JPS59117120A - ウエハのプリアライメント装置 - Google Patents
ウエハのプリアライメント装置Info
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- JPS59117120A JPS59117120A JP57226039A JP22603982A JPS59117120A JP S59117120 A JPS59117120 A JP S59117120A JP 57226039 A JP57226039 A JP 57226039A JP 22603982 A JP22603982 A JP 22603982A JP S59117120 A JPS59117120 A JP S59117120A
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/7075—Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、半導体製品のアエハの超精密位置ぎめを行な
うための準備工程として概略の位置ぎめを行なうプリア
ライメント装置に関スるものである。
うための準備工程として概略の位置ぎめを行なうプリア
ライメント装置に関スるものである。
ウェハの面上に回路パターンを２回以上焼付ける場合、
２回目以降の焼付は操作のために超精密の映像合わせを
必要とする。この超精密位置ぎめはパターン認識手段に
よって超高精度で行なわれるが、この場合の準備工程と
してウェハを定位置に定方向に位置ぎめする必要がある
。
２回目以降の焼付は操作のために超精密の映像合わせを
必要とする。この超精密位置ぎめはパターン認識手段に
よって超高精度で行なわれるが、この場合の準備工程と
してウェハを定位置に定方向に位置ぎめする必要がある
。
従来一般に上述の準備工程としての概要的な位置ぎめ（
プリアライメント）は、第１図及び第２図に示す機械的
方法、若しくは第６図乃至第５図に示す非接触的方法が
用いられている。
プリアライメント）は、第１図及び第２図に示す機械的
方法、若しくは第６図乃至第５図に示す非接触的方法が
用いられている。
第１図に示すように、ウェハ２の周囲の一部に位置決め
用の切欠きであるオリエンテーションフラット（以下オ
リフラと略称する）２ａが形成されている。
用の切欠きであるオリエンテーションフラット（以下オ
リフラと略称する）２ａが形成されている。
６本の固定ビン１１１１２＋’ ３を設け、ウェハに矢
印 Ａ方向の押圧力を加えつつ矢印Ｂのように回転させ
ると、第２図のようにオリフラ２ａが固定ピン１−１及
び同１−２に接した時に最も安定した状態となって回転
駆動の抵抗が太きくなる。従って回転駆動力を適宜に弱
く設定しておくと第２図の状態でウェハ２が停止して位
置ぎ・めされる。しかし、この位置ぎめ方法はウェハ２
に外力を加え、機械的に位置ぎめ部材に摺接せしめるの
でウェハに損傷を生じる虞れがある６上記の損傷を防止
するため、第３図に示すようにウェハ２を真空チャック
６で吸着して回転駆動し、ウェハ２の外周に対向離間せ
しめて非接触形の検出器４を設けたプリアライメント装
置も用いられている。この装置においてウェハ２を回転
させると検出器４の出力は第４図のようになる。同図の
検出出力カーブが全体的に波形をしているのはチャック
６とウェハ２との偏心のためであり、０部のように欠け
た形の個所ができるのはオリフラ２ａが検出器４に対向
したことを表わしている。これによりオリフラ２ａが検
出器４に正対した時点を検知することができるので、ウ
ェハ２の回転方向の位置ぎめが可能となる。第５図のよ
うにオリフラ２ａを検出するための検出器４を複数個設
けた例もある。
印 Ａ方向の押圧力を加えつつ矢印Ｂのように回転させ
ると、第２図のようにオリフラ２ａが固定ピン１−１及
び同１−２に接した時に最も安定した状態となって回転
駆動の抵抗が太きくなる。従って回転駆動力を適宜に弱
く設定しておくと第２図の状態でウェハ２が停止して位
置ぎ・めされる。しかし、この位置ぎめ方法はウェハ２
に外力を加え、機械的に位置ぎめ部材に摺接せしめるの
でウェハに損傷を生じる虞れがある６上記の損傷を防止
するため、第３図に示すようにウェハ２を真空チャック
６で吸着して回転駆動し、ウェハ２の外周に対向離間せ
しめて非接触形の検出器４を設けたプリアライメント装
置も用いられている。この装置においてウェハ２を回転
させると検出器４の出力は第４図のようになる。同図の
検出出力カーブが全体的に波形をしているのはチャック
６とウェハ２との偏心のためであり、０部のように欠け
た形の個所ができるのはオリフラ２ａが検出器４に対向
したことを表わしている。これによりオリフラ２ａが検
出器４に正対した時点を検知することができるので、ウ
ェハ２の回転方向の位置ぎめが可能となる。第５図のよ
うにオリフラ２ａを検出するための検出器４を複数個設
けた例もある。
しかし、上述の第３図、第５図のウニノープリアライメ
ント装置は、ウエノ・２のオリフラ２ａの向きを検出す
ること、即ち、ウエノ・２の回転方向の姿勢を決めるこ
とはできるが、ウエノ・２の面と平行な面内における直
交２軸（矢印Ｘ。
ント装置は、ウエノ・２のオリフラ２ａの向きを検出す
ること、即ち、ウエノ・２の回転方向の姿勢を決めるこ
とはできるが、ウエノ・２の面と平行な面内における直
交２軸（矢印Ｘ。
Ｙ方向）の位置ぎめができない。従って、第３図、第５
図に示した構成の他にＸ、Ｙ方向の位置を決める手段を
併用しなければならない。
図に示した構成の他にＸ、Ｙ方向の位置を決める手段を
併用しなければならない。
上記のＸ、Ｙ方向の位置ぎめを機械的に行なうように構
成するとウェハの損傷を完全には防止できないし、上記
のＸ、Ｙ方向の位置ぎめをするだめの非接触検出器を別
途に設けると装置全体が複雑となシ、製造コストも高く
なる。
成するとウェハの損傷を完全には防止できないし、上記
のＸ、Ｙ方向の位置ぎめをするだめの非接触検出器を別
途に設けると装置全体が複雑となシ、製造コストも高く
なる。
本発明は上記の事情に鑑みて為され、簡単な構成でウェ
ハの回転方向の姿勢と平面内の位置とを同時に非接触的
に決めることのできるウェハ、プリアライメント装置を
提供することを目的とする。
ハの回転方向の姿勢と平面内の位置とを同時に非接触的
に決めることのできるウェハ、プリアライメント装置を
提供することを目的とする。
上記の目的を達成するため、本発明はウエノ・を吸着し
て回転するテーブルと、上記のテーブルを支承して直交
２軸に沿って移動するテーブルとを備えたウェハ、プリ
アライメント装置であって、ウェハの外周の位置を非接
触的に検出する２個のセンサを設けるとともに、上記２
個のセンサの検出信号に基づいて、ウェハの外周が常に
２個の定点を通るように前記の移動テーブルを制御する
手段を設け、かつ、上記移動テーブルの軌跡の特徴点を
とらえてウエノ・を位置ぎめするように構成したことを
特徴とする。
て回転するテーブルと、上記のテーブルを支承して直交
２軸に沿って移動するテーブルとを備えたウェハ、プリ
アライメント装置であって、ウェハの外周の位置を非接
触的に検出する２個のセンサを設けるとともに、上記２
個のセンサの検出信号に基づいて、ウェハの外周が常に
２個の定点を通るように前記の移動テーブルを制御する
手段を設け、かつ、上記移動テーブルの軌跡の特徴点を
とらえてウエノ・を位置ぎめするように構成したことを
特徴とする。
次に、本発明の一実施例を第６図乃至第１５図について
説明する。
説明する。
第６図は本発明のウェハプリアライメント装置の一実施
例の平面図、第７図は上図のＤ−α断面図である。
例の平面図、第７図は上図のＤ−α断面図である。
第７図の矢印Ｘは第６図の矢印Ｘ方向を表わし矢印Ｚは
上方を表わしている。
上方を表わしている。
１５は水平移動テーブルで、Ｘ方向駆動モータ７によシ
Ｘ軸方向に往復駆動し得る構造である。
Ｘ軸方向に往復駆動し得る構造である。
この水平移動テーブル１５はＹ方向駆動モータ（第７図
に現われていない）によｆｉＹ方向に駆動し得るように
構成しである。従って上記の水平移動テーブル１５は水
平な直交２軸Ｘ、Ｙについて自在に移動せしめることが
できる。
に現われていない）によｆｉＹ方向に駆動し得るように
構成しである。従って上記の水平移動テーブル１５は水
平な直交２軸Ｘ、Ｙについて自在に移動せしめることが
できる。
上記の水平移動テーブル１５の上に回転テーブル６を回
転自在に支承し、回転駆動用のθモータ９により６６０
°回転せしめ得るように構成する。
転自在に支承し、回転駆動用のθモータ９により６６０
°回転せしめ得るように構成する。
上記の回転テーブル乙の上面に真空チャック６ａを設け
てウェハ２を自在に吸着できるように構成する。１６は
固定テーブル、１６ａは固定テーブルに設けた開口部で
ある。
てウェハ２を自在に吸着できるように構成する。１６は
固定テーブル、１６ａは固定テーブルに設けた開口部で
ある。
ウェハ２を、第６図の矢印Ｅのごとく真空チャック６ａ
上に搬送してチャックする。仮想線Ｆはウェハ２の外周
の軌跡である。この軌跡線Ｆのうち上下の平行な２辺は
ウニ・・２の搬送中の軌跡であり、右端の円弧状部は真
空チャック６ａに吸着したときのウェハ２の外周である
。
上に搬送してチャックする。仮想線Ｆはウェハ２の外周
の軌跡である。この軌跡線Ｆのうち上下の平行な２辺は
ウニ・・２の搬送中の軌跡であり、右端の円弧状部は真
空チャック６ａに吸着したときのウェハ２の外周である
。
上記のとと〈ウエノ・２を回転テーブル６上に吸着保持
したとき、その外周の円弧に対向する位置に２個の位置
検出器５１＋５２を設け、固定テーブル１６に対して固
定的に支承する。
したとき、その外周の円弧に対向する位置に２個の位置
検出器５１＋５２を設け、固定テーブル１６に対して固
定的に支承する。
第１４図および第１５図について後述するような制御機
構を設けて水平移動テーブル１５の駆動を制御し、回転
テーブル６を３６０′回転せしめたとキＦＪテーブル６
に吸着されて回転するウエノ・２の外周が、前記の２個
の位置検出器５−、 、５−２に対して同じ位置関係を
保つように水平移動テーブル１５を移動させる。上記の
移動は後述する自動制御装置（本図に図示せず）を介し
てＸ方向駆動モータ７およびＹ方向駆動モータ８（本図
に図示せず）を制御して自動的に行なうとともに、上記
の水平移動テーブル１５の軌跡を検出する。
構を設けて水平移動テーブル１５の駆動を制御し、回転
テーブル６を３６０′回転せしめたとキＦＪテーブル６
に吸着されて回転するウエノ・２の外周が、前記の２個
の位置検出器５−、 、５−２に対して同じ位置関係を
保つように水平移動テーブル１５を移動させる。上記の
移動は後述する自動制御装置（本図に図示せず）を介し
てＸ方向駆動モータ７およびＹ方向駆動モータ８（本図
に図示せず）を制御して自動的に行なうとともに、上記
の水平移動テーブル１５の軌跡を検出する。
上記のように自動制御しつつ移動テーブル１５を水平面
内で移動させた場合の軌跡を検出すると、次に述べるよ
うにウェハ２の回転方向の姿勢およびＸ−Ｙ平面内の位
置が所定の状態になった瞬間を検知することができる。
内で移動させた場合の軌跡を検出すると、次に述べるよ
うにウェハ２の回転方向の姿勢およびＸ−Ｙ平面内の位
置が所定の状態になった瞬間を検知することができる。
第８図は回転テーブル６上にウェハ２を同心状にチャッ
クした状態を示す。この状態でウェハ２の外周を位置検
出器５−１１５−２に正対せしめるように水平移動させ
ながら回転テーブル６を回転させると、回転テーブル６
の中心点０（この場合、ウェハ２の中心０′と一致して
いる）の軌跡は第９図に示すようになる。
クした状態を示す。この状態でウェハ２の外周を位置検
出器５−１１５−２に正対せしめるように水平移動させ
ながら回転テーブル６を回転させると、回転テーブル６
の中心点０（この場合、ウェハ２の中心０′と一致して
いる）の軌跡は第９図に示すようになる。
即ち、オリフラ２ａが位置検出器５−１及び５−２から
離間しているとき、軌跡はイ位置に静止している。オリ
フラ２ａが位置検出器５−２に差しかかると、上記イ位
置に静止していた軌跡は口位置に向かって動き、オリフ
ラ２ａが位置検出器５−２を通過し終えるとイ位置に戻
る。同様にしてオリフラ２ａが位置検出器５−、を通過
する際、軌跡はイハ間を往復する。上記の軌跡が口若し
くはハ位置に達した瞬間を検出すれば、オリフラ２ａが
位置検出器５−２又は同５−１の何れか一方に正対し、
かつ、オリフラ以外の外周の１箇所が上記の位置検出器
５−１又は同５−２の何れか他方に正対した瞬間を把握
したことになる。
離間しているとき、軌跡はイ位置に静止している。オリ
フラ２ａが位置検出器５−２に差しかかると、上記イ位
置に静止していた軌跡は口位置に向かって動き、オリフ
ラ２ａが位置検出器５−２を通過し終えるとイ位置に戻
る。同様にしてオリフラ２ａが位置検出器５−、を通過
する際、軌跡はイハ間を往復する。上記の軌跡が口若し
くはハ位置に達した瞬間を検出すれば、オリフラ２ａが
位置検出器５−２又は同５−１の何れか一方に正対し、
かつ、オリフラ以外の外周の１箇所が上記の位置検出器
５−１又は同５−２の何れか他方に正対した瞬間を把握
したことになる。
このときに回転および水平移動を停止すれば、ウェハ２
の回転方向の姿勢とＸＹ座標上の位置がプリアライメン
トさレル。
の回転方向の姿勢とＸＹ座標上の位置がプリアライメン
トさレル。
回転テーブル６の中心Ｏとオリフラ２の中心Ｄ′とが第
１０図に示すように偏心している場合には、仮りに、オ
リフラを設けていなければ水平移動テーブルの軌跡は円
形を描くことになる。
１０図に示すように偏心している場合には、仮りに、オ
リフラを設けていなければ水平移動テーブルの軌跡は円
形を描くことになる。
しかし、オリフラ２ａを設けであると、このオリフラ２
ａが位置検出器５−２を通過する際、第１１図のような
軌跡を描き、明瞭な折返し魚目′ができる。
ａが位置検出器５−２を通過する際、第１１図のような
軌跡を描き、明瞭な折返し魚目′ができる。
この折返し魚目′付近の軌跡の形状は、ウェハ２の中心
Ｏ′が回転テーブル乙の中心Ｏに対して偏心してｂる方
向とオリフラ２ａの位置きの関係によって若干変化する
。例えば第１２図のように偏心しているとき、回転テー
ブル６を３６０°回転させたときの軌跡は第１６図の実
線のようになる。同図に仮想線で示したのは、オリフラ
を設けていない場合の円形軌跡を参考に付記したもので
ある。ゴはオリフラ２ａが位置検出器５−２を通過する
際に生じる折返し点である。曲率半径の大きい部分二は
オリフラ２ａが位置検出器５−１を通過する際の軌跡で
ある。
Ｏ′が回転テーブル乙の中心Ｏに対して偏心してｂる方
向とオリフラ２ａの位置きの関係によって若干変化する
。例えば第１２図のように偏心しているとき、回転テー
ブル６を３６０°回転させたときの軌跡は第１６図の実
線のようになる。同図に仮想線で示したのは、オリフラ
を設けていない場合の円形軌跡を参考に付記したもので
ある。ゴはオリフラ２ａが位置検出器５−２を通過する
際に生じる折返し点である。曲率半径の大きい部分二は
オリフラ２ａが位置検出器５−１を通過する際の軌跡で
ある。
本発明を適用した実際のプリアライメント装置を実用に
供する場合、第８図て示すようにウェハ２の中心Ｄ′を
回転テーブル６の中心Ｏに対して完全に一致させなくて
も、第１１図又は第３図の如く水平移動テーブル１５の
軌跡にシャープな折返し魚目′ができるのでウェハの位
置ぎめを確実に行ない得る。
供する場合、第８図て示すようにウェハ２の中心Ｄ′を
回転テーブル６の中心Ｏに対して完全に一致させなくて
も、第１１図又は第３図の如く水平移動テーブル１５の
軌跡にシャープな折返し魚目′ができるのでウェハの位
置ぎめを確実に行ない得る。
第１４図は前記実施例の制御部の構成を示す。
５−、 、５−２は前述の位置検出器、７は前述のＸ方
向駆動モータ、８は第７図に現われなかっだＹ方向駆動
モータ、９は回転テーブルを駆動するθモータである。
向駆動モータ、８は第７図に現われなかっだＹ方向駆動
モータ、９は回転テーブルを駆動するθモータである。
自動制御部１１を設け、位置検出器５−、 、５−２の
出力信号をそれぞれバッファー１２およびコンパレータ
１０を介して自動制御部１１に入力せしめる。
出力信号をそれぞれバッファー１２およびコンパレータ
１０を介して自動制御部１１に入力せしめる。
上記の自動制御部１１は、スイッチオンされると回転テ
ーブル駆動用のモータ９を一定速度で回転せしめつつ、
位置検出器５１１５２の出力信号が予め定めた一定値を
保つようにＸ方向駆動モータ７及びＹ方向駆動モータＹ
を制御する。
ーブル駆動用のモータ９を一定速度で回転せしめつつ、
位置検出器５１１５２の出力信号が予め定めた一定値を
保つようにＸ方向駆動モータ７及びＹ方向駆動モータＹ
を制御する。
そして第１５図に示すフローチャートに従って位置ぎめ
目標点を検知する。これにより、第１０図又は第１２図
のように回転テーブル６上に若干の偏心を伴ってチす、
ツクしたウニ・・２を回転させつつ第１１図又は第１３
図に示した折返し魚目′を検知し得る。水平移動テーブ
ルの軌跡が折返し魚目′にある瞬間において、ウニノー
２のオリフラ２ａは位置検出器５−２に正対し、かつ、
位置検出器５−、はウニ・・２のオリフラ部以外の外周
に正対しているので、この時点で回転テーブル乙の駆動
及び水イ移動テーブル１５の駆動を即時に停止させるこ
とによシ、ウニノ・２の表面及び外周に対して機械的に
接触すること力く、次工程である精密位置ざめの準備と
して必要な精度でウニ、ハ２の位置ぎめがてきる。上述
の作用は二つの中心り、０′が第８図のように完全に重
なった〔発明の効果〕 以上詳述したように、本発明を適用すると、簡単な構成
でウニ・・の回転方向の姿勢と直交座標上の位置とを非
接触的に能率よ く決めることができる。
目標点を検知する。これにより、第１０図又は第１２図
のように回転テーブル６上に若干の偏心を伴ってチす、
ツクしたウニ・・２を回転させつつ第１１図又は第１３
図に示した折返し魚目′を検知し得る。水平移動テーブ
ルの軌跡が折返し魚目′にある瞬間において、ウニノー
２のオリフラ２ａは位置検出器５−２に正対し、かつ、
位置検出器５−、はウニ・・２のオリフラ部以外の外周
に正対しているので、この時点で回転テーブル乙の駆動
及び水イ移動テーブル１５の駆動を即時に停止させるこ
とによシ、ウニノ・２の表面及び外周に対して機械的に
接触すること力く、次工程である精密位置ざめの準備と
して必要な精度でウニ、ハ２の位置ぎめがてきる。上述
の作用は二つの中心り、０′が第８図のように完全に重
なった〔発明の効果〕 以上詳述したように、本発明を適用すると、簡単な構成
でウニ・・の回転方向の姿勢と直交座標上の位置とを非
接触的に能率よ く決めることができる。
第１図は従来の接触形プリアライメント装置の平面図、
第２図は同作用説明図である。第３図は従来の非接触形
プリアライメント装置の平面図、第４図は同作用説明の
ための図表である。 第５図は上記と異なる従来の非接触形プリアライメント
装置の平面図である。第６図乃至第１５図は本発明の一
実施例を示し、第６図は平面図、第７図は第６図のＤ−
α断面図、第８図は作用説明のための平面図、第９図は
第８図の状態における水平移動テーブルの軌跡を示す図
表、第１Ｄ図は作用説明のだめの平面図、第１１図は第
１０図の状態における水平移動テーブルの軌跡を示す図
表、第１２図は作用説明のための平面図、第１３図は第
１２図の状態における水平移動テーブルの軌跡を示す図
表、第１４図は制御機構の系統図く第１５図は位置ぎめ
目標点を検出する自動操作のフローチャートである。 ２・・・ウェハ、 ２ａ・・・オリフラ、５１
．５２＋５３・・・位置検出器、 ６・・・回転テーブル、 ６ａ・・・真空チャック、
７・・・Ｘ方向駆動モータ、 ８・・・Ｘ方向駆動モータ、 ９・・・回転駆動用のθモータ、 １０・・・コンパレーク、１１・・・制御部、１２・・
・バッファー、１５・・・水平移動テーブル、１６・・
・固定テーブル、 １６ａ・・・開口部。 代理人弁理士 薄 １）利２．ヤ；６１４１、り−、−
で°ｉｊ＋ ９ 第１口 Ａ オ ４区 第３閃 り 第４図 オｇ図 Ｙ−ど オ９図 オｌＯ図 （ターご ２１ ）１ 図 オｌ１図 ５−？ 第１３０ オｒ４１ ノ１ オ ノ！； 図 −９９−
第２図は同作用説明図である。第３図は従来の非接触形
プリアライメント装置の平面図、第４図は同作用説明の
ための図表である。 第５図は上記と異なる従来の非接触形プリアライメント
装置の平面図である。第６図乃至第１５図は本発明の一
実施例を示し、第６図は平面図、第７図は第６図のＤ−
α断面図、第８図は作用説明のための平面図、第９図は
第８図の状態における水平移動テーブルの軌跡を示す図
表、第１Ｄ図は作用説明のだめの平面図、第１１図は第
１０図の状態における水平移動テーブルの軌跡を示す図
表、第１２図は作用説明のための平面図、第１３図は第
１２図の状態における水平移動テーブルの軌跡を示す図
表、第１４図は制御機構の系統図く第１５図は位置ぎめ
目標点を検出する自動操作のフローチャートである。 ２・・・ウェハ、 ２ａ・・・オリフラ、５１
．５２＋５３・・・位置検出器、 ６・・・回転テーブル、 ６ａ・・・真空チャック、
７・・・Ｘ方向駆動モータ、 ８・・・Ｘ方向駆動モータ、 ９・・・回転駆動用のθモータ、 １０・・・コンパレーク、１１・・・制御部、１２・・
・バッファー、１５・・・水平移動テーブル、１６・・
・固定テーブル、 １６ａ・・・開口部。 代理人弁理士 薄 １）利２．ヤ；６１４１、り−、−
で°ｉｊ＋ ９ 第１口 Ａ オ ４区 第３閃 り 第４図 オｇ図 Ｙ−ど オ９図 オｌＯ図 （ターご ２１ ）１ 図 オｌ１図 ５−？ 第１３０ オｒ４１ ノ１ オ ノ！； 図 −９９−
Claims (1)
- ウェハを吸着して回転するテーブルと、上記のテーブル
を支承して直交２軸に沿って移動するテーブルとを備え
たウェハのプリアライメント装置であって、ウェハの外
周の位置を非接触的に検出する２個のセンサを設けると
ともに、上記２個のセンサの検出信号に基づいて、ウェ
ハの外周が常に２個の定点を通るように前記の移動テー
ブルを制御する手段を設け、かつ、上記移動テーブルの
軌跡の特徴点をとらえてウェハを位置ぎめするように構
成したことを特徴とするウェハのプリアライメント装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57226039A JPS59117120A (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | ウエハのプリアライメント装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57226039A JPS59117120A (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | ウエハのプリアライメント装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59117120A true JPS59117120A (ja) | 1984-07-06 |
| JPS635901B2 JPS635901B2 (ja) | 1988-02-05 |
Family
ID=16838814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57226039A Granted JPS59117120A (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | ウエハのプリアライメント装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59117120A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6235640A (ja) * | 1985-08-09 | 1987-02-16 | Nec Kyushu Ltd | 半導体基板のプリアライメント機構 |
| CN102971813A (zh) * | 2010-07-21 | 2013-03-13 | 株式会社神户制钢所 | 电抗器 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5864043A (ja) * | 1981-10-13 | 1983-04-16 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 円板形状体の位置決め装置 |
-
1982
- 1982-12-24 JP JP57226039A patent/JPS59117120A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5864043A (ja) * | 1981-10-13 | 1983-04-16 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 円板形状体の位置決め装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6235640A (ja) * | 1985-08-09 | 1987-02-16 | Nec Kyushu Ltd | 半導体基板のプリアライメント機構 |
| JPH0334215B2 (ja) * | 1985-08-09 | 1991-05-21 | Kyushu Nippon Electric | |
| CN102971813A (zh) * | 2010-07-21 | 2013-03-13 | 株式会社神户制钢所 | 电抗器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS635901B2 (ja) | 1988-02-05 |
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