JPS6378340A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

磁気記録媒体の製造方法

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JPS6378340A
JPS6378340A JP22316886A JP22316886A JPS6378340A JP S6378340 A JPS6378340 A JP S6378340A JP 22316886 A JP22316886 A JP 22316886A JP 22316886 A JP22316886 A JP 22316886A JP S6378340 A JPS6378340 A JP S6378340A
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JP
Japan
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vapor deposition
incident angle
magnetic recording
recording medium
thetamin
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JP22316886A
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JPH0799580B2 (ja
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Koichi Shinohara
紘一 篠原
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁
気記録層とする磁気記録媒体の製造方法に関する。
従来の技術 近年、磁気記録の高密度化の要求の高まりと共に、高分
子フィルム上に斜め蒸着法により形成された部分酸化さ
れたC o −N i膜を磁気記録層とした磁気テープ
により、ビデオ信号の記録再生を0.8μmの記録波長
で行い注目され以後各方面で開発が進められている〔電
子通信学会技術報告MRs1.−5(1981))。
上記した磁気テープは、冷却された円筒キャンに沿って
、ポリエチレンテレフタレートフィルム等の高分子フィ
ルムを移動させながら、最大入射角(θrnax> c
通常積極的にθma工を制限することはなく、接線入射
としている〕から最小入射角(0m1n)まで連続的に
入射角が変化する斜め蒸着を行うと共に、雰囲気を酸化
性とすΣことで、磁気特性を改良するようにして製造さ
れる。酸化性ガスとしては酸素ガスがよく用いられ、導
入方法に工夫がされ、θma8部に導入する場合、θm
inに導入する場合の両者共にいくつかの提案がされて
いる〔例えば特開昭58−41442号、同58−41
443号の公報〕。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら上記した構成では、飽和磁束密度を大きく
すると保磁力が小さくなる。面内磁化膜として、反磁界
の影響を出来る限り少なくするため、保磁力は、大きく
する必要があり、一定の磁気特性で信号対雑音比(以下
C/N  と記す)を改良するには表面のより平滑化で
対応しようとすると耐久性の壁にぶつかるといった課題
があり、改善が望まれていた。本発明は上記した事情に
鑑みなされたもので、Cハを改良するため、保磁力と飽
和磁束密度の両方共を大きくできる磁気記録媒体の製造
方法を提供するものである。
問題点を解決するための手段 上記した問題点を解決するため、本発明の磁気記録媒体
の製造方法は、移動する高分子フィルムに斜め蒸着する
磁気記録媒体の製法において、高入射角(θmax)か
ら低入射角(θmiりへと連続的に蒸着する際、θmi
n近くに酸化性ガスを導入すると共にθmax近くに水
素ガスを導入するようにしたものである。
作  用 本発明の磁気記録媒体の製法は上記した方法により、蒸
着速度の大きなθmin近くでは、酸化性ガスが主体と
なり、蒸着速度の小さいθma工近くでは酸化が水素ガ
スにより弱められるので、過剰に酸化が進まないように
できるので、飽和磁束密度を低下させずに十分高い保磁
力を与えることができるのである。
実施例 以下、図面を参照しながら本発明の実施例の磁気記録媒
体の製造方法について詳しく説明する。
図は、本発明の製造方法を実施するのに用いた蒸着装置
の要部構成図である。
図で、1は電子ビーム加熱式の蒸発源で、2は限定され
た蒸気流を模式的に示したもので、3は高分子フィルム
、4は回転支持体、5は送り出し軸、6は巻取り軸、7
は、入射角(0m1n)を限定し、かつθmlユ近くに
酸化性ガスを吹き付けるガス導入機構付マスクで、8は
、θmax近くに水素ガスを導入するためのガス導入ボ
ート、9は真空槽、10は真空排気系、11.12はガ
ス導入調節弁、13はフリーローラーである。
図で回転支持体4の直径を60crnとし、θmin位
置と7のガス導入位置の相対距離を10crn。
θ’ma工の位置と8のガス導入位置の相対距離を10
備とし、蒸発源1を回転支持体4の直下376nに配置
し、本発明の実施例の製造方法により、磁気記録媒体を
製造した。
厚み、10μmのポリエチレンテレフタレートフィルム
上に、co を電子ビーム蒸着により0.13μm蒸着
した。その際、酸化性ガスとして酸素を0.31/mi
n、水素ガスを0.1511/min導入した。
θmax ” 90°、θ、。=400とシタモノヲA
1θ。68吋90°、θmin=30°としたものをB
、比較例は、Cがθ・=30°、Dがθmin ” ”
°で1n 同じ保持力が得られるように酸素導入量を調節した。そ
れぞれを磁気テープとして、記録波長0.7μmを記録
してCハ を測定した。
テープAの磁気特性は保磁力Hcが1300(04)。
飽和磁束密度BSが7500(G) 、テープBはHc
== 1130 (Oo)、 B 3 = 8460 
(G)、テープCはHc= 1160 (Oo)、 B
 3 = 6050 、テープDはHc=1330 (
0,)、 BS = 6005 (G)であり、C/N
は? −7’ Aを0(dB)とすると、テープBは−
0,7(dB)。
テープCは−2,5(dB)、テープDは〜1.9(d
B)であった。
又、8ミリビデオでカラー〇〇/N を比較したところ
、テープAをo (dB)とするとテープBは+1.3
 (dB)、テープCは−2,3(dB)、テープDは
−3,8(dB)であった。
又、本実施例のテープは、湿度の低い環境でのスチル特
性に於て、画面にノイズが発生するまでの耐久性が比較
例の2倍から4倍みられた。これは、水素ガスが結晶成
長の初期に関与して、結晶粒径をそろえるのに効果がで
ているためと思われるもので、この点も利点のひとつで
ある。
本実施例に用いた高分子フィルムはポリエチレンテレフ
タレートとしたが他にポリフェニレンサルフフイド、ポ
リサルフォン、ポリカーボーネート、等でもよく、θ。
2工は90’から700の範囲で適宜選択すればよく、
θ工、nの選択は自由で、θminに導入するガスは酸
素の他にオゾン、水を含む酸素2等でもよく、ガスを加
熱したり、イオン化するのも自由である。
磁気記録層形成に用いられる蒸着材料はCoの他に、C
o −F e 、 Co −N i 、 Co −T 
i 、 Co−Cu、 C。
−Mg、 Co−Mo、 Co−Pb、 Co −P 
t 、 Co −W、 Co −Cr 、 Co−B、
 Co−P等が適している。
発明の効果 以上のように本発明によれば、C/N の改良された高
密度磁気記録用の磁気記録媒体を大量に得ることができ
るといったすぐれた効果がある。 。
【図面の簡単な説明】
図は本発明を実施するために用いた蒸着装置の一例の要
部構成図である。 1・・・・・・蒸発源、3・・・・・・高分子フィルム
、4・・・・・・回転支持体、7・・・・・・ガス導入
機構付マスク、8・・・・・・ガス導入ポート。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名1−
−1℃発源 3−一一島亦子フイル、乙、 4−一一匣軟曳行IT+ 7−−く力゛ス善)♂1壽A寸 マスク 3−−一力゛ス再入ボート

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 移動する高分子フィルムに斜め蒸着する磁気記録媒体の
    製法において、高入射角(θ_m_a_x)から低入射
    角(θ_m_i_n)へと連続的に蒸着する際、θ_m
    _i_n近くに酸化性ガスを導入すると共にθ_m_a
    _x近くに水素ガスを導入することを特徴とする磁気記
    録媒体の製造方法。
JP22316886A 1986-09-19 1986-09-19 磁気記録媒体の製造方法 Expired - Lifetime JPH0799580B2 (ja)

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