JPS6344681A - 定着ロ−ル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の不ＵＬｒ黙 本発明は複写機、ファクシミリ、プリンター等の乾式電
子写ｌ（のトナー粉末像を加り＾及び／又は加圧により
コピー紙などに複写する際に使用する定着ロールに関し
、更に詳述すれば、低分子シロキサンを含有しないシリ
コーンゴムからなる定着ロールに関する。

又久悲失亀及μ澄明が解□伏ルようとすうＩｊ’］　４
＋’＋従来より、乾式電子写真法においては、転写ドラ
ム等から紙などの支持体上に転写されるトナー粉末像を
定石する方法として、加熱されたゴムロール（定二〇ロ
ール）によりトナー粉末像を紙などの支持体上に加熱及
び／又は加圧して定着させる方法が慣用的に採用されて
いる。この場合、かかる方法しこ使用される定着ロール
としては、有機過酸化物で架橋するか又は付加反応で架
橋する加熱硬化型シリコーンゴム（特公昭３６−１２７
７号、特開昭５４−１５９４８５号、特公昭６１−４８
５５号）から形成されたもの及び室温硬化型シリコーン
ゴム（特開昭５２−２４３９号、特開昭５５−７５４４
６号）から形成されたものが提案されている。

しかしながら、近年複写機等自体がコンパクト化し、内
部機器、部品が装置内に密集して設置される傾向がある
。これに伴い、機器内部に使用されているシリコーンゴ
ム製の定着ロールから揮散する低分子シロキサンが反射
ミラ一部やレンズ部或いは高電圧発生装置部等に付看し
てその表面を汚し、そのためミラーの反射率及びレンズ
の光透過率が低下したり、また高電圧発生装置でスパー
ク現体を生じたりする１〜ラブルが発生し、複写機の機
能を損なう状態がしばしば見ら、れる。これらの現象に
対処する方法として、複写機内にファンを取付け、発生
した低分子シロキサン蒸気を機械的に系外に排気する方
法（特開昭６０−２１３９６８号）等も提案されている
が、これらの方法は排気ファンを機内に設置するため機
械の小型化の傾向に反し、根本的な対策とはなっていな
い。

本発明は上記事情に２みなされたもので、長期間使用し
ても複写が鮮明であると共に、複写機等の機器の小型化
にも寄与する定着ロールを提供することを目的とする。

四Ｂ４時りとＭｉｉスづ二企Ｊ虹佐ｙと手−［り及び作
用本発明者らは上記目的を達成するため、前述の問題点
につき説か研究を重ねた結果、？ｆｆ写機内のミラ一部
、レンズ部、高電圧発生装置等に低分子シロキサンが検
出され、この低分子シロキサンは主として定石用ゴムロ
ールが加熱された際に材料のシリコーンゴムより揮散さ
れたものであることを知見した。

一般に、有機過酸化物や付加反応で架橋する加熱硬化型
シリコーンゴム或いは室温硬化型シリコーンゴムには、
２００’Ｃでｌｏ■ｌ１ｇ以上の蒸気圧を有する低分子
シロキサンが約１．０〜４．０重Ｍ　’ｊ’ｏ含まれて
おり、かかる低分子シロキサンを含有するシリコーンゴ
ムから定着ロールを形成し。

複写機内に設置した場合、ロールの加熱によりシリコー
ンゴムから低分子シロキサンが徐々に揮散して、複写枚
数が１０，０００〜３０，０００枚程、度になると、ミ
ラ一部、高電圧発生装置４部等にこれら低分子シロキサ
ンが付着し、複写に黒点等の汚れが起きたり、字が写ら
なくなる等の不都合が生ずるようになる。

この場合、これらの低分子シロキサンには線状ｓ　＝　
３〜２５位までのものが検出されるが、複写時の不都合
が発生した際の低分子シロキサンの内容を調へてみると
ｓ　＝　３〜１０の範囲のものが多く見出され、５〜１
１以上のものはＪＩ賢が少なく、殆ど問題がないことが
判明した。

これは低分子シロキサンの揮発し易さ、即ち蒸気圧との
関係と考えられ、Ｓ≧１１では低分子シロキサンの蒸気
圧が極めて低くなるためにｔ：ｉｌ　ｊ′Ｉｌ量も少な
くなるものと考えられろ。

従って、２００　’Ｃで１．　Ｑ　ｍｍ１１ｇ以上の蒸
気圧を有する低分子シロキサンの含有量が０．２重量％
より少ないシリコーンゴム定着ロールを用いた場合、コ
ピー寿命が大幅に向上することを知見し、本発明をなす
に至ったものである。

それ故１本発明は２００℃で１０ｍｍｆｔ（＜以」二の
蒸気圧を有する低分子シロキサンの含有量が０．２重量
％より少ないシリコーンゴムの定：ｎロールを提供する
もので、このシリコーンゴムを用いて形成した定着ロー
ルは加熱しても揮散する低分子シロキサンの量は少なく
、長期間に亘り複写を行なっても複写機内のミラ一部、
レンズ部、高電圧発生装置等に汚れが蓄積されず、従っ
て常に鮮明な複写が得られるものである。

以下、更に詳しく本発明を説明する。

本発明に係る定着ロールは、上述したように２００”Ｃ
でｌＱｍｍｔ＋ｇ以上の蒸気圧を有する低分子シロキサ
ンの含有量が０．２重量％、より好ましくは０．０５重
量％より少ないシリコーンゴムからなるが、２００℃で
１０ｍｍ１１ｇ以上の蒸気圧を有する低分子シロキサン
の含有量が０．２重量％より少ないシリコーンゴムを得
る方法としては、下記の方法を挙げることができる。

即ち、最も簡便な方法は硬化シリコーンゴムを當圧又は
減圧下で加熱し、硬化シリコーンゴム中に含有されてい
る低分子シロキサンを蒸発除去するものであり、この方
法は硬化シリコーンゴムによる成型品が小型のロール又
は肉厚の薄い物品の場合には有効であるが、芯金を含め
たロール全体を加熱するため、大きな熱エネルギーを必
要とし、工業的に有利でない。

これに対し、シリコーンゴムの原料である各種オルガノ
ポリシロキサン中に含まれる低分子シロキサンの量を減
少させることは比較的容易であり。

例えばストリップ法、溶剤洗ａ）法、超臨界抽出法（特
公昭５４−１０５３９号）等の方法を適宜採用して低分
子シロキサンの含有量を減少させろことができる。従っ
て、このようにして低分子シロキサンを減少させたオル
ガノポリシロキサンを使用し、これに充填剤、架橋剤等
を配合してシリコーンゴム組成物を製造し、これを硬化
させることにより、２００℃で１０ｍｍ１１ｇ以上の蒸
気圧を有する低分子シロキサンの含有量が０．２重量％
より少ないシリコーンゴムからなる定着ロールを得るこ
とができる。

この場合１本発明の定着ロールの製造に使用するシリコ
ーンゴムを与える原料シリコーンゴム組成物としては特
に制限されず、付加硬化型のもの、有機過酸化物硬化型
のもの、室温硬化型のものなどが挙げられ、これらいず
れのタイプのものを用いてもよい。

この場合、付加硬化型のものとしては、下記の（１）〜
（４）の成分が配合されてなる付加硬化型シリコーンゴ
ム組成物が用いられる。

即ち、（１）一般式（ｉ） （但し、Ｒ１及びＲ２はメチル基、エチル基、フェニル
基、１−リフルオロプロピル基及びビニル基から選択さ
れる同種又は異種の基を示し、Ｑは５以上の整数を表わ
す。） で示されると共に、２００℃で１０ｍｍＨｇ以上の蒸気
圧を有する低分子シロキサンの含有量が０．２重量％よ
り少ない分子鎖両末端ビニル基封蹟オルガノポリシロキ
サン　　　　　　１００重量部、（２）一分子中にケイ
素原子に結合した水素原子を２個以上有するオルガノハ
イドロジエンポリシロキサンを上記一般式（ｉ）のオル
ガノポリシロキサンのビニル基１個に対しこのケイ素原
子に結合した水素原子を０．５〜５個供給し得るに十分
な量、 （３）充填剤　　　　　　　０〜３００重量部、（・１
）触媒量の白金系化合物 からなる付加型シリコーンゴム組成物である。

ここで、上記（１）成分である分子鎖両末端ビニル基封
鎖オルガノポリシロキサンは、いずれも単位式＜ｉ　ａ
） −（Ｒ工Ｓｉ○）＝　　　　　・・−（ｉａ）（但し、
Ｒ２はメチル基、エチル基、フェニル基、トリフルオロ
プロピル基及びビニル基から選択される同種又は異種の
基を示し、ｍは正の整数を表わす。） で示されるポリシロキサン骨格からなり、このポリシロ
キサンとしては、例えばオクタエチルシクロテトラシロ
キサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、テトラメ
チルテトラビニルシクロテトラシロキサン、オクタフェ
ニルシクロテトラシロキサン、テトラメチルテトラフ二
二ルシク口テトラシロキサン、ヘキサフェニルシクロト
リシロキサン、オクタエチルシクロテトラシロキサン、
トリメチルトリス（フルオロプロピル）シクロトリシロ
キサン等の環状シロキサンから選ばれる１種又は２８以
上を適宜混合してなるものを出発物質として用いて製造
することができる。

この場合、（１）成分の分子鎖両末端ビニル基封鎖オル
ガノポリシロキサンは、分子鎖両末端がビニル基よりな
るものであるから、そのＪａ造に際し。

末端ビニル基封Ｓ１のために、一般式（ｉ　ｂ）Ｒ１Ｒ
’ （但し、Ｒ１はメチル基、エチル基、フェニル基、トリ
フルオロプロピル基及びビニル基から選択される同種又
は異種の塙を示す。） で示されるジビニルジシロキサンが用いられる。

このジビニルジシロキサンとしては、例えば１．３−ジ
ビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、
１，１，３，３−テトラビニル−１，３−ジメチルジシ
ロキサン、１，１，１，３，３．３−へキサビニルジシ
ロキサン、１，３−ジビニル−１，１，３゜３−テトラ
フエニルジシロキサン、１，３−ジビニル−１，３−ジ
フェニル−１，３−ジメチルジシロキサン、１，３−ジ
ビニル−１，３−ビス（フルオロプロピル）−１、３−
ジメチルジシロキサン、１，３−ジビニル−１，１，３
，３−テトラエチルジシロキサン等が挙げられる。

一般式（ｉ）で示される分子鎖両末端ビニル基封鎖オル
ガノポリシロキサンは、上述した単位式（ｉ　ａ）で示
される環状シロキサン等の１種又は２種以上を混合して
なるものを、アルカリ或いは酸触媒の存在下通常の工業
的に行なわれている公知の方法により重合させて得るこ
とができ、この際重合度に応じて一般式（ｉ　ｂ）で示
されるジビニルジシロキサンを末端封鎖用に適当ｇ、添
加して重合させるものである。

この重合反応は当業界では公知であるが、工業的に製造
されたものは、オクタメチルテトラシクロシロキサンを
はじめ、デカメチルペンタシクロシロキサン、ドデカメ
チルへキサシグロシロキ１サン等の２００℃で１０　ｍ
ｍ１１ｇ以上の蒸気圧をもつ低分子シロキサンが副生成
物として約２〜７重量％含有するのが一般である。

この低分子シロキサンを前記オルガノポリシロキサンよ
り除去する方法としては、オルガノポリシロキサンを薄
膜化して、例えば０．５ｏｎ＋ＩＩｇ以下の減圧下にお
いて１８０〜３００℃で加熱ストリップするか、又はオ
ルガノポリシロキサンにエタノール、プロパツール、ブ
タノール或いはアセトンなどの溶剤を加えて低分子シロ
キサンを抽出除去する方法等が採用できる。

なお、（１）成分の分子鎖両末端ビニル基封鎖オルガノ
ポリシロキサンとしては、粘度が２５℃において５０〜
５００，０００センチストークスであり、特に、４００
〜１００，０００センチストークスのものが好適に使用
される。

次に、（２）成分であるオルガノハイドロジエンポリシ
ロキサンは、（１）成分である分子鎖両末端ビニル基封
鎖オルガノポリシロキサンの架ト１う剤として作用する
ものであり、これは１分子中に２個以上の＝ｓｉＨ結合
を含有するものであって直鎖状１分枝状、環状のいずれ
の梼造のものであってもよい。

このオルガノハイドロジエンポリシロキサンの配合量は
通常（１）成分の分子ｊｊ１両末％ｌｉビニル基封鎖オ
ルガノポリシロキサンの５重量％程度であるので、この
オルガノハイトロジエンポリシロキサンを精製せずにそ
のまま使用しても５本発明の定着ロールの硬化シリコー
ンゴムに含まれる低分子シロキサンは０．２重量％を超
えることは殆どないが、もしも０．２重量％を超える場
合はオルガノハイドロジエンポリシロキサンを０．５圃
１１にの減圧下において１８０〜３００　’Ｃで加熱し
て、副生成物の低分子シロキサンをストリップ除去した
ものを用いることが好ましい。

このオルガノハイドロジエンポリシロキサンと（但し、
ｂ　ｒ　ｃｒ　ｄ　ｒ　ｅ　＋　ｆ　、ｇ　ｒ　１は０
又は正の整数を表わし、ｈは２以上の整数を表わす。）
なお、（２）成分として、一分子中に２個以上のＥＳｉ
Ｈ結合を含有し、２００℃で１０ｍｍ１ｇ以上の玉気圧
を有して蒸留可能なオルガノハイドロジエンポリシロキ
サンも知られている。例えば、（但し、Ｒ７は水素原子
、メチル基、プロピル基又はトリメチルシラノールルを
表わす、）等があるが、これらは蒸留が可能であること
、また一分子中の少なくとも１個の＝Ｓ　ｉ　Ｈ基は（
１）成分中のビニル基と反応して揮発性を失うため、シ
リコーンゴム内に連発成分として残存することはない。

また、（２）成分として２官能のオルガノハイドロジエ
ンポリシロキサンを用いる場合には、３官能以上のオル
ガノハイドロジエンポリシロキサンを添加して使用する
か（特公昭４７−４０４４７号）、又は（１）成分の分
子鎖両末端ビニル基封鎖オルガノポリシロキサン中に３
官能以上の＝ｓｉｃＨ＝ＣＨ２基を含有する分子鎖両末
端ビニル基封鎖オルガノポリシロキサンを使用しなくて
はならない。

更に、（２）成分は（１）成分の分子鎖両末端ビニル基
封鎖オルガノポリシロキサン中の ミ５ｉＣＨ＝ＣＨ，基１個に対し＝Ｓ　ｉ　Ｈ結合の水
素原子を０．５〜５個供するに十分なｆｆ１．　ｆｆ！
ましくは１〜２個供する量が好ましい。

また、（３）成分である充填剤はシリコーンゴム組成物
を使用して形成される定着ロールが所定の硬度と強度を
付与するように配合されるもので、その種類には特に制
限はなく、通常付加型シリコーンゴム組成物に使用され
ているものがすべて使用可能である。例えば、ヒユーム
ドシリカ、沈降性シリカ、疎水化処理したシリカ、カー
ボンブラック、二酸化チタン、酸化第二鉄、酸化アルミ
ニウム、酸化亜鉛、石英粉末、ケイソウ土、ケイ酸カル
シウム、タルク、ベントナイト、アスベスト、ガラス繊
維、有機繊維等が挙げられ、こオＬらの１種又は２種以
上が配合し得る。

この充填剤の配合量は本発明の目的を損なわない限り任
意であるが、（１）成分の分子鎖両末端ビニル基封鎖オ
ルガノポリシロキサン１００重量部に対し３００重址重
景下とされる。

更に、（４）成分である白金系化合物としては、一般に
付加反応用触媒として公知のものを挙げることができ、
これには白金黒、或いはアルミナ。

シリカなどの担体に固体白金を担持させたもの。

塩化白金酸、アルコール変性塩化白金酸、塩化白金酸と
オレフィンとの錯体或いは白金とビニルシロキサンとの
錯体等が例示される。これらの触媒の使用しこ轟っては
、そ↑Ｌが固体触媒であるときは分散性をよくするため
に細かく砕いたり、その担体を粒径が小さく、比表面積
の大きいものとすることが好ましく、塩化白金酸又はそ
のオレフィンとの工１を体については、これをアルコー
ル、ケトン、エーテル或いは炭化水素系等の溶剤に溶解
して使用することが望ましい。なお、この触媒の添加猷
は所望の硬化速度が得られるように適宜調節すればよい
が、経済的見地或いは良好な硬化物を得るために、塩化
白金酸等のようにシロキサンと相溶するものについては
、前記した（１）成分と（２）成分の合計量に対し白金
量で１〜ｌｏＯＰＰｍ、白金黒等の固体触媒については
白金量で２０〜５００ｐｐｍの範囲とすることが好まし
い。

また、本発明の定着ロール用シリコーンゴム組成物とし
ては、有機過酸化物硬化型のものも使用され得るが、こ
のような有機過酸化物硬化型のものとしては下記（５）
　、　（６）　、　（７）成分よりなるものが用いられ
る。

即ち。

（５）一般式（ｖ） Ｒｉ　Ｓ　ｉｏ甲　　　　　　　　・・・・・・（ｖ）
（但し、Ｒ３はメチル基、エチル基、フェニル基、トリ
フルオロプロピル基及びビニル基から選択される同種又
は異種の基を示すが、そのうち少なくとも５０モル％は
メチル基であり、ａは１．９〜２．１の数を表わす。） で示されると共に、２００℃で１０ｆｆｔＩ＋Ｈｇ以上
の蒸気圧を有する低分子シロキサンの含有油が０．２重
量％より少ないオルガノポリシロキサン１００重量部。

（６）充填剤　　　　　　　　０〜３００重量部。

（７）触媒量の有機過酸化物 からなる有機過酸化物硬化型シリコーンゴム組成物であ
る。

ここで、上記（５）成分のオルガノポリシロキサンは、
いずれも単位式（ｖａ） ＨＲ：ＳｊＯ￥　　　　　　　・・叩・（ｖａ）（但し
、Ｒ４はメチル基、エチル基、フェニル基、トリフルオ
ロプロピル基及びビニル基から選択される同種又は異種
の基を示し、ｐは正の整数を表わす。） で示されるポリシロキサン骨格からなり１例えばオクタ
メチルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチルシクロト
リシロキサン、テトラメチルテトラビニルシクロテトラ
シロキサン、オクタフェニルシクロテトラシロキサン、
テトラメチルテトラフェニルシク口テトラシロキサン、
ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、オクタメチルシ
クロテトラシロキサン、トリメチルトリス（フルオロプ
ロピル）シクロトリシロキサン等の環状シロキサンから
選ばれる１種又は２種以上を適宜混合してなるものを出
発物質として用い、これらをアルカリ或いは酸触媒の存
在下において通常の工業的な公知方法で重合させて１：
）ることかできる。この場合。

分子鎖末端は水酸基或いはビニルル、メチル基、フェニ
ル基などの有機基のいずれでもよい。

工業的にＭｎされたオルガノポリシロキサンは、オクタ
メチルシクロテトラシロキサンをはじめ、デカメチルシ
クロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロ
キサン等の２００℃でＩＱＩｉ（ｇ以上の原気圧を有す
る低分子シロキサンを副生成物として約２〜７重量％含
んでいる。

この低分子シロキサンは除去して用いることが好ましく
、この低分子シロキサンの除去方法は前記（１）成分の
分子鎖両末端ビニル基封鎖オルガノポリシロキサンで説
明した方法と同様の方法（加熱ストリップ法、溶剤抽出
法等）を採用することができる。

（６）成分の充填剤としては有機過酸化物硬化型シリコ
ーンゴム組成物に使用されているすべてのものを使用す
ることができ、前記の（３）成分として例示したものな
どが挙げられる。また、その配合量も不発明の目的を損
なわない限り任意とされ、具体的には（５）成分のオル
ガノポリシロキサン１００重量部に対し３００重量部以
下とすることが好ましい。

更に、（７）成分の有機過酸化物は、オルガノポリシロ
キサンの架橋剤として作用するものであって、例えば過
酸化ベンゾイル、ターシャリ−ブチルパーオキサイド、
ジクロロベンゾイルパーオキサイド、過酸化ジクミルタ
ーシャリ−ブチルパーベンゾエート等を挙げることがで
きる。

この配合量は（５）成分のオルガノポリシロキサン１０
０重量部に対して約０．０５〜１０重量部、特に０．３
〜５重量部とすることが好ましい。

更にまた１本発明の定着ロール用シリコーンゴム組成物
としては室温硬化型のものを使用することができるが、
この室温硬化型のシリコーンゴム組成としては下記（８
）　、　（９）　、　（１０）　、　（１１）の成分よ
りなるものが用いられる。

即ち、 （８）一般式（輔） （但し、ＲＳ及びＲｓは置換及び非置換の−（ｄ！ｉ炭
化水素基から選択される同種又は異種の基を示し、ｎは
５以上の整数を表わす。） で示されると共に、２００℃で１Ｏｎ＋ｎ＋ｌ（ｇ以上
の蒸気圧を有する低分子シロキサンの含有量が０．２重
量％より少ない分子鎖両末端水酸基封鎖ジオルガノポリ
シロキサン　　　　　　１００重量部、（９）充填剤　
　　　　　　０〜３００重量部。

（１０）一分子中にケイ素原子に結合した加水分解可能
な基を少なくとも２個有するシラン又はシロキサンを上
記一般式（ｖｉｉｉ）の分子鎖両末端水酸基封鎖オルガ
ノポリシロキサンの水酸基１個に対し、このケイ素原子
に結合した加水分解可能な基を０．８〜５個供給し得る
量。

（１１）硬化触ｌＸ　　　　　　　Ｏ〜２０重址部。

からなる室温硬化型シリコーンゴム組成物である。

この場合、上記（８）成分である分子鎖両末端水酸基封
鎖オルガノポリシロキサンはいずれも単位式（ｖｌｉｌ
ａ） 一＋ｇ：ｓｊｏヤ　　　・・・・・・（■ａ）（但し、
Ｒ８はメチル基、エチル基、フェニル基、トリフルオロ
プロピル基及びビニル基から選択される同種又は異種の
基を示し、またｑは正の整数を表わす。） で示されるポリシロキサン骨格からなり、（１）及び（
５）の成分で示したのと同様に、単位式（ｉａ）。

（ｖ　ａ）ｙ　（４ａ）で示される環状シロキサン等の
１種又は２種以上を混合したものを末端水酸基封鎖のた
めに、水又は一般式（咄ｂ） （但し、Ｒ９はＲ８と同様であり、また、ｊはＯｙ。

いは１ｏ以内の正の整敬を表わす。） で示されるシラノール類を適当量添加し、アルカリ或い
は酸触媒の存在下、公知の工業的方法を用いて重合して
得ることができる。この際、水又はシラノールの添加量
は（８）成分の分子鎖両末端ビニル基封鎖オルガノポリ
シロキサンの重合度に応じ適宜決められる。

この重合反応は当業界では公知であるが、工業的に製造
されたものは、オクタメチルテトラシクロシロキサンを
はじめ、デカメチルペンタシクロシロキサン、ドデカメ
チルへキサシクロシロキサン等、２００℃で１０ｎｖｎ
）１ｇ以上の蒸気圧をもつ低分子シロキサンを副生成物
として含有しており、この低分子シロキサンの除去方法
は前記（１）成分、（５）成分の情衷の場合と同様に、
加熱スＩ−リップ法、溶剤抽出法等を用いることができ
る。なお、（８）成分の分子５１１両末端水酸法封鎖オ
ルガノポリシロキサンとしては、２５℃において粘度が
３００〜１００，０ＯＯｃｓであり、特に７００〜２０
，０ＯＯｃｓのものが好適に使用さ九る。

また、（９）成分のとしては充填剤は室温硬化型シリコ
ーンゴム組成物に使用されているすべてのものを使用す
ることができ、前記（３）又は（６）成分と同じである
。また、配合量も本発明の目的を損なわない限り任意と
され（８）成分の分子ｌＪＡ雨末端水酸基封爪オルガノ
ポリシロキサン１００重量部に対し、３００重量部以下
とされる。

更に、　（１０）成分のシラン又はシロキサンは（８）
成分の分子鎖両末端水酸基封鎖オルガノポリシロキサン
の架橋剤として作用するものであり、一分子中にケイ素
原子に結合する加水分解可能な基を少なくとも２個有す
るもので、直鎖状、分枝状、環状いずれのものでもよい
。例えば、一般式（Ｘ）Ｒ’）；　Ｘｙｓｉｏ４−ｘ−
Ｖ　　　　　　　・・・＋＋　（ｘ　）（但し、Ｒ”は
−価炭化水素店を表わし、また又は加水分解可能な基で
あって、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などの
アルコキシ法、アセトキシ基、ケトオキシ基、１−メチ
ルビニルオキシ基、置換もしくは未置換のアミド基、置
換もしくは未置換のアミノオキシ基、アミノオキシム基
、アルケニルオキシム基を示す。また、Ｘは０又は１、
ｙは４〜２を表わす、） で示されるシラン或いは部分加水分解シロキサンが挙げ
られ、これらの１種又は２種以上を使用することができ
る。

なお、（１０）成分として分子内に２個の加水分解井を
もつ２官能シラン或いはシロキサンを用いる場合には３
官能以上のシラン或いはシロキサンを添加して使用しな
くてはならない。

また、（１１）成分は硬化触媒であって１例えばジブチ
ルスズジオクトエートなどの有機スズ化合物、テトライ
ソプロピルチタネートなどの有機チタン化合物、更にグ
アニジル基含有シランなどが挙げられる。この（１１）
成分は（１０）成分のシラン、シロキサンの種類に応じ
て適宜選択使用されるものであって、例えば、　（１０
）成分としてメチルトリメトキシシラン、メチルトリエ
トキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、エチルポリシリケート、メチルトリアセト
キシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、メチルトリ
ス（メチルエチルケトオキシム）シラン又はビニルトリ
ス（メチルエチルケトオキシム）シラン等を使用する場
合には、（１１）成分の触媒としては有機スズ化合物を
使用することが望ましく、また、上記（１０）成分とし
てビニルトリス（１−メチルビニルオキシ）シランを使
用する場合には、　（１１）成分の触媒としてはグアニ
ジル基含有シランを使用することが好ましい。

なお、　（１１）成分は必ずしも必須とされるものでは
なく、例えば（１０）成分としてアミノオキシ基を含有
するシラン又はシロキサンを使用−た場合には、この（
１１）成分は全く使用しなくても良好な速さで硬化を完
了させることができる。

なお、本発明に使用される上述した各シリコーンゴム組
成物には必要に応じ着色剤、耐熱向上剤（ベンガラ、黒
ベンガラ、酸化セリウムなど）。

難燃性付与剤（カーボン、酸化チタン、ベンゾトリアゾ
ール炭酸アニン、炭酸マンガンなど）、付加反応制御剤
（ビニル基含有シロキサン、アセチレン系化合物など）
１発泡剤などを適宜配合して差支えない。また、補強剤
としてＳｉｎ、単位とＲ３Ｓ　ｉ　Ｏ−、ｓとからなる
レジン構造のシロキサンや、離型剤として無官能のシリ
コーンオイルを添加しても差支えないが、この場合でも
２００℃で１０ｎｍｌ！ｇ以上の黒気圧を有する低分子
シロキサンが組成物中に０．２重量％以上含まれないよ
うにすることが必要である。

また、これらのシリコーンゴム組成物を硬化してシリコ
ーンゴム製定着ロールを製造する方法は公知の方法が採
用され得る。

なお、低分子シロキサンの含有承は、該当するシリコー
ンゴム硬化物から溶剤により低分子シロキサンを抽出し
、ガスクロマトグラフのＦＩＤ法により定量してその含
有量を決めることができる。

叉匪汝廟米 本発明の定着ロールは、２００℃で１０　ｎｎＨｇ以上
の蒸気圧を有する低分子シロキサンの含有量が０．２重
量％より少ないシリコーンゴムからなるため、通常の低
分子シロキサンを含有するシリコーンゴム組成物を用い
て形成された定着ロールの場合と異なり、使用中に複写
機等のミラ一部や高電圧発生装置部が汚れて、複写に際
してコピー紙に黒点や空白が発生するといった不都合が
ないので鮮明な複写が得られると共に、定着ロールの寿
命が一段と向上し、更に部品の清掃等の回数も大幅に減
少し、従って、複写機、ファクシミリ、プリンターなど
の電子写真プロセスを利用した機器等の加熱及び／又は
加圧定着ロールとして有効に使用される。

次に、２００℃で１０１ｍＨｇ以上の蒸気圧を有する低
分子シロキサンの含有量が０．２重量％より少ないオル
ガノポリシロキサンの製造例を示す。

〔製造例１〕 で示される１、３−ジビニル−１，１，３，３−テトラ
メチルジシロキサンと。

Ｃ）■。

で示されるオクタメチルシクロテトラシロキサンとをに
一シラル−ト触媒を用いて重合した後、中和することに
より、両末端にビニル基を有するジメチルポリシロキサ
ン（１）を得た。

このジメチルポリシロキサン（Ｉ）を圧力３０ｒｙｎ　
Ｈｇ、温度１８０’Ｃの条件下で３時間ストリップ処理
を行ない、低分子シロキサンを除去して粘度１０．０５
０センチストークスのジメチルポリシロキサン（ｎ）を
得た。

上記のジメチルポリシロキサン（１）及び（Ｕ）中に含
まれる低分子シロキサンの斌をガスクロマトグラフ（島
津製作所爬ＧＣ−９Ａ、ＦＩＤ仕様）を用いて定量した
ところ、ジメチルシロキシ単位（ｏｎ位）　の１ｏｎ体
（Ｄｌ。、　ｂｐ、　２００　’Ｃ／　１０ｍｍＨｇ）
までの低分子シロキサンの含有量はジメチルポリシロキ
サン（１）は１３．４重量％、ジメチルポリシロキサン
（■）は１．８垂片％であった。

更に、ジメチルポリシロキサン（ｎ）を０．５ｍｍＨＨ
の減圧下で２００℃、１２時間加熱ストリップを行ない
、低分子ポリシロキサンを除去し、１０ｉ体（Ｄよ。）
までの低分子ポリシロキサンの含有量が０．０６重量％
のジメチルポリシロキサン（ｍ）を得た。

で示されるテトラメチルハイドロジエンジシロキサンと
、 で示される１、１，３．３−オクタメチルシクロテトラ
シロキサンと、 で示されるテトラメチルハイドロジェンシノロテトラシ
ロキサンとを硫酸を触媒として用いて重合した後、中和
することにより、平均組成式で示されるメチルハイドロ
ジエンポリシロキサン（ＩＶ）を得た。このメチルハイ
ドロジエンポリシロキサン（ＩＶ）を０．５ｍｍｔ４ｇ
の減圧下で２６０”Ｃ１２時間加熱ストリップを行ない
、低分子シロキサン含量の減少したメチルハイドロジエ
ンポリシロキサン（Ｖ）を得た。これらメチルハイドロ
ジエンポリシロキサン（ｒｖ）　、　　（Ｖ）中に含ま
れるＩＣｌｔ体（Ｄ□。）までの低分子シロキサンの含
有量は、（ＩＶ）は１６．０重景％、（Ｖ）は０．０４
１重景重景あった。

〔製造例３〕 で示されるメチルポリシロキサンと、 で示されるオクタメチルシクロテトラシロキサンと、で
示されるテトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキ
サンとをに一シラル−ト触媒を用いて重合し、ジメチル
ポリシロキサン単位９８モル％及びメチルビニルシロキ
サン単位２モル％よりなる粘度２６，５００センチスト
ークスのメチルビニルポリシロキサン（ＶＩ）を得た。

このメチルビニルポリシロキサン（ＶＩ）を３０ｍｍＨ
ｇの減圧下、温度１８０℃の条件下で３時間ストリップ
処理し、低分子シロキサンを減少させた粘度３０，００
０センチストークスのメチルビニルポリシロキサン（■
）を得た。更にこのメチルビニルポリシロキサン（■）
をアセトンを用いて洗浄し、残存する低分子シロキサン
を除去した。洗浄終了後、メチルビニルポリシロキサン
（■）に含まれろアセトンを３０　ｎＲＨｇの減圧下で
１５０℃、１時間ストリップ処理して除去し、低分子シ
ロキサン含有量の低いメチルビニルポリシロキサン（■
）を得た。

上記メチルビニルポリシロキサン（ＶＴ）、（■）、（
〜■）中に含まれる１０量体（Ｄｌ。）までの低分子シ
ロキサンの含有量は、（ＶＩ）は１３．０重量％、（■
）は２．１重１％、（■）は０．０４５重量％であった
。

〔製造例４〕。

で示されるオクタメチルシクロテトラシロキサンをに一
シラル−ト触媒を用いて重合し、中和することにより両
末端基が水酸基であって粘度が１７．３００センチスト
ークスのジメチルポリシロキサン（ＩＸ）を得た。この
ジメチルポリシロキサン（ＩＸ）を３０部ｍＨｇ（７）
減圧下、温度１８０℃（７）条件下で３時間ストリップ
処理し、低分子シロキサンを減少させて粘度が２０，０
００センチストークスのジメチルポリシロキサン（Ｘ）
を得た。更に、このジメチルポリシロキサン（Ｘ）を０
．５１１ＩＩＩＨｇの減圧下で１８０℃、３時間加熱ス
トリップ処理し、低分子シロキサンの減少したジメチル
ポリシロキサン（Ｘ［）を得た。これらジメチルポリシ
ロキサン（ＩＩ）、’（Ｘ）、（ＸＩ）中に含まれる１
０量体（Ｄ□。）までの低分子シロキサンの含有量は、
（ＩＫ）は１３．９重量％、（Ｘ）は３．７重量％、（
ＸＩ）は０．０８２重量％であった。

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが１本
発明は下記実施例に制限されるものではない。なお、下
記例において部はいずれも重量部を示し、また、粘度は
いずれも２５℃での値を示す。

〔実施例１〕 製造例１で製造した両末端にビニル基を有するジメチル
ポリシロキサン（ｍ）１００部、比表面積３００　ｒｌ
　／　ｇのフユームドシリカ５部、平均粒径２μの結晶
性シリカ４０部、ベンガラ５部、製造例２で製造したメ
チルハイドロジエンポリシロキサン（Ｖ）１．８部、変
性塩化白金酸のオクタツール変性触媒（白金濃度２．０
重量％）を白金として１０ｐｐｍを均一に混合して付加
型シリコーンゴム組成物を得た。このシリコーンゴム組
成物を用いてｐｒｉＩＩｌｅｒ　Ｎｏ、　１０１　（信
越化学（株）製）で処理したアルミニウム芯金に１７０
℃で８０秒間の射出成型を行ない、得られた成型品を２
００℃で４時間ポストキュアーし、ゴム厚８＋ｎｍで表
面が鏡面状の加圧定着ロール（ＡＯ）（実施例１）を得
た。

この加圧定着ロール（ＡＯ）より硬化シリコーンゴムを
切り取り、トルエンを用いてこの硬化シリコーンゴム中
に含まれる低分子シロキサンを抽出してその含有量を定
量した。また、加圧定着ロール（Ａ　ｏ　）を複写機に
装着し、複写機内に設置されたミラ一部に曇りが発生す
るまでのコピ一枚数を調べた。

ここで、トルエンにより抽出された硬化シリコーンゴム
中に低分子シロキサンのガスクロマトグラムを第１図に
示す。また、硬化シリコーンゴムの物性及び加圧定着ロ
ール（Ａ　ｏ　）を複写機へ実装した場合の結果を第１
表に示す。

〔比較例１，２〕 実施例で使用したジメチルポリシロキサン（ＩＩＩ）の
代りにジメチルポリシロキサン（１）を用い、メチルハ
イドロジエンポリシロキサン（Ｖ）の代りにメチルハイ
ドロジエンポリシロキサン（ＩＶ）を用いた以外は実施
例１と同様にして定着ロール（Ａ工）（比較例１）を得
た。

更に、ジメチルポリシロキサン（Ｉｌｌ）の代りにジメ
チルポリシロキサン（ＩＩ）を用い、メチルハイドロジ
エンポリシロキサンとして（ＩＶ　）を用いた以外は実
施例１と同様にして定着ロール（Ａ２）（比較例２）を
得た。

比較例１及び比較例２の硬化シリコーンゴム中の低分子
シロキサンのガスグロマトグラムをそれぞれ第２図及び
第３図に示す。また、これら比較例１，２の硬化シリコ
ーンゴムの物性及び加圧定着ロールを複写機へ実装した
場合の結果を第１表に示す。

〔実施例２〕 製造例３で製造したメチルビニルポリシロキサン（■）
１００部、比表面積が１８０　ｍ′／　５；で表面を（
ＣＩＩ、）、　Ｓ　ｉｏｏ、、でコープインク゛したフ
ユームドシリカ５部、平均粒径２μの結晶性シリカ５０
部、２，５−ジメチル−２，５−ジ−ｔ−ブチルパーオ
キシヘキサン０．５部を均一に混合して有機過酸化物硬
化型シリコーンゴム組成物を得た。

このシリコーンゴム組成物を用い、実施例１で用いたも
のと同様のアルミニウム芯金を使用して実施例１と同形
状のロールを１７０℃、１０分間の条件で金型圧縮成型
し、成型品を脱型後、２００℃で２時間ポストキュアー
し１表面を研ＪＩパして加圧定着ロール（Ｂ　Ｏ）　（
実施例２）をネ゛）た。この定着ロール（Ｂｏ）より硬
化シリコーンゴムを切り取り、実施例１と同様に硬化シ
リコーンゴム中に含まれる低分子シロキサン量を定量す
ると共に、定着ロール（Ｂｏ）を複写機に実装して種々
試験を行なった。結果を第１表に示す。

〔比較例３，４〕 実施例２で使用したメチルビニルポリシロキサン（■）
の代りにメチルビニルポリシロキサン（ＶＩ）を用い（
比較例３）、またメチルビニルポリシロキサン（■）の
代りにメチルビニルポリシロキサン（■）を用いた（比
較例４）以外は実施例２と同様にしてそれぞれ比較例３
，４の加圧定着ロール（Ｂよ）、（Ｂ２）を得た。これ
ら比較例３，４の硬化シリコーンゴム中の低分子シロキ
サン含有量、物性及びロールの複写機への実装結果を第
１表に示す。

〔実施例３〕 製造例４で製造した両末端に水酸基を有するジメチルポ
リシロキサン（ＸＩ）１００部、ジブチルスズジラウレ
ート０．５部、平均粒径２μの結晶性シリカ５０部、エ
チルポリシリケート２部を均一に混合して室温硬化型シ
リコーンゴム組成物を得た。このシリコーンゴム組成物
をｐｒｉｍｅｒＸ−３３−０３３Ａ／Ｂ（信越化学（株
）製）で処理した鉄芯金をセットした金型に注入して室
温下で９６時間硬化させた後、成型品を脱型し、この成
型品を２００℃で２時間ポストキュアーして表面が鏡面
状の加圧定着ロール（Ｃｏ）（実施例３）を得た。

この定着ロール（Ｃｏ）より硬化シリコーンゴムを切り
取り、実施例１，２と同様に硬化シリコーンゴム中に含
まわる低分子シロキサン量を定量すると共に、複写機に
よる実装試験を行なった。結果を第１表に示す。

〔比１咬例５，６〕 実施例３で使用したジメチルポリシロキサン（ＸＩ）の
代りにジメチルポリシロキサン（ＩＸ）を用い（比較例
５）、また、ジメチルポリシロキサン（Ｘ［）の代りに
ジメチルポリシロキサン（Ｘ）を用いた（比較例６）以
外は実施例３と同様にして比較例５，６の加圧定着ロー
ル（Ｃ工）、（ＣＺ）を得た。これら比較例５，６の硬
化シリコーンゴｌ＼中の低分子シロキサン含有量、物性
及びコールの複写機への実装結果を第１表に示す。

力１表の結果より、本発明に係る定着ロールはミラ一部
の曇りを発生させ難く、コピー痔命を飛′１１１１的に
向上させると共に、良好な物性を有していることが認め
られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例に係る定着ロール中に含まれ
る２００℃で１０　ｎｍｔ１ｇ以上の蒸気圧を有する低
分子シロキサンのガスクロマトグラム、第２図及び第３
図はそれぞれ比較例の定着ロール中に含まれる低分子シ
ロキサンのガスクロマトグラムである。 出願人　　信越化学工業　株式会社 代理人　　弁理士　　小　島　隆　同 第１図 ＤｇＤ、０．。 第２図 Ｃ４Ｃ４ｔ　Ｃ６０ｑｒ）ＨＤ４ｒ）ｗｅＤｒ　Ｃ４０
，Ｄ＠　ＤｑＤ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、２００℃で１０ｍｍＨｇ以上の蒸気圧を有する低分
   子シロキサンの含有量が０．２重量％より少ないシリコ
   ーンゴムよりなることを特徴とする定着ロール。 ２、前記シリコーンゴムが、 （１）一般式（ｉ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾１及びＲ＾２はメチル基、エチル基、フェ
   ニル基、トリフルオロプロピル基及びビニル基から選択
   される同種又は異種の基を示し、ｌは５以上の整数を表
   わす。） で示されると共に、２００℃で１０ｍｍＨｇ以上の蒸気
   圧を有する低分子シロキサンの含有量が０．２重量％よ
   り少ない分子鎖両末端ビニル基封鎖オルガノポリシロキ
   サン１００重量部、 （２）一分子中にケイ素原子に結合した水素原子を２個
   以上有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンを上
   記一般式（ｉ）のオルガノポリシロキサンのビニル基１
   個に対しこのケイ素原子に結合した水素原子を０．５〜
   ５個供給し得るに十分な量、 （３）充填剤０〜３００重量部、 （４）触媒量の白金系化合物 からなる付加型シリコーンゴム組成物の硬化物である特
   許請求の範囲第１項記載の定着ロール。 ３、前記シリコーンゴムが、 （５）一般式（ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾３はメチル基、エチル基、フェニル基、ト
   リフルオロプロピル基及びビニル基から選択される同種
   又は異種の基を示すが、そのうち少なくとも５０モル％
   はメチル基であり、ａは１．９〜２．１の数を表わす。 ） で示されると共に、２００℃で１０ｍｍＨｇ以上の蒸気
   圧を有する低分子シロキサンの含有量が０．２重量％よ
   り少ないオルガノポリシロキサン １００重量部、 （６）充填剤０〜３００重量部、 （７）触媒量の有機過酸化物 からなる有機過酸化物硬化型シリコーンゴム組成物の硬
   化物である特許請求の範囲第１項記載の定着ロール。 ４、前記シリコーンゴムが、 （８）一般式（ｖｉｉｉ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾５及びＲ＾６は置換及び非置換の一価炭化
   水素基から選択される同種又は異種の基を示し、ｎは５
   ０以上の整数を表わす。） で示されると共に、２００℃で１０ｍｍＨｇ以上の蒸気
   圧を有する低分子シロキサンの含有量が０．２重量％よ
   り少ない分子鎖両末端水酸基封鎖ジオルガノポリシロキ
   サン１００重量部、 （９）充填剤０〜３００重量部、 （１０）一分子中にケイ素原子に結合した加水分解可能
   な基を少なくとも２個有するシラン又はシロキサンを上
   記一般式（ｖｉｉｉ）の分子鎖両末端水酸基封鎖オルガ
   ノポリシロキサンの水酸基１個に対しこのケイ素原子に
   結合した加水分解可能な基を０．８〜５個供給し得る量
   、 （１１）硬化触媒０〜２０重量部 からなる室温硬化型シリコーンゴム組成物の硬化物であ
   る特許請求の範囲第１項記載の定着ロール。