JPS6126939A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6126939A JPS6126939A JP14783084A JP14783084A JPS6126939A JP S6126939 A JPS6126939 A JP S6126939A JP 14783084 A JP14783084 A JP 14783084A JP 14783084 A JP14783084 A JP 14783084A JP S6126939 A JPS6126939 A JP S6126939A
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- JP
- Japan
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- film
- magnetic recording
- recording medium
- substrate
- evaporation sources
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- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度磁気記録に適する磁気記録媒体の製造方
法に関する。
法に関する。
従来例の構成とその問題点
近年、膜面に垂直に配向した磁化容易軸を有するＧｏ−
Ｃｒスパッタ膜を利用した磁気記録再生が、記録の高密
度化をより助長するものとして注目さね、研究開発が各
方面で進められている。この磁気記録方式の実用化の鍵
を握るもののひとつに媒体の生産技術の改良が挙げられ
る。
Ｃｒスパッタ膜を利用した磁気記録再生が、記録の高密
度化をより助長するものとして注目さね、研究開発が各
方面で進められている。この磁気記録方式の実用化の鍵
を握るもののひとつに媒体の生産技術の改良が挙げられ
る。
Ｇｏ −Ｃｒスパッタ膜は性能は優れているが、成膜速
度が遅いため、真空蒸着法により垂直磁化膜を得る方法
が検討され一部成功をおさめている。
度が遅いため、真空蒸着法により垂直磁化膜を得る方法
が検討され一部成功をおさめている。
第１図に従来の真空蒸着法を実施するための装置の要部
構成を示した。
構成を示した。
第１図で１は高分子基板、２は巻出し軸、３は巻取り軸
、４は回転支持体、５はＣＯ蒸発源、６はＯｒ蒸発源、
７はマクス、８はマスク開孔スリット、角θは結晶成長
初期のＣＯとＯｒの蒸気の入射角の差を示す角である。
、４は回転支持体、５はＣＯ蒸発源、６はＯｒ蒸発源、
７はマクス、８はマスク開孔スリット、角θは結晶成長
初期のＣＯとＯｒの蒸気の入射角の差を示す角である。
第１図の装置で、ポイントは、４０回転支持体の表面温
度を高温に保つことと、角度θを小きく好ましくは１０
０以下にすることであると主張されていた。
度を高温に保つことと、角度θを小きく好ましくは１０
０以下にすることであると主張されていた。
この主張を実験的に確認することは困難を伴わないが、
長尺の媒体を得る上で、特に長手方向の垂直抗磁力を１
０％以内の精度に保とうとするとこの系では古層４性に
乏しいことがわかった。
長尺の媒体を得る上で、特に長手方向の垂直抗磁力を１
０％以内の精度に保とうとするとこの系では古層４性に
乏しいことがわかった。
垂直抗磁力は媒体の設計から１０％以内には制御する必
要があることから改良が望まれている。
要があることから改良が望まれている。
発明の目的
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、垂直抗磁力を
高精度に制御可能な真空蒸着法による垂直磁化膜の形成
方法を提供するものである。
高精度に制御可能な真空蒸着法による垂直磁化膜の形成
方法を提供するものである。
発明の構成
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、二元蒸発源により
垂直磁化膜を形成する際、基板上に入射する蒸気の間の
なす角度が４０度以上となる組み合わせで初期成膜を行
うことを特徴とし、高抗磁力の垂直磁化膜を精度良く大
面積に渡って得ることのできるものである。
垂直磁化膜を形成する際、基板上に入射する蒸気の間の
なす角度が４０度以上となる組み合わせで初期成膜を行
うことを特徴とし、高抗磁力の垂直磁化膜を精度良く大
面積に渡って得ることのできるものである。
実施例の説明
以下図面全参照しながら本発明を説明する。
第２図は本発明の実施に用いた蒸着装置の要部構成図で
ある。
ある。
第２図で９は高分子基板、１０は巻出し軸、１１は巻取
り軸、１２は回転支持体、１３はＣＯ蒸発源、１４は（
ｌｉｒ蒸発源、１５はマスク、１６はスリットである。
り軸、１２は回転支持体、１３はＣＯ蒸発源、１４は（
ｌｉｒ蒸発源、１５はマスク、１６はスリットである。
第２図で満足すべき条件はスリットの蒸着開始側の端部
でＣＯの蒸気とＯｒ の蒸気の入射角間の関係が角θで
みて、この値が４００以上となるよう設定す慕ことで、
次に、二元蒸発源により合成されるＧｏ −Ｏｒの柱状
結晶がほぼ膜面に垂直になるようスリットの開孔度と蒸
発源との水平方向の位置関係を最適化することである。
でＣＯの蒸気とＯｒ の蒸気の入射角間の関係が角θで
みて、この値が４００以上となるよう設定す慕ことで、
次に、二元蒸発源により合成されるＧｏ −Ｏｒの柱状
結晶がほぼ膜面に垂直になるようスリットの開孔度と蒸
発源との水平方向の位置関係を最適化することである。
本発明の構成と従来例の構成により生ずる効果の差違に
ついて簡単に述べる。
ついて簡単に述べる。
従来は角度θを小さくすることに主眼を置いていた。こ
れは蒸気の入射方向がよりそろうことから垂直配向に有
利に作用すると考えられたからである。しかし蒸着速度
を大きくとるにつれて、逆に垂直抗磁力は長手で変化が
大きくなる欠点が目立ってきた。これはおそらく、気相
中でＣｏとＯｒの蒸気流の相互作用が、蒸発源をより近
接させようとしてむしろ強まり、不安定になることに原
因していたと推察されるものである。それに対して本発
明は、ＣＯとＯｒは高分子基板上で合流すると考えられ
るから、気相中での相互作用は無視でき、安定に成膜で
き、その結果、垂直抗磁力は長手に変動しない利点が生
じるものと思われる。
れは蒸気の入射方向がよりそろうことから垂直配向に有
利に作用すると考えられたからである。しかし蒸着速度
を大きくとるにつれて、逆に垂直抗磁力は長手で変化が
大きくなる欠点が目立ってきた。これはおそらく、気相
中でＣｏとＯｒの蒸気流の相互作用が、蒸発源をより近
接させようとしてむしろ強まり、不安定になることに原
因していたと推察されるものである。それに対して本発
明は、ＣＯとＯｒは高分子基板上で合流すると考えられ
るから、気相中での相互作用は無視でき、安定に成膜で
き、その結果、垂直抗磁力は長手に変動しない利点が生
じるものと思われる。
又本発明の構成でも垂直配向した結晶が得られるのは、
蒸気流のベクトル和として考えることができるものとの
仮説上実験結果がほぼ一致することから、先に述べたよ
うに、２，３の条件出しの実施を行えはよいのである。
蒸気流のベクトル和として考えることができるものとの
仮説上実験結果がほぼ一致することから、先に述べたよ
うに、２，３の条件出しの実施を行えはよいのである。
以上はＣＯとＯｒについて説明したが、これは １便宜
上であって、他の垂直磁化膜として知られるＣｏ−Ｔｉ
、 Ｇｏ −Ｍｏ 、 Ｃｏ −Ｗ 、 ｃｏ −Ｖ
、 Ｇｏ −Ｒｕ 。
上であって、他の垂直磁化膜として知られるＣｏ−Ｔｉ
、 Ｇｏ −Ｍｏ 、 Ｃｏ −Ｗ 、 ｃｏ −Ｖ
、 Ｇｏ −Ｒｕ 。
Ｇｏ −Ｏｓ 、 Ｇｏ −Ｐ 、 Ｇｏ−Ｎｉ−Ｏｒ
等についても同様である。
等についても同様である。
以下、きらに具体的に一実施例を説明する。
直径５０ｃｍの円筒状の回転支持体の表面温度を１６０
℃±３℃に制御し、その周側面に沿わせて １ポリアミ
ドフイルムを移動させて、垂直磁化膜を ・１形成した
。 １入射角
としてＧｏの入射角と、２つの蒸気流の １なす角θを
パラメータに選んで成膜比較した。
℃±３℃に制御し、その周側面に沿わせて １ポリアミ
ドフイルムを移動させて、垂直磁化膜を ・１形成した
。 １入射角
としてＧｏの入射角と、２つの蒸気流の １なす角θを
パラメータに選んで成膜比較した。
垂直抗磁力については任意の２０点（１０００ｍ長に対
して）を測定し、最大と最小値を調べ比較した。
して）を測定し、最大と最小値を調べ比較した。
得られた結果と主な製造条件を次表に捷とめて示した。
本
表より明らかに４０度以上であれば、本発明の目的を達
することができるが４ｏ度から３５度の範囲は、再現性
に乏しいので、４ｏ度以上に選ぶのが好寸しい。
することができるが４ｏ度から３５度の範囲は、再現性
に乏しいので、４ｏ度以上に選ぶのが好寸しい。
成膜速度は０−１６μｍの膜を０ 、 Ｉ Ｓｅａから
０．２Ｓｅａで形成する速さで実施した結果であるが、
他の材料についても、又、更に高速で成膜しても、はぼ
表に示されたと同程度の垂直抗磁力の制御ができること
が確認できた。
０．２Ｓｅａで形成する速さで実施した結果であるが、
他の材料についても、又、更に高速で成膜しても、はぼ
表に示されたと同程度の垂直抗磁力の制御ができること
が確認できた。
本発明は、テープに限らずディスクの製造においても有
用であるのは勿論である。
用であるのは勿論である。
発明の効果
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、二元蒸発源により
基板に夫々入射する蒸気の間のなす角が４０度以上とな
る条件で初期成膜を行うことを特徴とし、垂直抗磁力の
制御精度が優れており、その実用的価値は太きい。
基板に夫々入射する蒸気の間のなす角が４０度以上とな
る条件で初期成膜を行うことを特徴とし、垂直抗磁力の
制御精度が優れており、その実用的価値は太きい。
第１図は従来の蒸着装置の要部構成図、第２図は本発明
の実施に用いた蒸着装置の要部構成図である。 ９・・・・・基板、１３・・・・・・ＣＯ蒸発源、１４
・・・・・Ｏｒ蒸発源。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第・２図 ジ ｆ朶 ￥ Ｉ３／４
の実施に用いた蒸着装置の要部構成図である。 ９・・・・・基板、１３・・・・・・ＣＯ蒸発源、１４
・・・・・Ｏｒ蒸発源。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第・２図 ジ ｆ朶 ￥ Ｉ３／４
Claims (1)
- 二元蒸発源により垂直磁化膜を形成する際、基板上に入
射する蒸気の間のなす角が４０°以上となる組み合わせ
で初期成膜を行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14783084A JPS6126939A (ja) | 1984-07-17 | 1984-07-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14783084A JPS6126939A (ja) | 1984-07-17 | 1984-07-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6126939A true JPS6126939A (ja) | 1986-02-06 |
Family
ID=15439202
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14783084A Pending JPS6126939A (ja) | 1984-07-17 | 1984-07-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6126939A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6414726A (en) * | 1987-07-09 | 1989-01-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of magnetic recording medium |
| JPS6447851A (en) * | 1987-08-18 | 1989-02-22 | Canon Kk | Formation of thin bismuth-titanate film |
| JPS6474248A (en) * | 1987-09-11 | 1989-03-20 | Daihatsu Motor Co Ltd | Resin composition of excellent vibration damping performance |
| US4990550A (en) * | 1988-03-18 | 1991-02-05 | Tonen Sekiyukagaku Kabushiki Kaisha | Fiber-reinforced polymer composition and method of producing same |
| US6844059B2 (en) | 2001-08-07 | 2005-01-18 | Ticona Gmbh | Long-fiber-reinforced polyolefin structure, process for its production, and moldings produced therefrom |
-
1984
- 1984-07-17 JP JP14783084A patent/JPS6126939A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6414726A (en) * | 1987-07-09 | 1989-01-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of magnetic recording medium |
| JPS6447851A (en) * | 1987-08-18 | 1989-02-22 | Canon Kk | Formation of thin bismuth-titanate film |
| JPS6474248A (en) * | 1987-09-11 | 1989-03-20 | Daihatsu Motor Co Ltd | Resin composition of excellent vibration damping performance |
| US4990550A (en) * | 1988-03-18 | 1991-02-05 | Tonen Sekiyukagaku Kabushiki Kaisha | Fiber-reinforced polymer composition and method of producing same |
| US5106564A (en) * | 1988-03-18 | 1992-04-21 | Tonen Sekiyukagaku Kabushiki Kaisha | Method of and apparatus for making fiber-reinforced polymer compositions |
| US6844059B2 (en) | 2001-08-07 | 2005-01-18 | Ticona Gmbh | Long-fiber-reinforced polyolefin structure, process for its production, and moldings produced therefrom |
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