JPS648815B2 - - Google Patents

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JPS648815B2
JPS648815B2 JP13913480A JP13913480A JPS648815B2 JP S648815 B2 JPS648815 B2 JP S648815B2 JP 13913480 A JP13913480 A JP 13913480A JP 13913480 A JP13913480 A JP 13913480A JP S648815 B2 JPS648815 B2 JP S648815B2
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Japan
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JP13913480A
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Japanese (ja)
Other versions
JPS5763534A (en
Inventor
Katsumasa Sakai
Shigeo Takahashi
Itsuro Hashizume
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
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Publication of JPS5763534A publication Critical patent/JPS5763534A/ja
Publication of JPS648815B2 publication Critical patent/JPS648815B2/ja
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/90—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof prepared by montage processes

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
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JPS5763534A (en) 1982-04-17

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