JPS645734B2 - - Google Patents

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JPS645734B2
JPS645734B2 JP56141739A JP14173981A JPS645734B2 JP S645734 B2 JPS645734 B2 JP S645734B2 JP 56141739 A JP56141739 A JP 56141739A JP 14173981 A JP14173981 A JP 14173981A JP S645734 B2 JPS645734 B2 JP S645734B2
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JP
Japan
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mask
masks
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present
picture tube
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JP56141739A
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English (en)
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JPS5844644A (ja
Inventor
Shigeo Takenaka
Eiji Kanbara
Kazuyuki Kyono
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP56141739A priority Critical patent/JPS5844644A/ja
Priority to EP82108016A priority patent/EP0075147B1/en
Priority to DE8282108016T priority patent/DE3275149D1/de
Priority to US06/413,896 priority patent/US4392914A/en
Publication of JPS5844644A publication Critical patent/JPS5844644A/ja
Publication of JPS645734B2 publication Critical patent/JPS645734B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/46Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
    • H01J29/80Arrangements for controlling the ray or beam after passing the main deflection system, e.g. for post-acceleration or post-concentration, for colour switching
    • H01J29/81Arrangements for controlling the ray or beam after passing the main deflection system, e.g. for post-acceleration or post-concentration, for colour switching using shadow masks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/02Manufacture of electrodes or electrode systems
    • H01J9/14Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
    • H01J9/142Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/10Methods of surface bonding and/or assembly therefor
    • Y10T156/1002Methods of surface bonding and/or assembly therefor with permanent bending or reshaping or surface deformation of self sustaining lamina
    • Y10T156/1043Subsequent to assembly

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はスリクーン面に近接対向して複数枚の
マスクをそれぞれ所定間隔を有して対向せしめ且
つ前記複数枚のマスクの各アパーチヤを電子ビー
ムが通過するように配置した構造を有するカラー
受像管用マスクの製作法に関するものである。
前記構造を有するカラー受像管としてはマスク
集束型カラー受像管が良く知られている。マスク
集束型カラー受像管は前記所定間隔を有して対向
せしめた複数枚のマスクにそれぞれ所定の電位差
を与え、マスクの各アパーチヤを通過する電子ビ
ームに対して静電レンズを形成させることによつ
て電子ビームの利用率を著るして高めることがで
きるもので、この様なマスク集束型カラー受像管
は例えば、実公昭45−4819号公報、実公昭47−
20451号公報、米国特許第2971117号及び米国特許
第3398309号などに示されている。
また前記構造を有するカラー受像管の他の例と
しては特公昭55−2698号公報に示されている様
に、1枚のマスクを具備せるカラー受像管におい
て、マスクの温度上昇によるマスクの熱変形のた
めにおこるミスランデイングを防止するために2
枚のマスクを配置したカラー受像管などがある。
前記マスク集束型カラー受像管や前記ミスラン
デイング防止のための2枚マスクを有するカラー
受像管では、複数枚のマスクの各アパーチヤをマ
スク全面においてそれぞれ対応させて配置した構
造となさねばならないが、この様な構造を有する
マスクの製作は極めて困難である。
例えば特公昭47−28188号公報、特公昭47−
28189号公報などに上記構造を有するマスクの製
作法が提案されているが、これはマスク間全面に
アパーチヤ部を除いてガラス絶縁体を配置するた
めマスクの成形性に欠けることや、上記ガラス絶
縁体部にビーム衝撃による帯電現象がおこりアパ
ーチヤ部を通過するビームに悪影響を与える等実
用性に欠けるものである。これに対し、平坦な複
数枚のフラツトマスクを重ね合せ、同時にプレス
成形することによつて複数枚のマスクの各アパー
チヤをそれぞれ対応させることができる実用的な
マスク成形法が特願昭56−024258号に本発明と同
一出願人により提案されている。
前記マスク成形法において、通常のマスクと同
様のプレス成形を行ない、マスクの周辺部謂ゆる
スカート部を深く折り込んだ場合、成形された複
数枚マスクを所定間隔をもつて固定してもスカー
ト部においては各成形マスクが接触してしまう可
能性がある。
従つて複数枚のマスクの各々に異なつた電位を
印加することができないことや、複数枚のマスク
を同電位にするにしても各マスクが接触している
ため1枚のマスクの温度変化が他のマスクに素速
く伝達してしまうこと等の問題が生ずる。
本発明の目的は、前記マスク成形法において予
め絶縁体を挿入することによつて前記問題点を解
消し実用性に富んだマスク製作法を提供せんとす
ることにある。
以下図面を参照しつつ本発明を詳細に説明す
る。
第1図は、本発明により製作したマスクを適用
した一例でマスク集束型カラー受像管のマスク部
とスリクーン部を示す概略図である。第1図にお
いてパネル1の前面内側には三色の色を発光する
螢光体が規則正しく配列されたスリクーン2が設
けてあり、パネル1の側面内側にはフレーム3を
保持するピン4が設けてある。フレーム3には多
数のアパーチヤ11を有する一枚目のマスク5が
溶接にて固定されており、一枚目のマスク5はス
カート部にて絶縁体フイルム6を介して多数のア
パーチヤ12を有す二枚目のマスク7が機械的に
固定されている。一枚目のマスク5はフレーム3
を介してコネクタ8によつてフアンネル部(図示
せず)よりスリクーン面2と同電位が印加されて
おり、二枚目のマスク7はコネクタ9によつてフ
アンネル部より一枚目のマスク5とは異なつた電
位が印加されている。
マスク部へ入射する電子ビーム10は一枚目の
マスク5のアパーチヤ11を通りレンズ効果をう
けながら二枚目のマスク7のアパーチヤ12を通
つてスリクーン面2に到達し対応する螢光体を衝
撃発光させる。
従つて二枚目のマスク5,7の各アパーチヤ1
1,12はそれぞれ一対に対応しておかねばなら
ない。この様なマスクを形成するため、第2図に
示す様に平坦な2枚のフラツトマスク5,7を定
板13の上に載せ正しく位置決めした後各アパー
チヤ部11,12に例えばパラフイン等を注入固
形化して2枚のフラツトマスクを固定し、次いで
2枚のフラツトマスクを同時にプレス成形してそ
の後前記パラフインを除去する。このとき、第3
図に示す様に平坦なフラツトマスク5,7の間に
はアパーチヤの存在する有効面14の外側15に
絶縁体フイルム16が挿入されている。第3図及
び第4図は第2図のX−X線面の部分拡大図であ
る。ここで絶縁体フイルム16を挿入し易くする
ため、また2枚のフラツトマスクを平坦に保つた
め一枚目のフラツトマスク5の有効面外15は、
エツチングにより絶縁体フイルム15の厚さだけ
薄くされている。
前記絶縁体フイルム16としては成形性が良
く、高温に耐えかつ絶縁性の良いポリイミドフイ
ルムが適当である。このフイルムは1−2−4−
5ベンゼン四カルボン酸=無水物と4−4′ジアミ
ノジフエニルエーテルとのポリイミドで商品名カ
プトンとして市販されているものである。この様
にして形成された2枚の成形マスク5,7は第4
図に示す様に2枚のマスク間にずれや伸びのばら
つきはなく、アパーチヤの存在する有効部14は
2枚のマスク5,7が密着しており有効部外15
は絶縁体フイルム16を介して密着している。こ
の状態で一方のマスクを固定しながら他方のマス
クを所定間隔だけ垂直にずらし固定する。ここで
有効部14の周辺において2枚のマスク5,7の
アパーチヤ11,12がずれているのは、2枚の
マスクを所定記隔だけ保つたとき、ビームの入射
軸に一致する様に設計されているためである。本
実施例においては、前記密着した2枚の成形マス
クのうち一枚目のマスク5をフレーム3に溶接し
て固定し、第5図に示す治具によりフレーム3及
び一枚目のマスク5を固定しながら二枚目のマス
ク7を所定間隔だけ垂直上方へずらし、次いでか
しめることによつて二枚目のマスク7を一枚目の
マスク5に機械的に固定した。
前記実施例の詳細な仕様は、例えばフラツトマ
スクの外形は2枚共約428mm×330mm、有効部は約
383mm×290mm、マスクの板厚は0.30mm、絶縁体フ
イルムの厚さ及び一枚目のマスクの有効面外のエ
ツチング厚さは約0.125mm、成形マスクの有効部
の半径は約740mm〜800mm、スカート部の長さは約
15mmである。この様にして製作したマスクは、2
枚のマスクの各アパーチヤが一対一に対応して形
成され、またアパーチヤの存在するマスクの有効
面内には全く絶縁体は無く、僅かマスクの有効面
外に絶縁体を置くことによつて2枚のマスクは絶
縁されるため絶縁体帯電によるビームへの悪影響
はない等非常に実用性に富んだものとなる。
前記実施例では、2枚のマスクの固定をかしめ
ることによつて行なつているが、本発明はこれに
限らず接着剤を用いてもよいし2枚のマスクに絶
縁棒を通して固定してもよい。或いは、二枚目の
マスクに別途フレームを設け一枚目のマスクを固
定しているフレームとそれぞれ別個にパネルに固
定してもよい。また前記実施例は、2枚のマスク
に異なつた電位を印加して使用するマスク集束型
カラー受像管用マスクについて述べているが、本
発明はこれに限らず2枚のマスクを同電位とする
場合も熱的に2枚のマスクを絶縁する様な場合に
も適用できることは言う迄もない。
さらに前記実施例では、2枚のマスクに間に挿
入する絶縁体を絶縁体フイルムとしポリイミドフ
イルムを使用しているが、本発明はこれに限らず
約400〜500゜の高温に耐える絶縁体であればフイ
ルムである必要はない。例えば他の実施例として
フラツトガラスを用いた場合について説明する。
マスクの有効面外をエツチングにより薄くした一
枚目のマスクを定板の上にのせ前記エツチングを
施こした部分にバインダーにより適度なな粘性を
もたせたフラツトガラスを塗布し、その上に二枚
目のマスクを載せ、前記実施例と同じ様ににアパ
ーチヤの各部にパラフインを注入し固め、同時プ
レスを行ないその後パラスインを除々する。この
とき前記フラツトガラスが流れ出ない様に、また
プレスによりマスク周辺部が変形しない様に前記
エツチングを施した部分の最先端部に前記パラフ
インを注入しておく。さらに前記フリツトガラス
はマスクのプレス成形を行なう前に少し粘性を除
去しておく。さて、この様にして成形した2枚の
マスクは前記実施例と同じ様に一枚目のマスクを
フレームに溶接固定した後治具により二枚目のマ
スクを所定間隔だけずらす。この状態で一枚目の
マスクの上にあるフラツトガラス部から2枚目の
マスクのスカート部の一部を新たにフリツトガラ
スにて覆う。ついで高温炉を通してフラツトガラ
スを固めた後治具からマスクを取りはずすことに
よつて製作する。この様な方法では別途高温炉を
必要とするため経済性、量産性は若干問題となる
が、2枚のマスクは所定間隔をもつてしつかりと
固定されるのでマスクの機械的強度は著るしく強
くなる。
以上の実施例では、2枚のフラツトマスクを固
定するためにパラフインを用いているが、本発明
はこれに限られるものではなく樹脂や接着剤を用
いて固定してもよい。
また以上の実施例では2枚のマスクの場合につ
いて述べているが本発明はこれに限らず2枚以上
のマスクの製作においても同様の方法にて可能で
あることは言う迄もない。
以上の様に本発明によれば、通常のカラー受像
管用マスクと同様に、複数枚のマスクを同時プレ
ス成形し、スカート部を深く折り込んでもそれぞ
れのマスクを電気的に接触させることなく所定間
隔をもつて保持させることができ、実用性に富ん
だマスク部を提供することができるものである。
さらに本発明を利用すれば多くのアパーチヤの存
在するマスク有効面内には全く絶縁体が無いため
ビーム衝撃による絶縁体帯電現象は全く起こらず
アパーチヤを通過するビームへの悪影響はないこ
とや、さらに、通常のカラー受像管用マスクと同
様にスカート部を深く折り込むことができるた
め、余分なスペースが要らないこと、またフレー
ムも従来のフレームを使用することができること
など多くの利点をもつことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明を適用したカラー受像管の一例
を示す部分概略図、第2図は本発明の製造法を説
明するための概略斜視図、第3図及び第4図は同
じく本発明の製造法を説明するための第2図X−
X′線を示す部分拡大断面図、第5図は、同じく
本発明の製造法を説明するための概略図である。 1……パネル、2……スリクーン、3……フレ
ーム、4……ピン、5……第1のマスク、6,1
6……絶縁体フイルム、7……第2のマスク、
8,9……コネクタ、10……電子ビーム、11
……第1のマスクのアパーチヤ、12……第2の
マスクのアパチヤ、13……定板、14……有効
面、15……有効面の外側。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 それぞれ多数のアパーチヤを有する複数枚の
    フラツトマスクを成形し所定の間隔で固定するカ
    ラー受像管用マスクの製作法において、 前記複数枚のフラツトマスクの各マスク間の一
    部に予め絶縁体を挿入し、且つ前記各フラツトマ
    スクの前記多数のアパーチヤの存在する有効部の
    少なくとも一部を密着させた状態で前記複数枚の
    フラツトマスクを同時にプレス成形して所望の曲
    率をもたせその后前記複数マスクの密着を解き各
    マスクの前記多数のアパーチヤの存在する有効部
    を所定の間隔に配して固定保持することを特徴と
    するカラー受像管用マスクの製作法。
JP56141739A 1981-09-10 1981-09-10 カラ−受像管用マスクの製作法 Granted JPS5844644A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56141739A JPS5844644A (ja) 1981-09-10 1981-09-10 カラ−受像管用マスクの製作法
EP82108016A EP0075147B1 (en) 1981-09-10 1982-08-31 Method for manufacturing mask for color crt
DE8282108016T DE3275149D1 (en) 1981-09-10 1982-08-31 Method for manufacturing mask for color crt
US06/413,896 US4392914A (en) 1981-09-10 1982-09-01 Method for manufacturing mask for color CRT

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JP56141739A JPS5844644A (ja) 1981-09-10 1981-09-10 カラ−受像管用マスクの製作法

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Publication Number Publication Date
JPS5844644A JPS5844644A (ja) 1983-03-15
JPS645734B2 true JPS645734B2 (ja) 1989-01-31

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ID=15299072

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