JPWO2008062610A1 - 光学フィルムの製造方法、セルロースエステルフィルム、偏光板および液晶表示装置 - Google Patents

光学フィルムの製造方法、セルロースエステルフィルム、偏光板および液晶表示装置 Download PDF

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Abstract

本発明は、光学フィルムの製造方法であって、セルロースエステルと、フラノース構造およびピラノース構造から選ばれる少なくとも一種の構造が1〜12個結合した糖化合物をエステル化した糖エステル化合物と、アクリル系ポリマーとを用いて溶融流延法によって製造することを特徴とし、セルロースエステルフィルムの溶融製膜において、溶融時の粘度が高い状態でダイスから冷却ドラムにキャストする際のセルロースエステルのレベリングがよく、湿度変動に対してもレターデーションの変動幅が小さいセルロースエステルフィルムが得られる製造方法が提供できる。

Description

本発明は、光学フィルムの製造方法に関し、詳しくは液晶表示装置に使用される偏光板保護フィルム、位相差フィルムに有用なセルロースエステルフィルムの製造方法に関する。
液晶表示装置においては、セルロースエステルフィルムが光学フィルム、特に偏光板保護フィルム、位相差フィルムまたは反射防止フィルムとして使用されている。
このセルロースエステルフィルムは、一般には溶剤キャスト法により製造されているが、需要の急速な増大とともに溶剤の使用量を抑制するため、セルロースエステルを熱溶融する溶融製膜による製造方法が検討されている。
溶融製膜においては、溶融時の粘度が高い状態でダイスから冷却ドラムにキャストするためセルロースエステルフィルムのレベリングが悪く、溶剤キャスト法に比べレターデーションのバラツキ等が発生し光学特性に劣るという問題があった(特許文献1、2および3参照。)。
さらに、溶融製膜により製造したセルロースエステルフィルムは、湿度変動に対してレターデーションの変動幅が大きく、偏光板保護フィルムに使用した場合、コントラストムラとしてその悪影響がでることがわかった。
特表平6−501040号公報 特開2000−352620号公報 特開2003−270442号公報
本発明の目的は、溶融製膜法によってセルロースエステルフィルムを製造した場合であっても、レベリングが良いためレターデーションバラツキが小さく、また湿度による変動も小さいフィルムの製造方法を提供することにある。
本発明の上記課題は、下記の構成により達成される。
1.セルロースエステル、フラノース構造およびピラノース構造から選ばれる少なくとも一種の構造が1ないし12個結合した糖化合物をエステル化した糖エステル化合物、およびアクリル系ポリマーを含有する組成物を用いて、溶融流延法によってセルロースエステルフィルムを製造することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
2.前記アクリル系ポリマーの重量平均分子量が500ないし70、000であることを特徴とする1に記載の光学フィルムの製造方法。
3.前記アクリル系ポリマーの前記組成物中の含有量が前記セルロースエステルの含有量に対して0.5ないし35質量%であることを特徴とする1または2に記載の光学フィルムの製造方法。
4.前記アクリル系ポリマーの含有量が前記セルロースエステルに対して1ないし30質量%であることを特徴とする3に記載の光学フィルムの製造方法。
5.前記セルロースエステルが下記式(A1)および(A2)を同時に満足することを特徴とする1ないし4のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
式(A1) 2.0≦X+Y≦3.0
式(A2) 0.3≦Y≦3.0
[式中、Xはアセチル基の置換度、Yはプロピオニル基またはブチリル基の置換度である。]
6.前記糖化合物が、フラノース構造およびピラノース構造から選ばれる少なくとも一種の構造が1ないし3個結合した糖化合物であることを特徴とする1ないし5のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
7.前記糖化合物がフラノース構造とピラノース構造を両方有することを特徴とする1ないし6のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
8.前記糖化合物がスクロースであることを特徴とする請求の範囲第7項に記載の光学フィルムの製造方法。
9.前記糖エステル化合物の前記組成物中の含有量が前記セルロースエステルの含有量に対して0.5ないし35質量%であることを特徴とする1ないし8のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
10.前記組成物が酸化防止剤を含むことを特徴とする請求の範囲第1項ないし第9項のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
11.前記酸化防止剤が下記一般式(R)で表される化合物であることを特徴とする10に記載の光学フィルムの製造方法。
[式(R)において、R2ないしR5はおのおの互いに独立して水素原子または置換基を表し、R6は水素原子または置換基を表し、nは1から4を表す。nが1であるとき、R1は置換基を表し、nが2から4であるとき、R1は2ないし4価の連結基を表す。
12.前記酸化防止剤が下記一般式(R−1)で表される化合物であることを特徴とする11に記載の光学フィルムの製造方法。
[式中、RからRはおのおの互いに独立して水素原子または置換基を表し、R7からR11はおのおの互いに独立して水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基または炭素原子数1ないし18のアルコキシ基を表す。]
13.前記酸化防止剤が下記一般式(C−1)、(C−2)、(C−3)、(C−4)または(C−5)で表される部分構造を分子内に有する化合物であることを特徴とする10に記載の光学フィルムの製造方法。
[式中、Ph1およびPh′1は置換基を表す。]
[式中、Ph2およびPh′2は置換基を表す。]
[式中、Ph3は置換基を表す。]
[式中、Ph4は置換基を表す。]
[式中、Ph5、Ph′5およびPh″5は置換基を表す。]
14.前記酸化防止剤がヒンダードアミン系化合物であることを特徴とする10に記載の光学フィルムの製造方法。
15.前記酸化防止剤が下記一般式(II)で表される化合物であることを特徴とする10に記載の光学フィルムの製造方法。
[式中、R31からR35は、各々同一または異なり水素原子または炭素数1ないし10のアルキル基を表す。]
16.前記組成物が着色剤を含むことを特徴とする1ないし15のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
17.前記着色剤がアントラキノン染料、アゾ染料またはフタロシアニン顔料であることを特徴とする16に記載の光学フィルムの製造方法。
18.前記組成物をペレット化し、該ペレットを溶融し、流延する工程を有することを特徴とする1ないし17のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
19.溶融流延の後、延伸する工程を含むことを特徴とする1ないし18のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
20.前記延伸する工程が、2軸方向に延伸する工程であることを特徴とする19に記載の光学フィルムの製造方法。
21.前記延伸する工程が、流延方向に1.0ないし2.0倍、幅方向に1.01ないし2.5倍延伸する工程であることを特徴とする19または20に記載の光学フィルムの製造方法。
22.1〜21のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とするセルロースエステルフィルム。
23.22に記載のセルロースエステルフィルムを偏光板保護フィルムとして用いることを特徴とする偏光板。
24.23に記載の偏光板を用いることを特徴とする液晶表示装置。
本発明によれば、溶融製膜法によってセルロースエステルフィルムを製造した場合であっても、レベリングが良いためレターデーションバラツキが小さく、また湿度による変動も小さいフィルムの製造することができる。
本発明の光学フィルムの製造方法を実施する装置の1つの実施形態を示す概略フローシートである。 図1の製造装置の要部拡大フローシートである。 図3(a)は流延ダイの要部の外観図、図3(b)は流延ダイの要部の断面図である。 タッチロールの第1実施形態の断面図である。 タッチロールの第2実施形態の回転軸に垂直な平面での断面図である。 タッチロールの第2実施形態の回転軸を含む平面での断面図である。 液晶表示装置の構成図の概略を示す分解斜視図である。
符号の説明
2 フィルター
3 スタチックミキサー
4 流延ダイ
5 第1冷却ロール
6 タッチロール
以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する。
本発明に係るセルロースエステルフィルムはセルロースエステル、糖エステル化合物、アクリル系ポリマーおよび必要に応じてその他の添加剤を含む。これらを含む組成物を溶融流延し、本発明に係るセルロースエステルフィルムを製造する。セルロースエステルフィルムの材料について述べる。
<セルロースエステル>
本発明に用いるセルロースエステルには特に限定はないが、セルロースエステルとしては炭素数2〜22程度のカルボン酸エステルであり、芳香族カルボン酸のエステルでもよく、特にセルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。
セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味している。水酸基に結合するアシル基は、直鎖であっても分岐してもよく、また環を形成してもよい。更に別の置換基が置換してもよい。
同じ置換度である場合、前記炭素数が多いと複屈折性が低下するため、炭素数としては炭素数2〜6のアシル基の中で選択することが好ましい。
本発明に好ましいセルロースエステルとしては、下記式(A1)及び(A2)を同時に満足するものが好ましい。
式(A1) 2.0≦X+Y≦3.0
式(A2) 0.3≦Y≦3.0
式中、Xはアセチル基の置換度、Yはプロピオニル基またはブチリル基の置換度である。
この中で特にトリアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましい。
さらに、2.4≦X+Y≦3.0であり、0.7≦Y≦2.0、が好ましく、特にYは1.0≦Y≦1.5が好ましい。アシル基の置換度はASTM−D817−96に準じて測定することができる。
本発明に用いられるセルロースエステルの数平均分子量は、60,000〜300,000が、得られるフィルムの機械的強度が強く好ましい。更に70,000〜200,000のものが好ましく用いられる。
セルロースエステルの数平均分子量は下記のように測定出来る。
高速液体クロマトグラフィーにより下記条件で測定する。
溶媒:アセトン
カラム:MPW×1(東ソー(株)製)
試料濃度:0.2(質量/容量)%
流量:1.0ml/分
試料注入量:300μl
標準試料:標準ポリスチレン
温度:23℃
本発明に用いられるセルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることが出来る。またそれらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することが出来る。
本発明に係わるセルロースエステルは、セルロース原料のアシル化剤が酸無水物(無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸)である場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いて反応が行われる。
アシル化剤が酸クロライドの場合には、触媒としてアミンのような塩基性化合物を用いて反応が行われる。具体的には特開平10−45804号に記載の方法を参考にして合成することが出来る。
セルロースエステルを構成するグルコース単位の6位には、2位及び3位と異なり、反応性の高い一級ヒドロキシル基が存在し、この一級ヒドロキシル基は、硫酸を触媒とするセルロースエステルの製造過程で硫酸エステルを優先的に形成する。
そのため、セルロースのエステル化反応において、触媒硫酸量を増加させることにより、通常のセルロースエステルに比べて、グルコース単位の6位よりも2位及び3位の平均置換度を高めることが出来る。
更に、必要に応じて、セルロースをトリチル化すると、グルコース単位の6位のヒドロキシル基を選択的に保護出来るため、トリチル化により6位のヒドロキシル基を保護し、エステル化した後、トリチル基(保護基)を脱離することにより、グルコース単位の6位よりも2位及び3位の平均置換度を高めることが出来る。具体的には、特開2005−281645号記載の方法で製造されたセルロースエステルも好ましく用いることが出来る。
尚、合成されたセルロースエステルは、精製して低分子量成分を除去したり、未酢化または低酢化度の成分を濾過で取り除くことも好ましく行われる。
また、混酸セルロースエステルの場合には、特開平10−45804号公報に記載の方法で得ることが出来る。
また、セルロースエステルは、セルロースエステル中の微量金属成分によっても影響を受ける。これらは製造工程で使われる水に関係していると考えられるが、不溶性の核となり得るような成分は少ない方が好ましく、鉄、カルシウム、マグネシウム等の金属イオンは、有機の酸性基を含んでいる可能性のあるポリマー分解物等と塩形成することにより不溶物を形成する場合があり、少ないことが好ましい。
<糖エステル化合物>
本発明に係るセルロースエステルフィルムは、フラノース構造およびピラノース構造から選ばれる少なくとも一種の構造が1〜12個結合した糖化合物の水酸基をエステル化した糖エステル化合物を含む組成物を溶融製膜することを特徴とする。
本発明に係る糖化合物としては、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、アラビノース、ラクトース、スクロース、セロビオース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノースなどが挙げられるが、特にフラノース構造とピラノース構造を両方有するものが好ましい。例としてはスクロースが挙げられる。
本発明に係る糖エステル化合物は、糖化合物の有する水酸基の一部または全部がエステル化されているものまたはその混合物である。
本発明に係る糖エステル化合物を合成する際に用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いてエステル化し、本発明に用いられる糖エステル化合物を合成することが出来、用いられるカルボン酸は1種類でもよいし、2種以上の混合物であってもよい。
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることが出来る。
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環に1〜5個のアルキル基もしくはアルコキシ基等の置換基を導入した芳香族モノカルボン酸、ケイ皮酸、ベンジル酸、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を2個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来るが、特に安息香酸が好ましい。
これらの化合物の製造方法は、特開昭62−42996号公報及び特開平10−237084号公報を参考にすることができる。
本発明に係る糖エステル化合物は、セルロースエステルに対して0.5〜35質量%を使用することができ、好ましくは1〜30質量%である。
本発明に係る糖エステル化合物の具体例を挙げる。
<アクリル系ポリマー>
本発明に用いるアクリル系ポリマーの重量平均分子量は500から70,000が好ましい。アクリル系ポリマーは、セルロースエステルに対して0.5ないし35質量%を使用することができ、好ましくは1ないし30質量%である。
本発明に係るアクリル系ポリマーとしては、分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーXaと分子内に芳香環を有せず、親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーXbとを共重合して得られた重量平均分子量5000以上70,000以下のポリマーXが上げられる。
そして、芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーYaを重合して得られた重量平均分子量500以上3000以下のポリマーYをともに使用するものであることがより好ましい。
ポリマーXは分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーXaと分子内に芳香環を有せず、親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーXbとを共重合して得られた重量平均分子量5000以上70,000以下のポリマーである。
好ましくは、Xaは分子内に芳香環と親水性基を有しないアクリルまたはメタクリルモノマー、Xbは分子内に芳香環を有せず親水性基を有するアクリルまたはメタクリルモノマーである。
上記ポリマーXは、下記一般式(P1)で表される。
一般式(P1)
−(Xa)m−(Xb)n−(Xc)p−
さらに好ましくは、下記一般式(P1−1)で表されるポリマーである。
一般式(P1−1)
−[CH2−C(−R1)(−CO22)]m−[CH2−C(−R3)(−CO24−OH)−]n−[Xc]p−
(式中、R1、R3は、HまたはCH3を表す。R2は炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基を表す。R4は−CH2−、−C24−または−C36−を表す。Xcは、Xa、Xbに重合可能なモノマー単位を表す。m、nおよびpは、モル組成比を表す。ただしm≠0、n≠0、k≠0、m+n+p=100である。)
ポリマーXを構成するモノマー単位としてのモノマーを下記に挙げるがこれに限定されない。
Xにおいて、親水性基とは、水酸基、エチレンオキシド連鎖を有する基をいう。
分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーXaは、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル(i−、n−)、アクリル酸ブチル(n−、i−、s−、t−)、アクリル酸ペンチル(n−、i−、s−)、アクリル酸ヘキシル(n−、i−)、アクリル酸ヘプチル(n−、i−)、アクリル酸オクチル(n−、i−)、アクリル酸ノニル(n−、i−)、アクリル酸ミリスチル(n−、i−)、アクリル酸(2−エチルヘキシル)、アクリル酸(ε−カプロラクトン)、等のアクリル酸エステル、または上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたメタクリル酸エステルを挙げることが出来る。
中でも、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル(i−、n−)であることが好ましい。
分子内に芳香環を有せず、親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーXbは、水酸基を有するモノマー単位として、アクリル酸またはメタクリル酸エステルが好ましく、例えば、アクリル酸(2−ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(3−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(4−ヒドロキシブチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシブチル)、またはこれらアクリル酸をメタクリル酸に置き換えたものを挙げることが出来、好ましくは、アクリル酸(2−ヒドロキシエチル)及びメタクリル酸(2−ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(3−ヒドロキシプロピル)である。
Xcとしては、Xa、Xb以外のものでかつ共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば、特に制限はないが、芳香環を有していないものが好ましい。
Xa、XbおよびXcのモル組成比m:nは99:1〜65:35の範囲が好ましく、更に好ましくは95:5〜75:25の範囲である。Xcのpは0〜10である。Xcは複数のモノマー単位であってもよい。
Xa、Xbのモル組成比は、セルロースエステルとの相溶性、光学特性等の最適化を図りながら適宜決めることが好ましい。
ポリマーXの分子量は重量平均分子量が5000以上70,000以下であり、更に好ましくは8000以上25000以下である。
ポリマーXの重量平均分子量は、公知の分子量調節方法で調整することが出来る。そのような分子量調節方法としては、例えば四塩化炭素、ラウリルメルカプタン、チオグリコール酸オクチル等の連鎖移動剤を添加する方法等が挙げられる。
ポリマーYは芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーYaを重合して得られた重量平均分子量500以上3000以下のポリマーである。重量平均分子量500以上ではポリマーの残存モノマーが減少し好ましい。また、3000以下とすることは、リターデーション値Rth低下性能を維持するために好ましい。Yaは、好ましくは芳香環を有さないアクリルまたはメタクリルモノマーである。
ポリマーYは、下記一般式(P2)で表される。
一般式(P2)
−(Ya)k−(Yb)q−
さらに好ましくは、下記一般式(P2−1)で表されるポリマーである。
一般式(P2−1)
−[CH2−C(−R5)(−CO26)]k−[Yb]q−
(式中、R5は、HまたはCH3を表す。R6は炭素数1〜12のアルキル基またはシクロアルキル基を表す。Ybは、Yaと共重合可能なモノマー単位を表す。kおよびqは、モル組成比を表す。ただしk≠0、k+q=100である。)
Ybは、Yaと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば特に制限はない。Ybは複数であってもよい。k+q=100、qは好ましくは0〜30である。
芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーを重合して得られるポリマーYを構成するエチレン性不飽和モノマーYaはアクリル酸エステルとして、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル(i−、n−)、アクリル酸ブチル(n−、i−、s−、t−)、アクリル酸ペンチル(n−、i−、s−)、アクリル酸ヘキシル(n−、i−)、アクリル酸ヘプチル(n−、i−)、アクリル酸オクチル(n−、i−)、アクリル酸ノニル(n−、i−)、アクリル酸ミリスチル(n−、i−)、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸(2−エチルヘキシル)、アクリル酸(ε−カプロラクトン)、アクリル酸(2−ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(3−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(4−ヒドロキシブチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシブチル)、メタクリル酸エステルとして、上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたもの;不飽和酸として、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸等を挙げることが出来る。
Ybは、Yaと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば特に制限はないが、ビニルエステルとして、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、吉草酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、オクチル酸ビニル、メタクリル酸ビニル、クロトン酸ビニル、ソルビン酸ビニル、桂皮酸ビニル等が好ましい。Ybは複数であってもよい。
ポリマーX、Yを合成するには、通常の重合では分子量のコントロールが難しく、分子量をあまり大きくしない方法で出来るだけ分子量を揃えることの出来る方法を用いることが望ましい。
かかる重合方法としては、クメンペルオキシドやt−ブチルヒドロペルオキシドのような過酸化物重合開始剤を使用する方法、重合開始剤を通常の重合より多量に使用する方法、重合開始剤の他にメルカプト化合物や四塩化炭素等の連鎖移動剤を使用する方法、重合開始剤の他にベンゾキノンやジニトロベンゼンのような重合停止剤を使用する方法、更に特開2000−128911号または同2000−344823号公報にあるような一つのチオール基と2級の水酸基とを有する化合物、あるいは、該化合物と有機金属化合物を併用した重合触媒を用いて塊状重合する方法等を挙げることが出来る。
特に、ポリマーYは、分子中にチオール基と2級の水酸基とを有する化合物を連鎖移動剤として使用する重合方法が好ましい。この場合、ポリマーYの末端には、重合触媒および連鎖移動剤に起因する水酸基、チオエーテルを有することとなる。この末端残基により、Yとセルロースエステルとの相溶性を調整することができる。
重量平均分子量の測定方法は下記方法によることが出来る。
(重量平均分子量測定方法)
重量平均分子量Mwは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いて測定した。
測定条件は以下の通りである。
溶媒: メチレンクロライド
カラム: Shodex K806、K805、K803G(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度: 0.1質量%
検出器: RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ: L6000(日立製作所(株)製)
流量: 1.0ml/min
校正曲線: 標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=1000000〜500迄の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。
ポリマーXおよびYの水酸基価は30〜150[mgKOH/g]であることが好ましい。
(水酸基価の測定方法)
この測定は、JIS K 0070(1992)に準ずる。この水酸基価は、試料1gをアセチル化させたとき、水酸基と結合した酢酸を中和するのに必要とする水酸化カリウムのmg数と定義される。具体的には試料Xg(約1g)をフラスコに精秤し、これにアセチル化試薬(無水酢酸20mlにピリジンを加えて400mlにしたもの)20mlを正確に加える。フラスコの口に空気冷却管を装着し、95〜100℃のグリセリン浴にて加熱する。1時間30分後、冷却し、空気冷却管から精製水1mlを加え、無水酢酸を酢酸に分解する。次に電位差滴定装置を用いて0.5mol/L水酸化カリウムエタノール溶液で滴定を行い、得られた滴定曲線の変曲点を終点とする。更に空試験として、試料を入れないで滴定し、滴定曲線の変曲点を求める。水酸基価は、次の式によって算出する。
水酸基価={(B−C)×f×28.05/X}+D
(式中、Bは空試験に用いた0.5mol/Lの水酸化カリウムエタノール溶液の量(ml)、Cは滴定に用いた0.5mol/Lの水酸化カリウムエタノール溶液の量(ml)、fは0.5mol/L水酸化カリウムエタノール溶液のファクター、Dは酸価、また、28.05は水酸化カリウムの1mol量56.11の1/2を表す)
ポリマーXとポリマーYのセルロースエステルフィルム中での含有量は、下記式(i)、式(ii)を満足する範囲であることが好ましい。ポリマーXの含有量をXg(質量%=ポリマーXの質量/セルロースエステルの質量 ×100)、ポリマーYの含有量をYg(質量%)とすると、
式(i) 5≦Xg+Yg≦35(質量%)
式(ii) 0.05≦Yg/(Xg+Yg)≦0.4
式(i)の好ましい範囲は、10〜25質量%である。
<添加剤>
本発明に係るセルロースエステルフィルムは必要に応じて酸化防止剤、可塑剤、紫外線吸収剤、微粒子などを含有させることができる。
<酸化防止剤、熱劣化防止剤>
酸化防止剤、熱劣化防止剤としては、通常知られているものを使用することができる。特に、ラクトン系、イオウ系、フェノール系、二重結合系、ヒンダードアミン系、リン系化合物のものを好ましく用いることができる。
上記ラクトン系化合物としては、一般式(R)で表される化合物が好ましい。
一般式(R)において、R2〜R5はおのおの互いに独立して水素原子または置換基を表し、R6は水素原子または置換基を表し、nは1〜4を表す。nが1であるとき、R1は置換基を表し、nが2〜4であるとき、R1は2〜4価の連結基を表す。
一般式(R)で表される化合物としては、分子中に少なくとも一つのヒンダードタイプの置換基(例えばt−ブチル基等)を有することが好ましく、特にR2がヒンダードタイプの置換基であることが好ましい。
一般式(R)で表される化合物としては、さらに一般式(R−1)で表される化合物が好ましい。
式中、R2〜R5はおのおの互いに独立して水素原子または置換基を表す。置換基としては、未置換もしくは置換の炭素原子数1〜18のアルキル基が好ましく、炭素数1〜8のアルキル基がさらに好ましい。
7〜R11はおのおの互いに独立して水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数1ないし18のアルコキシ基を表す。
一般式(R−1)で表される化合物としては、分子中に少なくとも一つのヒンダードタイプの置換基(例えばt−ブチル基等)を有することが好ましく、特にR2がヒンダード
タイプの置換基であることが好ましい。
例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社から、”IrgafosXP40”、”IrgafosXP60”という商品名で市販されているものを含むものが好ましい。
上記フェノール系化合物としては、2,6−ジアルキルフェノールの構造を有するものが好ましく、例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社、”Irganox1076”、”Irganox1010”という商品名で市販されているものが好ましい。
上記リン系化合物は下記一般式(C−1)、(C−2)、(C−3)、(C−4)または(C−5)で表される部分構造を分子内に有する化合物が好ましい。
式中、Ph1及びPh′1は置換基を表す。
置換基としては、水素原子、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子等)、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、t−ブチル基等)、シクロアルキル基(例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アラルキル基(例えばベンジル基、2−フェネチル基等)、アリール基(例えばフェニル基、ナフチル基、p−トリル基、p−クロロフェニル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ基等)、シアノ基、アシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ基等)、スルホニルアミノ基(例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等)、ウレイド基(例えば3−メチルウレイド基、3,3−ジメチルウレイド基、1,3−ジメチルウレイド基等)、スルファモイルアミノ基(ジメチルスルファモイルアミノ基等)、カルバモイル基(例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等)、スルファモイル基(例えばエチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等)、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えばフェノキシカルボニル基等)、スルホニル基(例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等)、アシル基(例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等)、アミノ基(メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等)、ヒドロキシ基、ニトロ基、ニトロソ基、アミンオキシド基(例えばピリジン−オキシド基)、イミド基(例えばフタルイミド基等)、ジスルフィド基(例えばベンゼンジスルフィド基、ベンゾチアゾリル−2−ジスルフィド基等)、カルボキシル基、スルホ基、ヘテロ環基(例えば、ピロール基、ピロリジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等)等が挙げらる。これらの置換基はさらに置換されてもよい。
より好ましくは、Ph1及びPh′1はフェニレン基を表し、該フェニレン基の水素原子はフェニル基、炭素数1ないし8のアルキル基、炭素数5ないし8のシクロアルキル基、炭素数6ないし12のアルキルシクロアルキル基または炭素数7ないし12のアラルキル基で置換されていてもよい。Ph1及びPh′1は互いに同一でもよく、異なってもよい。
Xは単結合、硫黄原子または−CHR6−基を表す。R6は水素原子、炭素数1ないし8のアルキル基または炭素数5ないし8のシクロアルキル基を表す。また、これらは前記の置換基と同義の置換基により置換されてもよい。
式中、Ph2及びPh′2は置換基を表す。置換基としては前記の置換基と同義である。より好ましくは、Ph2及びPh′2はフェニル基またはビフェニル基を表し、該フェニル基またはビフェニル基の水素原子は炭素数1ないし8のアルキル基、炭素数5ないし8のシクロアルキル基、炭素数6ないし12のアルキルシクロアルキル基または炭素数7ないし12のアラルキル基で置換されていてもよい。Ph2及びPh′2は互いに同一でもよく、異なってもよい。また、これらは前記の置換基と同義の置換基により置換されてもよい。
式中、Ph3は置換基を表す。置換基としては前記の置換基と同義である。より好ましくは、Ph3はフェニル基またはビフェニル基を表し、該フェニル基またはビフェニル基の水素原子は炭素数1ないし8のアルキル基、炭素数5ないし8のシクロアルキル基、炭素数6ないし12のアルキルシクロアルキル基または炭素数7ないし12のアラルキル基で置換されていてもよい。また、これらは前記の置換基と同義の置換基により置換されてもよい。
式中、Ph4は置換基を表す。置換基としては前記の置換基と同義である。より好ましくは、Ph4は炭素数1ないし20のアルキル基またはフェニル基を表し、該アルキル基またはフェニル基は前記の置換基と同義の置換基により置換されてもよい。
式中、Ph5、Ph′5及びPh″5は置換基を表す。置換基としては前記の置換基と同義である。より好ましくは、Ph5、Ph′5及びPh″5は炭素数1ないし20のアルキル基またはフェニル基を表し、該アルキル基またはフェニル基は前記の置換基と同義の置換基により置換されてもよい。
リン系化合物の具体例としては、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(ジノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、10−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、6−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロポキシ]−2,4,8,10−テトラ−t−ブチルジベンズ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン、トリデシルホスファイト等のモノホスファイト系化合物;4,4′−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト)、4,4′−イソプロピリデン−ビス(フェニル−ジ−アルキル(C12−C15)ホスファイト)等のジホスファイト系化合物;トリフェニルホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)[1,1−ビフェニル]−4,4′−ジイルビスホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチル−5−メチルフェニル)[1,1−ビフェニル]−4,4′−ジイルビスホスホナイト等のホスホナイト系化合物;トリフェニルホスフィナイト、2,6−ジメチルフェニルジフェニルホスフィナイト等のホスフィナイト系化合物;トリフェニルホスフィン、トリス(2,6−ジメトキシフェニル)ホスフィン等のホスフィン系化合物;等が挙げられる。
上記のリン系化合物は、例えば、住友化学工業株式会社から、”SumilizerGP”、旭電化工業株式会社からADK STAB PEP−24G”、”ADK STAB PEP−36”及び”ADK STAB 3010”、Ciba Specialty Chemicalsから”IRGAFOS P−EPQ”、吉富ファインケミカル株式会社から“GSY−P101”という商品名で市販されている。
また、下記化合物が挙げられる。
上記リン系化合物は、例えば、住友化学工業株式会社から、”SumilizerGP”、旭電化工業株式会社からADK STAB PEP−24G”、”ADK STAB PEP−36”及び”ADK STAB 3010”、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社から”IRGAFOS P−EPQ”、エーピーアイコーポレーション株式会社から“GSY−P101”という商品名で市販されているものが好ましい。
上記ヒンダードアミン系化合物は、例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社から、”Tinuvin144”及び”Tinuvin770”、旭電化工業株式会社から”ADK STAB LA−52”という商品名で市販されているものが好ましい。
上記イオウ系化合物は、例えば、住友化学工業株式会社から、”Sumilizer TPL−R”及び”Sumilizer TP−D”という商品名で市販されているものが好ましい。
上記二重結合系化合物としては、具体的にはアクリレート基またはメタクリレート基とフェノール性水酸基とを同一分子内に有する化合物であることが好ましく、更に一般式(II)で表される化合物であることが好ましい。
一般式(II)において、R31からR35は、各々同一または異なり水素原子または炭素数1ないし10のアルキル基、好ましくは1ないし5のアルキル基である。アルキル基は、安定剤としての効果ならびに製造のし易さを勘案して選択される。R31からR35で示されるアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、1,1−ジメチルプロピル基が挙げられる。特に、R31およびR32としては、イソプロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、1,1−ジメチルプロピル基のような立体障害になる嵩高いアルキル基が、安定化効果ならびに製造の容易さの上でも好ましい。中でもtert−ブチル基、1,1−ジメチルプロピル基が好ましい。R33およびR34としては、製造のし易さの観点からはメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、1,1−ジメチルプロピル基が用いられるが、水素引き抜きを伴うキノイド型構造の生成反応を考慮すると好ましいのはtert−ブチル基、1,1−ジメチルプロピル基が好ましい。R35としては、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基のような立体障害になりにくいアルキル基が、製造の観点から好ましい。R36は水素原子またはメチル基である。
アクリレート基またはメタクリレート基とフェノール性水酸基とを同一分子内に有する化合物の具体例を示す。
アクリレート基またはメタクリレート基とフェノール性水酸基とを同一分子内に有する化合物は、前記一般式(II)で表される化合物であることが好ましく、特に好ましい化合物は、下記構造式で示される商品名「スミライザーGS」、「スミライザーGM」(以上、住友化学工業(株)製)として市販されている。
アクリレート基またはメタクリレート基と、フェノール性水酸基とを同一分子内に有する化合物は、セルロースエステル樹脂100質量部に対して、0.01ないし5.0質量部で用いられることが好ましい。0.1ないし3.0質量部が更に好ましく、0.5ないし1.0質量部が特に好ましい。
さらに、酸捕捉剤として米国特許第4,137,201号明細書に記載されているような、エポキシ基を有する化合物を含有させることも可能である。
これらの酸化防止剤等は、再生使用される際の工程に合わせて適宜添加する量が決められるが、一般には、フィルムの主原料である樹脂に対して、0.05〜20質量%の範囲で添加される。
これらの酸化防止剤、熱劣化防止剤は、一種のみを用いるよりも数種の異なった系の化合物を併用することで相乗効果を得ることができる。例えば、ラクトン系、リン系、フェノール系および二重結合系化合物の併用は好ましい。
<その他の添加剤>
本発明に係るセルロースエステルフィルムには、前記化合物以外に、通常のセルロースエステルフィルムに添加することのできる添加剤を含有させることができる。
これらの添加剤としては、可塑剤、紫外線吸収剤、微粒子等を挙げることができる。
本発明に用いられる紫外線吸収剤は特に限定されないが、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。高分子型の紫外線吸収剤としてもよい。
本発明に使用される微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子は珪素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。
微粒子の一次粒子の平均粒径は5〜50nmが好ましく、更に好ましいのは7〜20nmである。これらは主に粒径0.05〜0.3μmの2次凝集体として含有されることが好ましい。セルロースエステルフィルム中のこれらの微粒子の含有量は0.05〜1質量%であることが好ましく、特に0.1〜0.5質量%が好ましい。共流延法による多層構成のセルロースエステルフィルムの場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。
微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600、アエロジルR976及びR811(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。
ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120及び同240(以上東芝シリコーン(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。
これらの中でもアエロジル200V、アエロジルR972Vがセルロースエステルフィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく用いられる。
<<可塑剤>>
本発明の製造方法に係るセルロースエステルフィルムの製造においては、フィルム形成材料中に少なくとも1種の可塑剤を1〜30質量%含有することが好ましい。
可塑剤とは、一般的には高分子中に添加することによって脆弱性を改良したり、柔軟性を付与したりする効果のある添加剤であるが、本発明においては、セルロースエステル単独での溶融温度よりも溶融温度を低下させるため、また同じ加熱温度においてセルロース樹脂単独よりも可塑剤を含むフィルム構成材料の溶融粘度を低下させるために、可塑剤を添加する。また、セルロースエステルの親水性を改善し、セルロースエステルフィルムの透湿度改善するためにも添加されるため透湿防止剤としての機能を有する。
ここで、フィルム構成材料の溶融温度とは、該材料が加熱され流動性が発現された状態の温度を意味する。セルロースエステルを溶融流動させるためには、少なくともガラス転移温度よりも高い温度に加熱する必要がある。
ガラス転移温度以上においては、熱量の吸収により弾性率あるいは粘度が低下し、流動性が発現される。しかしセルロースエステルでは高温下では溶融と同時に熱分解によってセルロースエステルの分子量の低下が発生し、得られるフィルムの力学特性等に悪影響を及ぼすことがあるため、なるべく低い温度でセルロースエステルを溶融させる必要がある。
フィルム構成材料の溶融温度を低下させるためには、セルロースエステルのガラス転移温度よりも低い融点またはガラス転移温度をもつ可塑剤を添加することで達成することができる。
可塑剤の例として下記一般式(1)で表される有機酸と3価以上のアルコールが縮合した構造を有するエステル化合物が挙げられる。この可塑剤は、セルロースエステルフィルムの1〜25質量%含有することが好ましい。
1質量%以上の添加により、平面性改善の効果が認められ、25質量%より少ないとブリードアウトしにくくなり、フィルムの経時安定性に優れるため好ましい。より好ましくは該可塑剤を3〜20質量%含有するセルロースエステルフィルムであり、さらに好ましくは5〜15質量%含有するセルロースエステルフィルムである。
式中、R1〜R5は水素原子またはシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基を表し、これらはさらに置換基を有していてよい。Lは連結基を表し、置換または無置換のアルキレン基、酸素原子、または直接結合を表す。
1〜R5で表されるシクロアルキル基としては、炭素数3〜8のシクロアルキル基が好ましく、具体的にはシクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル等の基である。これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、ハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アラルキル基(このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい)、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、フェニル基(このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい)、フェノキシ基(このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい)、アセチル基、プロピオニル基等の炭素数2〜8のアシル基、またアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の炭素数2〜8の無置換のカルボニルオキシ基等が挙げられる。
1〜R5で表されるアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、γ−フェニルプロピル基等の基を表し、また、これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。
1〜R5で表されるアルコキシ基としては、炭素数1〜8のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、n−ブトキシ、n−オクチルオキシ、イソプロポキシ、イソブトキシ、2−エチルヘキシルオキシ、もしくはt−ブトキシ等の各アルコキシ基である。また、これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、ハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アラルキル基(このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等を置換していてもよい)、アルケニル基、フェニル基(このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ基(このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい))、アセチル基、プロピオニル基等のアシル基が、またアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の炭素数2〜8の無置換のアシルオキシ基、またベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基が挙げられる。
1〜R5で表されるシクロアルコキシ基としては、無置換のシクロアルコキシ基としては炭素数1〜8のシクロアルコキシ基が挙げられ、具体的には、シクロプロピルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ等の基が挙げられる。また、これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換して
もよい基を同様に挙げることができる。
1〜R5で表されるアリールオキシ基としては、フェノキシ基が挙げられるが、このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等前記シクロアルキル基に置換してもよい基として挙げられた置換基で置換されていてもよい。
1〜R5で表されるアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等が挙げられ、これらの置換基はさらに置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。
1〜R5で表されるアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基等の炭素数2〜8の無置換のアシル基が挙げられ(アシル基の炭化水素基としては、アルキル、アルケニル、アルキニル基を含む。)、これらの置換基はさらに置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。
1〜R5で表されるカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の炭素数2〜8の無置換のアシルオキシ基(アシル基の炭化水素基としては、アルキル、アルケニル、アルキニル基を含む。)、またベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基が挙げられるが、これらの基はさらに前記シクロアルキル基に置換してもよい基と同様の基により置換されていてもよい。
1〜R5で表されるオキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、またフェノキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基を表す。これらの置換基はさらに置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。
1〜R5で表されるオキシカルボニルオキシ基としては、メトキシカルボニルオキシ基等の炭素数1〜8のアルコキシカルボニルオキシ基を表し、これらの置換基はさらに置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。
1〜R5のうちのいずれか同士で互いに連結し、環構造を形成していてもよい。
また、Lで表される連結基としては、置換または無置換のアルキレン基、酸素原子、または直接結合を表すが、アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等の基であり、これらの基は、さらに前記のR1〜R5で表される基に置換してもよい基としてあげられた基で置換されていてもよい。
中でも、Lで表される連結基として特に好ましいのは直接結合であり芳香族カルボン酸である。
また、これら可塑剤として用いられるエステル化合物を構成する、前記一般式(1)で表される有機酸としては、少なくともR1またはR2に前記アルコキシ基、アシル基、オキシカルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニルオキシ基を有するものが好ましい。また複数の置換基を有する化合物も好ましい。
3価以上のアルコールの水酸基を置換する有機酸は単一種であっても複数種であってもよい。
前記一般式(1)で表される有機酸と反応して多価アルコールエステル化合物を形成する3価以上のアルコール化合物としては、好ましくは3〜20価の脂肪族多価アルコールであり、3価以上のアルコールは下記一般式(3)で表されるものが好ましい。
一般式(3) R′−(OH)m
式中、R′はm価の有機基、mは3以上の正の整数、OH基はアルコール性水酸基を表す。特に好ましいのは、mとしては3または4の多価アルコールである。
好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、1,2,4−ブタントリオール、1,2,3−ヘキサントリオール、1,2,6−ヘキサントリオール、グリセリン、ジグリセリン、エリスリトール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、ガラクチトール、イノシトール、マンニトール、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。特に、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールが好ましい。
一般式(1)で表される有機酸と3価以上の多価アルコールのエステルは、公知の方法により合成できる。実施例に代表的合成例を示したが、前記一般式(1)で表される有機酸と、多価アルコールを例えば、酸の存在下縮合させエステル化する方法、また、有機酸を予め酸クロライドあるいは酸無水物としておき、多価アルコールと反応させる方法、有機酸のフェニルエステルと多価アルコールを反応させる方法等があり、目的とするエステル化合物により、適宜、収率のよい方法を選択することが好ましい。
一般式(1)で表される有機酸と3価以上の多価アルコールのエステルからなる可塑剤としては、下記一般式(2)で表される化合物が好ましい。
式中、R6〜R20は水素原子またはシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基を表し、これらはさらに置換基を有していてよい。R21は水素原子またはアルキル基を表す。
6〜R20のシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基については、前記一般式(1)のR1〜R5と同様の基が挙げられる。
このようにして得られる多価アルコールエステルの分子量には特に制限はないが、300〜1500であることが好ましく、400〜1000であることがさらに好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する。
可塑剤として前記一般式(1)で表される有機酸及び3価以上の多価アルコールから製造されるエステル化合物はそれ以外の可塑剤と併用してもよい。
前記一般式(1)で表される有機酸と3価以上の多価アルコールからなるエステル化合物は、セルロースエステルに対する相溶性が高く、高添加率で添加することができる特徴があるため、他の可塑剤や添加剤を併用してもブリードアウトを発生することがなく、必要に応じて他種の可塑剤や添加剤を容易に併用することができる。
その他の可塑剤としては特に限定されないが、好ましくは、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤及び多価アルコールエステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、アクリル系可塑剤等から選択される。そのうち、可塑剤を2種以上用いる場合は、少なくとも1種は多価アルコールエステル系可塑剤であることが好ましい。
<<リターデーション調整剤>>
本発明に係る光学フィルムにおいて配向膜を形成して液晶層を設け、光学フィルムと液晶層由来のリターデーションを複合化して光学補償能を付与した偏光板加工を行ってもよいし、一般式(B)で表される化合物とは別に、リターデーションを調整するための化合物をセルロースエステルフィルムに含有させてもよい。
リターデーションを調整するために添加する化合物は、欧州特許第911,656A2号明細書に記載されているような、二つ以上の芳香族環を有する芳香族化合物を使用することも出来る。
また2種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。該芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。芳香族性ヘテロ環であることが特に好ましく、芳香族性ヘテロ環は一般に不飽和ヘテロ環である。中でも1,3,5−トリアジン環を有する化合物が特に好ましい。
本発明に係るセルロースエステルフィルムとしては、ヘイズ値が1.0%を超えると光学用材料として影響を与えるため、好ましくはヘイズ値は1.0%未満、より好ましくは0.5%未満である。ヘイズ値はJIS−K7136に基づいて測定することができる。
<<着色剤>>
本発明においては、着色剤を使用することが好ましい。着色剤と言うのは染料や顔料を意味するが、本発明では、液晶画面の色調を青色調にする効果またはイエローインデックスの調整、ヘイズの低減を有するものを指す。
着色剤としては各種の染料、顔料が使用可能だが、アントラキノン染料、アゾ染料、フタロシアニン顔料などが有効である。以下に、好ましい着色剤の具体例を挙げるがこれらに限定されない。
着色剤の添加量としては目的に対して適宜選択することができるが、セルロースエステルフィルムに対して0.1〜100ppmの範囲で用いることが好ましく、0.5〜20ppmであることがより好ましく、1〜10ppmであることが最も好ましい。
<溶融流延法によるセルロースエステルフィルムの製膜>
本発明の、光学フィルムの製造方法において、原材料であるセルロースエステル、糖エステル化合物、アクリル系ポリマー、可塑剤、その他の添加剤であるフィルム構成材料は溶融及び製膜工程において、揮発成分が少ないまたは発生しないことが求められる。これは加熱溶融時に発泡して、フィルム内部の欠陥やフィルム表面の平面性劣化を削減または回避するためである。
フィルム構成材料が溶融されるときの揮発成分の含有量は、1質量%以下、好ましくは0.5質量%以下、さらに好ましくは0.2質量%以下、さらにより好ましくは0.1質量%以下であることが望まれる。本発明においては、示差熱重量測定装置(セイコー電子工業社製TG/DTA200)を用いて、30℃から250℃までの加熱減量を求め、その量を揮発成分の含有量としている。
用いるフィルム構成材料は、前記水分や前記溶媒等に代表される揮発成分を、製膜する前に、または加熱時に除去することが好ましい。除去する方法は、公知の乾燥方法が適用でき、加熱法、減圧法、加熱減圧法等の方法で行なうことができ、空気中または不活性ガスとして窒素を選択した雰囲気下で行なってもよい。これらの公知の乾燥方法を行なうとき、フィルム構成材料が分解しない温度領域で行なうことがフィルムの品質上好ましい。
製膜前に乾燥することにより、揮発成分の発生を削減することができ、樹脂単独、または樹脂とフィルム構成材料の内、樹脂以外の少なくとも1種以上の混合物または相溶物に分割して乾燥することもできる。乾燥温度は70℃以上が好ましい。乾燥する材料にガラス転移温度を有する物が存在するときには、そのガラス転移温度よりも高い乾燥温度に加熱すると、材料が融着して取り扱いが困難になることがあるので、乾燥温度は、ガラス転移温度以下であることが好ましい。
複数の物質がガラス転移温度を有する場合は、ガラス転移温度が低い方のガラス転移温度を基準とする。より好ましくは70℃以上、(ガラス転移温度−5)℃以下、さらに好ましくは110℃以上、(ガラス転移温度−20)℃以下である。乾燥時間は、好ましくは0.5〜24時間、より好ましくは1〜18時間、さらに好ましくは1.5〜12時間である。
乾燥温度が低くなりすぎると揮発成分の除去率が低くなり、また乾燥するのに時間がかかり過ぎることになる。また、乾燥工程は2段階以上にわけてもよく、例えば、乾燥工程が、材料の保管のための予備乾燥工程と、製膜する直前〜1週間前の間に行なう直前乾燥工程を含むものであってもよい。
<<溶融流延法>>
本発明に係るセルロースエステルフィルムは溶融流延によって形成される。溶液流延法において用いられる溶媒(例えば塩化メチレン等)を用いずに、加熱溶融する溶融流延による成形法は、さらに詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法等に分類できる。これらの中で、機械的強度及び表面精度等に優れるセルロースエステルフィルムを得るためには、溶融押し出し法が優れている。
以下、溶融押し出し法を例にとり、本発明の光学フィルムの製造方法について説明する。
図1は、本発明の光学フィルムの製造方法を実施する装置の全体構成を示す概略フローシートであり、図2は、流延ダイから冷却ロール部分の拡大図である。
図1と図2において、本発明に係るセルロースエステルフィルムの製造方法は、セルロース樹脂等のフィルム材料を混合した後、押出し機1を用いて、流延ダイ4から第1冷却ロール5上に溶融押し出し、第1冷却ロール5に外接させるとともに、さらに、第2冷却ロール7、第3冷却ロール8の合計3本の冷却ロールに順に外接させて、冷却固化してフィルム10とする。
ついで、剥離ロール9によって剥離したフィルム10を、ついで延伸装置12によりフィルムの両端部を把持して幅方向に延伸した後、巻取り装置16により巻き取る。また、平面性を矯正するために溶融フィルムを第1冷却ロール5表面に挟圧するタッチロール6が設けられている。
このタッチロール6は表面が弾性を有し、第1冷却ロール5との間でニップを形成している。タッチロール6についての詳細は後述する。
この製造方法において、溶融押し出しの条件は、他のポリエステル等の熱可塑性樹脂に用いられる条件と同様にして行なうことができる。材料は予め乾燥させておくことが好ましい。真空または減圧乾燥機や除湿熱風乾燥機等で水分を1000ppm以下、好ましくは200ppm以下に乾燥させることが望ましい。
例えば、熱風や真空または減圧下で乾燥したセルロースエステル系樹脂を押出し機1を用いて、押し出し温度200〜300℃程度で溶融し、リーフディスクタイプのフィルター2等で濾過し、異物を除去する。
供給ホッパー(図示略)から押出し機1へ導入する際は、真空下または減圧下や不活性ガス雰囲気下にして、酸素や水分の影響を防止して酸化分解等を防止することが好ましい。
可塑剤等の添加剤を予め混合しない場合は、押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサー3等の混合装置を用いることが好ましい。
セルロース樹脂と、その他必要により添加される安定化剤等の添加剤は、溶融する前に混合しておくことが好ましい。セルロース樹脂と安定化剤を最初に混合することがさらに好ましい。混合は、混合機等により行なってもよく、また、前記したようにセルロース樹脂調製過程において混合してもよい。混合機を使用する場合は、V型混合機、円錐スクリュー型混合機、水平円筒型混合機等、ヘンシェルミキサー、リボンミキサー一般的な混合機を用いることができる。
上記のようにフィルム構成材料を混合した後に、その混合物を押出し機1を用いて直接溶融して製膜するようにしてもよいが、一旦、フィルム構成材料をペレット化した後、該ペレットを押出し機1で溶融して製膜するようにしてもよい。また、フィルム構成材料が、融点の異なる複数の材料を含む場合には、融点の低い材料のみが溶融する温度で一旦、ペレットを構成する各成分の粒子あるいは粉末が混合され含まれる成分の一部が溶融し粒子あるいは粉末が互いに結着した、半溶融物を作製し、半溶融物を押出し機1に投入して製膜することも可能である。
フィルム構成材料に熱分解しやすい材料が含まれる場合には、溶融回数を減らす目的で、ペレットを作製せずに直接製膜する方法や、上記のような半溶融物を作ってから製膜する方法が好ましい。
押出し機1は、市場で入手可能な種々の押出し機を使用可能であるが、溶融混練押出し機が好ましく、単軸押出し機でも2軸押出し機でもよい。フィルム構成材料からペレットを作製せずに、直接製膜を行なう場合、適当な混練度が必要であるため2軸押出し機を用いることが好ましいが、単軸押出し機でも、スクリューの形状をマドック型、ユニメルト型、ダルメージ等の混練型のスクリューに変更することにより、適度の混練が得られるので、使用可能である。
フィルム構成材料として、一旦、ペレットやおこし状の半溶融物を使用する場合は、単軸押出し機でも2軸押出し機でも使用可能である。
押出し機1内及び押出した後の冷却工程は、窒素ガス等の不活性ガスで置換するか、あるいは減圧することにより、酸素の濃度を下げることが好ましい。
押出し機1内のフィルム構成材料の溶融温度は、フィルム構成材料の粘度や吐出量、製造するシートの厚み等によって好ましい条件が異なるが、一般的には、フィルムのガラス転移温度Tgに対して、Tg以上、Tg+100℃以下、好ましくはTg+10℃以上、Tg+90℃以下である。押出し時の溶融粘度は、10〜100000ポイズ、好ましくは100〜10000ポイズである。
また、押出し機1内でのフィルム構成材料の滞留時間は短い方が好ましく、5分以内、好ましくは3分以内、より好ましくは2分以内である。滞留時間は、押出し機1の種類、押出す条件にも左右されるが、材料の供給量やスクリューの長さLと径Dの比L/D、スクリュー回転数、スクリューの溝の深さ等を調整することにより短縮することが可能である。
押出し機1のスクリューの形状や回転数等は、フィルム構成材料の粘度や吐出量等により適宜選択される。本発明において押出し機1でのせん断速度は、1/秒〜10000/秒、好ましくは5/秒〜1000/秒、より好ましくは10/秒〜100/秒である。
押出し機1としては、一般的にプラスチック成形機として入手可能である。
押出し機1から押し出されたフィルム構成材料は、流延ダイ4に送られ、流延ダイ4のスリットからフィルム状に押し出される。流延ダイ4はシートやフィルムを製造するために用いられるものであれば特に限定はされない。
流延ダイ4の材質としては、ハードクロム、炭化クロム、窒化クロム、炭化チタン、炭窒化チタン、窒化チタン、超鋼、セラミック(タングステンカーバイド、酸化アルミ、酸化クロム)等を溶射もしくはメッキし、表面加工としてバフ、#1000番手以降の砥石を用いるラッピング、#1000番手以上のダイヤモンド砥石を用いる平面切削(切削方向は樹脂の流れ方向に垂直な方向)、電解研磨、電解複合研磨等の加工を施したもの等が挙げられる。流延ダイ4のリップ部の好ましい材質は、流延ダイ4と同様である。またリップ部の表面精度は0.5S以下が好ましく、0.2S以下がより好ましい。
この流延ダイ4のスリットは、そのギャップが調整可能なように構成されている。これを図3に示す。流延ダイ4のスリット32を形成する一対のリップのうち、一方は剛性の低い変形しやすいフレキシブルリップ33であり、他方は固定リップ34である。そして、多数のヒートボルト35が流延ダイ4の幅方向すなわちスリット32の長さ方向に一定ピッチで配列されている。
各ヒートボルト35には、埋め込み電気ヒータ37と冷却媒体通路とを具えたブロック36が設けられ、各ヒートボルト35が各ブロック36を縦に貫通している。ヒートボルト35の基部はダイ本体31に固定され、先端はフレキシブルリップ33の外面に当接している。
そしてブロック36を常時空冷しながら、埋め込み電気ヒータ37の入力を増減してブロック36の温度を上下させ、これによりヒートボルト35を熱伸縮させて、フレキシブルリップ33を変位させてフィルムの厚さを調整する。ダイ後流の所要箇所に厚さ計を設け、これによって検出されたウェブ厚さ情報を制御装置にフィードバックし、この厚さ情報を制御装置で設定厚み情報と比較し、同装置から来る補正制御量の信号によってヒートボルトの発熱体の電力またはオン率を制御するようにすることもできる。
ヒートボルトは、好ましくは、長さ20〜40cm、直径7〜14mmを有し、複数、例えば数十本のヒートボルトが、好ましくはピッチ20〜40mmで配列されている。ヒートボルトの代わりに、手動で軸方向に前後動させることによりスリットギャップを調節するボルトを主体とするギャップ調節部材を設けてもよい。ギャップ調節部材によって調節されたスリットギャップは、通常200〜1000μm、好ましくは300〜800μm、より好ましくは400〜600μmである。
第1〜第3冷却ロールは、肉厚が20〜30mm程度のシームレスな鋼管製で、表面が鏡面に仕上げられている。その内部には、冷却液を流す配管が配置されており、配管を流れる冷却液によってロール上のフィルムから熱を吸収できるように構成されている。
一方、第1冷却ロール5に当接するタッチロール6は、表面が弾性を有し、第1冷却ロール5への押圧力によって第1冷却ロール5の表面に沿って変形し、第1冷却ロール5との間にニップを形成する。
図4に、タッチロール6の一実施形態(以下、タッチロールA)の概略断面を示す。図に示すように、タッチロールAは、可撓性の金属スリーブ41の内部に弾性ローラ42を配したものである。
金属スリーブ41は厚さ0.3mmのステンレススチール製であり、可撓性を有する。金属スリーブ41が薄すぎると強度が不足し、逆に厚すぎると弾性が不足する。これらのことから、金属スリーブ41の厚さとしては、0.1〜1.5mmが好ましい。弾性ローラ42は、軸受を介して回転自在な金属製の内筒43の表面に弾性体44(ゴム)を設けてロール状としたものである。
そして、タッチロールAが第1冷却ロール5に向けて押圧されると、弾性ローラ42が金属スリーブ41を第1冷却ロール5に押しつけ、金属スリープ41及び弾性ローラ42は第1冷却ロール5の形状になじんだ形状に対応しつつ変形し、第1冷却ロールとの間にニップを形成する。金属スリーブ41の内部で弾性ローラ42との間に形成される空間には、冷却水45が流される。
図5、図6はタッチロールの別の実施形態であるタッチロールBを示している。タッチロールBは、可撓性を有する、シームレスなステンレス鋼管製(厚さ4mm)の外筒51と、この外筒51の内側に同一軸心状に配置された高剛性の金属内筒52とから概略構成されている。外筒51と金属内筒52との間の空間53には、冷却液54が流される。
詳しくは、タッチロールBは、両端の回転軸55a、55bに外筒支持フランジ56a、56bが取付けられ、これら両外筒支持フランジ56a、56bの外周部間に薄肉金属外筒51が取付けられている。
また、一方の回転軸55aの軸心部に形成されて流体戻り通路57を形成する流体排出孔58内に、流体供給管59が同一軸心状に配設され、この流体供給管59が薄肉金属外筒51内の軸心部に配置された流体軸筒60に接続固定されている。
この流体軸筒60の両端部に内筒支持フランジ61a、61bがそれぞれ取り付けられ、これら内筒支持フランジ61a、61bの外周部間から他端側の外筒支持フランジ56bにわたって約15〜20mm程度の肉厚を有する金属内筒52が取付けられている。
そしてこの金属内筒52と薄肉金属外筒51との間に、例えば10mm程度の冷却液の流送空間53が形成され、また金属内筒52に両端部近傍には、流送空間53と内筒支持フランジ61a、61b外側の中間通路62a、62bとを連通する流出口52a及び流入口52bがそれぞれ形成されている。
また、外筒51は、ゴム弾性に近い柔軟性と可撓性、復元性をもたせるために、弾性力学の薄肉円筒理論が適用できる範囲内で薄肉化が図られている。この薄肉円筒理論で評価される可撓性は、肉厚t/ロール半径rで表されており、t/rが小さいほど可撓性が高まる。このタッチロールBではt/r≦0.03の場合に可撓性が最適の条件となる。
一般的に使用されているタッチロールは、ロール径R=200〜500mm(ロール半径r=R/2)、ロール有効幅L=500〜1600mmで、r/L<1で横長の形状である。
例えばロール径R=300mm、ロール有効幅L=1200mmの場合、肉厚tの適正範囲は150mm×0.03=4.5mm以下であるが、溶融シート幅を1300mmに対して平均線圧を98N/cmで挟圧する場合、同一形状のゴムロールと比較して、外筒51の肉厚を3mmとすることで相当ばね定数も等しく、外筒51と冷却ロールとのニップのロール回転方向のニップ幅kも約9mmで、このゴムロールのニップ幅約12mmとほぼ近い値を示し、同じような条件下で挟圧できることが分かる。なお、このニップ幅kにおけるたわみ量は0.05〜0.1mm程度である。
ここで、t/r≦0.03としたが、一般的なロール径R=200〜500mmの場合では、特に2mm≦t≦5mmの範囲とすると、可撓性も十分に得られ、また機械加工による薄肉化も容易に実施でき、極めて実用的な範囲となる。肉厚が2mm以下では加工時の弾性変形で高精度な加工ができない。
この2mm≦t≦5mmの換算値は、一般的なロール径に対して0.008≦t/r≦0.05となるが、実用にあたってはt/r≒0.03の条件下でロール径に比例して肉厚も大きくするとよい。例えばロール径:R=200ではt=2〜3mm、ロール径:R=500ではt=4〜5mmの範囲で選択する。
このタッチロールA、Bは不図示の付勢手段により第1冷却ロールに向けて付勢される。その付勢手段の付勢力をF、ニップにおけるフィルムの、第1冷却ロール5の回転軸に沿った方向の幅Wを除した値F/W(線圧)は、9.8〜147N/cmに設定される。
本発明の実施形態によれば、タッチロールA、Bと第1冷却ロール5との間にニップが形成され、当該ニップをフィルムが通過する間に平面性を矯正すればよい。従って、タッチロールが剛体で構成され、第1冷却ロールとの間にニップが形成されない場合と比べて、小さい線圧で長時間かけてフィルムを挟圧するので、平面性をより確実に矯正することができる。すなわち、線圧が9.8N/cmよりも小さいと、ダイラインを十分に解消することができなくなる。
逆に、線圧が147N/cmよりも大きいと、フィルムがニップを通過しにくくなり、フィルムの厚さにかえってムラができてしまう。
また、タッチロールA、Bの表面を金属で構成することにより、タッチロールの表面がゴムである場合よりもタッチロールA、Bの表面を平滑にすることができるので、平滑性の高いフィルムを得ることができる。なお、弾性ローラ42の弾性体44の材質としては、エチレンプロピレンゴム、ネオプレンゴム、シリコンゴム等を用いることができる。
さて、タッチロール6によってダイラインを良好に解消するためには、タッチロール6がフィルムを挟圧するときのフィルムの粘度が適切な範囲であることが重要となる。また、セルロースエステルは温度による粘度の変化が比較的大きいことが知られている。
従って、タッチロール6がセルロースエステルフィルムを挟圧するときの粘度を適切な範囲に設定するためには、タッチロール6がセルロースエステルフィルムを挟圧するときのフィルムの温度を適切な範囲に設定することが重要となる。
セルロースエステルフィルムのガラス転移温度をTgとしたとき、フィルムがタッチロール6に挟圧される直前のフィルムの温度Tを、Tg<T<Tg+110℃を満たすことが好ましい。フィルム温度TがTgよりも低いとフィルムの粘度が高すぎて、ダイラインを矯正できなくなる。
逆に、フィルムの温度TがTg+110℃よりも高いと、フィルム表面とロールが均一に接着せず、やはりダイラインを矯正することができない。好ましくはTg+10℃<T<Tg+90℃、さらに好ましくはTg+20℃<T<Tg+70℃である。
タッチロール6がセルロースエステルフィルムを挟圧するときのフィルムの温度を適切な範囲に設定するには、流延ダイ4から押し出された溶融物が第1冷却ロール5に接触する位置P1から第1冷却ロール5とタッチロール6とのニップの、第1冷却ロール5の回転方向に沿った長さLを調整すればよい。
第1冷却ロール5、第2冷却ロール7に好ましい材質は、炭素鋼、ステンレス鋼、樹脂、等が挙げられる。また、表面精度は高くすることが好ましく表面粗さとして0.3S以下、より好ましくは0.01S以下とする。
流延ダイ4の開口部(リップ)から第1冷却ロール5までの部分を70kPa以下に減圧させることにより、上記、ダイラインの矯正効果が大きく好ましい。好ましくは、減圧は50〜70kPaである。流延ダイ4の開口部(リップ)から第1冷却ロール5までの部分の圧力を70kPa以下に保つ方法としては、特に制限はないが、流延ダイ4からロール周辺を耐圧部材で覆い、減圧する等の方法がある。
このとき、吸引装置は、装置自体が昇華物の付着場所にならないようヒーターで加熱する等の処置を施すことが好ましい。吸引圧は小さすぎると昇華物を効果的に吸引できないため、適当な吸引圧とする必要がある。
流延ダイ4から溶融状態のフィルム状のセルロースエステル系樹脂を、第1冷却ロール5、第2冷却ロール7、及び第3冷却ロール8に順次密着させて搬送しながら冷却固化させ、未延伸のフィルム10(セルロースエステル系樹脂)を得る。
図1に示す本発明の実施形態では、第3冷却ロール8から剥離ロール9によって剥離した冷却固化された未延伸のフィルム10は、ダンサーロール(フィルム張力調整ロール)
11を経て延伸機12に導き、そこでフィルム10を横方向(幅方向)に延伸する。この延伸により、フィルム中の分子が配向される。
フィルムを幅方向に延伸する方法は、公知のテンター等を好ましく用いることができる。特に延伸方向を幅方向とすることで、偏光フィルムとの積層がロール形態で実施できるので好ましい。幅方向に延伸することで、セルロースエステル系樹脂フィルムからなるセルロースエステルフィルムの遅相軸は幅方向になる。
一方、偏光フィルムの透過軸も、通常、幅方向である。偏光フィルムの透過軸と光学フィルムの遅相軸とが平行になるように積層した偏光板を液晶表示装置に組み込むことで、液晶表示装置の表示コントラストを高くすることができるとともに、良好な視野角が得られるのである。
フィルム構成材料のガラス転移温度Tgはフィルムを構成する材料種及び構成する材料の比率を異ならしめることにより制御できる。セルロースエステルフィルムとして位相差フィルムを作製する場合、Tgは120℃以上、好ましくは135℃以上とすることが好ましい。液晶表示装置においては、画像の表示状態において、装置自身の温度上昇、例えば光源由来の温度上昇によってフィルムの温度環境が変化する。
このときフィルムの使用環境温度よりもフィルムのTgが低いと、延伸によってフィルム内部に固定された分子の配向状態に由来するリターデーション値及びフィルムとしての寸法形状に大きな変化を与えることとなる。フィルムのTgが高過ぎると、フィルム構成材料をフィルム化するとき温度が高くなるために加熱するエネルギー消費が高くなり、またフィルム化するときの材料自身の分解、それによる着色が生じることがあり、従って、Tgは250℃以下が好ましい。
また延伸工程には公知の熱固定条件、冷却、緩和処理を行なってもよく、目的とする光学フィルムに要求される特性を有するように適宜調整すればよい。
位相差フィルムの物性と液晶表示装置の視野角拡大のための位相差フィルムの機能付与するために、上記延伸工程、熱固定処理は適宜選択して行なわれている。このような延伸工程、熱固定処理を含む場合、加熱加圧工程は、それらの延伸工程、熱固定処理の前に行なうようにする。
セルロースエステルフィルムとして位相差フィルムを製造し、さらにセルロースエステルフィルムの機能を複合させる場合、屈折率制御を行う必要が生じるが、その屈折率制御は延伸操作により行なうことが可能であり、また延伸操作が好ましい方法である。以下、その延伸方法について説明する。
位相差フィルムの延伸工程において、セルロース樹脂の1方向に1.0〜2.0倍及びフィルム面内にそれと直交する方向に1.01〜2.5倍延伸することで、必要とされるリターデーションRo及びRthを制御したり、平面性を改善することができる。
ここで、Roとは面内リターデーションを示し、面内の長手方向MDの屈折率と幅方向TDの屈折率との差に厚みを乗じたもの、Rthとは厚み方向リターデーションを示し、面内の屈折率(長手方向MDと幅方向TDの平均)と厚み方向の屈折率との差に厚みを乗じたものである。
延伸は、例えばフィルムの長手方向及びそれとフィルム面内で直交する方向、即ち幅方向に対して、逐次または同時に行なうことができる。このとき少なくとも1方向に対しての延伸倍率が小さ過ぎると十分な位相差が得られず、大き過ぎると延伸が困難となりフィルム破断が発生してしまう場合がある。
互いに直交する2軸方向に延伸することは、フィルムの屈折率nx、ny、nzを所定の範囲に入れるために有効な方法である。ここで、nxとは長手MD方向の屈折率、nyとは幅手TD方向の屈折率、nzとは厚み方向の屈折率である。
例えば溶融流延方向に延伸した場合、幅方向の収縮が大き過ぎると、nzの値が大きくなり過ぎてしまう。この場合、フィルムの幅収縮を抑制、あるいは幅方向にも延伸することで改善できる。幅方向に延伸する場合、幅方向で屈折率に分布が生じることがある。
この分布は、テンター法を用いた場合に現れることがあり、フィルムを幅方向に延伸したことで、フィルム中央部に収縮力が発生し、端部は固定されていることにより生じる現象で、いわゆるボーイング現象と呼ばれるものと考えられる。この場合でも、流延方向に延伸することで、ボーイング現象を抑制でき、幅方向の位相差の分布を少なくできる。
互いに直行する2軸方向に延伸することにより、得られるフィルムの膜厚変動が減少できる。位相差フィルムの膜厚変動が大き過ぎると位相差のムラとなり、液晶ディスプレイに用いたとき着色等のムラが問題となることがある。
セルロースエステルフィルムの膜厚変動は、±3%、さらに±1%の範囲とすることが好ましい。以上のような目的において、互いに直交する2軸方向に延伸する方法は有効であり、互いに直交する2軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的には流延方向に1.0〜2.0倍、幅方向に1.01〜2.5倍の範囲とすることが好ましく、流延方向に1.01〜1.5倍、幅方向に1.05〜2.0倍に範囲で行なうことが必要とされるリターデーション値を得るためにより好ましい。
長手方向に偏光子の吸収軸が存在する場合、幅方向に偏光子の透過軸が一致することになる。長尺状の偏光板を得るためには、位相差フィルムは、幅方向に遅相軸を得るように延伸することが好ましい。
応力に対して、正の複屈折を得るセルロースエステルを用いる場合、上述の構成から、幅方向に延伸することで、位相差フィルムの遅相軸が幅方向に付与することができる。この場合、表示品質の向上のためには、位相差フィルムの遅相軸が、幅方向にあるほうが好ましく、目的とするリターデーション値を得るためには、
式、(幅方向の延伸倍率)>(流延方向の延伸倍率)
の条件を満たすことが必要である。
延伸後、フィルムの端部をスリッター13により製品となる幅にスリットして裁ち落とした後、エンボスリング14及びバックロール15よりなるナール加工装置によりナール加工(エンボッシング加工)をフィルム両端部に施し、巻取り装置16によって巻き取ることにより、セルロースエステルフィルムの元巻きF中の貼り付きや、すり傷の発生を防止する。
ナール加工の方法は、凸凹のパターンを側面に有する金属リングを加熱や加圧により加工することができる。なお、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、変形しており、フィルム製品として使用できないので、切除されて、原料として再利用される。
次に、フィルムの巻取り工程は、円筒形巻きフィルムの外周面とこれの直前の移動式搬送ロールの外周面との間の最短距離を一定に保持しながらフィルムを巻取りロールに巻き取るものである。かつ巻取りロールの手前には、フィルムの表面電位を除去または低減する除電ブロア等の手段が設けられている。
巻き取り装置は一般的に使用されているものでよく、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等の巻き取り方法で巻き取ることができる。なお、セルロースエステルフィルムの巻取り時の初期巻取り張力が90.2〜300.8N/mであるのが好ましい。
フィルムの巻き取り工程では、温度20〜30℃、湿度20〜60%RHの環境条件にて、フィルムを巻き取ることが好ましい。このように、フィルムの巻き取り工程での温度及び湿度を規定することにより、厚み方向リターデーション(Rth)の湿度変化の耐性が向上する。
巻き取り工程における温度が20℃未満であれば、シワが発生し、フィルム巻品質劣化のため実用に耐えないので、好ましくない。フィルムの巻き取り工程における温度が30℃を超えると、やはりシワが発生し、フィルム巻品質劣化のため実用に耐えないので、好ましくない。
また、フィルムの巻き取り工程における湿度が20%RH未満であれば、帯電しやすく、フィルム巻品質劣化のため実用に耐えないので、好ましくない。フィルムの巻き取り工程における湿度が60%RHを超えると、巻品質、貼り付き故障、搬送性が劣化するので、好ましくない。
セルロースエステルフィルムをロール状に巻き取る際の、巻きコアとしては、円筒上のコアであれは、どのような材質のものであってもよいが、好ましくは中空プラスチックコアであり、プラスチック材料としては加熱処理温度にも耐える耐熱性プラスチックであればどのようなものであってもよく、フェノール樹脂、キシレン樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げられる。
またガラス繊維等の充填材により強化した熱硬化性樹脂が好ましい。例えば、中空プラスチックコア:FRP製の外径6インチ(以下、インチは2.54cmを表す。)、内径5インチの巻きコアが用いられる。
これらの巻きコアへの巻き数は、100巻き以上であることが好ましく、500巻き以上であることがさらに好ましく、巻き厚は5cm以上であることが好ましく、長さでは500〜10000mであり、本発明のフィルムの幅は1〜5mであることが好ましく、特に好ましくは1.5〜4mである。
広幅のフィルムを製膜して、巻き取りの前にフィルムにスリット加工して2〜3本のロールフィルムを得ることも好ましく行われる。
製膜工程において、カットされたフィルム両端のクリップ把持部分は、粉砕処理された後、あるいは必要に応じて造粒処理を行なった後、同じ品種のフィルム用原料としてまたは異なる品種のフィルム用原料として再利用してもよい。
<光学フィルム>
本発明に係るセルロースエステルフィルムは、液晶表示装置における偏光板保護フィルムまたは位相差フィルム等の光学フィルムとして用いることができる。
<<偏光板保護フィルム>>
偏光板保護フィルムの厚さは、10〜500μmが好ましい。特に20〜150μmが好ましく、特に好ましい範囲は25〜90μmである。偏光板保護保護フィルムが厚いと、偏光板加工後の偏光板が厚くなり過ぎ、ノート型パソコンやモバイル型電子機器に用いる液晶表示においては、特に薄型軽量の目的に適さない。
一方、偏光板保護フィルムが薄いと、リターデーションの発現が困難となり、加えてフィルムの透湿性が高くなり、偏光子を湿度から保護する能力が低下してしまうことがある。
偏光板保護フィルムの遅相軸または進相軸がフィルム面内に存在し、製膜方向とのなす角度をθ1とすると、θ1は−1〜+1°、好ましくは−0.5〜+0.5°となるようにすることが好ましい。特に位相差機能を付与する場合は、−0.1〜+0.1°であることが好ましい。
このθ1は配向角として定義でき、θ1の測定は、自動複屈折計KOBRA−21ADH(王子計測機器社製)を用いて行なうことができる。
θ1が各々上記関係を満たすことは、表示画像において高い輝度を得ること、光漏れを抑制または防止することに寄与し、カラー液晶表示装置においては忠実な色再現に寄与する。
本発明に係るセルロースエステルフィルムを偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法、例えば、ロールトゥロールで作製することができる。
得られたセルロースエステルフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全鹸化ポリビニルアルコール水溶液を用いて、偏光子の両面に偏光板保護フィルムを貼り合わせる方法があり、少なくとも片面に本発明の偏光板保護フィルムが偏光子に直接貼合する。
もう一方の面にも本発明のセルロースエステルフィルムを偏光板保護フィルムとして用いることができる。あるいは、溶液流延法で製造された市販のセルロースエステルフィルム(コニカミノルタタックKC8UX2M、KC4UX、KC5UX、KC4UY、KC8UY、KC12UR、KC8UCR−3、KC8UCR−4、KC8UCR−5、KC4CR、KC4UE、KC8UE、KC8UY−HA、KC8UX−RHA(以上、コニカミノルタオプト(株)製))、あるいはポリエステルフィルム、シクロオレフィン系樹脂フィルム(ゼオノアフィルム(日本ゼオン社製)、アートンフィルム(JSR社製))などの膜厚10〜150μmのフィルムを用いることもできる。
上記アルカリ処理の代わりに特開平6−94915号公報、同6−118232号公報に記載されているような易接着加工を施して偏光板加工を行なってもよいし、コロナ放電処理やプラズマ処理などを施すこともできる。
偏光板は偏光子及びその両面を保護する偏光板保護フィルムで構成されており、さらに該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成することができる。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。
この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶セルへ貼合する面側に用いられる。
なお、偏光板の主たる構成要素である偏光子とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムであり好ましく用いられる。これはポリビニルアルコールあるいはエチレン単位の含有量1〜4モル%、重合度2000〜4000、けん化度99.0〜99.99モル%であるエチレン変性ポリビニルアルコールなどのポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素あるいは二色性染料で染色したものがある。
該偏光子は、ポリビニルアルコール系フィルムを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが好ましく用いられる。
該偏光子の面上に、偏光板保護フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。偏光子の膜厚としては、5〜30μmのものが好ましく用いられる。
<<位相差フィルム>>
本発明に係るセルロースエステルフィルムは位相差フィルムとしても好ましく用いることができる。位相差フィルムがマルチドメイン化されたVAモードに用いられるとき、位相差フィルムの配置は、位相差フィルムの進相軸がθ1として上記領域に配置することで、表示画質の向上に寄与し、偏光板及び液晶表示装置としてMVAモードとしたとき、例えば図7に示される構成をとることができる。
図7において、21a、21bは保護フィルム、22a、22bは位相差フィルム、25a、25bは偏光子、23a、23bはフィルムの遅相軸方向、24a、24bは偏光子の透過軸方向、26a、26bは偏光板、27は液晶セル、29は液晶表示装置を示している。
セルロースエステルフィルムの面内方向のリターデーションRo分布は、5%以下に調整することが好ましく、より好ましくは2%以下であり、特に好ましくは、1.5%以下である。また、フィルムの厚み方向のリターデーションRth分布を10%以下に調整することが好ましいが、さらに好ましくは、2%以下であり、特に好ましくは、1.5%以下である。
位相差フィルムにおいて、リターデーション値の分布変動が小さい方が好ましく、液晶表示装置に位相差フィルムを含む偏光板を用いるとき、該リターデーション分布変動が小さいことが色ムラ等を防止する観点で好ましい。
位相差フィルムを、VAモードまたはTNモードの液晶セルの表示品質の向上に適したリターデーション値を有するように調整し、特にVAモードとして上記のマルチドメインに分割してMVAモードに好ましく用いられるようにするには、面内リターデーションRoを30nmよりも大きく、95nm以下に、かつ厚み方向リターデーションRthを70nmよりも大きく、400nm以下の値に調整することが求められる。
上記の面内リターデーションRoは、2枚の偏光板がクロスニコルに配置され、偏光板の間に液晶セルが配置された、例えば図7に示す構成であるときに、表示面の法線方向から観察するときを基準にしてクロスニコル状態にあるとき、表示面の法線から斜めに観察したとき、偏光板のクロスニコル状態からのずれが生じ、これが要因となる光漏れを、主に補償する。
厚さ方向のリターデーションは、上記TNモードやVAモード、特にMVAモードにおいて液晶セルが黒表示状態であるときに、同様に斜めから見たときに認められる液晶セルの複屈折を主に補償するために寄与する。
図7に示すように、液晶表示装置において、液晶セルの上下に偏光板が二枚配置された構成である場合、図中の22a及び22bは、厚み方向リターデーションRthの配分を選択することができ、上記範囲を満たしかつ厚み方向リターデーションRthの両者の合計値が140nmよりも大きくかつ500nm以下にすることが好ましい。
このとき22a及び22bの面内リターデーションRo、厚み方向リターデーションRthが両者同じであることが、工業的な偏光板の生産性向上において好ましい。特に好ましくは面内リターデーションRoが35nmよりも大きくかつ65nm以下であり、かつ厚み方向リターデーションRthが90nmよりも大きく180nm以下で、図7の構成でMVAモードの液晶セルに適用することである。
液晶表示装置において、一方の偏光板に例えば市販の偏光板保護フィルムとして面内リターデーションRo=0〜4nm及び厚み方向リターデーションRth=20〜50nmで厚さ35〜85μmのTACフィルムが、例えば図7の22bの位置で使用されている場合、他方の偏光板に配置される偏光フィルム、例えば、図7の22aに配置する位相差フィルムは、面内リターデーションRoが30nmよりも大きく95nm以下であり、かつ厚み方向リターデーションRthが140nmよりも大きく400nm以下であるものを使用するようにする。表示品質が向上し、かつフィルムの生産面からも好ましい。
一般に位相差フィルムでは、上述のリターデーション値としてRoまたはRthの変動が少ないことが安定した光学特性を得るために求められている。特に複屈折モードの液晶表示装置は、これらの変動が画像のムラを引き起こす原因となることがある。
本発明により得られる製造的効果は、特に100m以上の長尺の巻物においてより顕著となり、1500m、2500m、5000m、10000mとより長尺化する程、偏光板製造の製造的効果を得る。
<液晶表示装置>
本発明に係る偏光板保護フィルム(位相差フィルムも兼ねる)を含む偏光板は、通常の偏光板と比較して高い表示品質を発現させることができ、特にマルチドメイン型の液晶表示装置、より好ましくは複屈折モードによってマルチドメイン型の液晶表示装置への使用に適している。
本発明の偏光板は、MVA(Multi−domein Vertical Alignment)モード、PVA(Patterned Vertical Alignment)モード、CPA(Continuous Pinwheel Alignment)モード、OCB(Optical Compensated Bend)モード、IPSモード等に用いることができ、特定の液晶モード、偏光板の配置に限定されるものではない。
液晶表示装置はカラー化及び動画表示用の装置としても応用されつつあり、本発明により表示品質が改良され、コントラストの改善や偏光板の耐久性が向上したことにより、目が疲れにくく忠実な動画像表示が可能となる。
位相差フィルムを含む偏光板を少なくとも含む液晶表示装置においては、本発明に係る偏光板保護フィルムを含む偏光板を、液晶セルに対して、一枚配置するか、あるいは液晶セルの両側に二枚配置する。このとき偏光板に含まれる本発明に係る偏光板保護フィルム側が液晶表示装置の液晶セルに面するように用いることで表示品質の向上に寄与できる。図7においては22a及び22bのフィルムが液晶表示装置の液晶セルに面することになる。
このような構成において、偏光板保護フィルムは、液晶セルを光学的に補償することができる。
本発明の偏光板を液晶表示装置に用いる場合は、液晶表示装置の偏光板の内の少なくとも一つの偏光板を、本発明の偏光板とすればよい。本発明の偏光板を用いることで、表示品質が向上し、視野角特性に優れた液晶表示装置が提供できる。
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例1
<セルロースエステルの合成>
特表平6−501040号公報の例Bを参考にして、プロピオン酸、酪酸、酢酸の添加量を調整して、アセチル基置換度、プロピオニル基置換度、ブチリル基置換度を下記のように変化させた6種類のセルロースエステルを合成した。
C−1:アセチル基置換度1.30、プロピオニル基置換度1.30、総アシル基置換度2.60
C−2:アセチル基置換度1.40、プロピオニル基置換度1.40、総アシル基置換度2.80
C−3:アセチル基置換度1.30、プロピオニル基置換度1.25、総アシル基置換度2.55
C−4:アセチル基置換度1.50、プロピオニル基置換度1.20、総アシル基置換度2.70
C−5:アセチル基置換度0.20、プロピオニル基置換度2.60、総アシル基置換度2.80
C−6:アセチル基置換度1.45.ブチリル基置換度1.35、総アシル基置換度2.80
得られたセルロースエステルの置換度は、ASTM−D817−96に基づいて算出した。
<アクリルポリマーAP1〜AP8の合成>
<<AP1〜AP6の合成>>
攪拌機、2個の滴下ロート、ガス導入管および温度計の付いたガラスフラスコに、表1記載の種類及び比率のモノマー混合液40g、連鎖移動剤のメルカプトプロピオン酸3.0gおよびトルエン30gを仕込み、90℃に昇温した。その後、一方の滴下ロートから、表1記載の種類及び比率のモノマー混合液60gを3時間かけて滴下すると共に、同時にもう一方のロートからトルエン14gに溶解したアゾビスイソブチロニトリル0.6gを3時間かけて滴下した。
その後更に、トルエン56gに溶解したアゾビスイソブチロニトリル0.6gを2時間かけて滴下した後、更に2時間反応を継続させ、AP1を得た。
次いで、AP1の合成において、連鎖移動剤のメルカプトプロピオン酸の添加量を変えて同様の合成を行い、AP2〜AP6およびAP6aを得た。
該AP1〜AP6およびAP6aの重量平均分子量は下記測定法により表1に示した。
なお、表1記載の、MA、MMA、HEMA、及びHEAはそれぞれ以下の化合物の略称である。
MA :メチルアクリレート
MMA:メチルメタクリレート
HEMA:2−ヒドロキシエチルメタクリレート
HEA:2−ヒドロキシエチルアクリレート
(分子量測定)
重量平均分子量の測定は、高速液体クロマトグラフィーを用いて測定した。
測定条件は以下の通りである。
溶媒: メチレンクロライド
カラム: Shodex K806,K805,K803G(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度: 0.1質量%
検出器: RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ: L6000(日立製作所(株)製)
流量: 1.0ml/min
校正曲線: 標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=1000000〜500迄の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。
<<AP7、AP8の合成>>
特開2000−128911号公報に記載の重合方法により塊状重合を行った。すなわち、攪拌機、窒素ガス導入管、温度計、投入口及び環流冷却管を備えたフラスコにモノマーとして下記メチルアクリレートを投入し、窒素ガスを導入してフラスコ内を窒素ガスで換した下記チオグリセロールを攪拌下添加した。
チオグリセロール添加後、4時間重合を行い、内容物を室温に戻し、それにベンゾキノン5質量%テトラヒドロフラン溶液を20質量部添加し、重合を停止させた。内容物をエバポレーターに移し、80℃で減圧下、テトラヒドロフラン、残存モノマー及び残存チオグリセロールを除去し、アクリルポリマーAP7からAP9を得た。
(セルロースエスエルフィルム101の作製)
前記のセルロースエステルC−1を130℃で1時間乾燥空気中で熱処理し、乾燥空気中で室温まで放冷した。乾燥したセルロース樹脂88質量部に対して、表2,3,4,5に記載のように糖エステル化合物8質量部、アクリル系ポリマーを4質量部、及び酸化防止剤AO−1を0.5質量部添加混合し、押出し機を用い230℃に加熱してペレットを作製し放冷した。
得られたペレットは空気を流通させた熱風乾燥器を用いて80℃で5時間乾燥させて水分を除去した。次いで、前記ペレットを用いて、リップ幅1.5mのコートハンガータイプのTダイを有する単軸押出し機(三菱重工業株式会社製:スクリュー径90mm、Tダイリップ部材質は炭化タングステン)を用いて溶融押出しにて成形してセルロースエステルフィルムを製造した。
押出し成形はクラス10000以下のクリーンルーム内で、溶融温度250℃、Tダイ温度245℃の成形条件にて行った。得られたフィルムは長手方向に1.10倍に延伸し次いで、テンター装置を用いて幅手方向に1.20倍に延伸し、膜厚80μm、長さ3000m、幅1.5mのセルロースエステルフィルムを得た。
フィルム両端部には幅1cm、平均高さ8μmのナーリング加工を施して巻き取り、セルロースエステルフィルム(偏光板保護フィルム)試料101を作製した。
さらに、表2,3,4,5に記載の添加剤、添加量に変更する以外は、試料101と同様な方法で、セルロースエステルフィルム(偏光板保護フィルム)試料102−153及び、比較のセルロースエステルフィルム(偏光板保護フィルム)試料154−156を作製した。
尚、試料135、136は更に、長手方向に1.20倍、幅手方向に1.70倍に延伸し、膜厚40μmのセルロースエステルフィルムに変更した。
添加剤の添加量はフィルム中の固形分の総計が100となるようにセルロースエステルの添加量を調整した。常温で液体の添加剤については、2軸押し出し機に入る直前でフィーダーによって添加した。
但し、着色剤についてはセルロースエステルに対する量をppmで記載している。
尚、試料作製に用いた添加剤、紫外線吸収剤は以下の通りである。
AO−1 Irganox1010
<着色指標のYI値>
U−3200(日立製作所製)を用い、JIS−K7103に定められているフィルムのYI(Yellow Index:黄色味の指数)を下記式により求めた。
YI=100(1.28X−1.06Z)/Y
ここでX、Y及びZはJIS−Z8701に定められた光源色の三刺激値を表す。
<透明性>
各フィルムの透明性の評価は、ヘイズ値をもって評価した。作製した試料について、ヘイズ計(1001DP型、日本電色工業(株)製)を用いて測定した結果から、試料の厚さが80μmの場合のヘイズの値に換算して評価した。
尚、評価結果は各ヘイズ値について以下のランク分けで示した。
◎ 0.5%未満
○ 0.5〜1.0%未満
△ 1.0〜1.5未満
× 1.5〜2.0%未満
×× 2.0%以上
<リタデーションRthばらつき>
得られたフィルム試料の幅手方向に1cm間隔でリタデーションを測定し、得られたリタデーションの変動係数(CV)で表したものである。測定には自動複屈折計KOBURA−21ADH(王子計測器(株)製)を用いて、23℃、55%RHの環境下で、波長が590nmにおいて、試料の幅手方向に1cm間隔で3次元複屈折率測定を行った。
得られた面内および厚み方向のリタデーションをそれぞれ(n−1)法による標準偏差をもとめた。リタデーション分布は以下で示される変動係数(CV)を求め、指標とした。実際の測定に当たっては、nとしては、130に設定した。
変動係数(CV)=標準偏差/リタデーション平均値
◎:ばらつきが(CV)が1.5%未満
○:ばらつき(CV)が1.5%以上5%未満
△:ばらつき(CV)が5%以上、10%未満
×:ばらつき(CV)が10%以上
<湿度変化に対するリターデーション値変動>
作製した偏光板保護フィルムの以下に記載の湿度条件違いでのリターデーション値を各々求め、その値からRth(a)として変動値を求めた。
先ず試料を23℃、20%RHにて5時間調湿した後、同環境で測定したRt値を測定しこれをRth(b)とし、次に同じフィルムを続けて23℃、80%RHにて5時間調湿した後、同環境で測定したRt値を求めこれをRth(c)とし、下記の式よりRth(a)を求めた。
Rth(a)=|Rth(b)−Rth(c)|
更に調湿後の試料を再度23℃20%RHの環境にて測定を行い、この変動が可逆変動であることを確認した。
表6、7より、本発明に係る本発明に係る、フラノース構造もしくはピラノース構造を有する化合物、及びアクリル系ポリマーを含有するセルロースエステルフィルム(偏光板保護フィルム)試料101〜153は、着色指標のYI値と幅手方向のリターデーションのむら、更に湿度変動に対するリターデーション値変動も同時に改良されていることが判る。
実施例2
<偏光板の作製および評価>
上記作製したセルロースエステルフィルム(偏光板保護フィルム)試料101〜156を使って、下記に記載するアルカリケン化処理を行い偏光板を作製した。次に、液晶表示装置に組込みコントラスト並びに視野角の変動の評価を行った。
<<アルカリケン化処理>>
ケン化工程 2M−NaOH 50℃ 90秒
水洗工程 水 30℃ 45秒
中和工程 10質量%HCl 30℃ 45秒
水洗工程 水 30℃ 45秒
ケン化処理後、水洗、中和、水洗の順に行い、次いで80℃で乾燥を行った。
<<偏光板P101〜P156の作製>>
厚さ120μmの長尺ロールポリビニルアルコールフィルムを沃素1質量部、ホウ酸4質量部を含む水溶液100質量部に浸漬し、50℃で5倍に搬送方向に延伸して偏光膜を作った。次に、この偏光膜の片面にアルカリケン化処理した前記セルロースエステルフィルム(偏光板保護フィルム)試料101〜156を完全ケン化型ポリビニルアルコール5%水溶液を接着剤として貼り、更に偏光膜のもう一方の膜に同様にアルカリケン化処理したコニカミノルタオプト社製KC8UXを貼り合わせ、乾燥して偏光板P101〜P156を作製した。
<<液晶表示装置の作製>>
VA型液晶表示装置である富士通製15型ディスプレイVL−150SDの予め貼合されていた視認側の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板P101〜P156をそれぞれ試料101〜156側を液晶セル(VA型)のガラス面に貼合し、液晶表示装置101〜156を作製した。その際偏光板の貼合の向きは予め貼合されていた偏光板と同一方向に吸収軸が向くように行った。
<正面コントラストムラ>
23℃55%RHの環境で、各々の液晶表示装置のバックライトを1週間連続点灯した後、測定を行った。測定にはELDIM社製EZ−Contrast160Dを用いて、液晶表示装置で白表示と黒表示の表示画面の法線方向からの輝度を測定し、その比を正面コントラストとした。
正面コントラスト=(表示装置の法線方向から測定した白表示の輝度)
/(表示装置の法線方向から測定した黒表示の輝度)
液晶表示装置の任意の5点の正面コントラストを測定し、以下の基準にて評価した。
A:正面コントラストが0〜5%未満のばらつきであり、ムラが小さい
B:正面コントラストが5〜10%未満のばらつきであり、ムラがややある
C:正面コントラストが10%以上のばらつきであり、ムラが大きい
<視野角の変動>
液晶表示装置の視野角が湿度条件により変動するか否かを目視観察にて評価した。評価条件は、23℃20%、23℃55%、23℃80%にて液晶表示装置を当該環境に5時間置いて
観測を行った。尚、評価は下に従い採点を行った。
◎:視野角変動が認められない
○:視野角変動が実用上問題ない
△:視野角変動がやや認められる
×:視野角変動が認められる
以上の評価結果を表6、表7に示す。
本発明の液晶表示装置101〜153は、比較の液晶表示装置154〜156に対して、正面コントラストムラもなく、湿度が変動する条件下でも視野角変動のない極めて安定した表示性能を示すことが確認された。

Claims (24)

  1. セルロースエステル、フラノース構造およびピラノース構造から選ばれる少なくとも一種の構造が1ないし12個結合した糖化合物をエステル化した糖エステル化合物、およびアクリル系ポリマーを含有する組成物を用いて、溶融流延法によってセルロースエステルフィルムを製造することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
  2. 前記アクリル系ポリマーの重量平均分子量が500ないし70、000であることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学フィルムの製造方法。
  3. 前記アクリル系ポリマーの前記組成物中の含有量が前記セルロースエステルの含有量に対して0.5ないし35質量%であることを特徴とする請求の範囲第1項または第2項に記載の光学フィルムの製造方法。
  4. 前記アクリル系ポリマーの含有量が前記セルロースエステルに対して1ないし30質量%であることを特徴とする請求の範囲第3項に記載の光学フィルムの製造方法。
  5. 前記セルロースエステルが下記式(A1)および(A2)を同時に満足することを特徴とする請求の範囲第1項ないし第4項のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
    式(A1) 2.0≦X+Y≦3.0
    式(A2) 0.3≦Y≦3.0
    [式中、Xはアセチル基の置換度、Yはプロピオニル基またはブチリル基の置換度である。]
  6. 前記糖化合物が、フラノース構造およびピラノース構造から選ばれる少なくとも一種の構造が1ないし3個結合した糖化合物であることを特徴とする請求の範囲第1項ないし第5項のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
  7. 前記糖化合物がフラノース構造とピラノース構造を両方有することを特徴とする請求の範囲第1項ないし第6項のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
  8. 前記糖化合物がスクロースであることを特徴とする請求の範囲第7項に記載の光学フィルムの製造方法。
  9. 前記糖エステル化合物の前記組成物中の含有量が前記セルロースエステルの含有量に対して0.5ないし35質量%であることを特徴とする請求の範囲第1項ないし第8項のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
  10. 前記組成物が酸化防止剤を含むことを特徴とする請求の範囲第1項ないし第9項のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
  11. 前記酸化防止剤が下記一般式(R)で表される化合物であることを特徴とする請求の範囲第10項に記載の光学フィルムの製造方法。

    [式(R)において、R2ないしR5はおのおの互いに独立して水素原子または置換基を表し、R6は水素原子または置換基を表し、nは1から4を表す。nが1であるとき、R1は置換基を表し、nが2から4であるとき、R1は2ないし4価の連結基を表す。
  12. 前記酸化防止剤が下記一般式(R−1)で表される化合物であることを特徴とする請求の範囲第11項に記載の光学フィルムの製造方法。

    [式中、RからRはおのおの互いに独立して水素原子または置換基を表し、R7からR11はおのおの互いに独立して水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基または炭素原子数1ないし18のアルコキシ基を表す。]
  13. 前記酸化防止剤が下記一般式(C−1)、(C−2)、(C−3)、(C−4)または(C−5)で表される部分構造を分子内に有する化合物であることを特徴とする請求の範囲第10項に記載の光学フィルムの製造方法。

    [式中、Ph1およびPh′1は置換基を表す。]

    [式中、Ph2およびPh′2は置換基を表す。]

    [式中、Ph3は置換基を表す。]

    [式中、Ph4は置換基を表す。]

    [式中、Ph5、Ph′5およびPh″5は置換基を表す。]
  14. 前記酸化防止剤がヒンダードアミン系化合物であることを特徴とする請求の範囲第10項に記載の光学フィルムの製造方法。
  15. 前記酸化防止剤が下記一般式(II)で表される化合物であることを特徴とする請求の範囲第10項に記載の光学フィルムの製造方法。

    [式中、R31からR35は、各々同一または異なり水素原子または炭素数1ないし10のアルキル基を表す。]
  16. 前記組成物が着色剤を含むことを特徴とする請求の範囲第1項ないし第15項のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
  17. 前記着色剤がアントラキノン染料、アゾ染料またはフタロシアニン顔料であることを特徴とする請求の範囲第16項に記載の光学フィルムの製造方法。
  18. 前記組成物をペレット化し、該ペレットを溶融し、流延する工程を有することを特徴とする請求の範囲第1項ないし第17項のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
  19. 溶融流延の後、延伸する工程を含むことを特徴とする請求の範囲第1項ないし第18項のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
  20. 前記延伸する工程が、2軸方向に延伸する工程であることを特徴とする請求の範囲第19項に記載の光学フィルムの製造方法。
  21. 前記延伸する工程が、流延方向に1.0ないし2.0倍、幅方向に1.01ないし2.5倍延伸する工程であることを特徴とする請求の範囲第19項または第20項に記載の光学フィルムの製造方法。
  22. 請求の範囲第1項ないし第21項のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とするセルロースエステルフィルム。
  23. 請求の範囲第22項に記載のセルロースエステルフィルムを偏光板保護フィルムとして用いることを特徴とする偏光板。
  24. 請求の範囲第23項に記載の偏光板を用いることを特徴とする液晶表示装置。
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