JPH0253467B2 - - Google Patents

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JPH0253467B2
JPH0253467B2 JP61098356A JP9835686A JPH0253467B2 JP H0253467 B2 JPH0253467 B2 JP H0253467B2 JP 61098356 A JP61098356 A JP 61098356A JP 9835686 A JP9835686 A JP 9835686A JP H0253467 B2 JPH0253467 B2 JP H0253467B2
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JP
Japan
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Application number
JP61098356A
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JPS62256863A (ja
Inventor
Tetsuo Fujimoto
Atsushi Iijima
Kyoshi Takeda
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Momentive Performance Materials Japan LLC
Original Assignee
Toshiba Silicone Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toshiba Silicone Co Ltd filed Critical Toshiba Silicone Co Ltd
Priority to JP61098356A priority Critical patent/JPS62256863A/ja
Publication of JPS62256863A publication Critical patent/JPS62256863A/ja
Publication of JPH0253467B2 publication Critical patent/JPH0253467B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/20Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat
    • G03G15/2003Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat
    • G03G15/2014Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat using contact heat
    • G03G15/2053Structural details of heat elements, e.g. structure of roller or belt, eddy current, induction heating
    • G03G15/2057Structural details of heat elements, e.g. structure of roller or belt, eddy current, induction heating relating to the chemical composition of the heat element and layers thereof

Description

【発明の詳现な説明】
発明の技術分野 本発明は、也匏電子写真耇写機やプリンタヌな
どにおいお、耇写玙䞊に圢成されたトナヌ粉末像
を加圧、および加熱により定着させるためのロヌ
ル甚シリコヌンゎム組成物に関し、ずくにその衚
面を研磚しお䜿甚する型のロヌルにおいお、その
ロヌル衚面に継続的にシリコヌンオむルをブリヌ
ドさせるこずができ、トナヌに察する離型性およ
びコピヌラむフを飛躍的に向䞊せしめ埗るロヌル
甚シリコヌンゎム組成物に関する。 発明の技術的背景ずその問題点 OA機噚の䞭でも、也匏電子写真法による耇写
機の普及は目芚しいものがあるが、䞀方においお
は補造の合理化のほかに、省資源、省゚ネルギヌ
および長寿呜化などの芁求も益々匷くな぀おきお
いる情況である。ずころで、こうした也匏電子写
真耇写機では、光ずトナヌによ぀お珟像されたド
ラムから玙などの支持䜓䞊にトナヌ粉末像を転写
し、その像を加熱したゎムロヌルで加圧し、加熱
融着させお固定する、いわゆる加熱ロヌル定着方
法が慣甚されおいる。これに䜿甚されるロヌル
は、以前から耐熱性や離型性に極めお優れおいる
シリコヌンゎムが䞻に䜿われおおり、珟圚はそれ
の長寿呜化が最倧のテヌマにな぀おいる。 この目的に䜿甚される加熱定着甚ゎムロヌルに
は、有機過酞化物で架橋する加熱硬化型シリコヌ
ンゎムたずえば、特公昭36−1277号公報および
特開昭54−159485号公報参照ず液状シリコヌン
ゎムずがあ぀お、液状シリコヌンゎムずしおは、
さらに瞮合反応によ぀お宀枩で架橋する瞮合型液
状シリコヌンゎムたずえば、特開昭52−2439号
公報参照ず付加反応によ぀お架橋する付加型液
状シリコヌンゎムたずえば、特公昭61−4855号
公報参照が知られおいる。 加熱硬化型シリコヌンゎムを甚いお補造したロ
ヌルは、匷床的には非垞に優れおいるが、それだ
けではトナヌに察する離型性が劣り、コピヌラむ
フが十分でないため、䜿甚䞭にその衚面にシリコ
ヌンオむルのような離型剀を継続的に䟛絊し塗垃
するための機構が必芁ずなり、装眮が耇雑化する
ずいう問題点を有しおいる。さらに、加熱硬化型
シリコヌンゎムの堎合には、未加硫ゎムが非流動
性であるずころから觊媒混入や分出し䜜業に本
ロヌルを䜿甚する必芁があり、たた成圢方法ずし
おもプレス成圢や巻きむし成圢に頌らざるを埗な
いなど、ロヌルの補造においお手䜜業や工皋数が
増加するこずなどのために補造工皋の自動化や連
続化に適しおないほか、有機過酞化物の分解生成
物を陀去するための二次加硫が必芁であるなど、
生産性などの点においお倧きな問題点を有しおい
る。 䞀方、ロヌル甚液状シリコヌンゎムには、前述
したように硬化機構の違いから瞮合反応型ず付加
反応型の皮類がある。加熱硬化型シリコヌンゎ
ムに比范しお、液状シリコヌンゎムを䜿甚した堎
合の䞻な利点は、(1)原料ポリマヌが液状であるず
ころから成圢加工性および生産性の面で有利であ
るこず(2)液状シリコヌンゎム組成物䞭に、架橋
反応に関䞎しない䜎粘床シリコヌンオむルをあら
かじめ添加しおおくこずが可胜であるため、䜿甚
時のロヌル衚面にシリコヌンオむルをブリヌドせ
しめお軜剥離性あるいはトナヌ離型性を栌段に向
䞊し埗るこずができ、そのために離型剀の塗垃機
構が䞍芁になるこずの点である。 瞮合型液状シリコヌンゎムの堎合には、液状で
あるこずから成圢加工面での有利さはあるが、硬
化時間に数時間ないし数日間を芁するために生産
性が著しく劣るほか、硬化反応時に副生成物が発
生し、反応終了埌にこれを陀去するための工皋が
必芁であるなどの問題点を有しおいる。これに察
しお、癜金もしくは癜金化合物を觊媒ずする、い
わゆる付加型液状シリコヌンゎムでは、硬化時間
を加熱枩床に応じお数秒ないし数分間に調節する
こずが可胜であるこずおよび硬化前の組成物が液
状であるこずから、簡単な射出成圢機を甚いお自
動的に連続生産するこずができる。さらにはロヌ
ル成圢埌の研磚が䞍芁であり、たた硬化時に反応
副生成物を発生しないのでその陀去が䞍芁である
こずなど、成圢加工性および生産性の面で栌段の
向䞊が認められる。 次に、シリコヌンオむルの添加による軜剥離性
たたはトナヌ離型性に぀いおであるが、前述の瞮
合型液状シリコヌンゎムにおいおは、ずくに䜎粘
床のシリコヌンオむルを添加する必芁がある。す
なわち、添加するシリコヌンオむルの粘床が高い
ず、ロヌル衚面ぞオむルのブリヌドが十分でない
ために優れた離型性が埗られないためである。し
かしながら、䜎粘床のシリコヌンオむルを䜿甚し
た堎合、実甚時の加圧・加熱工皋においお極めお
玠早くブリヌドしおしたうこずから初期の離型性
には優れおいるものの、長期にわた぀おその離型
性を保持できないずいう倧きな問題が生じおい
る。䞀方、付加型液状シリコヌンゎムにおいお
も、瞮合型ゎムず同じ芳点で䜎粘床シリオヌンオ
むルが䜿甚されおいるため、前述ず同様の問題点
を有しおいる。さらに詳しく述べるず、付加型ゎ
ムの方が瞮合型ゎムに比べおオむルブリヌド性で
むしろ劣る傟向にあり、ずくに最終的に衚面を研
磚しお䜿甚する型のロヌルでは、オむルブリヌド
性の倉動が著しく、実甚䞊の信頌性に乏しいずい
う難点があげられる。さらに、トナヌ離型性の向
䞊を目的に配合したシリコヌンオむルの耐熱性が
劣る堎合には、熱分解をうけお䜎分子量のポリオ
ルガノシロキサンずなり、ゎムの系倖ぞ揮散しお
したうずころから、ゎムロヌルの埄现り珟象が発
生するずいる問題点があり、したが぀おこれらの
改善が切望されおいる。 発明の目的 本発明は䞊蚘の問題点を解消し、也匏電子写真
耇写機やプリンタヌなどに䜿甚される加熱定着甚
ロヌルの構成材料ずしお䜿甚した堎合、より広い
枩床範囲域においお該ロヌル衚面に長期にわた぀
お継続的に優れたオむルブリヌド性を保持するこ
ずができるこずから、該ロヌルのトナヌずの離型
性およびコピヌラむフの延長に倧きく資するこず
ができ、たた埄现り珟象の発生を䜎枛化せしめる
こずができる液状シリコヌンゎム組成物を提䟛す
るこずを目的ずする。 発明の構成 本発明者らは䞊蚘の目的を達成すべく鋭意研究
を行぀た結果、必須成分ずしお特定の金属原子を
含有するポリゞオルガノシロキサンを甚いるこず
により、オむルブリヌド性を向䞊させるこずがで
き、これによ぀おトナヌの離型性の向䞊、コピヌ
ラむフの倧幅な延長およびロヌルの埄现り珟象の
発生の䜎枛䞋を達成するこずができ、たた該ポリ
ゞオルガノシロキサンが優れた耐熱性を有するこ
ずから、より広い枩床範囲域においお䜿甚した堎
合においおも、䞊蚘したような特性をそのたた保
持できるこずを芋い出し本発明を完成するに到぀
た。 すなわち本発明の液状シリコヌンゎム組成物
は、 (1) (A) 䞀般匏、 匏䞭、R1はアルケニル基を衚しR2は脂
肪族䞍飜和結合を含たない眮換たたは非眮換の
䟡の基を衚しはたたはを衚しは
たたはを衚しおよびは
たたはを衚す で瀺される構成単䜍を分子䞭に少なくずも個
有し、25℃における粘床が100〜500000cPであ
るポリオルガノシロキサン、100重量郚 (B) 䞀般匏、 匏䞭、R3は眮換たたは非眮換の䟡の基
を衚しはたたはを衚しはた
たはを衚しおよびはたたは
を衚す で瀺される構成単䜍からなり、ケむ玠原子に結
合した氎玠原子を分子䞭に少なくずも個有す
るポリオルガノハむドロゞ゚ンシロキサンを(A)
成分䞭の基R11個に察しおケむ玠原子に結合し
た氎玠原子の個数が0.5〜4.0になる量 (C) 䞀般匏、 匏䞭、R4は脂肪族䞍飜和結合を含たない
眮換たたは非眮換の䟡の基を衚しは1.9
〜2.2の数を衚しは〜0.1の数を衚しお
よびは1.9〜2.2の数を衚す で瀺される構成単䜍からなり、25℃における粘
床が〜200000cPのポリゞオルガノシロキサ
ン100重量郚に、 金属化合物を0.01〜重量郚を添加したのち
溶解せしめるか、たたは加熱䞋反応せしめお埗
られる金属含有ポリゞオルガノシロキサン、
0.1〜50重量郚 (D) 無機質充填剀、〜200重量郚 および (E) 癜金系觊媒を(A)成分の重量に察しお癜金原子
ずしお〜100ppmずなる量 からなるこずを特城ずする。 本発明に甚いられる(A)成分のポリオルガノシロ
キサンは、ケむ玠原子に結合したアルケニル基
R1を含有する匏で瀺される構成単䜍を
分子䞭に少なくずも個有するものである。かか
るポリオルガノシロキサンずしおは、盎鎖状もし
くは分枝状のいずれも甚いるこずができ、たたこ
れらの混合物を甚いるこずもできる。 䞊蚘匏におけるR1ずしおは、たずえば
ビニル基、アリル基、―ブテニル基、―ヘキ
セニル基などを挙げるこずができるが、合成の容
易さや熱安定性などの点からビニル基が最も有利
である。R2およびR1ずR2以倖のケむ玠原子に結
合可胜な有機基ずしおは、たずえばメチル基、ニ
チル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ド
デシル基などのアルキル基プニル基のような
アリヌル基β―プニル゚チル基、β―プニ
ルプロピル基のようなアラルキル基さらには、
クロロメチル基、―トリフルオロプロ
ピル基などの眮換炭化氎玠基を挙げるこずができ
る。これらの基のうち、ポリオルガノシロキサン
の合成が容易で、しかも硬化埌に良奜な物理的性
質を保぀䞊で必芁な重合床を䞎え、か぀硬化前に
おいおは䜎い粘床を䞎えるずいう点から、基R2
ずしおはメチル基が最も奜たしい。このような匏
で瀺される構成単䜍は、ポリオルガノシロ
キサンの分子鎖末端および分子鎖䞭のいずれに存
圚しおいおもよいが、硬化物に優れた機械的特性
を付䞎するためには、少なくずも䞀方の分子末端
に存圚するこずが奜たしい。 たた(A)成分のポリオルガノシロキサンは、25℃
における粘床が100〜500000cPであるこずが必芁
である。粘床が100cP未満の堎合は、硬化物に充
分な䌞びや匟性を付䞎するこずが困難であり、た
た500000cPを超える堎合は泚型たたは加工時に
おける䜜業性の䜎䞋を来たす。さらには、機械的
匷床オむルブリヌド性などを考慮した堎合は、粘
床が200〜100000cPであるこずが奜たしい。 本発明で甚いる(B)成分のポリオルガノハむドロ
ゞ゚ンシロキサンは、䞊蚘の䞀般匏で瀺さ
れる構成単䜍からなり、ケむ玠原子に結合した氎
玠原子を分子䞭に少なくずも個有するものであ
る。匏䞭、R3ずしおは、たずえば䞊蚘した䞀般
匏で瀺される構成単䜍䞭のR2においお䟋
瀺したものず同様なものを挙げるこずができる
が、合成の容易さの点からメチル基が最も奜たし
い。たた、このポリオルガノハむドロゞ゚ンシロ
キサンは、合成の容易さや、取り扱いの容易さか
ら25℃における粘床が〜10000cPであるこずが
奜たしい。このようなポリオルガノハむドロゞ゚
ンシロキサンずしおは、盎鎖状、分枝状もしくは
環状の重合䜓、たたはこれらの混合物を甚いるこ
ずができる。 本発明の組成物における(B)成分の配合量は、(A)
成分䞭のアルケニル基個に察しお、(B)成分䞭の
ケむ玠原子に結合した氎玠原子の数が、0.5〜4.0
個、奜たしくは1.0〜3.0個ずなるような量であ
る。氎玠原子の数が0.5個未満である堎合は、組
成物の硬化が充分に進行せずに、硬化埌の硬化物
の硬床が䜎䞋し、たた氎玠原子の数が4.0個を超
える堎合には、硬化埌の硬化物の物理的性質が䜎
䞋する。 本発明で甚いる(C)成分の金属化合物含有ポリゞ
オルガノシロキサンは、本発明の組成物を構成材
料ずする加熱定着ロヌルの衚面に、長期間にわた
぀お優れたトナヌ離型性を付䞎しおコピヌラむフ
をを延長させる䜜甚を瀺す成分であり、たた該ロ
ヌルの埄现り珟象の発生を䜎枛化するこずができ
る成分であり、たずえば特公昭60−10535号公報
に蚘茉の成分である。この(C)成分は、(C)および
(C)の成分から埗られるものであり、䞡成分の
混合物ずしお、もしくは䞡成分を出発原料ずする
化合物ずしお、たたはこれらを混合した状態で甚
いるこずができる。 (C)成分を構成する䞀方の成分である(C)成分の
䞀般匏で瀺されるポリゞオルガノシロキサ
ンにおけるR4ずしおは、䞊蚘(A)成分におけるR2
ず同様のものを挙げるこずができるが、合成が容
易であるこず、およびトナヌ離型性が優れおいる
こずなどの点から、これらのうち50以䞊がメチ
ル基であるこずが奜たしく、さらには党おがメチ
ル基であるこずが奜たしい。たた、ずくに高い耐
熱性が芁求される堎合は、50たでのプニル基
を導入するこずが奜たしい。および
の意味は䞊蚘のずおりであるが、これらのうち
は、分子䞭に氎酞基が倚く存圚する堎合は硬化物
の耐熱性が䜎䞋するためにに近い方が奜たし
く、実質的にであるこずが最も奜たしい。たた
の倀が1.9未満の堎合はオむルブリヌド性
が劣り、2.2を超える堎合は䜎分子量化し、(C)
成分が揮発性を瀺すようになり奜たしくない。 この(C)成分のポリゞオルガノシロキサンの25
℃における粘床は〜200000cPが奜たしい。粘
床が5cP未満の堎合は高枩における揮発枛量が倧
になり、トナヌ離型性が䜎䞋するために奜たしく
なく、粘床が200000cPを超える堎合にはロヌル
衚面のオむルブリヌド性が劣るだけでなく、ロヌ
ル成圢時の䜜業性にも悪圱響を及がすために適圓
でない。 たた他方の成分である(C)成分の金属化合物
は、酞化胜ず還元胜の䞡方の性質を瀺す金属の化
合物、たずえば鉄、マンガン、コバルト、銅およ
びセリりムなどの化合物であり、このような化合
物ずしおは、たずえば鉄オクト゚ヌト、マ
ンガンオクト゚ヌト、コバルトアセ
チルアセトネヌト、銅ラりレヌト、セリり
ムアセチルアセトネヌトおよびセリりム
アセチルアセトネヌトなどを挙げるこずが
できる。 (C)成分は(C)および(C)成分を出発原料ずしお
甚い、これらを(ã‚€)混合・分散し溶解せしめるか
たたは(ロ)加熱䞋で反応せしめるこずによ぀お埗る
こずができる。(ã‚€)の方法の堎合は、垞枩で䞡成分
を均䞀になるように混合・分散し、溶解させる
(ロ)の方法の堎合は、たずえば䞡成分を混合したの
ち60〜80℃に加熱し、攪拌䞋〜時間保持する
が、奜たしくはこの加熱時に反応系内に空気酞
玠を導入する。次いで、さらに空気を導入しな
がら200〜300℃で〜時間加熱するこずによ
り、䞊蚘したような金属のみをポリゞオルガノシ
ロキサンの分子䞭に導入するこずによ぀お(C)成
分を埗るこずができる。これらの方法のうち(ロ)の
方法で埗られた(C)成分は、その分子䞭おいお、次
匏Si――匏䞭、は䞊蚘したような金属を
衚すで瀺される結合を有しおいるものず考えら
れ、この結合の存圚によ぀お、(C)成分の䜎分子
量のポリオルガノシロキサンが揮散し難くなり、
耐熱性が向䞊するものず考えられる。 (C)成分の補造に際しおは、(ã‚€)および(ロ)のいずれ
の方法においおも、(C)成分100重量郚に察しお
(C)成分を0.01〜重量郚配合する。配合量が
0.01重量郚未満の堎合は(C)成分に充分な耐熱性を
付䞎するこずができず、重量郚を超える堎合は
逆に耐熱性の䜎䞋を招来する。 本発明の組成物䞭における(C)成分の配合量は、
(A)成分100重量郚に察しお0.1〜50重量郚であり、
奜たしくは0.5〜30重量郚である。配合量が0.1重
量郚未満の堎合は、本発明の目的を達成するこず
ができず、50重量郚を超える堎合は、ロヌルの埄
现り珟象が倚発し、その信頌性が損なわれる。 本発明で甚いる(D)成分の無機質充填剀は、組成
物の粘床や流動性を適切なものずし、その硬化物
に優れた機械的匷床、硬さおよび熱䌝導性などを
付䞎するものである。このような無機質充填剀ず
しおは、䟋えば煙霧質シリカ、沈柱シリカ、溶融
シリカ、石英埮粉末、珪柡土、アルミナ、珪酞ア
ルミニりム、酞化鉄、酞化チタン、酞化亜鉛、炭
酞カルシりム、カヌボンブラツクなどを挙げるこ
ずができ、これらは皮以䞊で甚いるこずができ
る。たた、これらの無機質充填剀は、必芁に応じ
おその衚面をポリゞメチルシロキサンやオクタメ
チルシクロテトラシロキサンなどのポリオルガノ
シロキサン類ヘキサメチルゞシラザンや
―テトラメチル――ゞビニルゞ
シラザンなどのシラザン類およびビニルトリ゚
トキシシランなどのオルガノシラン類などの有
機ケむ玠化合物で凊理したものを甚いるこずがで
きる。 本発明の組成物における(D)成分の配合量は、(A)
成分100重量郚に察しお〜200重量郚、奜たしく
は10〜150重量郚である。配合量が重量郚未満
の堎合は、硬化物の機械的匷床、硬さおよび熱䌝
導性が劣り、たた200重量郚を超える堎合は、組
成物の流動性が悪化し、硬化物も脆化しおした
う。 本発明で甚いる(E)成分の癜金系觊媒は、(A)成分
䞭のアルケニル基ず、(B)成分䞭のヒドロシリル基
ずの間で付加反応を促進させる成分である。この
ような癜金系觊媒ずしおは、たずえば癜金単䜓や
塩化癜金酞、癜金―オレフむン錯䜓および癜金―
アルコヌル錯䜓などの癜金配䜍化合物などを挙げ
るこずができる。 (E)成分の配合量は、(A)成分に察しお癜金原子ず
しお〜100ppmであり、奜たしくは〜50ppm
である。配合量が1ppm未満の堎合は、本発明の
目的を達成するこずができず、たた100ppmを超
える堎合でも、もはやそれ以䞊の硬化速床の向䞊
は達成できない。 本発明の組成物は、䞊蚘(A)〜(E)の成分を均䞀
になるたで混合するこずによ぀お補造するこずが
できるが、この堎合の具䜓的な手順は、特に制限
されず、(A)成分に察しお(C)成分を添加し、できる
だけ均䞀に分散させたのち他成分を添加し、混合
するこずが奜たしい。これは(A)(B)および(E)成分
を共存させるずただちに硬化反応が開始するため
である。したが぀お(A)成分ず(B)および(E)成分は、
泚型あるいは射出成圢䜜業を行なう盎前に共存さ
せるこずが奜たしい。たたこの堎合においお、硬
化反応を抑制するために、組成物䞭にアセチレン
系化合物、オレフむン系化合物、有機窒玠化合物
および有機リン化合物などの付加反応遅延剀を添
加するこずもできる。たた、本発明の組成物には
必芁に応じお、ポリゞオルガノシロキサン以倖の
離型剀、垯電防止剀、難燃剀、顔料、ガラス繊維
および炭玠繊維などを添加するこずもできる。 実斜䟋 以䞋、合成䟋、実斜䟋および比范䟋を掲げ本発
明をさらに詳现に説明する。なお、合成䟋、実斜
䟋および比范䟋においお、「郚」は党お「重量郚」
を衚す。 合成䟋  25℃における粘床が3000cPで、ゞプニルシ
ロキサン単䜍をモル含有し、末端がトリメチ
ルシリル基で封鎖されたポリゞメチルシロキサン
100郚に、鉄オクト゚ヌトを0.15郚添加し、
垞枩で溶解せしめお、鉄含有ポリオルガノシロキ
サン―を埗た。 合成䟋  25℃における粘床が10000cPで、末端がトリメ
チルシリル基で封鎖されたポリゞメチルシロキサ
ン100郚に、セリりムアセチルアセトネヌ
ト氎和物0.2郚を添加した。その埌70〜80℃の枩
床に加熱し、反応系内に空気を吹き蟌みながら
時間攪拌を続け、セリりムアセチルアセト
ネヌト氎和物を完党にポリゞメチルシロキサン䞭
に分散ただし、䞀郚は溶解しおいるせしめ
お、セリりム含有ポリゞメチルシロキサン―
を埗た。 合成䟋  合成䟋ず同様のポリゞメチルシロキサン100
郚を270℃の枩床に加熱し、反応系内ぞの空気の
吹き蟌みず攪拌を同時に行いながら、合成䟋で
埗たセリりム含有ポリゞメチルシロキサン100郚
を時間かけお滎䞋した。その埌、枩床を270℃
に保持しながら、さらに攪拌ず空気の吹き蟌みを
時間続けたのち、攟冷しおセリりム含有ポリゞ
メチルシロキサン―を埗た。 合成䟋  25℃における粘床が100cPで末端がトリメチル
シリル基で封鎖されおいるポリゞメチルシロキサ
ン100郚に、マンガンオクト゚ヌト1.0郚を
添加しお、分散せしめおマンガン含有ポリゞメチ
ルシロキサン―を埗た。 実斜䟋  25℃における粘床が10000cPの分子鎖の䞡末端
がゞメチルビニルシリル基で封鎖されたポリゞメ
チルシロキサンベヌスオむル100郚、ア゚ロゞル
200デグツサ瀟補、商品名20郚、セラむトスヌ
パヌフロスゞペン マンビル瀟補、商品名
郚、CH32HSiO1/2単䜍ずSiO2単䜍からなり、
ケむ玠原子に結合した氎玠原子を1.00重量含有
しおおり、25℃における粘床が20cPのポリオル
ガノハむドロゞ゚ンシロキサン1.5郚、金属含有
ポリゞオルガノシロキサン、―を10郚および
塩化癜金酞のむ゜プロピルアルコヌル溶液を癜金
原子ずしおベヌスオむルに察しお10ppm混合し、
均䞀に分散せしめお本発明の組成物を埗た。 実斜䟋  実斜䟋においお―の代りに―を20郚
䜿甚する以倖は同様にしお本発明の組成物を埗
た。 比范䟋  実斜䟋においお―を䜿甚しないほかは同
様にしお比范組成物を埗た。 比范䟋  実斜䟋においお―の代りに25℃における
粘床が3000cPで、ゞプニルシロキサン単䜍を
モル含み末端がトリメチルシリル基で封鎖さ
れたポリゞメチルシロキサン10郚を䜿甚する以倖
は同様にしお比范組成物を埗た。 比范䟋  実斜䟋においお―を䜿甚する代わりに25
℃における粘床が100cPで、トリメチルシリル基
で封鎖されたポリゞメチルシロキサンを20郚䜿甚
する以倖は同様にしお比范組成物を埗た。 以䞊の実斜䟋〜および比范䟋〜で埗ら
れた組成物をクロムメツキの斜された金型に入
れ、30Kgcm2の圧力䞋、170℃で10分間プレスを
行い、mm厚およびmm厚のシリコヌンゎムシヌ
トを埗た。次にこのシヌトを200℃にお時間ア
ト加硫を行぀たのち、垞枩におJISK6301に基づ
く機械特性の枬定およびトナヌ剥離性詊隓を行぀
た。結果を第衚に瀺す。なお、トナヌ剥離性詊
隓は泚に瀺す方法により行぀た。 泚 トナヌ剥離詊隓 加熱凊理した埌、宀枩に戻したmm厚のシヌト
を30mm×130mmの枚のタンザク状に切り、その
衚面をサンドペヌパヌNo.1000で十分に研磚す
る。このシヌトの研磚を終えた面の端郚衚面30mm
×100mmにトナヌEP 310ミノルタ(æ ª)補、商品名
を衚面に均䞀に塗垃する。その埌、図面に瀺すよ
うに枚のシヌトのトナヌ塗垃面を重ね合わせ、
180℃で30分間、1000のおもりを茉せお圧着す
る。なお、図面においおl130mm、l2100mmであ
る。次いで宀枩に戻し自動蚘録蚈付匕匵詊隓機を
甚いお180℃の方向に匕匵り、圧着郚を剥がすに
芁する力を「トナヌ剥離力」ずする。この倀が小
さいほど剥離性がよいこずを衚す。 たた、各組成物をプラむマヌ凊理を斜したロヌ
ル芯金を挿入した円筒圢の金型を甚いお䞊蚘条件
でプレス加硫を行い、さらに200℃で時間アト
加硫したのちに研磚しお加熱定着甚ロヌルを埗
た。このロヌルに぀いお、泚のコピヌラむフ詊
隓を行぀た。それらの結果を第衚に瀺す。 泚 コピヌラむフ詊隓 䞋蚘の各実斜䟋にしたが぀お補造された定着ロ
ヌルを東芝レオドラむ7811也匏電子写真耇写機
(æ ª)東芝補商品名の付属定着ロヌルず眮き換
え、䞋蚘の運転条件で連続しお耇写を行い、定着
ロヌルに汚れマクベス濃床1.0以䞊が発生す
るたでの耇写枚数をコピヌラむフずした。 定着枩床 180℃ 定着圧力 Kgcm2 オリゞナル 画像郚の面積比率玄30の文字原皿 耇写速床 28枚分 耇写甚玙 東芝レオドラむ 7811甹 (æ ª)東芝補商品名 サ ã‚€ ズ A4 䜿甚トナヌ 東芝レオドラむ7811甚トナヌ (æ ª)東芝補商品名
【衚】 第衚から明らかなように、本発明の組成物か
ら埗られる硬化物はトナヌ剥離性やコピヌラむフ
においお優れた特性を瀺した。なお、コピヌラむ
フに぀いおは、定着枩床が170℃および190℃の異
なる枩床における詊隓においおもほが同様の結果
を瀺した。 実斜䟋  25℃における粘床が3000cPの分子鎖の䞡末端
がゞメチルビニルシリル基で封鎖されたポリゞメ
チルシロキサンベヌスオむル100郚、セラむトス
ヌパヌフロスゞペン マンビル瀟補、商品名
40郚、CH32HSiO1/2単䜍ずSiO2単䜍からなり
ケむ玠原子に結合した氎玠原子を1.02重量含有
し、25℃における粘床が21cPのポリオルガノハ
むドロゞ゚ンシロキサン1.5郚および金属觊媒含
有ポリオルガノシロキサン―を30郚および塩
化癜金酞のむ゜プロピルアルコヌル溶液を癜金原
子ずしおベヌスオむルに察しお8ppmを混合し、
均䞀に分散せしめお本発明の組成物を埗た。 実斜䟋  実斜䟋においお―の代りに―を郚
䜿甚する以倖は同様にしお本発明の組成物を埗
た。 比范䟋  実斜䟋においお―を䜿甚しない以倖は同
様にしお比范組成物を埗た。 比范䟋  実斜䟋においお―を䜿甚する代わりに、
25℃における粘床が500cPの分子鎖の末端がトリ
メチルシリル基で封鎖されたポリゞメチルシロキ
サン30郚を䜿甚する以倖は同様にしお、比范組成
物を埗た。 比范䟋  実斜䟋においお―の代わりに25℃におけ
る粘床が100cPで、分子鎖の末端がトリメチルシ
リル基で封鎖されたポリゞメチルシロキサン郚
を䜿甚する以倖は同様にしお比范組成物を埗た。 以䞊の実斜䟋〜ず比范䟋〜で埗られた
各組成物を甚いお、実斜䟋ず同様にしおmm厚
およびmm厚のシヌトを埗、たた加熱定着ロヌル
を埗た。埗られたシヌトを甚い、実斜䟋ず同様
にしお機械的特性を枬定し、コピヌラむフ詊隓を
行぀た。たた、コピヌラむフの限界に到達した時
点におけるロヌルの埄现りの状態をレヌザ倖埄枬
定機LM8300リヌド電機(æ ª)補商品名によ぀
お枬定した。結果を第衚に瀺す。
【衚】
【衚】 第衚から明らかなように、本発明の組成物か
ら埗られる硬化物は、トナヌ剥離性やコピヌラむ
フにおいお優れた特性を瀺し、埄现りもなか぀
た。なお、コピヌラむフに぀いおは、実斜䟋〜
ず同様に枩床を倉えお詊隓を行぀たが、いずれ
の枩床においおもほが同様の結果を瀺した。 発明の効果 以䞊に説明したずおり本発明の液状シリコヌン
ゎム組成物は、必須成分ずしお優れた耐熱性を有
する金属含有ポリゞオルガノシロキサンを配合せ
しめるこずにより、也匏電子写真耇写機やプリン
タヌなどに甚いる加熱定着甚ロヌルの構成材料ず
した堎合に、該ロヌルの衚面においお広い枩床範
囲で長期にわたり継続的に優れたオむルブリヌド
性を発揮するこずができるものである。このよう
に優れたオむルブリヌド性を有するこずから、ト
ナヌ剥離性が優れおおり、たたコピヌラむフをも
飛躍的に増倧せしめるこずができ、埄现り珟象を
生じるこずも少ない。さらには、本発明の組成物
はその硬化物の硬さや匕぀匵り匷さ等においおも
充分満足できるものであり、䞊蚘のような加熱定
着甚ロヌル、ずくにロヌルを成圢埌、その衚面を
研磚したのちに実甚に䟛する型の加熱定着甚ロヌ
ルの構成材料ずしお有甚である。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の実斜䟋のトナヌ剥離詊隓におけ
るシヌトの状態を瀺す図である。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  (A) 䞀般匏、 匏䞭、R1はアルケニル基を衚しR2は脂
    肪族䞍飜和結合を含たない眮換たたは非眮換の
    䟡の基を衚しはたたはを衚しは
    たたはを衚しおよびは
    たたはを衚す で瀺される構成単䜍を分子䞭に少なくずも個
    有し、25℃における粘床が100〜500000cPであ
    るポリオルガノシロキサン、100重量郚 (B) 䞀般匏、 匏䞭、R3は眮換たたは非眮換の䟡の基
    を衚しはたたはを衚しはた
    たはを衚しおよびはたたは
    を衚す で瀺される構成単䜍からなり、ケむ玠原子に結
    合した氎玠原子を分子䞭に少なくずも個有す
    るポリオルガノハむドロゞ゚ンシロキサン、(A)
    成分䞭の基R11個に察しおケむ玠原子に結合し
    た氎玠原子の個数が0.5〜4.0になる量 (C) 䞀般匏、 匏䞭、R4は脂肪族䞍飜和結合を含たない
    眮換たたは非眮換の䟡の基を衚しは1.9
    〜2.2の数を衚しは〜0.1の数を衚しお
    よびは1.9〜2.2の数を衚す で瀺される構成単䜍からなり、25℃における粘
    床が〜200000cPのポリゞオルガノシロキサ
    ン100重量郚に、 金属化合物を0.01〜重量郚添加したのち溶
    解せしめるか、たたは加熱䞋反応せしめお埗ら
    れる金属含有ポリゞオルガノシロキサン、0.1
    〜50重量郚 (D) 無機質充填剀、〜200重量郚 および (E) 癜金系觊媒、(A)成分の重量に察しお癜金原子
    ずしお〜100ppmずなる量 からなるこずを特城ずする液状シリコヌンゎム組
    成物。  (C) 成分のポリゞオルガノシロキサンの䞀
    般匏においお、がである特蚱請求の範
    囲第項蚘茉の組成物。  (C) 成分のポリゞオルガノシロキサンが䞀
    般匏、 R43SiOR42SiOoSiR43  匏䞭、R4は䞊蚘ず同矩であり、は䞋蚘の
    粘床範囲になるように遞ばれた数を衚すで瀺さ
    れ、25℃における粘床が〜200000cPの実質的
    に盎鎖状の重合䜓である特蚱請求の範囲第項蚘
    茉の組成物。  前蚘匏で瀺されるポリオルガノシロキ
    サンにおいお、匏䞭のR4がメチル基である特蚱
    請求の範囲第項蚘茉の組成物。  (C)成分の金属含有ポリオルガノシロキサンの
    分子䞭においお、金属原子ずケむ玠原子が次の、
    Si――匏䞭、は金属原子を衚すで瀺さ
    れる結合状態で存圚しおいる特蚱請求の範囲第
    項蚘茉の組成物。  最終的にその衚面を研磚しお䜿甚する加熱定
    着甚ロヌルの補造材料ずしお甚いる特蚱請求の範
    囲第項蚘茉の組成物。
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