JPS63317388A - 直描型平版印刷用原版 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は平版印刷用原版に関し、詳しくは、事務用印刷
原版等に好適な面構型平版印判用原版に関する。
原版等に好適な面構型平版印判用原版に関する。
(従来技術)
現在、事務用印刷原版としては支持体上に画(3・、受
理層を有する面構型平版印刷原版が広く用いちれている
。このような印刷原版に製版、罪ち画像形成を行なうに
は一般に画像受理層に油性イン−1゛−を手書きにより
描画するか、タイプライタ−、インゲンz)h方式ある
いは転写型感熱方式等で印字する方法が採用されている
。その他、93′−通紙電子写真複写機(PPC)を用
いて帯電、露光及び現像の工程を経て感光体Fに形成し
たトナー画像を画像受理層に転写型nする方法も近年使
われ殆めた。いずれにしても製版後の印刷原版は不感脂
化液(いわゆるエッチ液)で表面処理して非画像部を不
感脂化した後、印刷版として平版印刷に供せられる。
理層を有する面構型平版印刷原版が広く用いちれている
。このような印刷原版に製版、罪ち画像形成を行なうに
は一般に画像受理層に油性イン−1゛−を手書きにより
描画するか、タイプライタ−、インゲンz)h方式ある
いは転写型感熱方式等で印字する方法が採用されている
。その他、93′−通紙電子写真複写機(PPC)を用
いて帯電、露光及び現像の工程を経て感光体Fに形成し
たトナー画像を画像受理層に転写型nする方法も近年使
われ殆めた。いずれにしても製版後の印刷原版は不感脂
化液(いわゆるエッチ液)で表面処理して非画像部を不
感脂化した後、印刷版として平版印刷に供せられる。
従来の面構型平版印刷版は紙等の支持体の両面に裏面層
及び中間層を介して表面層が設けられていた。裏面層又
は中間層はP V ATj粉等の水溶性樹脂及び合成(
M脂エマルジョン等の水分散性樹脂と顔料で形成されて
いる。表面層は顔料、水溶性樹脂及び耐水化剤で形成さ
れる。
及び中間層を介して表面層が設けられていた。裏面層又
は中間層はP V ATj粉等の水溶性樹脂及び合成(
M脂エマルジョン等の水分散性樹脂と顔料で形成されて
いる。表面層は顔料、水溶性樹脂及び耐水化剤で形成さ
れる。
このような面構型平版印刷原版の代表例は米国特許第2
532865号に記載されるように、画像受理層をPV
Aのような水溶性樹脂バインダー、シリカ、炭酸カルシ
ウム等のような無機顔料及びメラミン・ホルムアルデヒ
ド樹脂初期縮合物のような耐水化剤を主成分として構成
したものである。
532865号に記載されるように、画像受理層をPV
Aのような水溶性樹脂バインダー、シリカ、炭酸カルシ
ウム等のような無機顔料及びメラミン・ホルムアルデヒ
ド樹脂初期縮合物のような耐水化剤を主成分として構成
したものである。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながら、この様にして得られた従来の印刷版は、
印刷耐久性を向上するために耐水化剤の添加量を多くし
たり疎水性樹脂を使用したりして疎水性を増大させると
、耐剛性は向上するが親水性が低下し、印刷汚れが発生
し、一方、親水性を良くすると耐水性が劣化し、耐剛性
が低下するという問題があった。特に30″C以上の高
温使用環境下ではオフセント印刷に使用する浸し水に表
面層が熔解し、耐剛性の低下及び印刷汚れの両者が発生
するなど大きな欠点があった。
印刷耐久性を向上するために耐水化剤の添加量を多くし
たり疎水性樹脂を使用したりして疎水性を増大させると
、耐剛性は向上するが親水性が低下し、印刷汚れが発生
し、一方、親水性を良くすると耐水性が劣化し、耐剛性
が低下するという問題があった。特に30″C以上の高
温使用環境下ではオフセント印刷に使用する浸し水に表
面層が熔解し、耐剛性の低下及び印刷汚れの両者が発生
するなど大きな欠点があった。
更に、平版印刷用原版は油性インキ等を画像部として画
像受理層に描画するものであり、この受理層と油性イン
キの接着性が良くなければ、たとえ非画像部の親水性が
充分で上記の如き印刷汚れが発生しなくても、印刷時に
画像部の油性インキが欠落してしまい、結果として耐刷
性が低下してしまうという問題もあった。
像受理層に描画するものであり、この受理層と油性イン
キの接着性が良くなければ、たとえ非画像部の親水性が
充分で上記の如き印刷汚れが発生しなくても、印刷時に
画像部の油性インキが欠落してしまい、結果として耐刷
性が低下してしまうという問題もあった。
本発明は以上の様な画描型平版印刷用原版の有する問題
点を改良するものである。
点を改良するものである。
本発明の目的は、オフセット原版として全面一様な地汚
れはもちろん点状の地汚れも発生させない不惑脂化性の
優れた画描型平版印刷用原版を提供することである。
れはもちろん点状の地汚れも発生させない不惑脂化性の
優れた画描型平版印刷用原版を提供することである。
本発明の目的は、画像部の油性インキと画像受理層との
接着性が向上し、且つ印刷において印刷成敗が増加して
も非画像部の親水性が充分保たれ、地汚れの発生しない
、高耐剛力を有する平版印刷用原版を提供することであ
る。
接着性が向上し、且つ印刷において印刷成敗が増加して
も非画像部の親水性が充分保たれ、地汚れの発生しない
、高耐剛力を有する平版印刷用原版を提供することであ
る。
(問題点を解決するための手段)
上記諸口的は、支持体上に画像受理層を有する画描型平
版印刷用原版において、該画像受理層の結着剤の主成分
として、下記一般式[−0−L〕の群から選択される官
能基を少なくとも1種側鎖に含有する樹脂を少なくとも
1種含有して成る事を特徴とする画描型平版印刷用原版
により達成される。
版印刷用原版において、該画像受理層の結着剤の主成分
として、下記一般式[−0−L〕の群から選択される官
能基を少なくとも1種側鎖に含有する樹脂を少なくとも
1種含有して成る事を特徴とする画描型平版印刷用原版
により達成される。
一般式(−0−L)において、
R。
Lは、 SI R2、Co Yl、R4
Co Z Yz、 CH−CHCH3、但し、R,
、R,、Rjは、互いに同じでも異なっていてもよく、
水素原子、炭化水素基又は−〇−R’ (R’は炭化
水素基を示す)を表わし、Y、、Y2は、炭化水素基を
表わし、Zは、酸素原子、イオウ原子又は−N)1−基
を表わし、χは、イオウ原子又は酸素原子を表わす。
、R,、Rjは、互いに同じでも異なっていてもよく、
水素原子、炭化水素基又は−〇−R’ (R’は炭化
水素基を示す)を表わし、Y、、Y2は、炭化水素基を
表わし、Zは、酸素原子、イオウ原子又は−N)1−基
を表わし、χは、イオウ原子又は酸素原子を表わす。
本発明による一般式(−0−LEの群から選択される官
能基を少な(とも1種含有する樹脂は、不惑脂化液およ
び印刷時に用いる浸し水により、加水分解あるいは加水
素分解されてヒドロキシル基を生成する樹脂である。
能基を少な(とも1種含有する樹脂は、不惑脂化液およ
び印刷時に用いる浸し水により、加水分解あるいは加水
素分解されてヒドロキシル基を生成する樹脂である。
従って該樹脂を表面層に主成分として含む画描型平版印
刷用原版は、油性インキ等を画像部として画像受理層に
描画する際には、親油性の一般式(−0−L)基を含有
するため、受理層と油性インキ等との接着性が良好とな
り、耐刷性が向上する。
刷用原版は、油性インキ等を画像部として画像受理層に
描画する際には、親油性の一般式(−0−L)基を含有
するため、受理層と油性インキ等との接着性が良好とな
り、耐刷性が向上する。
一方、本直描型平版印刷用原版は、非画像部においては
、上記の如く一般式(−0−L:l Mが不j8脂化液
及び浸し水により加水分解又は加水素分解してカルボキ
シル基になり、親水化されるため、画像部の親油性と明
確に区別され、印刷時において非画像に印刷インキが付
着しなくなるものである。上記の如く、従来は親水性の
樹脂に油性インク等を描画して画像部を疎水性化してい
たのに対して、本発明では、親油性である一般式〔−〇
−L)基を含有する樹脂を、表面処理によりその非画像
部を親水化するという全く異なる発想をもとに、結着樹
脂の親水性及び疎水性それぞれがもたらす有利な点を併
せもつ画期的な直溝型平版印刷用原版を得るに至ったも
のである。
、上記の如く一般式(−0−L:l Mが不j8脂化液
及び浸し水により加水分解又は加水素分解してカルボキ
シル基になり、親水化されるため、画像部の親油性と明
確に区別され、印刷時において非画像に印刷インキが付
着しなくなるものである。上記の如く、従来は親水性の
樹脂に油性インク等を描画して画像部を疎水性化してい
たのに対して、本発明では、親油性である一般式〔−〇
−L)基を含有する樹脂を、表面処理によりその非画像
部を親水化するという全く異なる発想をもとに、結着樹
脂の親水性及び疎水性それぞれがもたらす有利な点を併
せもつ画期的な直溝型平版印刷用原版を得るに至ったも
のである。
上記一般式[−0−L〕の官能基は、分解によって、ヒ
ドロキシル基を生成するものであり、以下更に詳しく説
明する。
ドロキシル基を生成するものであり、以下更に詳しく説
明する。
Lが一5i−R2を表わす場合において、Ro、τ
R2、R3は、互いに同じでも異なっていてもよく、好
ましくは水素原子、置換されてもよい炭素数1〜18の
直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、クロロエチル
基、メトキシエチル基、メトキシプロピル基等)、置換
されてもよい脂環式基(例えばシクロペンチル基、シク
ロヘキシル基等)、置換されてもよい、炭素数7〜12
のアラルキル基(例えばヘンシル基、フェネチル基、ク
ロロベンジル基、メトキシベンジル基等)又は置換され
てもよい芳香族基(例えばフェニル基、ナフチル基、ク
ロロフェニル基、トリル基、メトキシフェニル基、メト
キシカルボニルフェニル基、ジクロロフェニル基等)又
は−〇−R′(R’は、炭化水素基を表わし、具体的に
は、上記R+ 、R2、R:lの炭化水素基と同一の置
換基類を示す)を表わす。
ましくは水素原子、置換されてもよい炭素数1〜18の
直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、クロロエチル
基、メトキシエチル基、メトキシプロピル基等)、置換
されてもよい脂環式基(例えばシクロペンチル基、シク
ロヘキシル基等)、置換されてもよい、炭素数7〜12
のアラルキル基(例えばヘンシル基、フェネチル基、ク
ロロベンジル基、メトキシベンジル基等)又は置換され
てもよい芳香族基(例えばフェニル基、ナフチル基、ク
ロロフェニル基、トリル基、メトキシフェニル基、メト
キシカルボニルフェニル基、ジクロロフェニル基等)又
は−〇−R′(R’は、炭化水素基を表わし、具体的に
は、上記R+ 、R2、R:lの炭化水素基と同一の置
換基類を示す)を表わす。
Lが−Co−Y、を表わす場合において、Ylは好まし
くは置換されてもよい炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状
アルキル基(例えばメチル基、トリクロロメチル基、ト
リフルオロメチル基、メトキシメチル基、フェノキシメ
チル基、2,2.2−トリフルオロエチル基、t−ブチ
ル基、ヘキサフル、1tff−i−プロピル基等)、置
換されてもよい炭素数7〜9のアラルキル基(例えばヘ
ンシル基、フェネチル基、メチルベンジル基、トリメチ
ルヘンシル基、ヘプタメチルベンジル基、メトキシヘン
シル基等)、置換されてもよい炭素数6〜12(7)7
1J−ル基(例えばフェニル基、ニトロフェニル基、シ
アノフェニル基、メタンスルホニルフェニル基、メトキ
シフェニル基、ブトキシフェニル基、クロロフェニル基
、ジクロロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基
等)を表わす。
くは置換されてもよい炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状
アルキル基(例えばメチル基、トリクロロメチル基、ト
リフルオロメチル基、メトキシメチル基、フェノキシメ
チル基、2,2.2−トリフルオロエチル基、t−ブチ
ル基、ヘキサフル、1tff−i−プロピル基等)、置
換されてもよい炭素数7〜9のアラルキル基(例えばヘ
ンシル基、フェネチル基、メチルベンジル基、トリメチ
ルヘンシル基、ヘプタメチルベンジル基、メトキシヘン
シル基等)、置換されてもよい炭素数6〜12(7)7
1J−ル基(例えばフェニル基、ニトロフェニル基、シ
アノフェニル基、メタンスルホニルフェニル基、メトキ
シフェニル基、ブトキシフェニル基、クロロフェニル基
、ジクロロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基
等)を表わす。
Lが−Co−Z−YZを表わす場合において、Zは酸素
原子、イオウ原子又は−NH−結合基を表わし、Y2は
上記したY、と同義である。
原子、イオウ原子又は−NH−結合基を表わし、Y2は
上記したY、と同義である。
す場合において、Xは酸素原子又はイオウ原子を表わす
。
。
本発明に用いられる、一般式(−0−L〕の群から選択
される官能基を少なくとも1種含有する樹脂は、重合体
に含有されるヒドロキシル基を、高分子反応によって一
般式(−〇−L〕の官能基に変換する方法、又は、一般
式(−0−L〕の官能基を1種又はそれ以上含有する、
1種又はそれ以上の単量体又は該単量体及びこれと共重
合し得る他のcg量体の重合反応により重合する方法に
より製造される。
される官能基を少なくとも1種含有する樹脂は、重合体
に含有されるヒドロキシル基を、高分子反応によって一
般式(−〇−L〕の官能基に変換する方法、又は、一般
式(−0−L〕の官能基を1種又はそれ以上含有する、
1種又はそれ以上の単量体又は該単量体及びこれと共重
合し得る他のcg量体の重合反応により重合する方法に
より製造される。
例えば、上記高分子反応の製造法としては、岩倉義勇・
栗田恵輔著「反応性高分子」第158頁(講談社刊)等
の総説引例の公知文献等に、又単量体のヒドロキシル基
を一般式(−0−L〕の官能基に変換する製造法として
は、日本化学会編「新実験化学講座第14巻、有機化合
物の合成と反応(V)第2497頁(丸善株式会社刊)
等の総説引例の公知文献等に各々詳細に記載されている
方法に従って製造することができる。
栗田恵輔著「反応性高分子」第158頁(講談社刊)等
の総説引例の公知文献等に、又単量体のヒドロキシル基
を一般式(−0−L〕の官能基に変換する製造法として
は、日本化学会編「新実験化学講座第14巻、有機化合
物の合成と反応(V)第2497頁(丸善株式会社刊)
等の総説引例の公知文献等に各々詳細に記載されている
方法に従って製造することができる。
重合体中の一般式(−0−L〕の官能基を任意に調整し
得ること、あるいは、不純物を混入しないこと等の理由
から、予め一般式(−0−LEの官能基を含有する単量
体からの重合反応により製する方法が好ましい。具体的
には、かかる単量体は重合性の二重結合を含み、且つ、
ヒドロキシル基を少なくとも1個含有する化合物を、例
えば、前記した公知文献等に記載された方法に従って、
ヒドロキシル基を一般式(−0−L〕の官能基に変換す
るか、あるいは一般式[−〇−L]の官能基を含有した
化合物を重合性の二重結合を含む化合物と反応させる方
法によって、製造することができる。
得ること、あるいは、不純物を混入しないこと等の理由
から、予め一般式(−0−LEの官能基を含有する単量
体からの重合反応により製する方法が好ましい。具体的
には、かかる単量体は重合性の二重結合を含み、且つ、
ヒドロキシル基を少なくとも1個含有する化合物を、例
えば、前記した公知文献等に記載された方法に従って、
ヒドロキシル基を一般式(−0−L〕の官能基に変換す
るか、あるいは一般式[−〇−L]の官能基を含有した
化合物を重合性の二重結合を含む化合物と反応させる方
法によって、製造することができる。
前記した如く、重合反応で所望の樹脂を製造する方法に
おいて用いられる一般式(−0−L〕の官能基を含有す
る単量体について更に具体的に述べると、例えば下記一
般式(II)の如き化合物が挙げられる。但しこれらの
化合物例に限定されるものではない。
おいて用いられる一般式(−0−L〕の官能基を含有す
る単量体について更に具体的に述べると、例えば下記一
般式(II)の如き化合物が挙げられる。但しこれらの
化合物例に限定されるものではない。
一般式(II)
1 :
CH=C
□
X’ −Y’−0−L
弐(n)中、X′は、−〇−1−CO−1−CQ、
Qz ○0−1−OCO−1−NCO−1−CON−1Q、
Q。
Qz ○0−1−OCO−1−NCO−1−CON−1Q、
Q。
一8O□−1−8O□N−1−N5O□−、b。
喀
−CH2COO−2−CH20CO−1+C+−r。
芳香族基又はへテロ環基を示す〔但し、Q、 、Q、、
Q、、Q、は、各々水素原子、炭化水素基又は式(n)
中の+Y ’ −0−L )を表わし、b3、b2は同
じでも異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基又は
式(If)中の+Y’−0−L)を表わし、nは0〜1
8の整数を示す〕。
Q、、Q、は、各々水素原子、炭化水素基又は式(n)
中の+Y ’ −0−L )を表わし、b3、b2は同
じでも異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基又は
式(If)中の+Y’−0−L)を表わし、nは0〜1
8の整数を示す〕。
Y′は、結合基Xと結合基(−0−L)を連結する、ヘ
テロ原子を介していてもよい炭素−炭素結合を表わしく
ヘテロ原子としては、酸素原子、イオウ原子、窒素原子
を示す)、例えばす。
テロ原子を介していてもよい炭素−炭素結合を表わしく
ヘテロ原子としては、酸素原子、イオウ原子、窒素原子
を示す)、例えばす。
一←CH=CH)、−O−、−5−1−N−1−COO
−1−CONH−1−SO,−1−SO2N H−、
−N HCOO−1−NHCONH−1等の結合単位
の単独又は組合せの構成より成るものである(但しb3
、b4、b、は、各々前記す、、b2と同義である)。
−1−CONH−1−SO,−1−SO2N H−、
−N HCOO−1−NHCONH−1等の結合単位
の単独又は組合せの構成より成るものである(但しb3
、b4、b、は、各々前記す、、b2と同義である)。
Lは式(i)と同じ意味を有する。
al、a2は同しでも異なっていてもよく、水素原子、
炭化水素基(例えば−COOHなどで置換すしていても
よい炭素数1〜12のアルキル基てζど)、−COOH
又は−Coo−W(1,Vは一般式1′−〇−L〕基を
含む置換基で置換されていてる単量体は、全重合体中の
40〜100重量%、好ましくは40〜80重景%、で
含むことができる。又、重合体の分子量は103〜10
6、好ましくは5X10”〜5×105、である。
炭化水素基(例えば−COOHなどで置換すしていても
よい炭素数1〜12のアルキル基てζど)、−COOH
又は−Coo−W(1,Vは一般式1′−〇−L〕基を
含む置換基で置換されていてる単量体は、全重合体中の
40〜100重量%、好ましくは40〜80重景%、で
含むことができる。又、重合体の分子量は103〜10
6、好ましくは5X10”〜5×105、である。
これらの単量体と共重合しうる他の単量体としては、例
えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、
酢酸アリル、プロピオン酸アリル等の9口き脂肪族カル
ボン酸ビニルあるいはアリルエステル類、アクリル酸、
メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、
フマール酸等の如き不飽和カルボン酸あるいは水酸基、
ハロゲン原子、アルコキシ基、カルボキシ基等で置換さ
れてもよい脂肪族基、アリル基のエステル類又はアミド
類、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレンの
如きスチレン誘導体、α−オレフィン類、アクリロニト
リル、メタクロニトリル、N−ビニルピロリドンの如き
ビニル基置換のへテロ環化合物等が挙げられる。
えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、
酢酸アリル、プロピオン酸アリル等の9口き脂肪族カル
ボン酸ビニルあるいはアリルエステル類、アクリル酸、
メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、
フマール酸等の如き不飽和カルボン酸あるいは水酸基、
ハロゲン原子、アルコキシ基、カルボキシ基等で置換さ
れてもよい脂肪族基、アリル基のエステル類又はアミド
類、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレンの
如きスチレン誘導体、α−オレフィン類、アクリロニト
リル、メタクロニトリル、N−ビニルピロリドンの如き
ビニル基置換のへテロ環化合物等が挙げられる。
又、該表面層の強度をより向上させるために、後述する
架橋効果を利用することができるが、この様な場合には
、架橋が容易に進行する官能基(例えば、エポキシ基、
アミノ基、イソシアナート基、カルボキシル基、水酸基
等)を含有する単量体を共重合させることが好ましい。
架橋効果を利用することができるが、この様な場合には
、架橋が容易に進行する官能基(例えば、エポキシ基、
アミノ基、イソシアナート基、カルボキシル基、水酸基
等)を含有する単量体を共重合させることが好ましい。
これらの方法は、例えば、日本化学会鳩、「新実験化学
講座第14巻、有機化合物の合成と反応〔■〕」第25
35頁(丸善株式会社刊)、岩倉義勇:栗田恵輔著、「
反応性高分子」第170頁(講談社刊)等の総説引例の
公知文献等に詳細に記載されている。
講座第14巻、有機化合物の合成と反応〔■〕」第25
35頁(丸善株式会社刊)、岩倉義勇:栗田恵輔著、「
反応性高分子」第170頁(講談社刊)等の総説引例の
公知文献等に詳細に記載されている。
更に具体的には、一般式(−0−L〕の官能基を含有す
る単量体として以下の様な化合物例を挙げることができ
るが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない
。
る単量体として以下の様な化合物例を挙げることができ
るが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない
。
(1)CHz=CHMe
COOCH2CH203i Me
Me
CH。
=
(2)CHz”=CMe
COOCH2CH20−3i −Me
Me
CH。
(3) CHz= COM e
COOCH2CH203i −OMe
OMe
H3
(4)CH,=C
CH3
CH。
(7)CHz=CHMe
I
CH1O3iMe
Me
C,H3
CH。
(9)CHt=CCHzO3i (Me)z0NHC
H CH2O3i (Me)a CH2CH2Ca Hq ! (t 0)CI−12=C Coo (CHz)zOcH=cHCH3CH。
H CH2O3i (Me)a CH2CH2Ca Hq ! (t 0)CI−12=C Coo (CHz)zOcH=cHCH3CH。
亀
(11)CHz=C
C0NH(CH2)、0COOCH3
(14)CH2=CH
CHz OS 1 (CH3) 3
CH,0CH2CH,0COCH2CF3Coo (C
H2)20CO(CH2)SO3i (Me)−CH3 謔 CH3 (18)CH2=C C00(CHz) 2SOZNH(CI(2) zO5
i (C2115) 3CH。
H2)20CO(CH2)SO3i (Me)−CH3 謔 CH3 (18)CH2=C C00(CHz) 2SOZNH(CI(2) zO5
i (C2115) 3CH。
(21)CH2=CH−CH2
0−3i (OCH3)3
CH3
(22)CH2=COCH。
COOCHzCHO−3i −0CH3■
CH。
(24)CH2=CH
OCOCHz CCe :+
Ca Hq
CH。
■
(2’6)CH2=CCH:1
Coo(CHz)20 S i C4Hq(t)噌
CH。
本発明に使用される樹脂とともに、従来公知の樹脂を併
用することができる。例えば、シリコーン樹脂、アルキ
ッド樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、スチレ
ン−ブタジェン樹脂、アクリル樹脂等があげられる。
用することができる。例えば、シリコーン樹脂、アルキ
ッド樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、スチレ
ン−ブタジェン樹脂、アクリル樹脂等があげられる。
本発明の樹脂は、有機溶剤に熔解又は分散しても良(、
更には水系エマルジョンでも使用できる。
更には水系エマルジョンでも使用できる。
従って本発明の樹脂の他に任意に水溶性の樹脂を併用す
ることができ、例えば、PVA、カルボキシPVAのよ
うな変性PVA、l粉及びその誘導体、CMC、ヒドロ
キシエチルセルロース、カゼイン、ゼラチン、ポリビニ
ルピロリドン、酢酸ビニル〜クロトン酸共u合体、スチ
レン〜マレイン酸共重合体等の水溶性樹脂が使用できる
。
ることができ、例えば、PVA、カルボキシPVAのよ
うな変性PVA、l粉及びその誘導体、CMC、ヒドロ
キシエチルセルロース、カゼイン、ゼラチン、ポリビニ
ルピロリドン、酢酸ビニル〜クロトン酸共u合体、スチ
レン〜マレイン酸共重合体等の水溶性樹脂が使用できる
。
これらの水溶性樹脂を併用する場合には、耐水化剤を用
いることが好ましく、耐水化剤として、例えばグリオキ
ザール、メラミンホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムア
ルデヒド樹脂等のアミノプラストの初期縮合物、メチロ
ール化ポリアミド樹脂のような変性ポリアミド樹脂、ポ
リアミド・ポリアミン・エピクロルヒドリン付加物、ポ
リアミドエピクロルヒドリン樹脂、変性ポリアミドポリ
イミド樹脂等が挙げられる。
いることが好ましく、耐水化剤として、例えばグリオキ
ザール、メラミンホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムア
ルデヒド樹脂等のアミノプラストの初期縮合物、メチロ
ール化ポリアミド樹脂のような変性ポリアミド樹脂、ポ
リアミド・ポリアミン・エピクロルヒドリン付加物、ポ
リアミドエピクロルヒドリン樹脂、変性ポリアミドポリ
イミド樹脂等が挙げられる。
本発明の樹脂と、公知の樹脂とは任意の割合で混合する
ことができるが、全樹脂量中の一般式(−0−L〕の官
能基の成分は含有量が40〜100重星%、好ましくは
45重量%以上含有されている必要がある。
ことができるが、全樹脂量中の一般式(−0−L〕の官
能基の成分は含有量が40〜100重星%、好ましくは
45重量%以上含有されている必要がある。
一般式(−0−L〕の官能基の成分の含有量が40重量
%より少ないと、得られた平版印刷用原版は、不惑脂化
液・浸し水による不感脂化処理により生ずる親水性が充
分でなく、印刷時の汚れが発生する。
%より少ないと、得られた平版印刷用原版は、不惑脂化
液・浸し水による不感脂化処理により生ずる親水性が充
分でなく、印刷時の汚れが発生する。
本発明の画像受理層の他の構成成分として、無機顔料が
使用され、該無機顔料として、例えばカオリンクレー、
炭酸カルシウム、シリカ、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸
バリウム、アルミナ等が挙げられる。
使用され、該無機顔料として、例えばカオリンクレー、
炭酸カルシウム、シリカ、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸
バリウム、アルミナ等が挙げられる。
画像受理層中の結着樹脂/顔料の割合は材料の種類及び
顔料の場合は更に粒径によって異なるが、一般に重量比
で1/(0,5〜5)、好ましくは1/(0,8〜2.
5)程度が適当である。
顔料の場合は更に粒径によって異なるが、一般に重量比
で1/(0,5〜5)、好ましくは1/(0,8〜2.
5)程度が適当である。
その他画像受理層には、膜強度をより向上させるために
架橋剤を添加してもよい。架橋剤としては、通常用いら
れる塩化アンモニウム、有機過酸化物、金属石けん、有
機シラン、ポリウレタンの架橋剤、エポキシ樹脂の硬化
剤等を用いることができる。具体的には、山下晋三、金
子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊(1981年
)等に記載されている。
架橋剤を添加してもよい。架橋剤としては、通常用いら
れる塩化アンモニウム、有機過酸化物、金属石けん、有
機シラン、ポリウレタンの架橋剤、エポキシ樹脂の硬化
剤等を用いることができる。具体的には、山下晋三、金
子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊(1981年
)等に記載されている。
本発明に使用される支持体としては、上質紙、湿潤強化
紙、ポリエステルフィルムのようなプラスチックフィル
ム、アルミ仮のような金属板等が挙げられる。
紙、ポリエステルフィルムのようなプラスチックフィル
ム、アルミ仮のような金属板等が挙げられる。
本発明では支持体と画像受理層との間に耐水性及び層間
接着性を向上する目的で中間層を、また画像受理層とは
反対の支持体面にカール防止を目的としてバックコート
層を設けることができる。
接着性を向上する目的で中間層を、また画像受理層とは
反対の支持体面にカール防止を目的としてバックコート
層を設けることができる。
ここで中間層はアクリル樹脂、スチレン−ブタジェン共
重合体、メタアクリル酸エステル−ブタジェン共重合体
、アクリロニトリル〜ブタジェン共重合体、エチレン−
酢酸ビニル共重合体等のエマルジョン型樹脂;エポキシ
樹脂、ポリビニルブチラール、ポリ塩化ビニル、ポリ酢
酸ビニル等の溶剤型樹脂;前述のような水溶性樹脂等の
少くとも1種を主成分として構成されるが、必要に応じ
て無機顔料や耐水化剤を添加することができる。
重合体、メタアクリル酸エステル−ブタジェン共重合体
、アクリロニトリル〜ブタジェン共重合体、エチレン−
酢酸ビニル共重合体等のエマルジョン型樹脂;エポキシ
樹脂、ポリビニルブチラール、ポリ塩化ビニル、ポリ酢
酸ビニル等の溶剤型樹脂;前述のような水溶性樹脂等の
少くとも1種を主成分として構成されるが、必要に応じ
て無機顔料や耐水化剤を添加することができる。
バックコート層の構成も中間層とほぼ同様である。
PPC製版として用いられる場合には、本発明の印刷原
版の地汚れをいっそう低減するため、印刷原版としての
体積固有抵抗が1010〜IQIffΩcmとなるよう
に、更に置換受理層、中間層及び/又はバックコート層
に誘電剤を添加することができる。誘電剤としては無機
系のものでも有機系のものでもよく、無機系のものでは
Na、に、、Li、Mg、Zn、Co、Ni等の1価又
は多価金属の塩が、また有機系のものではポリビニルベ
ンジルトリメチルアンモニウムクロライド、アクリル樹
脂変性四級アンモニウム塩等の高分子カチオン導電剤や
高分子スルホン酸塩のような高分子アニオン導電剤が挙
げられる。これらの導電剤の添加量は各層に使用される
バインダー量の3〜40重量%、好ましくは5〜20重
1%である。
版の地汚れをいっそう低減するため、印刷原版としての
体積固有抵抗が1010〜IQIffΩcmとなるよう
に、更に置換受理層、中間層及び/又はバックコート層
に誘電剤を添加することができる。誘電剤としては無機
系のものでも有機系のものでもよく、無機系のものでは
Na、に、、Li、Mg、Zn、Co、Ni等の1価又
は多価金属の塩が、また有機系のものではポリビニルベ
ンジルトリメチルアンモニウムクロライド、アクリル樹
脂変性四級アンモニウム塩等の高分子カチオン導電剤や
高分子スルホン酸塩のような高分子アニオン導電剤が挙
げられる。これらの導電剤の添加量は各層に使用される
バインダー量の3〜40重量%、好ましくは5〜20重
1%である。
本発明の平版印刷用原版を作るには一般に、支持体の一
方の面に、必要あれば中間層成分を含む水性液を塗布乾
燥して中間層を形成後、画像受理層成分を含む水性液を
塗布乾燥して画像受理層を形成し、更に必要あれば他方
の面にバックコート層成分を含む水性液を塗布乾燥して
バックコート層を形成すればよい。なお画像受理層、中
間層、バックコート層の各付着量は夫々1〜30g/r
rf、5〜20g/rrf、5〜20g/rrfが適当
である。
方の面に、必要あれば中間層成分を含む水性液を塗布乾
燥して中間層を形成後、画像受理層成分を含む水性液を
塗布乾燥して画像受理層を形成し、更に必要あれば他方
の面にバックコート層成分を含む水性液を塗布乾燥して
バックコート層を形成すればよい。なお画像受理層、中
間層、バックコート層の各付着量は夫々1〜30g/r
rf、5〜20g/rrf、5〜20g/rrfが適当
である。
(実施例)
以下に、本発明の実施例を示すが、本発明の範囲がこれ
らに限定されるものではない。
らに限定されるものではない。
実施例1
n−ブチルメタクリレート30g、メチルメタクリレ−
)15g、前記具体例(2)の化合物55g及びトルエ
ン400gの混合溶液を、窒素気流下75°Cに加温し
た後、アゾ・ビス・イソブチロニトリル1.5gを加え
、8時間反応した。得られた共重合体の重量平均分子量
は38000であった。(:樹脂(A))。
)15g、前記具体例(2)の化合物55g及びトルエ
ン400gの混合溶液を、窒素気流下75°Cに加温し
た後、アゾ・ビス・イソブチロニトリル1.5gを加え
、8時間反応した。得られた共重合体の重量平均分子量
は38000であった。(:樹脂(A))。
次に、上質紙の一方の間に裏面層及び他方の面に中間層
が設けられた支持体の中間層の上に、上記の共重合体3
5g、(エチルメタクリレート/アクリル酸(9515
)重量比]共重合体5g・酸化亜鉛200g及びトルエ
ン300gの混合物をボールミル中で2時間分散して得
た分散物を、乾燥付着量が18g/ポとなる様にワイヤ
ーバーで塗布し、110°Cで1分間乾燥し、平版印刷
用原版を作製した。
が設けられた支持体の中間層の上に、上記の共重合体3
5g、(エチルメタクリレート/アクリル酸(9515
)重量比]共重合体5g・酸化亜鉛200g及びトルエ
ン300gの混合物をボールミル中で2時間分散して得
た分散物を、乾燥付着量が18g/ポとなる様にワイヤ
ーバーで塗布し、110°Cで1分間乾燥し、平版印刷
用原版を作製した。
この原版を、不感脂化処理液〔富士写真フィルム■製E
LP−EX3でエツチングプロセッサーに1回通して処
理し、これに蒸留水2μlの水滴を乗せ、形成された水
との接触角をゴニオメータ−で測定した所、16°であ
った。尚、不惑脂化処理前は105°であった。このこ
とは、本発明の原版の画像受理層の非画像部が、親油性
から親水性に変化したことを示す(通常、印刷時に非画
像部が印刷地汚れ、点状汚れ等を発生しない親水化の度
合は、水との接触角で20°以下であることが必要であ
る)。
LP−EX3でエツチングプロセッサーに1回通して処
理し、これに蒸留水2μlの水滴を乗せ、形成された水
との接触角をゴニオメータ−で測定した所、16°であ
った。尚、不惑脂化処理前は105°であった。このこ
とは、本発明の原版の画像受理層の非画像部が、親油性
から親水性に変化したことを示す(通常、印刷時に非画
像部が印刷地汚れ、点状汚れ等を発生しない親水化の度
合は、水との接触角で20°以下であることが必要であ
る)。
次に、市販のPPCで製版し、得られた原版を上記と同
様の条件で不惑脂化処理前を行ない、印刷用原版を得た
。
様の条件で不惑脂化処理前を行ない、印刷用原版を得た
。
得られた原版の画像部の濃度は1. 0以上であり、非
画像部の地力ブリもなく、画像部の画質も鮮明であった
。これをオフセット印刷機(ハマダスター(l(1)製
ハマダスター8003X型)にかけた上質紙上に印刷し
た。5000枚を越えても印刷物の非画像部の地汚れ及
び画像部の画質に問題を生じなかった。
画像部の地力ブリもなく、画像部の画質も鮮明であった
。これをオフセット印刷機(ハマダスター(l(1)製
ハマダスター8003X型)にかけた上質紙上に印刷し
た。5000枚を越えても印刷物の非画像部の地汚れ及
び画像部の画質に問題を生じなかった。
更に上記原版を用いて、環境条件を30°C180%R
Hとして、市販のPPCで製版した所、得られた原版の
画像は、画像部の濃度は1. 0以上有り非画像部の地
力ブリもなく、画像部の画質も鮮明であった。これを上
記と同様に印刷した所、2000枚を印刷しても問題な
かった。
Hとして、市販のPPCで製版した所、得られた原版の
画像は、画像部の濃度は1. 0以上有り非画像部の地
力ブリもなく、画像部の画質も鮮明であった。これを上
記と同様に印刷した所、2000枚を印刷しても問題な
かった。
以上の如く、本原版は、高温多湿の条件下でもPPCの
製版で画質を劣化させなかった。
製版で画質を劣化させなかった。
実施例2〜9
実施例1と同様の重合条件で下表−1の共重合体を製造
した。
した。
上記各樹脂を、実施例1の本発明の樹脂の代わりに用い
た他は、実施例1と同様に操作して、平版印刷用原版を
作製した。
た他は、実施例1と同様に操作して、平版印刷用原版を
作製した。
実施例1と同様にして、水との接触角PPC製版後の画
質及び印刷結果について、表−2に記した。
質及び印刷結果について、表−2に記した。
実施例10
下記化合物組成の本発明の樹脂(J)(重量平均分子f
f148000)の20%エマルジョン水溶液400
g、ポリビニルアルコール10%水溶液〔クラレ(1@
製PVA−1171200g及び〔酸化亜鉛/シリカ(
2/8)重量比)20%混合分散液400gの混合物を
ボールミル中で1時間分散して得た分散物を、実施例1
と同一の支持体の中間層の上に、ワイヤーバーで、乾燥
付着量が8g/cfflとなる様に塗布し、130°C
で2分間乾燥し、平版印刷用原版を作製した。
f148000)の20%エマルジョン水溶液400
g、ポリビニルアルコール10%水溶液〔クラレ(1@
製PVA−1171200g及び〔酸化亜鉛/シリカ(
2/8)重量比)20%混合分散液400gの混合物を
ボールミル中で1時間分散して得た分散物を、実施例1
と同一の支持体の中間層の上に、ワイヤーバーで、乾燥
付着量が8g/cfflとなる様に塗布し、130°C
で2分間乾燥し、平版印刷用原版を作製した。
(化合物(J))
CH,CH。
実施例1と同様に処理して印刷した所、印刷物の画像部
は鮮明で、非画像部の地力ブリのない印刷物が4000
枚以上得られた。
は鮮明で、非画像部の地力ブリのない印刷物が4000
枚以上得られた。
(発明の効果)
本発明によれば、地汚れの発生が良好に抑制されるとと
もに良好な耐刷力を併せもっ直描型平版印刷用原版を得
ることができる。
もに良好な耐刷力を併せもっ直描型平版印刷用原版を得
ることができる。
、−m−、−
1、−
(ほか3名)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 支持体上に画像受理層を有する直描型平版印刷用原版に
おいて、該画像受理層の結着剤の主成分として、下記一
般式〔−O−L〕の群から選択される官能基を少なくと
も1種側鎖に含有する樹脂を少なくとも1種含有して成
る事を特徴とする直描型平版印刷用原版。 一般式〔−O−L〕において、 Lは、▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
、表等があります▼を表わす。 但し、R_1、R_2、R_3は、互いに同じでも異な
っていてもよく、水素原子、炭化水素基又は−O−R′
(R′は炭化水素基を示す)を表わし、Y_1、Y_2
は、炭化水素基を表わし、Zは、酸素原子、イオウ原子
又は−NH−基を表わし、Xは、イオウ原子又は酸素原
子を表わす。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15150887A JPS63317388A (ja) | 1987-06-19 | 1987-06-19 | 直描型平版印刷用原版 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15150887A JPS63317388A (ja) | 1987-06-19 | 1987-06-19 | 直描型平版印刷用原版 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63317388A true JPS63317388A (ja) | 1988-12-26 |
Family
ID=15520043
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15150887A Pending JPS63317388A (ja) | 1987-06-19 | 1987-06-19 | 直描型平版印刷用原版 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63317388A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5225316A (en) * | 1990-11-26 | 1993-07-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | An imagable article comprising a photosensitive composition comprising a polymer having acid labile pendant groups |
JP2015038072A (ja) * | 2009-09-18 | 2015-02-26 | Jsr株式会社 | アルカリ解離性基を有する重合性の化合物 |
US9513548B2 (en) | 2009-09-18 | 2016-12-06 | Jsr Corporation | Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern, polymer and polymerizable compound |
-
1987
- 1987-06-19 JP JP15150887A patent/JPS63317388A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5225316A (en) * | 1990-11-26 | 1993-07-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | An imagable article comprising a photosensitive composition comprising a polymer having acid labile pendant groups |
US5314785A (en) * | 1990-11-26 | 1994-05-24 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photosensitive materials |
JP2015038072A (ja) * | 2009-09-18 | 2015-02-26 | Jsr株式会社 | アルカリ解離性基を有する重合性の化合物 |
US9513548B2 (en) | 2009-09-18 | 2016-12-06 | Jsr Corporation | Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern, polymer and polymerizable compound |
US10048586B2 (en) | 2009-09-18 | 2018-08-14 | Jsr Corporation | Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern, polymer and polymerizable compound |
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