JPS635901B2 - - Google Patents
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- JPS635901B2 JPS635901B2 JP57226039A JP22603982A JPS635901B2 JP S635901 B2 JPS635901 B2 JP S635901B2 JP 57226039 A JP57226039 A JP 57226039A JP 22603982 A JP22603982 A JP 22603982A JP S635901 B2 JPS635901 B2 JP S635901B2
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- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/7075—Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、半導体製品のアエハの超精密位置ぎ
めを行なうための準備工程として概略の位置ぎめ
を行なうプリアライメント装置に関するものであ
る。
めを行なうための準備工程として概略の位置ぎめ
を行なうプリアライメント装置に関するものであ
る。
〔従来技術〕
ウエハの面上に回路パターンを２回以上焼付け
る場合、２回目以降の焼付け操作のために超精密
の映像合わせを必要とする。この超精密位置ぎめ
はパターン認識手段によつて超高精度で行なわれ
るが、この場合の準備工程としてウエハを定位置
に定方向に位置ぎめする必要がある。
る場合、２回目以降の焼付け操作のために超精密
の映像合わせを必要とする。この超精密位置ぎめ
はパターン認識手段によつて超高精度で行なわれ
るが、この場合の準備工程としてウエハを定位置
に定方向に位置ぎめする必要がある。
従来一般に上述の準備工程としての概要的な位
置ぎめ（プリアライメント）は、第１図及び第２
図に示す機械的方法、若しくは第３図乃至第５図
に示す非接触的方法が用いられている。
置ぎめ（プリアライメント）は、第１図及び第２
図に示す機械的方法、若しくは第３図乃至第５図
に示す非接触的方法が用いられている。
第１図に示すように、ウエハ２の周囲の一部に
位置決め用の切欠きであるオリエンテーシヨンフ
ラツト（以下オリフラと略称する）２ａが形成さ
れている。
位置決め用の切欠きであるオリエンテーシヨンフ
ラツト（以下オリフラと略称する）２ａが形成さ
れている。
３本の固定ピン１―1，１―2，１―3を設け、
ウエハに矢印Ａ方向の押圧力を加えつつ矢印Ｂの
ように回転させると、第２図のようにオリフラ２
ａが固定ピン１―1及び同１―2に接した時に最も
安定した状態となつて回転駆動の抵抗が大きくな
る。従つて回転駆動力を適宜に弱く設定しておく
と第２図の状態でウエハ２が停止して位置ぎめさ
れる。しかし、この位置ぎめ方法はウエハ２に外
力を加え、機械的に位置ぎめ部材に摺接せしめる
のでウエハに損傷を生じる虞れがある。
ウエハに矢印Ａ方向の押圧力を加えつつ矢印Ｂの
ように回転させると、第２図のようにオリフラ２
ａが固定ピン１―1及び同１―2に接した時に最も
安定した状態となつて回転駆動の抵抗が大きくな
る。従つて回転駆動力を適宜に弱く設定しておく
と第２図の状態でウエハ２が停止して位置ぎめさ
れる。しかし、この位置ぎめ方法はウエハ２に外
力を加え、機械的に位置ぎめ部材に摺接せしめる
のでウエハに損傷を生じる虞れがある。
上記の損傷を防止するため、第３図に示すよう
にウエハ２を真空チヤツク３で吸着して回転駆動
し、ウエハ２の外周に対向離間せしめて非接触形
の検出器４を設けたプリアライメント装置も用い
られている。この装置においてウエハ２を回転さ
せると検出器４の出力は第４図のようになる。同
図の検出出力カーブが全体的に波形をしているの
はチヤツク３とウエハ２との偏心のためであり、
Ｃ部のように欠けた形の個所ができるのはオリフ
ラ２ａが検出器４に対向したことを表わしてい
る。これによりオリフラ２ａが検出器４に正対し
た時点を検知することができるので、ウエハ２の
回転方向の位置ぎめが可能となる。第５図のよう
にオリフラ２ａを検出するための検出器４を複数
個設けた例もある。
にウエハ２を真空チヤツク３で吸着して回転駆動
し、ウエハ２の外周に対向離間せしめて非接触形
の検出器４を設けたプリアライメント装置も用い
られている。この装置においてウエハ２を回転さ
せると検出器４の出力は第４図のようになる。同
図の検出出力カーブが全体的に波形をしているの
はチヤツク３とウエハ２との偏心のためであり、
Ｃ部のように欠けた形の個所ができるのはオリフ
ラ２ａが検出器４に対向したことを表わしてい
る。これによりオリフラ２ａが検出器４に正対し
た時点を検知することができるので、ウエハ２の
回転方向の位置ぎめが可能となる。第５図のよう
にオリフラ２ａを検出するための検出器４を複数
個設けた例もある。
しかし、上述の第３図、第５図のウエハプリア
ライメント装置は、ウエハ２のオリフラ２ａの向
きを検出すること、即ち、ウエハ２の回転方向の
姿勢を決めることはできるが、ウエハ２の面と平
行な面内における直交２軸（矢印Ｘ，Ｙ方向）の
位置ぎめができない。従つて、第３図、第５図に
示した構成の他にＸ，Ｙ方向の位置を決める手段
を併用しなければならない。
ライメント装置は、ウエハ２のオリフラ２ａの向
きを検出すること、即ち、ウエハ２の回転方向の
姿勢を決めることはできるが、ウエハ２の面と平
行な面内における直交２軸（矢印Ｘ，Ｙ方向）の
位置ぎめができない。従つて、第３図、第５図に
示した構成の他にＸ，Ｙ方向の位置を決める手段
を併用しなければならない。
上記のＸ，Ｙ方向の位置ぎめを機械的に行なう
ように構成するとウエハの損傷を完全には防止で
きないし、上記のＸ，Ｙ方向の位置ぎめをするた
めの非接触検出器を別途に設けると装置全体が複
雑となり、製造コストも高くなる。
ように構成するとウエハの損傷を完全には防止で
きないし、上記のＸ，Ｙ方向の位置ぎめをするた
めの非接触検出器を別途に設けると装置全体が複
雑となり、製造コストも高くなる。
本発明は上記の事情に鑑みて為され、簡単な構
成でウエハの回転方向の姿勢と平面内の位置とを
同時に非接触的に決めることのできるウエハ・プ
リアライメント装置を提供することを目的とす
る。
成でウエハの回転方向の姿勢と平面内の位置とを
同時に非接触的に決めることのできるウエハ・プ
リアライメント装置を提供することを目的とす
る。
上記の目的を達成するため、本発明は、オリエ
ンテーシヨンフラツトを有するウエハを吸着して
回転する回転テーブルと、該回転テーブルを支承
して直交するＸ軸及びＹ軸方向に移動するＸ・Ｙ
移動テーブルと、ウエハの外周のＸ軸及びＹ軸方
向の位置を非接触で検出すべくほぼＸ軸及びＹ軸
方向に向けて固定装置した２つのセンサと、上記
回転テーブルを回転させ、ウエハの外周が常に上
記各センサ上の定点に位置した各センサから一定
なる信号が検出されるように上記Ｘ・Ｙ移動テー
ブルを駆動して追従制御する制御手段と、該制御
手段によつて追従制御されて移動するＸ・Ｙ移動
テーブルのＸ軸及びＹ軸方向の軌跡からＸ軸及び
Ｙ軸方向に反転する最大変化点を検出する特徴点
検出手段とを備え、該特徴点検出手段によつて軌
跡の最大変化点が検出されたとき、上記回転テー
ブルとＸ・Ｙ移動テーブルを停止させ、オリエン
テーシヨンフラツトの位置も含め、ウエハを位置
決めすることを特徴とするウエハのプリアライメ
ント装置である。
ンテーシヨンフラツトを有するウエハを吸着して
回転する回転テーブルと、該回転テーブルを支承
して直交するＸ軸及びＹ軸方向に移動するＸ・Ｙ
移動テーブルと、ウエハの外周のＸ軸及びＹ軸方
向の位置を非接触で検出すべくほぼＸ軸及びＹ軸
方向に向けて固定装置した２つのセンサと、上記
回転テーブルを回転させ、ウエハの外周が常に上
記各センサ上の定点に位置した各センサから一定
なる信号が検出されるように上記Ｘ・Ｙ移動テー
ブルを駆動して追従制御する制御手段と、該制御
手段によつて追従制御されて移動するＸ・Ｙ移動
テーブルのＸ軸及びＹ軸方向の軌跡からＸ軸及び
Ｙ軸方向に反転する最大変化点を検出する特徴点
検出手段とを備え、該特徴点検出手段によつて軌
跡の最大変化点が検出されたとき、上記回転テー
ブルとＸ・Ｙ移動テーブルを停止させ、オリエン
テーシヨンフラツトの位置も含め、ウエハを位置
決めすることを特徴とするウエハのプリアライメ
ント装置である。
次に、本発明の一実施例を第６図乃至第１５図
について説明する。
について説明する。
第６図は本発明のウエハプリアライメント装置
の一実施例の平面図、第７図は上図のＤ―D′断
面図である。
の一実施例の平面図、第７図は上図のＤ―D′断
面図である。
第７図の矢印Ｘは第６図の矢印Ｘ方向を表わし
矢印Ｚは上方を表わしている。
矢印Ｚは上方を表わしている。
１５は水平移動テーブルで、Ｘ方向駆動モータ
７によりＸ軸方向に往復駆動し得る構造である。
この水平移動テーブル１５はＹ方向駆動モータ
（第７図に現われていない）によりＹ方向に駆動
し得るように構成してある。従つて上記の水平移
動テーブル１５は水平な直交２軸Ｘ，Ｙについて
自在に移動せしめることができる。
７によりＸ軸方向に往復駆動し得る構造である。
この水平移動テーブル１５はＹ方向駆動モータ
（第７図に現われていない）によりＹ方向に駆動
し得るように構成してある。従つて上記の水平移
動テーブル１５は水平な直交２軸Ｘ，Ｙについて
自在に移動せしめることができる。
上記の水平移動テーブル１５の上に回転テーブ
ル６を回転自在に支承し、回転駆動用のΘモータ
９により360゜回転せしめ得るように構成する。
ル６を回転自在に支承し、回転駆動用のΘモータ
９により360゜回転せしめ得るように構成する。
上記の回転テーブル６の上面に真空チヤツク６
ａを設けてウエハ２を自在に吸着できるように構
成する。１６は固定テーブル、１６ａは固定テー
ブルに設けた開口部である。
ａを設けてウエハ２を自在に吸着できるように構
成する。１６は固定テーブル、１６ａは固定テー
ブルに設けた開口部である。
ウエハ２を、第６図の矢印Ｅのごとく真空チヤ
ツク６ａ上に搬送してチヤツクする。仮想線Ｆは
ウエハ２の外周の軌跡である。この軌跡線Ｆのう
ち上下の平行な２辺はウエハ２の搬送中の軌跡で
あり、右端の円弧状部は真空チヤツク６ａに吸着
したときのウエハ２の外周である。上記のごとく
ウエハ２を回転テーブル６上に吸着保持したと
き、その外周の円弧に対向する位置に２個の位置
検出器５―1，５―2を設け、固定テーブル１６に
対して固定的に支承する。
ツク６ａ上に搬送してチヤツクする。仮想線Ｆは
ウエハ２の外周の軌跡である。この軌跡線Ｆのう
ち上下の平行な２辺はウエハ２の搬送中の軌跡で
あり、右端の円弧状部は真空チヤツク６ａに吸着
したときのウエハ２の外周である。上記のごとく
ウエハ２を回転テーブル６上に吸着保持したと
き、その外周の円弧に対向する位置に２個の位置
検出器５―1，５―2を設け、固定テーブル１６に
対して固定的に支承する。
第１４図および第１５図について後述するよう
な制御機構を設けて水平移動テーブル１５の駆動
を制御し、回転テーブル６を360゜回転せしめたと
き同テーブル６に吸着されて回転するウエハ２の
外周が、前記の２個の位置検出器５―1，５―2に
対して同じ位置関係を保つように水平移動テーブ
ル１５を移動テーブルさせる。上記の移動は後述
する自動制御装置（本図に図示せず）を介してＸ
方向駆動モータ７およびＹ方向駆動モータ８（本
図に図示せず）を制御して自動的に行なうととも
に、上記の水平移動テーブル１５の軌跡を検出す
る。
な制御機構を設けて水平移動テーブル１５の駆動
を制御し、回転テーブル６を360゜回転せしめたと
き同テーブル６に吸着されて回転するウエハ２の
外周が、前記の２個の位置検出器５―1，５―2に
対して同じ位置関係を保つように水平移動テーブ
ル１５を移動テーブルさせる。上記の移動は後述
する自動制御装置（本図に図示せず）を介してＸ
方向駆動モータ７およびＹ方向駆動モータ８（本
図に図示せず）を制御して自動的に行なうととも
に、上記の水平移動テーブル１５の軌跡を検出す
る。
上記のように自動制御しつつ移動テーブル１５
を水平面内で移動させた場合の軌跡を検出する
と、次に述べるようにウエハ２の回転方向の姿勢
およびＸ―Ｙ平面内の位置が所定の状態になつた
瞬間を検知することができる。
を水平面内で移動させた場合の軌跡を検出する
と、次に述べるようにウエハ２の回転方向の姿勢
およびＸ―Ｙ平面内の位置が所定の状態になつた
瞬間を検知することができる。
第８図は回転テーブル６上にウエハ２を同心状
にチヤツクした状態を示す。この状態でウエハ２
の外周を位置検出器５―1，５―2に正対せしめる
ように水平移動させながら回転させながら回転テ
ーブル６を回転させると、回転テーブル６の中心
点０（この場合、ウエハ２の中心０′と一致して
いる）の軌跡は第９図に示すようになる。
にチヤツクした状態を示す。この状態でウエハ２
の外周を位置検出器５―1，５―2に正対せしめる
ように水平移動させながら回転させながら回転テ
ーブル６を回転させると、回転テーブル６の中心
点０（この場合、ウエハ２の中心０′と一致して
いる）の軌跡は第９図に示すようになる。
即ち、オリフラ２ａが位置検出器５―1及び５
―2から離間しているとき、軌跡はイ位置に静止
している。オリフラ２ａが位置検出器５―2に差
しかかると、上記イ位置に静止していた軌跡はロ
位置に向かつて動き、オリフラ２ａが位置検出器
５―2を通過し終えるとイ位置に戻る。同様にし
てオリフラ２ａが位置検出器５―1を通過する際、
軌跡はイハ間を往復する。上記の軌跡がロ若しく
はハ位置に達した瞬間を検出すれば、オリフラ２
ａが位置検出器５―2又は同５―1の何れか一方に
正対し、かつ、オリフラ以外の外周の１箇所が上
記の位置検出器５―1又は同５―2の何れか他方に
正対した瞬間を把握したことになる。このときに
回転および水平移動を停止すれば、ウエハ２の回
転方向の姿勢とXY座標上の位置がプリアライメ
ントされる。
―2から離間しているとき、軌跡はイ位置に静止
している。オリフラ２ａが位置検出器５―2に差
しかかると、上記イ位置に静止していた軌跡はロ
位置に向かつて動き、オリフラ２ａが位置検出器
５―2を通過し終えるとイ位置に戻る。同様にし
てオリフラ２ａが位置検出器５―1を通過する際、
軌跡はイハ間を往復する。上記の軌跡がロ若しく
はハ位置に達した瞬間を検出すれば、オリフラ２
ａが位置検出器５―2又は同５―1の何れか一方に
正対し、かつ、オリフラ以外の外周の１箇所が上
記の位置検出器５―1又は同５―2の何れか他方に
正対した瞬間を把握したことになる。このときに
回転および水平移動を停止すれば、ウエハ２の回
転方向の姿勢とXY座標上の位置がプリアライメ
ントされる。
回転テーブル６の中心０とオリフラ２の中心
0′とが第１０図に示すように偏心している場合に
は、仮りに、オリフラを設けていなければ水平移
動テーブルの軌跡は円形を描くことになる。しか
し、オリフラ２ａを設けてあると、このオリフラ
２ａが位置検出器５―2を通過する際、第１１図
のような軌跡を描き、明瞭な折返し点ロ′ができ
る。
0′とが第１０図に示すように偏心している場合に
は、仮りに、オリフラを設けていなければ水平移
動テーブルの軌跡は円形を描くことになる。しか
し、オリフラ２ａを設けてあると、このオリフラ
２ａが位置検出器５―2を通過する際、第１１図
のような軌跡を描き、明瞭な折返し点ロ′ができ
る。
この折返し点ロ′付近の軌跡の形状は、ウエハ
２の中心0′が回転テーブル６の中心０に対して偏
心している方向とオリフラ２ａの位置との関係に
よつて若干変化する。例えば第１２図のように偏
心しているとき、回転テーブル６を360゜回転させ
たときの軌跡は第１３図の実線のようになる。同
図に仮想線で示したのは、オリフラを設けていな
い場合の円形軌跡を参考に付記したものである。
ロ′はオリフラ２ａが位置検出器５―2を通過する
際に生じる折返し点である。曲率半径の大きい部
分ニはオリフラ２ａが位置検出器５―1を通過す
る際の軌跡である。
２の中心0′が回転テーブル６の中心０に対して偏
心している方向とオリフラ２ａの位置との関係に
よつて若干変化する。例えば第１２図のように偏
心しているとき、回転テーブル６を360゜回転させ
たときの軌跡は第１３図の実線のようになる。同
図に仮想線で示したのは、オリフラを設けていな
い場合の円形軌跡を参考に付記したものである。
ロ′はオリフラ２ａが位置検出器５―2を通過する
際に生じる折返し点である。曲率半径の大きい部
分ニはオリフラ２ａが位置検出器５―1を通過す
る際の軌跡である。
本発明を適用した実際のプリアライメント装置
を実用に供する場合、第８図に示すようにウエハ
２の中心0′を回転テーブル６の中心０に対して完
全に一致させなくても、第１１図又は第３図の如
く水平移動テーブル１５の軌跡にシヤープな折返
し点ロ′ができるのでウエハの位置ぎめを確実に
行ない得る。
を実用に供する場合、第８図に示すようにウエハ
２の中心0′を回転テーブル６の中心０に対して完
全に一致させなくても、第１１図又は第３図の如
く水平移動テーブル１５の軌跡にシヤープな折返
し点ロ′ができるのでウエハの位置ぎめを確実に
行ない得る。
第１４図は前記実施例の制御部の構成を示す。
５―1，５―2は前述の位置検出器、７は前述のＸ
方向駆動モータ、８は第７図に現われなかつたＹ
方向駆動モータ、９は回転テーブルを駆動するΘ
モータである。
５―1，５―2は前述の位置検出器、７は前述のＸ
方向駆動モータ、８は第７図に現われなかつたＹ
方向駆動モータ、９は回転テーブルを駆動するΘ
モータである。
自動制御部１１を設け、位置検出器５―1，５
―2の出力信号をそれぞれバツフアー１２および
コンパレータ１０を介して自動制御部１１に入力
せしめる。
―2の出力信号をそれぞれバツフアー１２および
コンパレータ１０を介して自動制御部１１に入力
せしめる。
上記の自動制御部１１は、スイツチオンされる
と回転テーブル駆動用のモータ９を一定速度で回
転せしめつつ、位置検出器５―1，５―2の出力信
号が予め定めた一定値を保つようにＸ方向駆動モ
ータ７及びＹ方向駆動モータＹを制御する。そし
て第１５図に示すフローチヤートに従つて位置ぎ
め目標点を検知する。これにより、第１０図又は
第１２図のように回転テーブル６上に若干の偏心
を伴つてチヤツクしたウエハ２を回転させつつ第
１１図又は第１３図に示した折返し点ロ′を検知
し得る。水平移動テーブルの軌跡が折返し点ロ′
にある瞬間において、ウエハ２のオリフラ２ａは
位置検出器５―ａに正対し、かつ、位置検出器５
―1はウエハ２のオリフラ部以外の外周に正対し
ているので、この時点で回転テーブル６の駆動及
び水平移動テーブル１５の駆動を即時に停止させ
ることにより、ウエハ２の表面及び外周に対して
機械的に接触することなく、次工程である精密位
置ぎめの準備として必要な精度でウエハ２の位置
ぎめができる。上述の作用は二つの中心０，0′が
第８図のように完全に重なつた場合においても正
常に行なわれる。
と回転テーブル駆動用のモータ９を一定速度で回
転せしめつつ、位置検出器５―1，５―2の出力信
号が予め定めた一定値を保つようにＸ方向駆動モ
ータ７及びＹ方向駆動モータＹを制御する。そし
て第１５図に示すフローチヤートに従つて位置ぎ
め目標点を検知する。これにより、第１０図又は
第１２図のように回転テーブル６上に若干の偏心
を伴つてチヤツクしたウエハ２を回転させつつ第
１１図又は第１３図に示した折返し点ロ′を検知
し得る。水平移動テーブルの軌跡が折返し点ロ′
にある瞬間において、ウエハ２のオリフラ２ａは
位置検出器５―ａに正対し、かつ、位置検出器５
―1はウエハ２のオリフラ部以外の外周に正対し
ているので、この時点で回転テーブル６の駆動及
び水平移動テーブル１５の駆動を即時に停止させ
ることにより、ウエハ２の表面及び外周に対して
機械的に接触することなく、次工程である精密位
置ぎめの準備として必要な精度でウエハ２の位置
ぎめができる。上述の作用は二つの中心０，0′が
第８図のように完全に重なつた場合においても正
常に行なわれる。
以上詳述したように、本発明によれば、簡単な
構成でウエハの回転方向の姿勢と直交座標上の位
置とを非接触で能率よく決めることができる作用
効果を奏する。
構成でウエハの回転方向の姿勢と直交座標上の位
置とを非接触で能率よく決めることができる作用
効果を奏する。
第１図は従来の接触形プリアライメント装置の
平面図、第２図は同作用説明図である。第３図は
従来の非接触形プリアライメント装置の平面図、
第４図は同作用説明のための図表である。第５図
は上記と異なる従来の非接触形プリアライメント
装置の平面図である。第６図乃至第１５図は本発
明の一実施例を示し、第６図は平面図、第７図は
第６図のＤ―D′断面図、第８図は作用説明のた
めの平面図、第９図は第８図の状態における水平
移動テーブルの軌跡を示す図表、第１０図は作用
説明のための平面図、第１１図は第１０図の状態
における水平移動テーブルの軌跡を示す図表、第
１２図は作用説明のための平面図、第１３図は第
１２図の状態における水平移動テーブルの軌跡を
示す図表、第１４図は制御機構の系統図、第１５
図は位置ぎめ目標点を検出する自動操作のフロー
チヤートである。 ２……ウエハ、２ａ……オリフラ、５―1，５
―2，５―3……位置検出器、６……回転テーブ
ル、６ａ……真空チヤツク、７……Ｘ方向駆動モ
ータ、８……Ｙ方向駆動モータ、９……回転駆動
用のΘモータ、１０……コンパレータ、１１……
制御部、１２……バツフアー、１５……水平移動
テーブル、１６……固定テーブル、１６ａ……開
口部。
平面図、第２図は同作用説明図である。第３図は
従来の非接触形プリアライメント装置の平面図、
第４図は同作用説明のための図表である。第５図
は上記と異なる従来の非接触形プリアライメント
装置の平面図である。第６図乃至第１５図は本発
明の一実施例を示し、第６図は平面図、第７図は
第６図のＤ―D′断面図、第８図は作用説明のた
めの平面図、第９図は第８図の状態における水平
移動テーブルの軌跡を示す図表、第１０図は作用
説明のための平面図、第１１図は第１０図の状態
における水平移動テーブルの軌跡を示す図表、第
１２図は作用説明のための平面図、第１３図は第
１２図の状態における水平移動テーブルの軌跡を
示す図表、第１４図は制御機構の系統図、第１５
図は位置ぎめ目標点を検出する自動操作のフロー
チヤートである。 ２……ウエハ、２ａ……オリフラ、５―1，５
―2，５―3……位置検出器、６……回転テーブ
ル、６ａ……真空チヤツク、７……Ｘ方向駆動モ
ータ、８……Ｙ方向駆動モータ、９……回転駆動
用のΘモータ、１０……コンパレータ、１１……
制御部、１２……バツフアー、１５……水平移動
テーブル、１６……固定テーブル、１６ａ……開
口部。
Claims (1)
- １ オリエンテーシヨンフラツトを有するウエハ
を吸着して回転する回転テーブルと、該回転テー
ブルを支承して直交するＸ軸及びＹ軸方向に移動
するＸ・Ｙ移動テーブルと、ウエハの外周のＸ軸
及びＹ軸方向の位置を非接触で検出すべくほぼＸ
軸及びＹ軸方向に向けて固定設置した２つのセン
サと、上記回転テーブルを回転させウエハの外周
が常に上記各センサ上の定点に位置して各センサ
から一定なる信号が検出されるように上記Ｘ・Ｙ
移動テーブルを駆動して追従制御する制御手段
と、該制御手段によつて追従制御されて移動する
Ｘ・Ｙ移動テーブルのＸ軸及びＹ軸方向の軌跡か
らＸ軸及びＹ軸方向に反転する最大変化点を検出
する特徴点検出手段とを備え、該特徴点検出手段
によつて軌跡の最大変化点が検出されたとき、上
記回転テーブルとＸ・Ｙ移動テーブルを停止さ
せ、オリエンテーシヨンフラツトの位置も含め、
ウエハを位置決めすることを特徴とするウエハの
プリアライメント装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57226039A JPS59117120A (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | ウエハのプリアライメント装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57226039A JPS59117120A (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | ウエハのプリアライメント装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59117120A JPS59117120A (ja) | 1984-07-06 |
| JPS635901B2 true JPS635901B2 (ja) | 1988-02-05 |
Family
ID=16838814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57226039A Granted JPS59117120A (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | ウエハのプリアライメント装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59117120A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6235640A (ja) * | 1985-08-09 | 1987-02-16 | Nec Kyushu Ltd | 半導体基板のプリアライメント機構 |
| JP5662255B2 (ja) * | 2010-07-21 | 2015-01-28 | 株式会社神戸製鋼所 | リアクトル |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5864043A (ja) * | 1981-10-13 | 1983-04-16 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 円板形状体の位置決め装置 |
-
1982
- 1982-12-24 JP JP57226039A patent/JPS59117120A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5864043A (ja) * | 1981-10-13 | 1983-04-16 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 円板形状体の位置決め装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59117120A (ja) | 1984-07-06 |
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