JPWO2006137322A1 - 太陽電池素子および太陽電池素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の実施の形態に係る太陽電池素子の構造を図1および図2を用いて詳細に説明する。なお、図1および図2を含め、全ての図面において示す太陽電池素子の各構成要素の種々のサイズは、必ずしも実際の大きさを反映したものではない。
以下に、本実施の形態に係る太陽電池素子の製造方法を図3と図4を用いて詳細に説明する。以下においては、半導体基板1がp型の導電型を有している場合を例として説明する。
次に、本発明における太陽電池素子の第二の製造方法を説明する。図4は、太陽電池素子10の第二の製造方法の手順を説明するための図である。
なお、本発明は上述の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良等が可能である。
Claims (11)
- a)太陽電池素子形成用の半導体基板の非受光面の上に、アルミニウムを主成分とする集電電極を形成する工程であって、
a-1)アルミニウムを含む集電電極材料層を形成する工程と、
a-2)前記集電電極材料層を焼成することによって前記半導体基板の内部にBSF層を形成するとともに集電電極を得る工程と、
を含む第1工程と、
b)前記集電電極の少なくとも一部を覆うようにパッシベーション膜を形成する第2工程と、
を備えることを特徴とする太陽電池素子の製造方法。 - 請求項1に記載の太陽電池素子の製造方法であって、
前記第1工程が、
a-3)前記集電電極をエッチングすることにより、集電効果を奏する最小限の厚みを有するように前記集電電極を薄層化する工程、
をさらに含むことを特徴とする太陽電池素子の製造方法。 - 太陽電池素子形成用の半導体基板の非受光面の上に、アルミニウムを含む集電電極材料層を形成する第1工程と、
前記集電電極材料層の少なくとも一部を覆うようにパッシベーション膜を形成する第2工程と、
前記集電電極材料層を焼成することによってアルミニウムを主成分とする集電電極を得る第3工程と、
を備えることを特徴とする太陽電池素子の製造方法。 - 請求項3に記載の太陽電池素子の製造方法であって、
前記第1工程では、前記第3工程において集電効果を奏する最小限の厚みを有する前記集電電極が形成されるように、前記集電電極材料層を形成する、
ことを特徴とする太陽電池素子の製造方法。 - 請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の太陽電池素子の製造方法であって、
前記パッシベーション膜を、プラズマCVD法を用いて窒化シリコンにて形成する、
ことを特徴とする太陽電池素子の製造方法。 - 太陽電池素子形成用の半導体基板と、
前記半導体基板の非受光面の上に形成されてなり、アルミニウムを主成分とし、集電効果を奏する最小限の厚みを有する集電電極と、
前記集電電極を覆うパッシベーション膜と、
を備えることを特徴とする太陽電池素子。 - 請求項6に記載の太陽電池素子であって、
前記集電電極が、アルミニウムを含む集電電極材料層を形成したうえで前記集電電極材料層の焼成を行うことによって、前記半導体基板の内部におけるBSF層の形成を伴って形成されたものである、
ことを特徴とする太陽電池素子。 - 請求項7に記載の太陽電池素子であって、
前記集電電極が、前記焼成後にエッチングを行うことにより、前記集電効果を奏する最小限の厚みを有するように形成されてなる、
ことを特徴とする太陽電池素子。 - 請求項6ないし請求項8のいずれかに記載の太陽電池素子であって、
前記集電電極が、前記半導体基板の非受光面の上に部分的に形成されてなり、
前記集電電極の少なくとも一部と導通接続するようにアルミニウムよりも導電率の高い金属材料を主成分とする出力取出電極が形成されている、
ことを特徴とする太陽電池素子。 - 請求項6ないし請求項9のいずれかに記載の太陽電池素子であって、
前記パッシベーション膜が窒化シリコンからなることを特徴とする太陽電池素子。 - 請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の太陽電池素子の製造方法によって製造された太陽電池素子。
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