JPS6372723A - ポリエステルの製造方法 - Google Patents
ポリエステルの製造方法Info
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- JPS6372723A JPS6372723A JP21725686A JP21725686A JPS6372723A JP S6372723 A JPS6372723 A JP S6372723A JP 21725686 A JP21725686 A JP 21725686A JP 21725686 A JP21725686 A JP 21725686A JP S6372723 A JPS6372723 A JP S6372723A
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Landscapes
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はポリエステルの製造方法に関し、更に詳しくは
炭酸カルシウム微粒子を良好な分散状悪で含有させたポ
リエステルの製造方法に関する。
炭酸カルシウム微粒子を良好な分散状悪で含有させたポ
リエステルの製造方法に関する。
従来技術
ポリエチレンプレ7タレートで代表される芳香族ポリエ
ステルは、すぐれた物理的、化学的性質を有することか
ら、衣料用、産業用繊維をはじめ、磁気テープ用途、電
絶、コンデンサー用途、写真用途、包装用途などのフィ
ルム分野に広く使用され℃いる。
ステルは、すぐれた物理的、化学的性質を有することか
ら、衣料用、産業用繊維をはじめ、磁気テープ用途、電
絶、コンデンサー用途、写真用途、包装用途などのフィ
ルム分野に広く使用され℃いる。
しかし、ポリエステルをフィルム分野セ使用する場合に
は、成形1楊でのフィルムの工程通過性或は製品フィル
ム自体の滑り性か問題となり、この為ポリエステル中に
微粒子を含有せしめ、フィルム表面に適度の凹凸を与え
て表面滑性を向上させる方法が通常行なわれ℃いる。
は、成形1楊でのフィルムの工程通過性或は製品フィル
ム自体の滑り性か問題となり、この為ポリエステル中に
微粒子を含有せしめ、フィルム表面に適度の凹凸を与え
て表面滑性を向上させる方法が通常行なわれ℃いる。
かかる微粒子を含有せしめる方法としては内部析出法と
外部添加法に大別でき、該外部添加法は炭酸カルシウム
、シリカ、二酸化チタンなどのポリエステルに不溶、不
活性な無機化合物の微粒子(不活性無機微粒子)をポリ
エステル合成時また合成後に添加する方法である。この
外部添加法は、基本的には、不活性無機微粒子の粒径、
添加室などを適切に選定し、さらに粗大粒子をあらかじ
め分級除去した微粒子を添加できる利点を有する。また
この不活性無機微粒子を添加する方法としてはグリコー
ル特にエチレングリコールに該微粒子を分散させて、ス
ラリーとして添加する方法が好ましく用いられ℃いる。
外部添加法に大別でき、該外部添加法は炭酸カルシウム
、シリカ、二酸化チタンなどのポリエステルに不溶、不
活性な無機化合物の微粒子(不活性無機微粒子)をポリ
エステル合成時また合成後に添加する方法である。この
外部添加法は、基本的には、不活性無機微粒子の粒径、
添加室などを適切に選定し、さらに粗大粒子をあらかじ
め分級除去した微粒子を添加できる利点を有する。また
この不活性無機微粒子を添加する方法としてはグリコー
ル特にエチレングリコールに該微粒子を分散させて、ス
ラリーとして添加する方法が好ましく用いられ℃いる。
ところが、不活性無機微粒子は、一般にエチレングリコ
ールに対しては、水に対する楊の親和性がないため、エ
チレングリコール中で不活性#A機微粒子を均一に分散
させることが離しい。
ールに対しては、水に対する楊の親和性がないため、エ
チレングリコール中で不活性#A機微粒子を均一に分散
させることが離しい。
即ち、エチレングリー−ル中では一次粒子同志が凝集し
、二次粒子を形成する傾向か強く、従ってあらかじめ平
均粒径5μm 以下にa14!IL、た微細な不活性無
機粒子を用いても二次粒子が形成しやすい。特に炭酸カ
ルシウムはエチレングリコールを媒体としたスラリーに
してポリエステル合成系に添加する場合、熱的ショック
等で凝集による二次粒子が発生しやすい、このような凝
集粒子がポリエステル中に存在すると、後工程でのフィ
ルターの目づまり、フィルム破れの原因になるとともに
フィルムのフィッシュ・アイの原因となり、磁気テープ
用途ではドロツブアウトの原因となる。このため例えば
特公昭43−12013号公報、 %開明54−131
694号公報などでは炭酸カルシタムのエチレンクリコ
ールスラリーを待埋的強制攪拌やpHd14整、界面活
性剤等による分散方法が提案され℃いる。
、二次粒子を形成する傾向か強く、従ってあらかじめ平
均粒径5μm 以下にa14!IL、た微細な不活性無
機粒子を用いても二次粒子が形成しやすい。特に炭酸カ
ルシウムはエチレングリコールを媒体としたスラリーに
してポリエステル合成系に添加する場合、熱的ショック
等で凝集による二次粒子が発生しやすい、このような凝
集粒子がポリエステル中に存在すると、後工程でのフィ
ルターの目づまり、フィルム破れの原因になるとともに
フィルムのフィッシュ・アイの原因となり、磁気テープ
用途ではドロツブアウトの原因となる。このため例えば
特公昭43−12013号公報、 %開明54−131
694号公報などでは炭酸カルシタムのエチレンクリコ
ールスラリーを待埋的強制攪拌やpHd14整、界面活
性剤等による分散方法が提案され℃いる。
しかし、近年オーディオテープ、ビゲオテープ。
メモリーテープ等の高級磁気テープ分野においCは粒子
がよりML細であることと、粒子が二次凝集をともなわ
ず完全にポリエステル中に微分散されていることか要求
されるようになり、従来からの分散方法では不十分とな
りcきた。
がよりML細であることと、粒子が二次凝集をともなわ
ず完全にポリエステル中に微分散されていることか要求
されるようになり、従来からの分散方法では不十分とな
りcきた。
発明の目的
本発明の目的は、粗大粒子(二次IIl集粒子〕の生成
を抑制し、民散カルシウム微粒子をポリマー中に微分散
させたポリエステルの製造方法を提供することにある。
を抑制し、民散カルシウム微粒子をポリマー中に微分散
させたポリエステルの製造方法を提供することにある。
発明の構成・効果
本発明の目的は、本発明によれば、芳香族ジカルボン酸
またはそのエステル形成性酵導体とグリコールとをエス
テル化反応またはエステル交換反応させ、次いで反応生
成物をム縮合反応させてポリエステルを製造するに@し
、ム縮合反応が完了する迄の任意の段階で、グリコール
に平均粒径5μm 以下の炭酸カルシタム微粒子を炭酸
ベリリウムの共存下に均一微分散させたグリコールスラ
リーを添加することを特徴とするポリエステルの製造方
法によって達成される。
またはそのエステル形成性酵導体とグリコールとをエス
テル化反応またはエステル交換反応させ、次いで反応生
成物をム縮合反応させてポリエステルを製造するに@し
、ム縮合反応が完了する迄の任意の段階で、グリコール
に平均粒径5μm 以下の炭酸カルシタム微粒子を炭酸
ベリリウムの共存下に均一微分散させたグリコールスラ
リーを添加することを特徴とするポリエステルの製造方
法によって達成される。
本発明で用いる芳香族ジカルボン酸としては、テレフタ
ル酸、イソフタル酸、2.6−す7タレンジカルポン殴
、 2.7−ナフタレンジカルポ7m、 4.4’
−ジフェニルエーテルジカルボン酸。
ル酸、イソフタル酸、2.6−す7タレンジカルポン殴
、 2.7−ナフタレンジカルポ7m、 4.4’
−ジフェニルエーテルジカルボン酸。
4*4’ 9フェニルスルホンジカルボン峡、 4
14’−ジフェニルジカルボン戚、メチルテレフタル故
、5−ナトリウムスルホイソフタル酸、7タル酸那を例
示できる。これらのうち特Kfレフタル[、2,6−す
7タレンジカルポン酸か好ましい。本発明における芳香
族ジカルボン酸は小割合(例えは20モル%以下、好ま
しくは15モル%以下)の二官能性カルボン酸例えば7
ジビン殴、セバシン酸、p−オキシ安息香酸、ε−カプ
クン酸、ヘキサヒドロテレフタル酸等で置換しても良い
。また2植以上の芳香族ジカルボン酸を用いる場合にF
′i1槍の芳香族ジカルボン酸が全酸成分の80モル%
以上を占める割合で用いることが好ましい。
14’−ジフェニルジカルボン戚、メチルテレフタル故
、5−ナトリウムスルホイソフタル酸、7タル酸那を例
示できる。これらのうち特Kfレフタル[、2,6−す
7タレンジカルポン酸か好ましい。本発明における芳香
族ジカルボン酸は小割合(例えは20モル%以下、好ま
しくは15モル%以下)の二官能性カルボン酸例えば7
ジビン殴、セバシン酸、p−オキシ安息香酸、ε−カプ
クン酸、ヘキサヒドロテレフタル酸等で置換しても良い
。また2植以上の芳香族ジカルボン酸を用いる場合にF
′i1槍の芳香族ジカルボン酸が全酸成分の80モル%
以上を占める割合で用いることが好ましい。
芳香族ジカルボン酸のエステル形成性誘導体としては、
上述した芳香族ジカルボン酸の低級フルキルエステル殊
にメチルエステル、アリールエステル殊にフェニルエス
テル等を好ましく例示できる。他の二官能性カルボン酸
の場合も同様である。これらのうち特にジメチルエステ
ルが好ましい。
上述した芳香族ジカルボン酸の低級フルキルエステル殊
にメチルエステル、アリールエステル殊にフェニルエス
テル等を好ましく例示できる。他の二官能性カルボン酸
の場合も同様である。これらのうち特にジメチルエステ
ルが好ましい。
本発明で用いるグリコールとしては、二手レンゲリコー
ル、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコー
ル、ヘキサメチレングリコール、 ネオヘンチルグリフ
ール、l、4−シpaヘキサンジメタツール等を例示で
きる。これらのうち特にエチレングリコールが好ましい
。これらは2種以上を用いることができるが、その場合
には1種のグリフールがポリマー中の全グリコール成分
の80モル%以上を占める割合で用いることが好ましい
。またグリコールは小割合(例えば20モル%以下、好
ましくは15モル%以下)の他のジオール化合物例えば
ジエチレングリコール、ポリフルキレンエーテルグリコ
ール、ハイドロキノン。ビスフェノールA等で置換して
も良い。
ル、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコー
ル、ヘキサメチレングリコール、 ネオヘンチルグリフ
ール、l、4−シpaヘキサンジメタツール等を例示で
きる。これらのうち特にエチレングリコールが好ましい
。これらは2種以上を用いることができるが、その場合
には1種のグリフールがポリマー中の全グリコール成分
の80モル%以上を占める割合で用いることが好ましい
。またグリコールは小割合(例えば20モル%以下、好
ましくは15モル%以下)の他のジオール化合物例えば
ジエチレングリコール、ポリフルキレンエーテルグリコ
ール、ハイドロキノン。ビスフェノールA等で置換して
も良い。
本発明におけるポリエステルの具体例としては、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリテトラメチレンテレフタレ
ート、ポリ−1,4−シクロヘキシレンジメチレンテレ
フタレート、ポリエチレン−2,6−す7タレンジカル
ポキシレート等を好ましく挙げることがで!!る。これ
らのうち特にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン−2,6−す7タレンジカルボキシレートが好ましい
。ポリエステルはホモポリマーであっても良く、またコ
ポリi−であっても良い。更にポリエステルは、ポリマ
ーが実質的に線状を維持する鷺範囲で、トリメリット酸
、ピロメリット酸等の如き多官能化合物を共嵐合させた
ものでも良く、また安息香酸の如き単官能化合物でポリ
マー末端を変性させたものでも良い。ポリエステルは繊
維形成能またはフィルム形成能を有する分子量を有し、
例えば(オルソクロロフェノール溶媒、35℃)で0.
35以上、更には0.40以上、特に0.50以上であ
ることが好ましい。
チレンテレフタレート、ポリテトラメチレンテレフタレ
ート、ポリ−1,4−シクロヘキシレンジメチレンテレ
フタレート、ポリエチレン−2,6−す7タレンジカル
ポキシレート等を好ましく挙げることがで!!る。これ
らのうち特にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン−2,6−す7タレンジカルボキシレートが好ましい
。ポリエステルはホモポリマーであっても良く、またコ
ポリi−であっても良い。更にポリエステルは、ポリマ
ーが実質的に線状を維持する鷺範囲で、トリメリット酸
、ピロメリット酸等の如き多官能化合物を共嵐合させた
ものでも良く、また安息香酸の如き単官能化合物でポリ
マー末端を変性させたものでも良い。ポリエステルは繊
維形成能またはフィルム形成能を有する分子量を有し、
例えば(オルソクロロフェノール溶媒、35℃)で0.
35以上、更には0.40以上、特に0.50以上であ
ることが好ましい。
本発明においては、芳香族ジカルボン酸またはそのエス
テル形成性誘導体とグリコールとを反応、いわゆるエス
テル化反応またはエステル交換反応させ、次いで反応生
成物をム縮合反応させズポリエステルとするが、これら
反応の条件、方法は従来から知られている条件、方法或
は当業界に著枳された条件、方法で行なうことができる
。その際、反応触媒をはじめ安定剤。
テル形成性誘導体とグリコールとを反応、いわゆるエス
テル化反応またはエステル交換反応させ、次いで反応生
成物をム縮合反応させズポリエステルとするが、これら
反応の条件、方法は従来から知られている条件、方法或
は当業界に著枳された条件、方法で行なうことができる
。その際、反応触媒をはじめ安定剤。
滑剤等の他の添加剤を添加することができる。
そして反応触媒としては、例えばエステル化触媒、エス
テル交換触媒、ム縮合触媒として知られ又いる化合物を
用いることができる。
テル交換触媒、ム縮合触媒として知られ又いる化合物を
用いることができる。
本発明においてはポリエステル製造反応が完了するまで
の任意の段階で、炭酸カルシウム微粒子を均一微分散さ
せたグリコールスラリーを添即する必要がある。この炭
酸カルシウムとしては、天然品0合成品のいずれでも良
く、またコノ結晶タイプとしてはカルサイト、アラゴナ
イト、バテライトのいずれでも良い。更に炭酸カルシウ
ムとしては純粋な炭酸カルシウムは勿―のこと、酸化マ
グネシウム、l!!化ケイ素、水酸化カルシウムその他
の化合物の1種または2棟以上を含み、炭酸カルシウム
分が50%以上あるものを包含する。
の任意の段階で、炭酸カルシウム微粒子を均一微分散さ
せたグリコールスラリーを添即する必要がある。この炭
酸カルシウムとしては、天然品0合成品のいずれでも良
く、またコノ結晶タイプとしてはカルサイト、アラゴナ
イト、バテライトのいずれでも良い。更に炭酸カルシウ
ムとしては純粋な炭酸カルシウムは勿―のこと、酸化マ
グネシウム、l!!化ケイ素、水酸化カルシウムその他
の化合物の1種または2棟以上を含み、炭酸カルシウム
分が50%以上あるものを包含する。
炭宜カルシウムのグリコールスラリー化の方法は、炭酸
ベリリウムを共存させる他は従来公知の方法で行なうこ
とができるが、スラリー化の段階あるいはそれ以前ある
いはスラリー化からポリエステル襄造系に添加するまで
の任意の段階で例えば12)謹の分級処理あるいは粉砕
処理を行うことにより、炭酸カルシ9ムの平均粒径な5
μm以下、好ましくは3μ属以下に粒度調畏する必要が
ある。平均粒径は0.1μm 以上であることが好まし
い。ここで、平均粒径とは#1足した全粒子の501[
童%の点にある粒子の「等価球形直径」を意味する。「
等1lffi球形直径」とは粒子と同じ容積を有する想
像上の球の直径を意味し、通常の沈降法による一1定か
ら計算することができる。炭酸カルシウムのモ均粒径が
5μmを越えると、約15μ虱以上の粗大粒子の生成、
混入が避は−く、このN釆としてポリエステル形成時で
のフィルムの破断が発生しやすく、また製品フィルムは
その表面突起が大きすぎて、磁気テープ用途等には通さ
なくなるので好ましくない。
ベリリウムを共存させる他は従来公知の方法で行なうこ
とができるが、スラリー化の段階あるいはそれ以前ある
いはスラリー化からポリエステル襄造系に添加するまで
の任意の段階で例えば12)謹の分級処理あるいは粉砕
処理を行うことにより、炭酸カルシ9ムの平均粒径な5
μm以下、好ましくは3μ属以下に粒度調畏する必要が
ある。平均粒径は0.1μm 以上であることが好まし
い。ここで、平均粒径とは#1足した全粒子の501[
童%の点にある粒子の「等価球形直径」を意味する。「
等1lffi球形直径」とは粒子と同じ容積を有する想
像上の球の直径を意味し、通常の沈降法による一1定か
ら計算することができる。炭酸カルシウムのモ均粒径が
5μmを越えると、約15μ虱以上の粗大粒子の生成、
混入が避は−く、このN釆としてポリエステル形成時で
のフィルムの破断が発生しやすく、また製品フィルムは
その表面突起が大きすぎて、磁気テープ用途等には通さ
なくなるので好ましくない。
本発明において用いる炭酸ベリリウムとし℃は、例えば
炭酸ベリリウム・4水塩、1!l々の組成のオキシ炭酸
ベリリウム(例えば2B・0・BaCO2・H@0 、
3B*04eCO@・3H,0、4B@0BsCO1・
5H10等)などを挙げることができる。炭酸ベリリウ
ム性平均粒径が5μm以下、更には3μ電以下であるこ
とが好ましい。
炭酸ベリリウム・4水塩、1!l々の組成のオキシ炭酸
ベリリウム(例えば2B・0・BaCO2・H@0 、
3B*04eCO@・3H,0、4B@0BsCO1・
5H10等)などを挙げることができる。炭酸ベリリウ
ム性平均粒径が5μm以下、更には3μ電以下であるこ
とが好ましい。
炭酸ベリリウムを共存させる方法とし′C社、グリコー
ル脣にエチレングリコールに微細な炭酸カルシウムを分
散させ、次いで炭酸ベリリウムを添加しC111合させ
る方法、あるいはグリコール特にエチレングリコールに
微細な炭酸カルシウム、炭酸ベリリウムを同時に添加し
″C温合し分散させる方法等の任意の方法をとることが
できる。その際、媒体のグリコールには他の成分、例え
ば水、エタノール等の有機溶媒等が少量含まれてもよく
、界面活性剤、酸、アルカリ等の pH−整剤を少量目
的に応じ添加してもよい。このグリコールとして畦、原
料グリコールと同じものが好ましい。
ル脣にエチレングリコールに微細な炭酸カルシウムを分
散させ、次いで炭酸ベリリウムを添加しC111合させ
る方法、あるいはグリコール特にエチレングリコールに
微細な炭酸カルシウム、炭酸ベリリウムを同時に添加し
″C温合し分散させる方法等の任意の方法をとることが
できる。その際、媒体のグリコールには他の成分、例え
ば水、エタノール等の有機溶媒等が少量含まれてもよく
、界面活性剤、酸、アルカリ等の pH−整剤を少量目
的に応じ添加してもよい。このグリコールとして畦、原
料グリコールと同じものが好ましい。
炭酸ベリリウムの共存割合は、ベリリウム原子1fl)
ダラム原子数が炭酸カルシウムのカルシウム原子1グラ
ム原子数当り、0.01〜0.35グラム原子数となる
割合であることが好ましい。
ダラム原子数が炭酸カルシウムのカルシウム原子1グラ
ム原子数当り、0.01〜0.35グラム原子数となる
割合であることが好ましい。
この共存割合は、表現を変えれば下記式Iで懺わされる
。
。
0.01 < A/B <0.35 ・・・・・
・・・・I炭酸ベリリウムの共存割合が上記範囲よりも
少いとその効果が不十分であり、また多いと粗大粒子が
多くなるので好ましくない。これらの混合方法としては
、前述したグリコールスラリーを更にホモミキサー、高
速攪拌機等による公知の手段を、あるいはこれらを組合
わせて用いることができる。炭酸ベリリウムの共存によ
って炭酸カルシウムの粗大粒子化を防止できることは予
期し得ない篤くべき作用・効果である。
・・・・I炭酸ベリリウムの共存割合が上記範囲よりも
少いとその効果が不十分であり、また多いと粗大粒子が
多くなるので好ましくない。これらの混合方法としては
、前述したグリコールスラリーを更にホモミキサー、高
速攪拌機等による公知の手段を、あるいはこれらを組合
わせて用いることができる。炭酸ベリリウムの共存によ
って炭酸カルシウムの粗大粒子化を防止できることは予
期し得ない篤くべき作用・効果である。
微細な炭酸カルシウムを炭酸ベリリウムの共存下で分散
せしめたグリコールスラリー殊にエチレングリコールス
ラリーのポリエステル擬造系への鰯1は、ポリエステル
の皇縮合反応完了以前であれば何時でもよく、任意の方
法で行なうことができる。
せしめたグリコールスラリー殊にエチレングリコールス
ラリーのポリエステル擬造系への鰯1は、ポリエステル
の皇縮合反応完了以前であれば何時でもよく、任意の方
法で行なうことができる。
ポリエステルに対する炭酸カルシウムの添加室は、好ま
しくは0.01〜2.01量%、さらに好ましくは0.
02〜1.01量%である。
しくは0.01〜2.01量%、さらに好ましくは0.
02〜1.01量%である。
以上詳述したように炭酸ベリリウムを共存させて炭酸カ
ルシウム微粒子を均一に分散させたグリコールスラリー
をポリエステルに添加することにより、ポリエステル製
造時に粒子が凝集することなく、かつ粗大凝集粒子を含
まず、均一微細な粒子を多数含有したポリエステルを製
造することができ、咳ポリエステルを用いての繊維また
はフィルムへの溶融成形過程でフィルターの目詰りが少
なく、糸切れ、フィルム破れなどが減少し、また加工工
程でのrr、菓性を向上させることができる。更にフィ
ルムに成形した場合、均一微細な粒子を含有しているた
め平坦性にすぐれかつ滑り性のよいフィルムが得うれ、
また製品フィルムは凝集粒子によるフィルム表面の粗大
突起がないため磁気テープ用途では再生時のドロップア
ウト、画像斑、音飛び等がなく、極めて有用である。
ルシウム微粒子を均一に分散させたグリコールスラリー
をポリエステルに添加することにより、ポリエステル製
造時に粒子が凝集することなく、かつ粗大凝集粒子を含
まず、均一微細な粒子を多数含有したポリエステルを製
造することができ、咳ポリエステルを用いての繊維また
はフィルムへの溶融成形過程でフィルターの目詰りが少
なく、糸切れ、フィルム破れなどが減少し、また加工工
程でのrr、菓性を向上させることができる。更にフィ
ルムに成形した場合、均一微細な粒子を含有しているた
め平坦性にすぐれかつ滑り性のよいフィルムが得うれ、
また製品フィルムは凝集粒子によるフィルム表面の粗大
突起がないため磁気テープ用途では再生時のドロップア
ウト、画像斑、音飛び等がなく、極めて有用である。
実施例
以下に実施例をあげて本発明を具体的に説明する。なお
、例中の「部」は崖量部を意味する。
、例中の「部」は崖量部を意味する。
またポリマー中の粒子分散性は、ポリマー50■を2枚
のカバーグラス間にはさんで280Cで溶融プレスし、
急冷したのち偏光下で顕微鏡観察し、画像解析処理装量
ルーゼックス5o。
のカバーグラス間にはさんで280Cで溶融プレスし、
急冷したのち偏光下で顕微鏡観察し、画像解析処理装量
ルーゼックス5o。
(日本レギュレーター製)で顕微鏡傷内の蛾大長が7μ
寓以上の粒子数をカウントし、久の4段階評価で判定し
た。
寓以上の粒子数をカウントし、久の4段階評価で判定し
た。
特Mニアμ罠を超える粒子数が5411A/−未清であ
る。
る。
1級ニアμ票を超える粒子数が5〜1041!/lj未
満である。
満である。
21!k : 7 amを超える粒子数が10〜2G(
lit/−未満である。
lit/−未満である。
3級ニアμ翼を超える粒子数が20@/−以上である。
なお特級及び1級のみが実用に供せられる。
実施例1
エチレングリコール79部に平均粒径0.68μ票 の
微細な炭酸カルシウム16部と平均粒径0.37cm
の微細な炭酸ベリリウム・4水塩5部を添加し、ホモ
ミキサー鵞用いて微分散化し、次いでフィルターを通し
てスラリーを調製した。
微細な炭酸カルシウム16部と平均粒径0.37cm
の微細な炭酸ベリリウム・4水塩5部を添加し、ホモ
ミキサー鵞用いて微分散化し、次いでフィルターを通し
てスラリーを調製した。
一方、ジメチルプレ7タレートloo部、エチレンクリ
コール75@、ealマンガン・4水塩0.035部及
び三識化アンチ七ン0,040 Isを反応器に仕込み
、内温な145℃から徐々に上げながらエステル交侠反
応せしめた。エステル交換反応終了後トリメチルホスフ
ェート0.020 部を添加した。久いで上記でytm
したスラU−51!6を攪拌下に添加した後、反応生成
物を1合反応器に移し、高温真空下(最終内温290℃
)にてX縮合反応を行い、固有粘度0.62のポリエチ
レンテレフタレートを得た。
コール75@、ealマンガン・4水塩0.035部及
び三識化アンチ七ン0,040 Isを反応器に仕込み
、内温な145℃から徐々に上げながらエステル交侠反
応せしめた。エステル交換反応終了後トリメチルホスフ
ェート0.020 部を添加した。久いで上記でytm
したスラU−51!6を攪拌下に添加した後、反応生成
物を1合反応器に移し、高温真空下(最終内温290℃
)にてX縮合反応を行い、固有粘度0.62のポリエチ
レンテレフタレートを得た。
該ポリエチレンテレフタレート中の粒子分散状態は粗大
粒子がみられず均一分散しており、特級であった。この
結果を後掲の3141fiに示す。
粒子がみられず均一分散しており、特級であった。この
結果を後掲の3141fiに示す。
実施例2
実施例1におい【炭酸ベリリウム・4水塩5部をオキシ
炭酸ベリリウム11sに変更する以外は実施例1と全く
同様にして炭酸カルシウムのエチレングリコールスラリ
ーおよび該炭酸カルシクム含有のポリエチレンテレフタ
レートを得た。
炭酸ベリリウム11sに変更する以外は実施例1と全く
同様にして炭酸カルシウムのエチレングリコールスラリ
ーおよび該炭酸カルシクム含有のポリエチレンテレフタ
レートを得た。
得られたポリエチレンテレフタレートの固有粘度は0.
62であり、ポリマー中の粒子分散状態は粗大粒子がみ
られず均一分散しており、特級であった。この結果を後
掲のJ1表に示す。
62であり、ポリマー中の粒子分散状態は粗大粒子がみ
られず均一分散しており、特級であった。この結果を後
掲のJ1表に示す。
実施例3
実施例1においてポリエチレンテレフタレート製造系に
添加するグリコールスラリーの食を5部から0.13m
K変更する以外は実施例1と全く同様にして固有粘度0
.62のポリエチレンテレフタレートを得た。このポリ
エチレンテレフタレートは、粗大粒子が全くみられず、
%級であった。この結果を後掲の第1表に示す。
添加するグリコールスラリーの食を5部から0.13m
K変更する以外は実施例1と全く同様にして固有粘度0
.62のポリエチレンテレフタレートを得た。このポリ
エチレンテレフタレートは、粗大粒子が全くみられず、
%級であった。この結果を後掲の第1表に示す。
比較例1
実施例3におい1炭歌ペリリ9ム・4水塩5部を添加し
ないでスラリーを調製し、さらに得られたスラリーのポ
リエチレンテレフタレート製造系に添加する麓を0.1
3部からO9OS部に変更する以外は実施例3と全く同
様にして固有粘度0.62のポリエチレンテレフタレー
トヲ得た。このポリエチレンテレフタレートは粗大粒子
が全くみられず特級であった。
ないでスラリーを調製し、さらに得られたスラリーのポ
リエチレンテレフタレート製造系に添加する麓を0.1
3部からO9OS部に変更する以外は実施例3と全く同
様にして固有粘度0.62のポリエチレンテレフタレー
トヲ得た。このポリエチレンテレフタレートは粗大粒子
が全くみられず特級であった。
しかし、このポリw−fフィルムに成形したところ、フ
ィルム機部の滑り性が悪く、実用に供することができな
かった。この結果な後掲の第1表に示す。
ィルム機部の滑り性が悪く、実用に供することができな
かった。この結果な後掲の第1表に示す。
実施例4
実施例Iにおいて平均粒径o、68μmの微細な炭酸カ
ルシウム16部を平均粒径0.12μmの微細な炭酸カ
ルシウム1611Sに変更し、さらにポリエチレンテレ
フタレート製造系造系に添加するスラリーの量を5部か
ら10!Isに変更する以外は実施例1と全く同様にし
て固有粘度0.61のポリエチレンテレフタレートを得
た。該ポリエチレンテレフタレートは粗大粒子がごくわ
ずか認められたが1級であり、十分実用に供せられるレ
ベルであった。この結果を後掲の第1表に示す拳 実施例5 実施例3におい′″CC使用微細炭酸カルシウムを平均
粒娩0,68μmのものから4.10μmのものに変更
する以外は実施例3と全く同様にして固有粘gjo、6
2のポリエチレンテレフタレートを得た。このポリエチ
レンテレフタレートは粗大粒子がごくわずか認められた
が1級であり、十分実用に供せられるレベルであった。
ルシウム16部を平均粒径0.12μmの微細な炭酸カ
ルシウム1611Sに変更し、さらにポリエチレンテレ
フタレート製造系造系に添加するスラリーの量を5部か
ら10!Isに変更する以外は実施例1と全く同様にし
て固有粘度0.61のポリエチレンテレフタレートを得
た。該ポリエチレンテレフタレートは粗大粒子がごくわ
ずか認められたが1級であり、十分実用に供せられるレ
ベルであった。この結果を後掲の第1表に示す拳 実施例5 実施例3におい′″CC使用微細炭酸カルシウムを平均
粒娩0,68μmのものから4.10μmのものに変更
する以外は実施例3と全く同様にして固有粘gjo、6
2のポリエチレンテレフタレートを得た。このポリエチ
レンテレフタレートは粗大粒子がごくわずか認められた
が1級であり、十分実用に供せられるレベルであった。
この結果を後掲の第1表に示す。
比戟例2
実施例Iにおいて平均粒径0.68μ寓の微細炭酸カル
シウム16部から平均粒径7μ舅 の**カルシウム1
6部に変更する以外は実施例1と全く同様にして固有粘
度0.62のポリエチレンテレフタレートを得た。この
ポリエチレンテレフタレート社粗大粒子が数多く認めら
れ、3級であった。この結果を後掲の1g1表に示す。
シウム16部から平均粒径7μ舅 の**カルシウム1
6部に変更する以外は実施例1と全く同様にして固有粘
度0.62のポリエチレンテレフタレートを得た。この
ポリエチレンテレフタレート社粗大粒子が数多く認めら
れ、3級であった。この結果を後掲の1g1表に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)芳香族ジカルボン酸またはそのエステル形成性誘導
体とグリコールとをエステル化反応またはエステル交換
反応させ、次いで反応生成物を重縮合させてポリエステ
ルを製造するに際し、重縮合反応が完了するまでの任意
の段階で、グリコールに平均粒径5μm以下の炭酸カル
シウム微粒子を炭酸ベリリウムの共存下に均一微分散さ
せたグリコールスラリーを添加することを特徴とするポ
リエステルの製造方法。 2)炭酸ベリリウムの共存割合は、炭酸カルシウムのカ
ルシウム原子1グラム原子数当り 0.01〜0.35グラム原子数のベリリウム原子とな
る割合である特許請求の範囲第1項記載のポリエステル
の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21725686A JPS6372723A (ja) | 1986-09-17 | 1986-09-17 | ポリエステルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21725686A JPS6372723A (ja) | 1986-09-17 | 1986-09-17 | ポリエステルの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6372723A true JPS6372723A (ja) | 1988-04-02 |
Family
ID=16701292
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21725686A Pending JPS6372723A (ja) | 1986-09-17 | 1986-09-17 | ポリエステルの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6372723A (ja) |
-
1986
- 1986-09-17 JP JP21725686A patent/JPS6372723A/ja active Pending
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