JPH01309067A - 直描型平版印刷用原版 - Google Patents

直描型平版印刷用原版

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JPH01309067A
JPH01309067A JP13934388A JP13934388A JPH01309067A JP H01309067 A JPH01309067 A JP H01309067A JP 13934388 A JP13934388 A JP 13934388A JP 13934388 A JP13934388 A JP 13934388A JP H01309067 A JPH01309067 A JP H01309067A
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JP
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image
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Application number
JP13934388A
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English (en)
Inventor
Eiichi Kato
栄一 加藤
Kazuo Ishii
一夫 石井
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G7/00Selection of materials for use in image-receiving members, i.e. for reversal by physical contact; Manufacture thereof
    • G03G7/0006Cover layers for image-receiving members; Strippable coversheets
    • G03G7/002Organic components thereof
    • G03G7/0026Organic components thereof being macromolecular
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G13/00Electrographic processes using a charge pattern
    • G03G13/26Electrographic processes using a charge pattern for the production of printing plates for non-xerographic printing processes
    • G03G13/28Planographic printing plates

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は平版印刷用原版に関し、詳しくは、事務用印刷
原版等に好適な直描型平版印刷用原版に関する。
(従来技術) 現在、事務用印刷原版としては支持体上に画像受理層を
有する直溝型平版印刷原版が広く用いられている。この
ような印刷原版に製版、即ち画像形成を行うには一般に
画像受理層に油性インキを手書きにより描画するか、タ
イプライタ−、イングジェット方式あるいは転写型感熱
方式等で印字する方法が採用されている。その他、普通
紙電子写真複写機(PPC)を用いて帯電、露光及び現
像の工程を経て感光体上に形成したトナー画像を画像受
理層に転写定着する方法も近年使われ始めた。いずれに
しても製版後の印刷原版は不惑脂化液(いわゆるエッチ
液)で表面処理して非画像部を不感脂化した後、印刷版
として平板印刷に供せられる。
従来の点描型平版印刷版は紙等の支持体の両面に裏面層
及び中間層を介して表面層が設けられていた。裏面層又
は中間層はPVA澱粉等の水溶性樹脂及び合成樹脂エマ
ルジョン等の水分散性樹脂と顔料で形成されている。表
面層は顔料、水溶性樹脂及び耐水化剤で形成される。
このような直溝型平版印刷原版の代表例は米国特許第2
532865号に記載されるように、画像受理層をPV
Aのような水溶性樹脂バインダー、シリカ、炭酸カルシ
ウム等のような無機顔料及び′メラミン・ホルムアルデ
ヒド樹脂初期縮合物のような耐水化剤を主成分として構
成したものである。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、この様にして得られた従来の印刷物は、
印刷耐久性を向上するために耐水化剤の添加量を多くし
たり疎水性樹脂を使用したりして疎水性を増大させると
、耐剛性は向上するが親水性が低下し、印刷汚れが発生
し、一方、親水性を良くすると耐水性が劣化し、耐剛性
が低下するという問題があった。特に30°C以上の高
温使用環、下ではオフセット印刷に使用する浸し水に表
面層が熔解し、耐刷性の低下及び印刷汚れの両者が発生
するなど大きな欠点があった。
更に、平版印刷用原版は油性インキ等を画像部として画
像受理層に描画するものであり、この受理層と油性イン
キの接着性が良(なければ、たとえ非画像部の親水性が
充分で上記の如き印刷汚れが発生しな(でも、印刷時に
画像部の油性インキが欠落してしまい、結果として耐剛
性が低下してしまうという問題もあった。
本発明は以上の様な直横型平版印刷用原版の有する問題
点を改良するものである。
本発明の目的は、オフセット原版として全面−様な地汚
れはもちろん点状の地汚れも発生させない不怒脂化性の
優れた直描型平版印刷用原版を提供することである。
本発明の目的は、画像部の油性インキと画像受理層との
接着性が向上し、且つ印刷において印刷枚数が増加して
も非画像部の親水性が充分保たれ、地汚れの発生しない
、高耐剛力を有する平版印刷用原版を提供することであ
る。
(問題点を解決するための手段) 前記した諸口的は、支持体上に画像受理層を有する直横
型平版印刷用原版において、該画像受理層の結着剤の主
成分が分解によりチオール基、ホスホ基、アミノ基及び
スルホ基の少くとも1つの基を生成する官能基を少なく
とも1種有する樹脂であり且つ架橋剤が共存しているこ
とを特徴とする直描型平版印刷用原版によって達成する
ことができる。
本発明は平版印刷用原版の画像受理層の結着樹脂の少な
くとも1部に、分解して少なくとも1個のチオール基、
ホスホ基、アミノ基及び/又はスルホ基を生成する官能
基を少なくとも1種含有する樹脂を含有し、且つ該樹脂
を架橋する架橋剤を共存させる事を特徴としている。こ
れにより本発明による平版印刷用原版は、原画に対して
忠実な複写画像を再現し、非画像部の親水性が良好であ
るため地汚れも発生せず、更に耐刷力が優れているとい
う利点を有する。
更に、本発明の平版印刷用原版は製版処理時の環境に左
右されず、また処理前の保存性に優れているという特徴
を有する。
以下に、本発明において用いられる分解して少なくとも
1個のチオール基、ホスホ基、スルホ基及び/又はアミ
ノ基の親水性基を生成する官能基を少なくとも1種含有
する樹脂(以下単に、親水性基生成官能基含有樹脂と称
することもある)について詳しく説明する。
本発明の親水性基生成官能基含有樹脂に含まれる官能基
は分解によって少なくとも1つの親水性基を生成するが
、1つの官能基から生成する親水性基は1個でも2個以
上でもよい。
以下、分解により少なくとも1個のチオール基を生成す
る官能基を含有する樹脂(チオール基生成官能基含有樹
脂)について詳述する。かかる樹脂は、例えば下記一般
式(1)(−3−L^〕で示される官能基を少なくとも
1種含有する樹脂である。
一般式(1): (−3−LA ) 〒°・ 但し、RA、、R’□及びRA3は、互いに同じでも異
なってもよ(、各々炭化水素基又は−〇−RA′(RA
′は炭化水素基を示す)を表わし、RA4 、RAs 
、RAb 、RA4、RA、、RA、及びRA、6は各
々独立に炭化水素基を表わす。
上記一般式(−3−LA)の官能基は、分解によって、
チオール基を生成す条ものであり、以下更に詳しく説明
する。
埜“・ RAl、RA2及びRA、は、互いに同じでも異なって
いてもよく、好ましくは水素原子、置換されてもよい炭
素数1−18の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基
、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基
、クロロエチル基、メトキシエチル基、メトキシプロピ
ル基等)、置換されてもよい脂環式基(例えばシクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基等)、置換されてもよい炭
素数7〜12のアラルキル基(例えばベンジル基、フェ
ネチル基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基等)
又は、置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル基、
ナフチル基、クロロフェニル基、トリル基、メトキシフ
ェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ジクロロフ
ェニル基等)又は−〇−R^’  (R”は、炭化水素
基を表わし、具体的には、上記RA1、RA□、RA3
の炭化水素基で記述した置換基類を例として挙げること
ができる)を表わす。
−C−0−R^1、又は−3−RA、を表わす場合にお
いて、RA4、RAS 、RA6 % R^?、RA8
は各々好ましくは置換されていてもよい炭素数l〜12
の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、トリ
クロロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチ
ル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、ヘキシル
基、3−クロロプロピル基、フェノキシメチル基、2,
2.2−1−リフルオロエチル基、t−ブチル基、ヘキ
サフルオロ−1−プロピル基、オクチル基、デシル基等
)、置換されていてもよい炭素数7〜9のアラルキル基
(例えばベンジル基、フェネチル基、メチルベンジル基
、トリメチルベンジル基、ヘプタメチルベンジル基、メ
トキシベンジル基等)、置換されていてもよい炭素数6
〜12のアリール基(例えばフェニル基、ニトロフェニ
ル基、シアノフェニル基、メタンスルホニルフェニル基
、メトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、クロロフ
ェニル基、ジクロロフェニル基、トリフルオロメチルフ
ェニル基等)を表わす。
を表わす場合において、 RA、及びRA、。は各々同じでも異なっていてもよく
、好ましい例としては、前記RA、〜RA―で好ましい
として記載した置換基を表わす。
本発明の他の好ましいチオール基生成官能基含有樹脂は
、一般式(n)又は一般式(1)で示されるチイラン環
を少なくとも1種含有する樹脂である。
式(II)において、RAll及びRAl□は、互いに
同じでも異なってもよく、各々水素原子又は炭化水素基
を表わす。好ましくは、水素原子又は前記RA、〜RA
、で好ましいとして記載した置換基を表わす。
式(III)において、XAは、水素原子又は脂肪族基
を表わす。脂肪族基として好ましくは、炭素81〜6ノ
アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基等)を表わす。
本発明の更なる他の好ましいチオール基生成官能基含有
樹脂は、一般式(IV)で示されるイオウ原子含有のへ
テロ環基を少なくとも1種含有する樹脂である。
一般式(IV) 弐(IV)において、YAは酸素原子又は−NH−基を
表わす。
RAI3、RA14及びRAI%は、同じでも異なって
いてもよく、各々水素原子又は炭化水素基を表わす。好
ましくは水素原子又は前記RA4〜RA、で好ましいと
して記載した置換基を表わす。
RAlth及びRAl?は、同じでも異なっていてもよ
く、水素原子、炭化水素基又は−〇−R’″ (RA″
は炭化水素基を表わす)を表わす。好ましくは、前記R
A、〜RA、で好ましいとして記載した置換基を表わす
本発明の更なるもう一つの好ましい態様によれば、チオ
ール基生成官能基含有樹脂は、互いに立体的に近い位置
にある少なくとも2つのチオール基を1つの保護基で同
時に保護した形で有する官能基を少な(とも1種含有す
る樹脂である。
互いに立体的に近い位置にある少なくとも2つのチオー
ル基を1つの保護基で同時に保護した形で有する官能基
の例としては例えば下記一般式(V)、(Vl)及び(
■)で表わされるものを挙げることができる。
一般式(V) 一般式(Vl) 一般式(■) 式(V)及び式(Vl)において、ZAはへテロ原子を
介してもよい炭素−炭素結合又はC−3結合同志を直接
、連結する化学結合を表わす(但し、イオウ原子間の原
子数は4個以内である)。更に一方の +ZA・−c−
h結合が単なる結合のみを表わし、例えば下記の様にな
っていてもよい。
式(Vl)において、RAts、RA1 %は、同じで
も異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基又は−0
−R”  (R”は炭化水素基を示す)を表わす。
式(Vl)において、R^18及びR^1.は、好まし
くは互いに同じでも異なっていてもよく、水素原子、炭
素数1〜12の置換されていてもよいアルキル基(例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基、2−メトキシエチル基、オクチル基等)、炭素
数7〜9の置換されていてもよいアラルキル基(例えば
ベンジル基、フェネチル基、メチルベンジル基、メトキ
シベンジル基、クロロベンジル基等)、炭素数5〜7の
脂環式基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル
基等)又は置換されていてもよいアリール基(例えばフ
ェニル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基、メ
チルフェニル基、シアノフェニル基等)又は−〇−R”
  (RA’はRAl l、R^、。
における炭化水素基と同義である)を表わす。
式(■)において、R^2゜、R^23、RA22、R
A!2は、互いに同じでも異なっていてもよく、各々水
素原子又は炭化水素基を表わす。好ましくは、水素原子
又は、RAlll、RA19において好ましいと記載し
た炭化水素基と同義の内容を表わす。
本発明に用いられる一般式(1)〜(■)で示される官
能基を少なくとも1種含有する樹脂は、重合体中に含有
されるチオール基を高分子反応によって保護基により保
護した形にする方法又は予め保護基により保護された形
の1つ又は2つ以上の千オール基を含有する単量体の又
は該単量体及びこれと共重合し得る他の単量体の重合反
応により重合する方法により製造される。
チオール基を含有する重合体は、該チオール基がラジカ
ル重合を禁止するため、チオール基含有の単量体をその
まま重合することは困難であるため、高分子反応でチオ
ール基を導入する方法かあるいは本発明に用いられる官
能基、イソチウロニウム塩、プンテ塩等の形にチオール
基を保護した単量体を重合させた後分解反応を行なって
チオール基とする方法で製造される。
従って、重合体中のチオール基を保護した官能基を任意
に調整し得ること、不純物を混入しないことあるいは、
最終的にチオール基を保護した単量体でないと重合しな
いこと等の理由から、予め一般式(り〜(■)の官能基
を含有する単量体からの重合反応により製造する方法が
好ましい。
1つ又は少な(とも2つの千オール基を、保護基により
保護された官能基に変換する製造法としては、例えば、
岩倉義勇・栗田恵輔著「反応性高分子」230頁〜23
7頁(講談社: 1977年刊)、日本化学余線「新実
験化学講座第14巻、有機化合物の合成と反応〔■〕、
第8章、第1700頁〜1713頁、(丸善株式会社 
1978年刊) 、J、 F、 H,McOmie+ 
’Protective  Groupsin Org
anic Chemistry」第7章(Plenua
+ Press。
1973年刊) 、S、 Patai、  ’The 
Chemistry ofthe thiol gro
up Part2 J第12章、第14章(John 
Wiley & 5ons 、  1974年刊)等の
総説引例の公知文献記載の方法等を適用することができ
る。
1又は2以上のチオール基が保護基により保護された単
量体、例えば式(1)〜(■)で表わされる官能基を含
有する単量体は、具体的には、重合性の二重結合を含み
且つチオール基を少なくとも1個含有する化合物を、例
えば、前記した公知文献等に記載された方法に従って、
チオール基を一般式(り〜(■)の官能基に変換するか
、あるいは一般式(り〜(■)の官能基を含有する化合
物を重合性の二重結合を含む化合物と反応させる方法に
よって、製造することができる。
更に具体的には、一般式(1)〜(■)の官能基を含有
する単量体として以下の様な化合物を挙げることかでき
るが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない
(1)    −(−CH,−CH+−C0CH5 (2)    −fCH□−CH−)−5COC1H5 (3)    +cHz−CH−)− 3COC,H! (4)    −(−CH!−CH+−■ 5COCRオC2 (5)    −(−CH,−CH−)−5COOC4
H* (9)    −(−CH,−CH−)−CH!5CO
OC,H。
し11 * S −L; U U に tl x(20
)   −(−CM、−CH−)−C00(CHt)t
S  C0CHzCICH。
(2t)   +cHz−C→− COO(CHt) z S  COOCz HsCH。
(22)   −fctt、−c→− C00(CI□)tS  C3OCtHsHs ■ CH。
(25)   −(−CHt−C1− C00(CHz)xS  S i (CHt)sCHユ (26)  −(−ctt*−C± C00CHtCHCH1CH!5−CSOC1llS5
−C3OC,H。
CH。
■ しL) N ti (シM z) a ’:> シU 
U L、 a l’′IqII S□5 (40)      CH。
(42)      CH。
一+CHt −C+ Cz H5 (43)   −+CH,−CH+− (44)   −+CHt−CH+− CH。
(45)  +CH,−C→− 畳 (47)         CH。
一+CHZ−C→− Coo(CHり!5−3C,H。
(51)   −+CH,−CH−)−又、本発明にお
いて、分解してホスホ基、例えば下記一般式(■)又は
(IX)の基を生成する官能基を含有する樹脂について
詳しく説明する。
一般式(■) Q”t −P−R” Z”r  H 一般式(IX) Q1□ −P−Z”、−H Z”z  H 式(■)において、R露は炭化水素基又は−22−R1
(ここでR”は炭化水素を示し、Z−は酸素原子又はイ
オウ原子を示す)を表わす。Q”tは酸素原子又はイオ
ウ原子を表わす。Z−は、酸素原子又はイオウ原子を表
わす。式(IX)において、Q”z 、Z−及びZS4
は、各々独立に酸素原子又はイオウ原子を表わす。
好ましくは、R1は置換されていてもよい炭素数1−1
2、直鎖状又は分岐状アルキル基(例えば、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、2−メトキシエチル基、
3−メトキシプロピル基、2−エトキシエチル基等)、
置換されていてもよい脂環式基(例えば、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基等)、置換されていてもよい炭
素数7〜12のアラルキル基(例えば、ベンジル基、フ
ェネチル基、メチルベンジル基、メトキシベンジル基、
クロロベンジル基等)又は置換されていてもよい芳香族
基(例えば、フェニル基、クロロフェニル基、トリル基
、キシリル基、メトキシフェニル基、メトキシカルボニ
ルフェニル基、ジクロロフェニル基等)、又は一23□
−R”  (ここでZ12は、酸素原子又はイオウ原子
を表わす。R1は炭化水素基を表わし、具体的には、上
記R3の炭化水素基で述べた置換基類を例として挙げる
ことができる)を表わす。
Q”Is Q−1Z”r s Z”3 、Z”a は、
各々独立に酸素原子又はイオウ原子を表わす。
以上の如き、分解により式(■)又は(IX)で示され
るホスホ基を生成する官能基としては、−般式(X)及
び/又は(XI)で示される官能基が挙げられる。
一般式(X) Q ” 1 −P−R” ■ Z”+  L”を 一般式(XI) 一 −P−Z”、−L”。
Z■3L■2 式(X)及び(XI)において、Q”+ SQ”t、Z
s、 、Z”2、Z−及びR1はそれぞれ式(■)及び
(XI)で定義した通りの内容を表わす。
”l 、L”□及びLl、は互いに独立にそれぞれR〜
は、互いに同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲ
ン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)又
はメチル基を表わす。X−及びX−は、電子吸引性置換
基を表わし、好ましくはハロゲン原子(例えば塩素原子
、臭素原子、フッ素原子等) 、 CN、  C0NH
z 、 Not又は−3O,R”  (R”は、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ベ
ンジ゛ル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシ
チル基等の如き炭化水素基を表わす)を表わす。
nはl又は2を表わす。更に、XI、がメチル基の場合
には、R1,及びRltがメチル基でn=1を表わす。
R”1 L11〜L11.が−3t−R”4を表わす場合にR1
゜ おいて、R”z、R−及びR−は、互いに同じでも異な
っていてもよく、好ましくは水素原子、置換されてもよ
い炭素数1〜18の直鎖状又は分岐状アルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシ
ル基、クロロエチル基、メトキシエチル基、メトキシプ
ロピル基等)、置換されていてもよい脂環式基(例えば
シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、置換されて
もよい炭素数7〜12のアラルキル基(例えばベンジル
基、フェネチル基、クロロベンジル基、メトキシベンジ
ル基等)又は置換されていてもよい芳香族基(例えばフ
ェニル基、ナフチル基、クロロフェニル基、トリル基、
メトキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、
ジクロロフェニル基等)又は−〇−R””(R−Iは、
炭化水素基を表わし、具体的には、上記R”2 、R”
4、R1,の炭化水素基で述べた置換基類を例として挙
げることができる)を表わす。
R”l11を表わす場合において、”h 、R”7、R
”s 、R”q及びR1,。は、各々独立に炭化水素基
を表わす、好ましくは置換されていてもよい炭素数1〜
6の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、ト
リクロロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメ
チル基、フェノキシメチル基、 2. 2. 2−)リ
フルオロエチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基
、L−ブチル基、ヘキサフルオロ−1−プロピル基等)
、置換されていてもよい炭素数7−9のアラルキル基(
例えばベンジル基、フェネチル基、メチルベンジル基、
トリメチルベンジル基、ヘプタメチルベンジル基、メト
キシベンジル基等)、置換されてもよい炭素数6〜12
のアリール基(例えばフェニル基、トリル基、キシリル
基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、メタンスル
ホニルフェニル基、メトキシフェニル基、ブトキシフェ
ニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリ
フルオロメチルフェニル基等)を表わす。
表わす場合において、Yll及びYltは酸素原子又は
イオウ原子を表わす。
本発明に用いられる官能基を少なくとも1種含有する樹
脂は、重合体に含有される上記の如き式(VII[)又
は(IX)の親水性基(ホスホ基)を高分子反応によっ
て保護基により保護した形にする方法、又は予め保護基
により保護された形の官能基(例えば式(X)又は(X
l)の官能基)を含有する単量体又は該単量体及びこれ
と共重合し得る他の単量体との重合反応により重合する
方法により製造される。
いずれの方法においても(保護基を導入する方法として
は、同様の合成反応を用いることができる。具体的には
、J、 F、−、Mc、軸ie、 rProtecti
vegroups  in  Organic  Ch
emistry  」 第6章 (Plenuw+Pr
ess、 1973年刊)の総説引例の公知文献に記載
の方法、あるいは日本化学会績「新実験化学講座第14
巻、有機化合物の合成と反応〔V〕」第2497頁(丸
善株式会社刊、1978年)等の総説引例の公知文献に
記載のヒドロキシル基への保護基導入の方法と同様の合
成反応、あるいはS。
Patai+  ’The  Chea+1stry 
 of  the  Triol  GroupPar
t2」第13章、第14章(Wi 1ey−1nter
science1974年刊) 、T、 W、 Gre
ene、  rProtectivegroups i
n Organic 5ynthesis J第6章(
Wiley−Interscience l 9 B 
1年刊)等の総説引例の公知文献等に記載のチオール基
への保護基導入の方法と同様の合成反応により製造でき
る。
保護基に用いられる一般式(X)及び/又は(Xl)の
官能基を含有する重合成分の繰り返し単位となり得る具
体的な化合物例として以下の様な例を挙げることができ
る。しかし、本発明はこれらに限定されるものではない
O5t(CHi)i 0  S i (CIHS)! 0  S i (OCH3)3 ■ 0=P−OCOC,HS ■ 0COC,HS 0−5i(CHs)s 〇−COCH3 CH。
0−3i(CHs)s CH。
■ 0  S i (CHり xcJI* CH。
■ 薯 OS i (CHs)s CH。
コ S  C0CHs CH。
ocoocztts CH。
5−COoC,HS 0−3t(CH,)z o−cocttts CH。
5−C3OCH3 0S i (CzHs)s CH。
tts CH。
署 (77)    −(CH,−C+ CHz 0(CHz)gcN 次に該分解によりアミノ基、例えば−NH,基及び/又
は−NHR”基を生成する官能基として、例えば下記一
般式(XII)〜(XIV)で表わされる基を挙げるこ
とができる。
一般式(X■) −N−COO−RC。
Re。
一般式(XII[) 一般式(XIV) 式(X■)及び式(χN)中、Rco ハ各4、水素原
子、炭素数1〜12の置換されてもよいアルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
キシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、2−ク
ロロエチル基、2−ブロモエチル基、3−クロロプロピ
ル基、2−シアノエチル基、2−メトキシエチル基、2
−エトキシエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基
、3−メトキシプロピル基、6−クロロヘキシル基等)
、炭素数5〜8の脂環式基(例えば、シクロペンチル基
、シクロヘキシル基等)、炭素数7〜12の置換されて
もよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル
基、3−フェニルプロピルL  t−フェニルプロピル
基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基、ブロモベ
ンジル基、メチルベンジル基等)、炭素数6〜12の置
換されてもよいアリール基(例えばフェニル基、クロロ
フェニル基、ジクロロフェニル基、トリル基、キシリル
基、メシチル基、クロロメチル基、クロロフェニル基、
メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、クロロメト
キシフェニル基等)等を表わす。
好ましくはRe0が該炭化水素基を表わす場合は、炭素
数1〜8の炭化水素基頚が挙げられる。
式(Xll)で表わされる官能基において、Rc+は炭
素数2〜12の置換されてもよい脂肪族基を表わし、更
に具体的にはRC,は下記式(XV)で示される基を表
わす。
式(XV) + C−)−V C z 式(XV)中、a1ga!は各々水素原子、ハロゲン原
子(例えば弗素原子、塩素原子等)又は炭素数1〜12
の置換されてもよい炭化水素基(例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、メトキシメ
チル基、エトキシメチル基、2−メトキシエチル基、2
−クロロエチル基、3−ブロモプロピル基、シクロヘキ
シル基、ペン’;JLtS、クロロベンジル基、メトキ
シベンジル基、メチルベンジル基、フェネチル基、3−
フェニルプロピル基、フェニル基、トリル基、キシリル
基、メシチル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル
基、ジクロロフェニル基、クロロメチルフェニル基、ナ
フチル基等)を表わし、YCは、水素原子、ハロゲン原
子(例えば弗素原子、塩素原子等)、シアノ基、炭素数
1〜4のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基等)、置換基を含有してもよい芳香族
基(例えばフェニル、トリル基、シアノフェニル基、2
.6−シメチルフエニルl、2,4.6−ドリメチルフ
エニル基、ヘプタメチルフェニル基、2,6−シメトキ
シフエニル基、2,4.6−ドリメトキシフエニル基、
2−プロピルフェニル基、2−ブチルフェニル基、2−
クロロ−6−メチルフェニル基、フラニル基等)又は−
3Oz−Re6  (Rc& cat、YCの炭化水素
基と同様の内容を表わす)等を表わす。nはl又は2を
表わす。
より好ましくは、ycが水素原子又はアルキル基の場合
には、ウレタン結合の酸素原子に隣接する炭素上のal
及びa2は、水素原子以外の置換基を表わす。
ycが水素原子又はアルキル基でない場合にはal及び
a2は上記内容のいずれの基でもよい。
t も1つ以上の電子吸引性基を含有する基を形成する場合
あるいはウレタン結合の酸素原子に隣接する炭素が立体
的にかさ高い基を形成する場合が好ましい例であること
を示すものである。
又は具体的に、Re、は脂環式基(例えば単環式炭化水
素基(シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基、1−メチル−シクロヘキシ
ル基、1−メチルシクロブチル基等)又は架橋環式炭化
水素基(ビシクロオクタン基、ビシクロオクテン基、ビ
シクロノナン基、トリシクロへブタン基等)等)を表わ
す。
一般式(XI[I)において、RC,及びRC,は同じ
でも異なっていてもよく、各々炭素数1−12の炭化水
素基を表わし、具体的には、式(Xn)のycにおける
脂肪族基又は芳香族基と同様の内容を表わす。
一般式(XIV)において、XC,及びXC□は同じで
も異なっていてもよく、各々酸素原子又はイオウ原子を
表わす。RC4* RC%は同じでも異なっていてもよ
く、各々炭素数1〜8の炭化水素基を表わし、具体的に
は式(XI[)のYcにおける脂肪族基又は芳香族基を
表わす。
式(Xn)〜(XIV)の官能基の具体例を以下に示す
が本発明はこれらに限定されるものではない。
遡  H3 C,HS (80)  −NHCOOCCH3 Ch Hs (81)  −NHCOOCH2CF3(82)   
 N HCOOCHt CCl 5(83)’   N
C00CHzCHzSOzCHs■ CH1 CH。
■ (85)   −NHCOOC−C(1゜ Hx し!ti!1 CH。
■ CH3 0CHzCHzOCH2 (104)   −NH−P−OCHICH!OCH3
0CaH9 ■ (105)   −NH−P−OC,H。
本発明に用いられる分解によりアミノ基(例えば−NH
!基及び/又は−NHR基)を生成する官能基、例えば
上記一般式(X■)〜(XIV)の群から選択される官
能基を少なくとも1種含有する樹脂は、例えば、日本化
掌編、「新実験化学講座第14巻、有機化合物の合成と
反応〔V〕」第2555頁(丸善株式会社刊) 、J、
 P、 W、 McOn+ie、rProtectiv
e groups in Organic Chemi
stry J第2章(P1enun+ Press  
1973年刊)、rProtec−tive grou
ps in Organic 5inthesis」第
7章(JohnWiley & 5ons、  198
1刊)等の総説引例の公知文献記載の方法によって製造
することができる。
重合体中の一般式(X[[)〜(XIV)の官能基を任
意に調整し得ること、あるいは、不純物を混入しないこ
と等の理由から、予め一般式(XI[)〜(XIV)の
官能基を含有する単量体からの重合反応により製造する
方法が好ましい。具体的には、重合性の二重結合を含む
1級又は2級アミノ基を、例えば前記公知文献等に記載
された方法に従って、そのアミノ基を一般式(XII)
〜(XIV)の官能基に変換した後、重合反応を行ない
製造することができる。
更に又該分解により少なくとも1つのスルホ基を生成す
る官能基としては、例えば、一般式(X■)又は(X■
)で表わされる官能基が挙げられる。。
一般式(XVI)  −3Q、−0−R−一般式(XV
II)   Sow  S  R’!静4 又は−NHCOR”tを表わす。
式(X■)中、RD□は、炭素数1〜18の置換されで
もよい脂肪族基、又は炭素数6〜22の置換基を有して
もよいアリール基を表わす。
上記一般式(XVI)、(X■)の官能基は、分解によ
って、スルホ基を生成するものであり、以下に更に詳し
く説明する。
RD。
RD、が −(−C)−−Y”を表わす場合において、
RD、 、R”4は同じでも異なってもよく水素原子、
ハロゲン原子(例えば弗素原子、塩素原子、臭素原子等
)又は炭素数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基)を表わす。Yは炭素数1〜18の置換されてもよい
アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシ
ル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、トリフロロメチル
基、メタンスルホニルメチル基、シアノメチル基、2−
メトキシエチル基、エトキシメチル基、クロロメチル基
、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、2−メトキ
シカルボニルエチル基、2−プロポキシカルボニルエチ
ル基、メチルチオメチル基、エチルチオメチル基等)、
炭素数2〜18の置換されてもよいアルケニル基(例え
ばビニル基、アリル基等)、炭素数6〜12の置換基を
含有してモヨいアリール基(例えば、フェニル基、ナフ
チル基、ニトロフェニル基、ジニトロフェニル基、シア
ノフェニル基、トリフロロメチルフェニル基、メトキシ
カルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基
、メタンスルホニルメチル基、ベンゼンスルホニルフェ
ニル基、トリル木、キシリル基、アセトキシフェニル基
、ニトロナフチルυ 又は芳香族基を表わし、具体的にはYllで記した該置
換基の内容と同一のものを表わす)を表わす。
nは0.1又は2を表わす、より好ましくは、K″4 の電子吸引性基を含有する官能基が挙げられる。
具体的には、nがOで、yoが置換基としして電子吸引
性基を含有しない炭化水素基の場合、RD。
■ 一+ch−において、少なくとも1ヶ以上のハロa4 ゲン原子を含有する。又nが0,1又は2で、YDが電
子吸引性基を少なくとも1つ含有する。更に埜°・ 等が挙げられる。該電子吸引性基とは、ハメットの置換
基定数が正値を示す置換基であり、例えば、ハロゲン原
子、−COO−1−C−1−SO□−11: 〇 −CN、−No□等が挙げられる。
もう1つの好ましい置換基として、 S Oz−0−R
11において酸素原子に隣接する炭素原子に少なくとも
2つの炭化水素基が置換するかあるいは、n=0又はl
で、Yr′がアリール基の場合に、アリール基の2−位
及び6−位に置換基を有する場合が挙げられる。
場合において、20は、環状イミド基を形成する有機残
基を表わす。好ましくは、一般式(X■)又は(XIX
)で示される有機残基を表わす。
一般式(X■) 一般式(XIX) 式(X■)中、Re、 、R”l。は各々同じでも異な
ってもよく、各々、水素原子、ハロゲン原子(例えば塩
素原子、臭素原子等)、炭素数1〜18の置換されても
よいアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドジテル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−ク
ロロエチル基、2−メトキシエチル基、2−シアノエチ
ル基、3−クロロプロピル基、2−(メタンスルホニル
)エチル基、2−(エトキシオキシ)エチル基、等)、
炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル基(例え
ば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル
基、メチルベンジル基、ジメチルベンシル基、メトキシ
ベンジル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基等)
、炭素数3〜18の置換されてもよいアルケニル基(例
えばアリル基、3−メチル−2−プロペニル基)、 いて、R’a、R−は各々水素原子、脂肪族基(具体的
には、R”3、R−のそれは同一の内容を表わす)又は
アリール基(具体的にはRD、、R”4のそれと同一の
内容を表わす)を表わす。
但しRfl、及びR”hがともに水素原子を表わすこと
はない。
R1,が−NHCORD、を表わす場合において、RD
、は脂肪族基又はアリール基を表わし、具体的には、R
e、 、R”4のそれは同一の内容を各々表わす。
式(X■)中、R9□は、炭素数1−18の置換されて
もよい脂肪族基又は炭素数6〜22の置換基を有しても
よいアリール基を表わす。
更に具体的には前記した式(XVI)で表わされるYl
lにおける脂肪族基又はアリール基と同様の内容を表わ
す。
本発明に用いられる、一般式(−50,−0−RD、 
)又ハ(SOx  OR”t )群から選択される官能
基を少なくとも1種含有する樹脂は、重合体に含有され
るスルホ基を、高分子反応によって一般式(XVI)又
は(X■)の官能基に変換する方法、又は、一般式(X
VI)又は(X■)の官能基を1種又はそれ以上含有す
る、1種又はそれ以上の単量体又は該単量体及びこれと
共重合し得る他の単量体の重合反応により重合する方法
により製造される。
高分子反応によって該官能基に変換する方法は、高分子
反応においても、単量体における合成方法と同様にして
行なうことができる。
更に具体的に一般式(XVI)−3O,−0−R−又は
一般式(X■)−3O□−0−R−の官能基として以下
の様な例を挙げることができるが、本発明の範囲はこれ
らに限定されるものではない。
(10B)  −3O,0CHICF3(110)  
−3O,OCH,(CHF)、CH2F(111)  
−3O念OCH! CCl s(113)    S 
OzO(CHz)zs 0zC4HeCb Hs (122)   S Oz OCHCOCa Hq(1
23)  −30,0(CH2)!SO,C,H。
(124)   −3O,SC,H9 (125)   −3OISChH,3(126)  
 −3O□5(CHz)zOczHs(12B)   
−3OzOCHtCHFCHtF前記した如く、重合反
応で所望の樹脂を製造する方°法において用いられる一
触式(1)〜(■)、(X)〜(XIV)、(XVI)
及び(X■)の官能基を含有する共重合体成分について
更に具体的に述べると、例えば下記一般式(A)の如き
成分が挙げられる。但しこれらの共重合体成分例に限定
されるものではない。
一般式(A) X’ −Y’ −W 式(A)中、X′は、−O−、−CO−。
又はヘテロ環基を示す〔但し、Q、、Q、、Q、。
Q4は、各々水素原子、炭化水素基、又は式(Vl)中
の +Y’−W)を表わし、b、、bzは同じでも異な
っていてもよ(、水素原子、炭化水素基又は式(Vl)
中の +y’−w)を表わし、nは0〜18の整数を示
す〕。
Y′は、結合基X′と結合基(W)を連結する、ヘテロ
原子を介していてもよい炭素−炭素結合を表わしくヘテ
ロ原子としては、酸素原子、イオウ原子、窒素原子を示
す)、 −(−CH=CH)−、−0−、−5−、−N−。
−Coo−、−CONH−、−3o□−1−8O□NH
−、−NHCOO−、−NHCONH−、等の結合単位
の単独又は組合せの構成より成るものである(但しす、
、b4.b、は、各々前記す、。
b2と同義である。) Wは式(1)〜(■)、(X)〜(XIV)、(XVI
)又は(X■)で表わされる官能基を表わす。
at、atは同じでも異なっていてもよく、水素原子、
ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、シアノ
基、炭化水素基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカル
ボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニ
ル基、ヘキシルオキシカルボニル基、メトキシカルボニ
ルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、ブトキシカ
ルボニルメチル基、等の置換されてもよい炭素数1〜1
2のアルキル基、ベンジル基、フエネチル基等のアラル
キル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、クロロフ
ェニル基等のアリール等)、又は式(A)中の−W基を
含む置換基で置換されていてもよい、炭素数1〜18の
アルキル基、アキル基、アルケニル基、アラルキル基、
脂環式基、芳香族基を示す)を表わす。
又、式(A)中の(−X’ −Y’ )結合残基は←C
→部と−W部を直接連結させてもよい。
又、本発明の樹脂と架橋剤との架橋効果を高めるために
、本発明の樹脂の共重合体成分として−OH基、−3H
基、−NHR基(Rは、炭素数1〜8のアルキル基(例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基等)又はアリール基(例えば、フェニル基、トリ
ル基、メトキシフェニル基、ブチルフェニル基等)等を
表わす)等の解離性水素原子を少なくとも1種有する置
換基を含有する成分又は、エポキシ基、チオエポキシ基
等を含有する成分を存在させてもよい、これらの極性基
を含有する共重合体成分の存在割合は、好ましくは本発
明の樹脂中の1〜20重量%であり、より好ましくは3
〜10重量%である。
該極性基を含有する共重合体成分は、例えば、一般式(
A)と共重合し得る、該極性基を含有するビニル系化合
物であればいずれでもよい、具体的には、前記した一般
式(A)に記載したと同様の化合物の置換基中に含有す
る誘導体等が挙げられる。
更に、本発明の樹脂は、前記した一般式(1)%式%) は(X■)を含有する単量体及び任意の上記極性基を含
有する単量体とともに、これら以外の他の単量体を共重
合成分として含有してもよい。
例えば、α−オレフィン類、アルカン酸ビニル又はアリ
ルエステル類、アクリロニトリル、メタクリルニトリル
、ビニルエーテル類、アクリルアミド類、メタクリルア
ミド類、スチレン類、複素環ビニル類(例えばビニルピ
ロリドン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニ
ルチオフェン、ビニルイミダシリン、ビニルピラゾール
、ビニル−ジオキサン、ビニルキリン、ビニルチアゾー
ル、ビニル−オキサジン等)等が挙げられる。特に酢酸
ビニル、酢酸アリル、アクリロニトリル、メタクリルニ
トリル、スチレン類等は、膜強度向上の点から好ましい
成分である。
本発明において、用いられる架橋剤としては、通常架橋
剤として用いられる化合物を使用することができる。具
体的には、山下晋三、金子東助編「架橋剤ハンドブック
」大成社刊(1981年)高分子学余線「高分子データ
ハンドブック「基礎編」培風館(1986年)等に記載
されている化合物を用いることができる。
例えば、有機シラン系化合物(例えば、ビニルトリメト
キシシラン、ビニルトリブトキシシラン、T−グリシド
キシプロビルトリメトキシシラン、T−メルカプトプロ
ピルトリエトキシシラン、T−アミノプロピルトリエト
キシシラン、等のシランカップリング剤等)、ポリイソ
シアナート系化合物(例えば、トルイレンジイソシアナ
ート、〇−トルイレンジイソシアナート、ジフェニルメ
タンジイソシアナート、トリフェニルメタントリイソシ
アナート、ポリメチレンポリフェニルイソシアナート、
ヘキサメチレンジイソシアナート、イソホロンジイソシ
アナート、高分子ポリイソシアナート等)、ポリオール
系化合物(例えば1. 4−ブタンジオール、ポリオキ
シプロピレングリコール、ポリオキシアルキレングリコ
ール、1. 1゜1−トリメチロールプロパン等)、ポ
リアミン系化合物(例えば、エチレンジアミン、T−ヒ
ドロキシプロピル化エチレンジアミン、フェニレンジア
ミンへキサメチレンジアミン、N−アミノエチルピペラ
ジン、変性脂肪族ポリアミン類等)ポリエポキシ基含有
化合物及びエポキシ樹脂(例えば垣内弘編著「新エポキ
シ樹脂、昭晃堂(1985年刊)、橋本邦之編著「エポ
キシ樹脂」日刊工業新聞社(1969年刊)等に記載さ
れた化合物類)、メラミン樹脂(例えば、三輪一部、松
永英夫編著「エリア・メラミン樹脂」日刊工業新聞社(
1969年刊)、等に記載された化合物類)、ポリ(メ
タ)アクリレート系化合物(例えば大河原信、三枝武夫
、東村敏延編「オリゴマー」講談社(1976年刊)、
大森英三「機能性アクリル系樹脂」テクノシステム(1
985年刊)等に記載された化合物類が挙げられ具体的
には、ポリエチレングリコールジアクリラート、ネオペ
ンチルグリコールシアクリラード、l、  6−ヘキサ
ンシオールジアクリラート、トリメチロールプロパント
リアクリラート、ペンタエリスリトールポリアクリラー
ト、ビスフェノールA−ジグリシジルエーテルジアクリ
ラート、オリゴエステルアクリラート:これらのメタク
リラート体等がある)。
本発明の結着樹脂は、怒光層形成物を塗布した後、架橋
される。架橋を行なうためには、例えば、乾燥条件を高
温度及び/又は長時間とするか又は塗布溶剤の乾燥後、
更に加熱処理することが好ましい0例えば、60℃〜1
20°Cで5〜120分間処理する。上述の反応促進剤
を併用すると、より穏やかな条件で処理することができ
る。
又、架橋は少なくとも本発明の樹脂同志で行なわれるべ
きであるが、他の樹脂との間になされていてもよい。
本発明の前記した親水性基生成官能基が分解により親水
性基を生成したときに酸性及びアルカリ性の水溶液に対
して難溶もしくは不溶性である樹脂となることが好まし
い。
樹脂中における架橋剤の存在量は、0.1〜30重量%
、特に0.5〜20重量%が好ましい。
本発明に供される樹脂とともに従来公知の樹脂も併用す
ることができる。例えば、前記した如きシリコーン樹脂
、アルキッド樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂
、スチレン−ブタジェン樹脂、アクリル樹脂等があげら
れ、具体的には、栗田隆治・石渡次部、高分子、第17
巻、第278頁(1968年)、宮本晴視、武井秀彦、
イメージング、  1973 (No、8)第9頁等の
総説引例の公知材料等が挙げられる。
本発明の画像受理層の他の構成成分として、無機顔料が
使用され、該無機顔料として、例えばカオリンクレー、
炭酸カルシウム、シリカ、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸
バリウム、アルミナ等が挙げられる。
画像受理層中の結着樹脂/顔料の割合は材料の種類及び
顔料の場合は更に粒径によって異なるが、一般に重量比
で1/(0,5〜5)、好ましくは1/(0,8〜2.
5)程度が適当である。
本発明による親水性基生成の官能基を少なくとも1種含
有する樹脂は、不感脂化液あるいは印刷時用いる湿し水
により加水分解あるいは加水素分解されてチオールなど
の親水性基を生成する樹脂である。
従って、該樹脂を平版印刷用原版の結着樹脂として用い
ると、不感脂化液により親水化される非画像部の親水性
が、樹脂中に生成される上記親水性基によって、より一
層高められる為、画像部の親油性と非画像部の親水性が
明確となり、印刷時に非画像部に印刷インキが付着する
のを防止するものである。その結果として地汚れのない
鮮明な画質の印刷物を従来の樹脂を用いた平版原版より
も多数枚印刷することが可能となる。
更に、本発明の樹脂は、架橋反応を起こす架橋剤を含有
しており、画像受理層を形成する過程あるいは、エツチ
ング処理前の加熱及び/又は光照射の過程で、架橋反応
が起こり、高分子間で橋架けが形成されるものである。
エツチング処理及び印刷機上で印刷中の湿し水により、
分解して生成したチオール基等を含有する樹脂では親水
性となり、その含有量が多い場合には水溶性となる。
しかし、本発明の樹脂は、架橋の構造を形成しているこ
とにより親水性を保持したまま水への溶解性が著しく低
下し難溶性もしくは不溶性となる。
従って、非画像部の親水性が樹脂中に生成されるチオー
ル基等によって、より一層高められる効果が向上し且つ
持続性が向上することとなった。
より具体的な効果で言うならば、全結着樹脂中に含有さ
せる該官能基含有樹脂を減量しても、親水性向上の効果
が変わらず維持できること、あるいは、印刷機の大型化
あるいは印圧の変動時印刷条件が厳しくなった場合でも
地汚れのない鮮明な画質の印刷物を多数枚印刷すること
が可能となる。
本発明に使用される支持体としては、上質紙、湿潤強化
紙、ポリエステルフィルムのようなプラスチックフィル
ム、アルミ板のような金属板等が挙げられる。
本発明では支持体と画像受理層との間に耐水性及び層間
接着性を向上する目的で中間層を、また画像受理層とは
反対の支持体面にカール防止を目的としてバックコート
層を設けることができる。
ここで中間層はアクリル樹脂、スチレン−ブタジェン共
重合体、メタアクリル酸エステル−ブタジェン共重合体
、アクリロニトリル−ブタジェン共重合体、エチレン−
酢酸ビニル共重合体等のエマルジョン型樹脂;エポキシ
樹脂、ポリビニルブチラール、ポリ塩化ビニル、ポリ酢
酸ビニル等の溶剤型樹脂;前述のような水溶性樹脂等の
少くとも1種を主成分として構成されるが、必要に応じ
て無機顔料や耐水化剤を添加することもできる。
バックコート層の構成も中間層とほぼ同様である。
PPC製版として用いられる場合には、本発明の印刷原
版の地汚れをいっそう低減するため、印刷原版としての
体積固有抵抗が1010〜10′3Ωcmとなるように
、更に画像受理層、中間層及び/又はバックコート層に
誘電剤を添加することができる。誘電剤としては無機系
のものでも有機系のものでもよく、無機系のものではN
a、に、Li、Mg、ZnSCo、Ni等の1価又は多
価金属の塩が、また有機系のものではポリビニルベンジ
ルトリメチルアンモニウムクロライド、アクリル樹脂変
性四級アンモニウム塩等の高分子カチオン導電剤や高分
子スルホン酸塩のような高分子アニオン導電剤が挙げら
れる。これらの導電剤の添加量は各層に使用されるバイ
ンダー盪の3〜40重量%、好ましくは5〜20重世%
である。
本発明の平版印刷用原版を作るには一般に、支持体の一
方の面に、必要あれば中間層成分を含む水性液を塗布乾
燥して中間層を形成後、画像受理層成分を含む水性液を
塗布乾燥して画像受理層を形成し、更に必要あれば他方
の面にバックコート層成分を含む水性液を塗布乾燥して
バックコート層を形成すればよい、なお画像受理層、中
間層、バックコート層の各付着量は夫々1〜30g/r
r?、5〜20g/ボ、5〜20g/ポが適当である。
(実施例) 以下に本発明の実施例を示すが、本発明の範囲がこれら
に限定されるものではない。
実施例1 ベンジルメタクリレート48g、2−ヒドロキシエチル
メタクリレート12g、本発明の共重合体成分に相当す
る下記の単量体(i)40g及びトルエン300gの混
合溶液を窒素気流下、75°Cの温度に加温した後、2
.2゛−アゾビスイソブチロニトリル(A、  I、 
 B、N) 1. 0gを加え8時間反応した。
CH。
単量体(i) 得られた共重合体(1)の重量平均分子! (Mw)は
40,000であった。
続いて、この固形分量としてこの共重合物30g及び〔
ブチルメタクリレート/アクリル酸(99/1)重量比
〕共重合体(重量平均分子量45000)10g、酸化
亜鉛100g及びトルエン300gの混合物を、ボール
ミル中で1.5時間分散した。次に、この分散物にヘキ
サメチレンジイソシアナート6gを添加し、更に10分
間ボールミル中で分散し、上質紙の一方の面にバック層
、他方の面に中間層が設けられた支持体の中間層の上に
乾燥付着量が25 g/rrfとなるようにワイヤーバ
ーで塗布し、100°Cで90分間乾燥し、平版印刷版
用原版を作製した。
上記製造例において、感光層形成物を以下の共重合体に
代えて、比較用の感光材料A、  B、 Cの3種を作
製した。
この原版を、不感脂化処理液〔富士写真フィルム・勾製
ELP−EX)でエツチングプロセッサーに1回通して
処理し、これに蒸留水2μlの水滴を乗せ、形成された
水との接触角をゴニオメータ−で測定した所、13°で
あった。尚、不惑脂化処理前は95°であった。このこ
とは、本発明の原版の画像受理層の非画像部が、親油性
から親水性に変化したことを示す(通常、印刷時に非画
像部が印刷地汚れ、点状汚れ等を発生しない親水化の度
合は、水との接触角で20°C以下であることが必要で
ある)。
次に、市販のPPCで製版し、得られた原版を上記と同
様の条件で不感脂化処理を行ない、印刷用原版を得た。
得られた原版の画像部の濃度は1. 0以上であり、非
画像部の地力ブリもなく、画像部の画質も鮮明であった
。これをオフセット印刷機(桜井製作所■製 オリバー
52型)にかけ上質紙上に印刷した。5000枚を越え
ても印刷物の非画像部の地汚れ及び画像部の画質に問題
を生じなかった。
更に上記原版を用いて、環境条件を30″C180%P
Hとして、市販のPPCで製版した所、得られた原版の
画像は、画像部の濃度は110以上有り非画像部の地力
ブリもなく、画像部の画質も鮮明であった。これを上記
と同様に印刷した所、2000枚を印刷しても問題なか
った。
以上の如く、本原版は、高温多湿の条件下でもPPC製
版で画質を劣化させなかった。
実施例2〜17 実施例1において、本発明の樹脂〔1〕の代わりに、表
−2に示される共重合体を用いた他は、実施例1と同様
に操作して、各平版印刷版用原版を作製した。
(以下余白) 表−2 〔重量%組成比] これを実施例1と同様に全自動製版機ELP404Vで
製版した所、得られたオフセット印刷用マスタープレー
トの濃度は1.2以上で画質は鮮明であった。更に、エ
ツチング処理をして印刷機で印刷した所、5000枚印
刷後の印刷物は非画像部のカブリがなく、画像も鮮明で
あった。
更に、この感光材料を(45°C175%RH)の条件
下に放置した後上記と全く同様の処理を行なったが、経
時前と全く変化がなかった。
実施例18 下記化学構造で示される本発明の共重合体〔20〕(重
量平均分子量32,000) 共重合体〔20〕 を実施例1の共重合体(1)の代わりに用い、更にヘキ
サメチレンジイソシアナート3gとした他は、実施例1
と同一の組成分で、ボールミル中2時間分散し、続いて
、実施例1と同様の操作を行なって平版印刷用原版を得
た。
これを実施例1と同様の装置で製版した所、得られたオ
フセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で
画質は鮮明であった。更に、エツチング処理して印刷機
で印刷した所、5000枚印刷後の印刷物は、カブリの
ない鮮明な画質であった。
更に、この原版を(45°C275%RH)の条件下に
放置した後上記と全く同様の処理を行なったが、経時前
と全く変化がなかった。
実施例19〜23 実施例1において用いるヘキサメチレンジイソシアナー
トの代わりに下記表−3の化合物を用いた他は、実施例
1と同様にして平版印刷版用原版を作製した。
表−3 これを、実施例1と同様の装置で製版し、次いでエツチ
ング処理して印刷機で印刷した。製版後得られたオフセ
ット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で、画
質は鮮明であった。又5000枚印刷後の印刷物の画質
は地力ブリのない鮮明な画像のものであった。
(発明の効果) 本発明によれば、地汚れの発生が良好に抑制されるとと
もに良好な耐剛力を併せもつ直溝型平版印刷用原版を得
ることができる。
手続補正書 平成1年9月6日

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 支持体上に画像受理層を有する直描型平版印刷用原版に
    おいて、該画像受理層の結着剤が主成分として分解によ
    りチオール基、ホスホ基、アミノ基及びスルホ基のうち
    の少なくとも1つの基を生成する官能基を少なくとも1
    種含有する樹脂であり、且つ架橋剤が共存している事を
    特徴とする直描型平版印刷用原版。
JP13934388A 1988-06-08 1988-06-08 直描型平版印刷用原版 Pending JPH01309067A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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