JPWO2007074770A1 - 画像解析によって欠陥検査を行う欠陥検査装置 - Google Patents
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Abstract
Description
また、検査対象によっては、欠陥が色の僅かな変化となって現れる場合がある。上述した従来技術では、この種の色の僅かな変化を感度良く検出することが難しく、欠陥検出できないという点で改善の余地があった。
また、本発明の別の目的は、色の僅かな変化となって現れる欠陥を検出する技術を提供することである。
照明部は、検査対象を照明する。
画像取得部は、検査対象のカラー画像信号を取得する。
欠陥検出部は、画像取得部が取得したカラー画像信号に基づいて、検査対象の欠陥を検出する。
成分抽出部は、カラー画像信号を構成する複数の信号成分に基づいて、複数の分析画像を得る。
検出部は、複数の分析画像ごとに検査対象の欠陥検出を行い、分析画像ごとに欠陥候補を検出する。
《2》 なお好ましくは、成分抽出部は、下記6種類の信号成分からなるグループから選択される少なくとも2つの信号成分を画素値として、少なくとも2つの分析画像を得る。
(1)カラー画像信号を構成する3つの信号成分
(2)該信号成分から得られる色相/彩度/明度の3つの信号成分
《3》 また好ましくは、検出部は、分析画像ごとに、欠陥候補の重心位置と縦方向の長さと横方向の長さを求める。
《4》 なお好ましくは、検出部は、予め定められるリファレンス画像の分析画像と、検査対象の分析画像との差異に基づいて、欠陥候補を検出する。
《5》 また好ましくは、検出部は、リファレンス画像の分析画像と、検査対象の分析画像との画像全体の差異が小さくなるように、検査対象の分析画像を全体的にレベル補正する。
《6》 なお好ましくは、検出部は、複数の分析画像ごとに予め設定された閾値を有する。検出部は、リファレンス画像の分析画像と、検査対象の分析画像との差異を、この閾値で判定することによって、欠陥候補を検出する。
《7》 本発明の第2の欠陥検査装置は、照明部、画像取得部、および欠陥検出部を備える。
画像取得部は、検査対象のカラー画像信号を取得する。
欠陥検出部は、画像取得部が取得したカラー画像信号に基づいて、検査対象の欠陥を検出する。
なお、この欠陥検出部は、成分抽出部、および検出部を備える。
検出部は、彩度画像に基づいて検査対象の欠陥検出を行い、欠陥候補を検出する。《8》 なお好ましくは、上記《1》〜《7》のいずれか1項に記載の欠陥検査装置において、顕微鏡光学系、および撮像部を備える。
撮像部は、拡大像を撮像してカラー画像信号を生成する。
上記の画像取得部は、撮像部で生成されるカラー画像信号を取得する。
また、本発明の第2の欠陥検査装置では、彩度画像から欠陥候補を検出する。したがって、色の僅かな変化となって現れる欠陥を、彩度変化として検出することが可能になる。
カラーカメラ1は、顕微鏡100にアダプター接続される。この顕微鏡100の光源Lは、ダイクロイックミラーMと対物レンズ(顕微鏡光学系)Hを介して、検査対象Tを照明する。検査対象Tの反射光は、対物レンズHとダイクロイックミラーMを介して、検査対象Tの拡大像を形成する。
カラーカメラ1は、制御部17からの指示に応じて、検査対象Tの拡大像を撮像して、検査画像3aを生成する。
以下、図1および図2を参照しながら、信号処理の全体的な流れについて説明する。
ステップS1: カラーカメラ1は、RGBからなるカラー画像信号を出力する。画像メモリ2aは、カラーカメラ1から出力される検査画像3a((例えば、検査対象であるシリコンウェハのカラー画像信号)を記憶する。
ステップS2: 画像メモリ2bには、基準となるリファレンス画像3bが入力される。
ステップS3: 色補正処理部5は、検査画像3aとリファレンス画像3bとについて、画像全体の差(色座標差、明度差)を検出する。色補正処理部5は、この色座標差および明度差の両方が許容範囲内の場合、色補正処理部5はステップS5に動作を移行する。一方、色座標差および明度差のいずれかが許容範囲からはみ出す場合、ステップS4に動作を移行する。
ステップS4: 明度差が許容範囲からはみ出した場合、色補正処理部5は、光源Lの明るさを補正して再度検査対象Tの撮像を行う。
ステップS5: フィルタリング処理部4は、検査画像3aの信号成分(RGBなど)を処理して、少なくとも2種類の分析画像6aを生成する。
ステップS6: フィルタリング処理部4は、リファレンス画像3bの信号成分(RGBなど)をステップS5と同様に処理して、分析画像6aに対応する少なくとも2種類の分析画像6bを生成する。
ステップS7: 欠陥検出処理部7は、分析画像6a,6bの局所的な差異を、欠陥判別条件ファイル8に設定される閾値条件で判定して、欠陥候補を選別する。欠陥候補画像6cは、選別された欠陥候補の画像である。
ステップS8: 欠陥選別処理部9は、これら複数の欠陥候補画像6cの欠陥候補について形状パターンと重心位置を検出する。検出された欠陥候補画像6c同士の形状パターンと重心位置を比較し、総てが等しい場合は同一欠陥と判別し、いずれかが異なる場合は別欠陥と判別する。また、欠陥選別処理部9は、判別結果に基づいて欠陥検出画像12aを生成する。
ステップS9: 欠陥分類処理部11は、欠陥検出画像12aの種類を分類条件ファイル10に照会することにより欠陥検出画像12aに写っている欠陥の欠陥要因を決定し、欠陥分類結果情報12bとして出力する。また、欠陥分類部11は欠陥検出画像12aを欠陥変換処理部13へ送る。
ステップS10: 欠陥変換処理部13は、分析画像の種類ごとに生成される欠陥検出画像12aを画像合成して、1枚の画像上に複数種類の欠陥を示す欠陥検出画像12cを生成する。また、欠陥変換処理部13は、欠陥の形状パターンに従って、欠陥検出画像12aに欠陥の輪郭情報を示すラインパターンを付加する。さらに、欠陥変換処理部13は、各欠陥の位置に、欠陥要因を示す色、印、またはリンク情報などのマーキングを施してもよい。
ステップS11: さらに、欠陥変換処理部13は、分析画像の種類ごとに生成される欠陥分類結果情報12bをデータ統合することにより、検査結果情報14を生成する。この検査結果情報14には、例えば、欠陥位置(例えば、検査対象Tの座標又はダイ座標による位置)、欠陥の大きさ(X-Y-Diameter)、検出した色成分、欠陥要因などのデータリストが格納される。
ステップS12: 制御部17は、欠陥検出画像12cを外部のモニタ画面に表示する。モニタ画面上には、上述したマーキングを施した欠陥画像が表示される。
[分析画像の生成について]
次に、上述した分析画像の生成動作について説明する。
フィルタリング処理部4は、検査画像3aの信号成分に基づいて、下記3種類の分析画像をまず生成する。
(1)R画像…検査画像3aのR(赤)の信号成分を画素値とする分析画像
(2)G画像…検査画像3aのG(緑)の信号成分を画素値とする分析画像
(3)B画像…検査画像3aのB(青)の信号成分を画素値とする分析画像
次に、フィルタリング処理部4は、RGBの信号成分に基づいて、例えば下式の計算を実施し、H(色相)、S(彩度),I(明度)の信号成分を抽出する。
(4)H画像…検査画像3aのH(色相)の信号成分を画素値とする分析画像
図3は、欠陥要因別に、どの分析画像を選択すべきかを示す図である。
(5)S画像…検査画像3aのS(彩度)の信号成分を画素値とする分析画像
(6)I画像…検査画像3aのI(明度)の信号成分を画素値とする分析画像
フィルタリング処理部4は、リファレンス画像13bの信号成分についても、上述した6種類の分析画像を生成する。
[欠陥要因と分析画像との関係について]
図3は、欠陥要因別に、どの分析画像を選択すべきかを示す図である。この図3中の○印は、選択すべき分析画像を示す。図3中の−印は、選択の必要が特にない分析画像を示す。
また例えば、検査対象の表面に付いた傷も、検査画像3aに局所的な明暗変化を生じさせる。そのため、R画像、G画像、B画像、およびI画像に生じる局所的な差異を判定することで、傷の欠陥を検出することができる。
また例えば、検査対象の表面の膜厚ムラは、反射光の干渉状態を変化させるために波長変化を生じさせる。そのため、検査画像3aのH画像(色相)とS画像(彩度)に顕著な変化が生じやすい。また、反射光の波長変化の影響は、R画像(長波長域)に顕著に生じやすい。そのため、R画像、H画像、およびS画像に生じる局所的な差異を判定することで、膜厚ムラの欠陥を判別することができる。
以上のように、図3に示す選択指針に従うことによって、フィルタリング処理部4は、検出すべき欠陥要因に応じた適切な分析画像を生成することが可能になる。
[色補正処理部5の動作の特徴]
検査画像3aとリファレンス画像3bには、カラーカメラ1の撮影条件や照明条件などの違いによっても、差異が生じる。そのため、この種の差異を、欠陥要因による差異とを区別して、欠陥候補を決定しなければならない。
色補正処理部5は、この加算値が示す色座標差が最小となるように、検査画像3aに色補正を施す。
なお、加算値が示す明度差が、欠陥判別条件ファイル8に設定される閾値より大きい場合、撮影条件や照明条件を変更する必要があると判断できる。この場合、色補正処理部5は、検査画像3aとリファレンス画像3bとの間で明度差を求める。色補正処理部5は、この明度差を打ち消すように、光源Lの明るさ、またはカラーカメラ1の露光時間を調整する。この状態で、カラーカメラ1は検査対象Tを撮影し直し、新たな検査画像3aを生成する。なお、光源Lの明るさ調整を行う場合は、H成分とS成分については加算値の閾値判定から外すことが好ましい。
[欠陥検出処理部7の動作の特徴]
欠陥判別条件ファイル8には、フィルタリング処理部4が生成した分析画像6a,6bの種類ごとに、その分析画像6a,6bの差異を欠陥判別するための閾値が格納される。この欠陥判別条件ファイル8は、検査対象ごとに実験的に決定することが好ましい。
[欠陥選別処理部9の動作の特徴]
欠陥選別処理部9は、欠陥候補画像6cごとに画像解析を行い、欠陥候補のパターン形状および重心位置を求める。例えば、欠陥選別処理部9は、信号成分R,G,B,H,S,Iの欠陥候補画像6cごとに、欠陥候補を示す画素値(二値画像ならば例えば1)が連続する画素領域について、縦方向の長さ、横方向の長さ、および重心位置を求める。
なお、パターン形状の差や重心位置の差をどこまで一致している見なすかについては、欠陥判別条件ファイル8に予め設定されている誤差許容値によって決定することが好ましい。
実施例1は、検査対象Tがシリコンウェハ上にレジスト膜を設けた場合における膜厚不良、膜厚ムラの領域を欠陥画素として検出する例を示すものである。膜厚不良は、膜厚が厚すぎたり、薄すぎたりすることを意味する。膜厚ムラは、膜厚が均一ではなく、ムラがあることを意味する。
図5[a]〜[c]は、この検査画像(3a)の信号成分RGBを分離抽出して、R画像/G画像/B画像を生成したものである。図5[a]〜[c]に示す欠陥候補画像において、灰色〜白色の領域は、差異を生じた領域(欠陥候補の範囲)である。一方、欠陥候補画像の黒い領域は、差異を生じなかった領域を示す。図6[a]〜[c]には、これらR画像/G画像/B画像の信号波形を示す。
特に重要な点は、図8[c]に示すように、検査画像のH画像に、配線パターン(検査画像の縦ライン)の近傍に生じる局所的な膜厚ムラが、顕著に現れる点である。厳密には、検査画像のS画像についても、図8[a]に示すように、配線パターンの近傍の局所的な膜厚ムラは現れる。しかしながら、S画像については、広域に生じる膜厚ムラの彩度変化に隠されるため、この局所的な膜厚ムラを単純に区別できない。
その結果、R画像とS画像においては、欠陥候補の特徴が全て一致する。この場合、共通する広域の欠陥候補(膜厚ムラ)については、一つの欠陥であると判定できる。
広域の膜厚ムラとは別欠陥であると判定できる。
実施例2は、検査対象Tがシリコンウェハであって、シリコンウェハ上に配線パターンと配線パターン間に酸化膜を設けた場合を例にしている。ここでは、配線パターンの傷、および膜厚の不良を、欠陥検出するものである。
図9には、カラーカメラ1で撮像された検査画像(3a)と、リファレンス画像(3b)とをそのまま比較した結果を示す。図9から明かなように、比較結果(欠陥候補画像)には欠陥候補が検出される。しかしながら、このケースでは、パターンの傷と、膜厚不良とを区別することができない。
その結果、G画像とB画像においては、欠陥候補の特徴が全て一致する。この場合、共通する欠陥候補については、傷による欠陥であると判定できる。
図15は、パターン線幅の変化と、分析画像(R画像/G画像/B画像/S画像)のコントラスト変化との関係を示した図である。検査試料Tの露光量を0.5mJずつ変化させることで、検査試料Tのパターン線幅を徐々に変化させる。これら検査試料Tの内、図15の横軸中央に示すNo.11が最適な露光量で形成されたものである。この図15に示されるように、露光量(パターン線幅)が変化すると、上述した分析画像の中で、S画像のコントラストが最も敏感に変化する。したがって、S画像の変化を検出することで、露光量の欠陥や、パターン線幅の欠陥を高感度に検出することが可能になる。また、コントラストの許容範囲(上限閾値,下限閾値など)を予め定めておけば、露光量やパターン線幅の良否判別が可能になる。
(付記事項)
以上のサイクルを各検査点ごとに繰返すことで検査対象T(例えば、ウェハ表面)に重複する複数の欠陥を確実に検出できる。すなわち、一つのカラー画像から得られる複数の色空間情報を検査情報として用いることができ、人間の目には見えている欠陥を検査装置で検出することができるようになるほか、人間の目では見分けにくい欠陥検出も、色空間情報の差を検査情報として使用することにより検出することができる。
なお、本発明は、その精神または主要な特徴から逸脱することなく、他のいろいろな形で実施することができる。そのため、前述の実施例はあらゆる点で単なる例示に過ぎず、限定的に解釈してはならない。本発明の範囲は、特許請求の範囲によって示すものであって、明細書本文には、なんら拘束されない。さらに、特許請求の範囲の均等範囲に属する変形や変更は、すべて本発明の範囲内のものである。
Claims (8)
- 検査対象を照明する照明部と、
前記検査対象のカラー画像信号を取得する画像取得部と、
前記画像取得部が取得した前記カラー画像信号に基づいて、前記検査対象の欠陥を検出する欠陥検出部とを備え、
前記欠陥検出部は、
前記カラー画像信号を構成する複数の信号成分に基づいて、複数の分析画像を得る成分抽出部と、
複数の前記分析画像ごとに前記検査対象の欠陥検出を行い、前記分析画像ごとに欠陥候補を検出する検出部と、
複数の前記分析画像の間で前記欠陥候補の同一性を判定することにより、前記検査対象の欠陥箇所に複数の欠陥があるか否かを判定する判定部とを備える
ことを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1に記載の欠陥検査装置において、
前記成分抽出部は、
前記カラー画像信号を構成する3つの信号成分と、該信号成分から得られる色相/彩度/明度の3つの信号成分とからなるグループから選択される少なくとも2つの前記信号成分を画素値として、少なくとも2つの前記分析画像を得る
ことを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1または請求項2に記載の欠陥検査装置において、
前記検出部は、
前記分析画像ごとに、前記欠陥候補の重心位置と縦方向の長さと横方向の長さを求め、
前記判定部は、
前記分析画像ごとの前記欠陥候補について、前記重心位置,前記縦方向の長さ、および前記横方向の長さが全て等しいと評価される場合、前記検査対象の欠陥箇所に一つの欠陥が存在すると判定し、
前記重心位置,前記縦方向の長さ、および前記横方向の長さのいずれかが異なると評価される場合、前記検査対象の欠陥箇所に複数の欠陥が存在すると判定する
ことを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の欠陥検査装置において、
前記検出部は、
予め定められるリファレンス画像の分析画像と、前記検査対象の分析画像との差異に基づいて、前記欠陥候補を検出する
ことを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項4に記載の欠陥検査装置において、
前記検出部は、前記リファレンス画像の分析画像と、前記検査対象の分析画像との画像全体の差異が小さくなるように、前記検査対象の分析画像を全体的にレベル補正する
ことを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項4または請求項5に記載の欠陥検査装置において、
前記検出部は、
複数の前記分析画像ごとに予め設定された閾値を有し、
リファレンス画像の分析画像と、前記検査対象の分析画像との差異を、前記閾値で判定することによって、前記欠陥候補を検出する
ことを特徴とする欠陥検査装置。 - 検査対象を照明する照明部と、
前記検査対象のカラー画像信号を取得する画像取得部と、
前記画像取得部が取得した前記カラー画像信号に基づいて、前記検査対象の欠陥を検出する欠陥検出部とを備え、
前記欠陥検出部は、
前記カラー画像信号の彩度に基づいて、彩度に対応する画素値を有する彩度画像を得る成分抽出部と、
前記彩度画像に基づいて前記検査対象の欠陥検出を行い、欠陥候補を検出する検出部とを備える
ことを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1ないし請求項7のいずれか1項に記載の欠陥検査装置において、
前記検査対象の拡大像を形成する顕微鏡光学系と、
前記拡大像を撮像してカラー画像信号を生成する撮像部とを備え、
前記欠陥検査装置の前記画像取得部は、前記撮像部で生成される前記カラー画像信号を取得する
ことを特徴とする欠陥検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007551955A JP5228490B2 (ja) | 2005-12-26 | 2006-12-25 | 画像解析によって欠陥検査を行う欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005372984 | 2005-12-26 | ||
JP2005372984 | 2005-12-26 | ||
JP2007551955A JP5228490B2 (ja) | 2005-12-26 | 2006-12-25 | 画像解析によって欠陥検査を行う欠陥検査装置 |
PCT/JP2006/325773 WO2007074770A1 (ja) | 2005-12-26 | 2006-12-25 | 画像解析によって欠陥検査を行う欠陥検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2007074770A1 true JPWO2007074770A1 (ja) | 2009-06-04 |
JP5228490B2 JP5228490B2 (ja) | 2013-07-03 |
Family
ID=38217990
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007551955A Expired - Fee Related JP5228490B2 (ja) | 2005-12-26 | 2006-12-25 | 画像解析によって欠陥検査を行う欠陥検査装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20080285840A1 (ja) |
JP (1) | JP5228490B2 (ja) |
KR (1) | KR101338576B1 (ja) |
CN (1) | CN101346623B (ja) |
TW (1) | TWI399534B (ja) |
WO (1) | WO2007074770A1 (ja) |
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- 2006-12-25 WO PCT/JP2006/325773 patent/WO2007074770A1/ja active Application Filing
- 2006-12-25 JP JP2007551955A patent/JP5228490B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2006-12-25 CN CN2006800493214A patent/CN101346623B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-12-26 TW TW095148889A patent/TWI399534B/zh not_active IP Right Cessation
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JP5228490B2 (ja) | 2013-07-03 |
KR101338576B1 (ko) | 2013-12-06 |
WO2007074770A1 (ja) | 2007-07-05 |
TWI399534B (zh) | 2013-06-21 |
TW200736599A (en) | 2007-10-01 |
CN101346623B (zh) | 2012-09-05 |
KR20080080998A (ko) | 2008-09-05 |
US20080285840A1 (en) | 2008-11-20 |
CN101346623A (zh) | 2009-01-14 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A521 | Request for written amendment filed |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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