JPWO2008093511A1 - 光学素子の成形装置及び光学素子の成形方法 - Google Patents
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Abstract
Description
また、加熱された液体状の成形材料MMを各成形キャビティUMa、LMaに圧送するには、保持キャビティの底面に設けた押圧プランジャPPを押し上げることで、保持キャビティの容積を減少させ、成形材料MMを保持キャビティからランナーLMb及びゲートLMdを介して成形キャビティUMa、LMaヘ流していた。
これに対し、押圧プランジャPPと貫通孔LMcとの隙間への成形材料MMの流れ込みは抑制することが難しい。この点を説明すると、押圧プランジャPPと貫通孔LMcとの隙間は、円滑な摺動動作や動作時のかじり防止等のため、通常5〜10μm程度設ける必要がある。しかし、熱硬化性樹脂やUV(紫外線)硬化性樹脂などでは、液体状になったときの粘度が非常に低く、通常は100poise以下であり、特に粘度の低い樹脂では10poise程度と、ほとんど水のような状態となるので、このような隙間量では容易に液体状の成形材料MMが流れ込んでしまう。
押圧プランジャPPと貫通孔LMcとの隙間に成形材料MMが流れ込んでしまうと、流れ込んだ成形材料MMが金型の熱により加熱されて硬化して詰まり、押圧プランジャPPが動作しなくなるという不具合が頻繁に生じた。かかる不具合の対処としては、押圧プランジャPPを分解して清掃し、硬化した樹脂を除去する方法しかなく、金型の押圧プランジャPPの周辺を分解しやすく設計しておくことが従来では重要であった。しかしながら、金型をいくら分解しやすい構造としても、分解して清掃している間は成形動作が中断しており、機構部が動作可能に復帰しても、熱的に恒常状態に復帰するにはさらに時間がかかるため、この押圧プランジャPPの樹脂詰まりにより、稼働率が大幅に低下していた。
上型と、
前記上型より重力方向下方に配置され、前記上型と共に成形キャビティを形成するとともに、前記成形キャビティに移送される光学素子成形用の樹脂材料を貯留する保持キャビティを有する下型と、
前記上型を通って延在し、前記保持キャビティから退避する退避位置と、前記保持キャビティ内に侵入する侵入位置との間で往復動作可能である押圧プランジャと、を有し、
前記保持キャビティの内周面は、前記上型に向かって拡開するテーパ形状であることを特徴とするものである。
熱硬化性樹脂は、熱可塑性樹脂と比べて溶融時の粘度が低いので、特に本発明の効果を期待できる。
UV硬化性樹脂は熱可塑性樹脂と比べて溶融時の粘度が低いので、特に本発明の効果を期待できる。
上型と、前記上型より重力方向下方に配置され、光学素子成形用の樹脂材料を貯留する保持キャビティを有する下型と、を合わせることによって、前記上型と前記下型との間に成形キャビティを形成する工程と、
前記上型を通る押圧プランジャを、前記保持キャビティ内の溶融した前記光学素子成形用の樹脂材料に向かって突き出すことにより、前記光学素子成形用の樹脂材料を前記成形キャビティに移送する工程と、
前記光学素子成形用の樹脂材料が硬化した後に、前記押圧プランジャ及び前記上型と、前記下型とを互いに離れる方向に相対移動させる工程と、
前記上型から前記押圧プランジャを突き出した後、前記押圧プランジャを引き込む工程と、を有することを特徴とするものである。
LMa 成形キャビティ
LMb 保持キャビティ
LMc ランナー
LMd ゲート
MM 成形材料
PP 下端部
PP 押圧プランジャ
PPa 下端部
PPb 周溝
UM 上型
UMa 成形キャビティ
UMc 貫通孔
UMc1 大径部
UMc2 小径部
図1(a)において、下面に成形キャビティUMaを有する上型UMは、上面に成形キャビティLMaを有する下型LMに対向して配置されている。上型UMは、中央に貫通孔UMcを有している。貫通孔UMcは、上面側の大径部UMc1と下面側の小径部UMc2とを有する。成形キャビティUMaと成形キャビティLMaとを合わせることで、請求の範囲でいう成形用の成形キャビティが形成される。
熱や紫外線によって樹脂が硬化する時に、通常10〜15%もの体積収縮を起こす。そのため、保持キャビティLMbのように比較的大きな容積の中では樹脂の収縮量も大きくなり、押圧プランジャPPの周辺の樹脂には、押圧プランジャPPを大きな力で締め付ける応力が発生し、成形品の抜き取りが困難になる場合がある。そこで、押圧プランジャPPに3〜5度の抜き勾配を設けて、少ない力で確実に成形品を分離できるようにしている。
押圧プランジャPPと貫通孔UMcとの隙間については、円滑な動作のために、その隙間量を減らすことに限界があるが、液体状の樹脂にこの隙間がさらされる時間を少なくすれば、流れ込む樹脂の量を低減でき、詰まりによる動作不良の発生、及び分解して清掃する間隔を延ばすことができる。
本発明では、図1に示すように、下型LMの上面に保持キャビティLMbを設け、押圧プランジャPPは、上型UMを通って保持キャビティLMbに侵入するようにしたので、押圧プランジャPPは、光学素子成形用の樹脂材料を押圧する直前まで、保持キャビティLMb内の液体状の樹脂に触れないようにできるため、押圧プランジャPPと貫通孔UMcとの隙間に樹脂が流れ込んで硬化することを抑制し、これにより清掃作業による成形動作の中断を抑えることができる。
保持キャビティLMbと成形キャビティLMaは、ランナーLMc及びそれより断面積が小さいゲートLMdを介してつながっている。尚、ランナーLMc及びゲートLMdは上型UMに形成されていても良い。
本発明における「光学素子」としては、例えばレンズ、プリズム、回折格子光学素子(回折レンズ、回折プリズム、回折板)、光学フィルター(空間ローパスフィルター、波長バンドパスフィルター、波長ローパスフィルター、波長ハイパスフィルター等々)、偏光フィルター(検光子、旋光子、偏光分離プリズム等々)、位相フィルター(位相板、ホログラム等々)があげられるが、以上に限られることはない。
Claims (5)
- 上型と、
前記上型より重力方向下方に配置され、前記上型と共に成形キャビティを形成するとともに、前記成形キャビティに移送される光学素子成形用の樹脂材料を貯留する保持キャビティを有する下型と、
前記上型を通って延在し、前記保持キャビティから退避する退避位置と、前記保持キャビティ内に侵入する侵入位置との間で往復動作可能である押圧プランジャと、を有し、
前記保持キャビティの内周面は、前記上型に向かって拡開するテーパ形状であることを特徴とする光学素子の成形装置。 - 前記押圧プランジャの外周面は、前記保持キャビティの内周面に対応して、前記上型と前記押圧プランジャの相対移動方向に対して3〜5度傾いていることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子の成形装置。
- 前記光学素子成形用の樹脂材料は熱硬化性樹脂であることを特徴とする請求の範囲第1項又は第2項に記載の光学素子の成形装置。
- 前記光学素子成形用の樹脂材料はUV硬化性樹脂であることを特徴とする請求の範囲第1項又は第2項に記載の光学素子の成形装置。
- 上型と、前記上型より重力方向下方に配置され、光学素子成形用の樹脂材料を貯留する保持キャビティを有する下型と、を合わせることによって、前記上型と前記下型との間に成形キャビティを形成する工程と、
前記上型を通る押圧プランジャを、前記保持キャビティ内の溶融した前記光学素子成形用の樹脂材料に向かって突き出すことにより、前記光学素子成形用の樹脂材料を前記成形キャビティに移送する工程と、
前記光学素子成形用の樹脂材料が硬化した後に、前記押圧プランジャ及び前記上型と、前記下型とを互いに離れる方向に相対移動させる工程と、
前記上型から前記押圧プランジャを突き出した後、前記押圧プランジャを引き込む工程と、を有することを特徴とする光学素子の成形方法。
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