固性聚胺基甲酸酯薄膜及其製造方法 |
EP3308928A4 (en) * | 2015-06-15 | 2019-02-27 | Mitsui Chemicals, Inc. | METHOD FOR PRODUCING A PLASTIC LENS AND DEVICE FOR PRODUCING A PLASTIC LENS |
CN107735428B (zh) * | 2015-06-17 | 2020-12-04 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用组合物及使用其的光学材料 |
WO2017047684A1 (ja) * | 2015-09-16 | 2017-03-23 | 三井化学株式会社 | 光学材料用重合性組成物の製造方法および光学材料の製造方法 |
KR102081524B1 (ko) * | 2015-09-16 | 2020-02-25 | 미쯔이가가꾸가부시끼가이샤 | 광학 재료용 중합성 조성물, 해당 조성물로부터 얻어지는 광학 재료 및 플라스틱 렌즈 |
CN108884209B (zh) * | 2016-03-30 | 2021-05-25 | 三井化学株式会社 | 光学材料用聚合性组合物、由该组合物得到的光学材料及塑料透镜 |
JP6562521B2 (ja) * | 2017-09-29 | 2019-08-21 | ホヤ レンズ タイランド リミテッドHOYA Lens Thailand Ltd | 光学部材用樹脂の製造方法、光学部材用樹脂、眼鏡レンズ及び眼鏡 |
JP2019178085A (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-17 | 三井化学株式会社 | (ポリ)チオール化合物の製造方法 |
WO2020230889A1 (ja) * | 2019-05-16 | 2020-11-19 | 三井化学株式会社 | 注入成形装置、当該装置を用いた注入成形方法および成形体の製造方法、積層レンズ |
CN115720640A (zh) * | 2020-09-30 | 2023-02-28 | 豪雅镜片泰国有限公司 | 眼镜镜片 |
US20220389147A1 (en) * | 2021-05-28 | 2022-12-08 | Skc Co., Ltd. | Polymerizable composition and optical material using the same |
Family Cites Families (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3132976A (en) * | 1959-07-20 | 1964-05-12 | Aerojet General Co | Solid propellant compositions containing polyurethane resins |
US3517002A (en) * | 1966-11-17 | 1970-06-23 | Mobay Chemical Corp | Polyisocyanates containing isocyanurate groups |
US3600359A (en) * | 1968-11-21 | 1971-08-17 | Brien Corp O | Novel thiourethane-urethane acrylates |
GB2107670B (en) * | 1981-10-21 | 1985-04-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | Electrostatographic toner material |
JPS62267316A (ja) | 1986-05-16 | 1987-11-20 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 高屈折率プラスチツクレンズ用樹脂 |
US5753730A (en) | 1986-12-15 | 1998-05-19 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Plastic lenses having a high-refractive index, process for the preparation thereof and casting polymerization process for preparing sulfur-containing urethane resin lens and lens prepared thereby |
US5594088A (en) | 1986-12-15 | 1997-01-14 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Plastic lenses having a high-refractive index, process for the preparation thereof and casting polymerization process for preparing sulfur containing urethane resin lens and lens prepared thereby |
JPH0777733B2 (ja) * | 1986-12-15 | 1995-08-23 | 三井東圧化学株式会社 | 含硫ウレタン樹脂製レンズの注型重合方法 |
CN1020129C (zh) * | 1988-02-17 | 1993-03-17 | 三井东压化学株式会社 | 具有高折光指数的塑料透镜及其制造方法 |
JP2575811B2 (ja) * | 1988-06-09 | 1997-01-29 | 三井東圧化学株式会社 | チオカルバミン酸s−アルキルエステル系レンズ用樹脂及びその樹脂からなるレンズ |
JP2621991B2 (ja) | 1988-12-22 | 1997-06-18 | 三井東圧化学株式会社 | メルカプト化合物及びその製造方法 |
US5191055A (en) | 1988-12-22 | 1993-03-02 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Mercapto compound, a high refractive index resin and lens and a process for preparing them |
US5087758A (en) | 1988-12-22 | 1992-02-11 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Mercapto compound, a high refractive index resin and lens and a process for preparing them |
US5298431A (en) * | 1991-09-30 | 1994-03-29 | Olin Corporation | Process for producing low viscosity isocyanate trimers |
JP3083196B2 (ja) | 1992-03-25 | 2000-09-04 | 三井化学株式会社 | 含硫黄プラスチックレンズおよびその製造方法 |
US5576412A (en) | 1993-05-20 | 1996-11-19 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Optical urethane resin |
JP3315090B2 (ja) | 1998-03-13 | 2002-08-19 | 三井化学株式会社 | 重合性組成物 |
JP3547662B2 (ja) * | 1999-09-20 | 2004-07-28 | Hoya株式会社 | 紫外線吸収性に優れたプラスチック眼鏡レンズ及びその製造方法 |
JP3824455B2 (ja) * | 1999-09-20 | 2006-09-20 | Hoya株式会社 | 紫外線吸収性に優れたプラスチック眼鏡レンズ及びその製造方法 |
JP3676138B2 (ja) | 1999-09-20 | 2005-07-27 | Hoya株式会社 | 紫外線吸収性に優れたプラスチック眼鏡レンズ及びその製造方法 |
CN100494239C (zh) | 1999-11-18 | 2009-06-03 | Ppg工业俄亥俄公司 | 光学树脂组合物 |
EP1138670B1 (en) | 2000-03-27 | 2005-05-25 | Mitsui Chemicals, Inc. | Polythiol, polymerizable composition, resin and lens, and process for preparing thiol compound |
JP4692696B2 (ja) | 2000-09-08 | 2011-06-01 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用樹脂組成物 |
JP4702508B2 (ja) * | 2001-07-18 | 2011-06-15 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 樹脂の製造方法 |
US6887401B2 (en) | 2001-11-05 | 2005-05-03 | Essilor International Compagnie General D'optique | Method for making transparent polythiourethane substrates in particular optical substrates |
CN1171924C (zh) | 2002-11-05 | 2004-10-20 | 浙江大学 | 一种制备聚硫代氨基甲酸酯光学塑料的方法 |
JP4280205B2 (ja) | 2004-06-16 | 2009-06-17 | 三井化学株式会社 | プラスチックレンズの製造方法 |
JP2006003624A (ja) | 2004-06-17 | 2006-01-05 | Mitsui Chemicals Inc | 硫黄原子含有樹脂からなる光学材料 |
KR100973858B1 (ko) * | 2005-04-11 | 2010-08-03 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 폴리티오우레탄계 중합성 조성물 및 그것을 이용한 광학용수지의 제조 방법 |
JP2008015465A (ja) | 2006-06-05 | 2008-01-24 | Seiko Epson Corp | 光学製品の製造方法 |
JP2008255221A (ja) | 2007-04-04 | 2008-10-23 | Mitsui Chemicals Inc | 光学材料用内部離型剤及びそれを含む重合性組成物 |
CN102143984B (zh) | 2008-09-22 | 2013-08-21 | 三井化学株式会社 | 光学材料用聚合性组合物、光学材料及光学材料的制造方法 |
-
2009
- 2009-02-06 WO PCT/JP2009/000454 patent/WO2009098887A1/ja active Application Filing
- 2009-02-06 BR BRPI0908394-4A patent/BRPI0908394B1/pt active IP Right Grant
- 2009-02-06 US US12/863,790 patent/US9505872B2/en active Active
- 2009-02-06 CN CN201310425413.XA patent/CN103483521B/zh active Active
- 2009-02-06 JP JP2009552411A patent/JP5226016B2/ja active Active
- 2009-02-06 EP EP09708724.1A patent/EP2246378B1/en active Active
- 2009-02-06 CN CN200980100074XA patent/CN101772524B/zh active Active
- 2009-02-06 CN CN201310425431.8A patent/CN103524692A/zh active Pending
- 2009-02-06 KR KR1020097026880A patent/KR101043485B1/ko active IP Right Review Request
- 2009-02-06 KR KR1020117009800A patent/KR20110063847A/ko not_active Application Discontinuation
- 2009-02-06 EP EP16187691.7A patent/EP3150647B1/en active Active
-
2016
- 2016-10-26 US US15/334,650 patent/US20170044299A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103524692A (zh) | 2014-01-22 |
WO2009098887A1 (ja) | 2009-08-13 |
JP5226016B2 (ja) | 2013-07-03 |
US20170044299A1 (en) | 2017-02-16 |
EP2246378A4 (en) | 2016-03-30 |
KR20100022083A (ko) | 2010-02-26 |
KR101043485B1 (ko) | 2011-06-23 |
EP3150647A1 (en) | 2017-04-05 |
CN101772524A (zh) | 2010-07-07 |
CN101772524B (zh) | 2013-10-16 |
CN103483521B (zh) | 2016-01-20 |
US9505872B2 (en) | 2016-11-29 |
EP2246378B1 (en) | 2016-11-16 |
BRPI0908394A2 (pt) | 2015-08-11 |
EP3150647B1 (en) | 2019-10-16 |
US20100292430A1 (en) | 2010-11-18 |
KR20110063847A (ko) | 2011-06-14 |
EP2246378A1 (en) | 2010-11-03 |
CN103483521A (zh) | 2014-01-01 |
BRPI0908394B1 (pt) | 2019-05-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5226016B2 (ja) | 光学材料用重合性組成物、光学材料および光学材料の製造方法 | |
JP5782494B2 (ja) | 光学材料用重合性組成物、光学材料および光学材料の製造方法 | |
JP5658808B2 (ja) | 光学材料用重合性組成物、光学材料および光学材料の製造方法 | |
KR101259235B1 (ko) | 플라스틱 편광 렌즈 및 그 제조방법 | |
JP6335274B2 (ja) | 光学材料の製造方法 | |
JP4783697B2 (ja) | ポリチオール化合物とポリイソ(チオ)シアナート化合物からなる重合性組成物 | |
US20170002176A1 (en) | Polymerizable composition for optical materials, optical material and plastic lens obtained from composition | |
KR101877590B1 (ko) | 광학 재료용 조성물 | |
JP2002226456A (ja) | 新規なポリチオール |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121030 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20121225 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130107 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130128 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20130128 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130305 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130313 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5226016 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160322 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |