JPH01309068A - 直描型平版印刷用原版 - Google Patents

直描型平版印刷用原版

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JPH01309068A
JPH01309068A JP13934488A JP13934488A JPH01309068A JP H01309068 A JPH01309068 A JP H01309068A JP 13934488 A JP13934488 A JP 13934488A JP 13934488 A JP13934488 A JP 13934488A JP H01309068 A JPH01309068 A JP H01309068A
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JP
Japan
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group
resin
groups
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image
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Pending
Application number
JP13934488A
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English (en)
Inventor
Eiichi Kato
栄一 加藤
Kazuo Ishii
一夫 石井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH01309068A publication Critical patent/JPH01309068A/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G7/00Selection of materials for use in image-receiving members, i.e. for reversal by physical contact; Manufacture thereof
    • G03G7/006Substrates for image-receiving members; Image-receiving members comprising only one layer
    • G03G7/0073Organic components thereof
    • G03G7/008Organic components thereof being macromolecular
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G13/00Electrographic processes using a charge pattern
    • G03G13/26Electrographic processes using a charge pattern for the production of printing plates for non-xerographic printing processes
    • G03G13/28Planographic printing plates

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は平板印刷用原版に関し、詳しくは、事務用印刷
原版等に好適な直描型平版印刷用原版に関する。
(従来技術) 現在、事務用印刷原版としては支持体上に画像受理層を
有する直横型平版印刷用原版が広く用い・られている、
このような印刷原版に製版、即ち画像形成を行うには一
般に画像受理層に油性インキを手書きにより描画するか
、タイプライタ−、イングジェット方式あるいは転写型
感熱方式等で印字する方法が採用されている。その他、
普通紙電子写真複写機(PPC)を用いて帯電、露光及
び現像の工程を経て怒光体上に形成したトナー画像を画
像受理層に転写定着する方法も近年使われ始めた。いず
れにしても製版後の印刷原版は不感脂化液(いわゆるエ
ッチ液)で表面処理して非画像部を不惑脂化した後、印
刷版として平板印刷に供せられる。
従来の点描型平版印刷版は紙等の支持体の両面に裏面層
及び中間層を介して表面層が設けられていた。X面層又
は中間層はPVA澱粉等の水溶性樹脂及び合成樹脂エマ
ルジョン等の水分散性樹脂と顔料で形成されている0表
面層は顔料、水溶性樹脂及び耐水化剤で形成される。
このような画描型平版印刷原版の代表例は米国特許第2
532865号に記載されるように、画像受理層をPV
Aのような水溶性樹脂バインダー、シリカ、炭酸カルシ
ウム等のような無機顔料及びメラミン・ホルムアルデヒ
ド樹脂初期縮合物のような耐水化剤を主成分として構成
したものである。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、この様にしてえられた従来の印刷物は、
印刷耐久性を向上するために耐水化剤の添加量を多くし
たり疎水性樹脂を使用したりして疎水性を増大させると
、耐剛性は向上するが親水性が低下し、印刷汚れが発生
し、一方、親水性を良くすると耐水性が劣化し、耐剛性
が低下するという問題があった。特に30°C以上の高
温使用環上ではオフセット印刷に使用する浸し水に表面
層が溶解し、耐刷性の低下及び印刷汚れの両者が発生す
るなど大きな欠点があった。
更に、平板印刷用原版は油性インキ等を画像部として画
像受理層に描画するものであり、この受理層と油性イン
キの接着性が良くなければ、たとえ非画像部の親水性が
充分で上記の如き印刷汚れが発生しなくても、印刷時に
画像部の油性インキが欠落してしまい、結果として耐剛
性が低下してしまうという問題もあった。
本発明は以上の様な直溝型平版印刷用原版の有する問題
点を改良するものである。
本発明の目的は、オフセット原版として全面−様な地汚
れはもちろん点状の地汚れも発生させない不感脂化性の
優れた直溝型平版印刷用原版を提供することである。
本発明の目的は、画像部の油性インキと画像受理層との
接着性が向上し、且つ印刷において印刷枚数が増加して
も非画像部の親水性が充分保たれ、地汚れの発生しない
、高耐刷力を有する平板印刷用原版を提供することであ
る。
(問題点を解決するための手段) 前記した諸口的は、支持体上に画像受理層を有する直溝
型平版印刷用原版において、該画像受理層の結着剤の主
成分として、下記樹脂〔A〕及び樹脂〔B〕の少なくと
も2種を含有して成る事を特徴とする直措型平版印刷用
原版により解決されることが見出された。
樹脂〔A〕 ;分解によりチオール基、ホスホ基、アミ
ノ基及びスルホ基のうちの少なくとも1個を生成する官
能基を少なくとも1種含有する樹脂樹脂〔B〕 ;熱及
び/又は光硬化性樹脂本発明は平版印刷用原版の光導電
層の結着樹脂の少なくとも1部に、分解して少なくとも
1個のチオごル基、ホスホ基、アミノ基及び/又はスル
ホ基を生成する官能基を少なくとも1種含有する樹脂と
熱及び/又は光硬化性樹脂とを用いることを特徴として
いる。これにより本発明による平版印刷用原版は、原画
に対して忠実な複写画像を再現し、非画像部の親水性が
良好であるため地汚れも発生せず、更に耐剛力が優れて
いるという利点を有する。
更に、本発明の平版印刷用原版は製版処理の環境に左右
されず、また処理前の保存性に優れているという特徴を
有する。
以下に、本発明において用いられる分解して少なくとも
1個のチオール基、ホスホ基、スルホ基及び/又はアミ
ノ基の親水性基を生成する官能基を少なくとも1種含有
する樹脂(以下単に、親水性基生成官能基含有樹脂と称
することもある)について詳しく説明する。
本発明の親水性基生成官能基含有樹脂に含まれる官能基
は分解によって少なくとも1つの親水性基を生成するが
、1つの官能基から生成する親水性基は1個でも2個以
上でもよい。
以下、分解により少なくとも1個のチオール基を生成す
る官能基を含有する樹脂(チオール基生成官能基含有樹
脂)について詳述する。かかる樹脂は、例えば下記一般
式(1)(−3−L^〕で示される官能基を少なくとも
1種含有する樹脂である。
一般式(1):  (−3−LA] 埜“・ 但し、R^I+R^2及びRA、は、互いに同じでも異
なってもよく、各々炭化水素基又は−〇−RA′ (R
^′は炭化水素基を示す)を表わし、RA、 、R^%
 、R”h 、R^? 、RAs 、RA、及びRAl
 Oは各々独立に炭化水素基を表わす。
上記一般式(−3−LA)の官能基は、分解によって、
チオール基を生成するものであり、以下更に詳しく説明
する。
R’1 LAが一5t−RA□を表わす場合において、糺 RAl s R’!及びRA、は、互いに同じでも異な
っていてもよく、好ましくは水素原子、置換されてもよ
い炭素数1−18の直鎖状又は分岐状アルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシ
ル基、クロロエチル基、メトキシエチル基、メトキシプ
ロピル基等)、置換されてもよい脂環式基(例えばシク
ロペンチル基、シクロヘキシル基等)、置換されてもよ
い炭素数7〜12のアラルキル基(例えばベンジル基、
フェネチル基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基
等)又は、置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル
基、ナフチル基、クロロフェニル基、トリル基、メトキ
シフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ジクロ
ロフェニル基等)又は−〇−R^’  (R^′は、炭
化水素基を表わし、具体的には、上記R^l、RA2、
RA3の炭化水素基で記述した置換基類を例として挙げ
ることができる)を表わす。
合において、RA4、RAS 、R”b 、R^? 、
R”aは各々好ましくは置換されていてもよい炭素数1
〜12の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基
、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキ
シメチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、ヘ
キシル基、3−クロロプロピル基、フェノキシメチル基
、2,2.2−)リフルオロエチル基、t−ブチル基、
ヘキサフルオロ−1−プロピル基、オクチル基、デシル
基等)、置換されていてもよい炭素数7〜9のアラルキ
ル基(例えばベンジル基、フェネチル基、メチルベンジ
ル基、トリメチルベンジル基、ヘプタメチルベンジル基
、メトキシベンジル基等)、置換されていてもよい炭素
数6〜12のアリール基(例えばフェニル基、ニトロフ
ェニル基、シアノフェニル基、メタンスルホニルフェニ
ル基、メトキシフェニル基、メトキシフェニル基、クロ
ロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリフルオロメチ
ルフェニル基等)を表わす。
を表わす場合において、 RA、及びR’、0は各々同じでも異なっていてもよく
、好ましい例としては、前記R^4〜R^8で好ましい
として記載した置換基を表わす。
本発明の他の好ましいチオール基生成官能基含有樹脂は
、一般式(II)又は一般式(I[I)で示されるチイ
ラン環を少なくとも1種含有する樹脂である。
式(II)において、RAll及びRAttは、互いに
同じでも異なってもよく、各々水素原子又は炭化水素基
を表わす。好ましくは、水素原子又は前記R^4〜RA
、で好ましいとして記載した置換基を表わす。
式(TRI)において、X^は、水素原子又は脂肪族基
を表わす。脂肪族基として好ましくは、炭素数1〜6ノ
アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基等)を表わす。
本発明の更なる他の好ましいチオール基生成官能基含有
樹脂は、一般式(IV)で示されるイオウ原子含有のへ
テロ環基を少なくとも1種含有する樹脂である。
一般式(IV) 式(IV)において、YAは酸素原子又は−NH−基を
表わす。
R’13、R^、4及びR’lliは、同じでも異なっ
ていてもよく、各々水素原子又は炭化水素基を表わす、
好ましくは水素原子又は前記RA4〜R^、で好ましい
として記載した置換基を表わす。
R’l&及びRAl’lは、同じでも異なっていてもよ
く、水素原子、炭化水素基又は−〇−R^″ (RA#
は炭化水素基を表わす)を表わす。好ましくは、前記R
A、−R^、で好ましいとして記載した置換基を表わす
本発明の更なるもう一つの好ましい態様によれば、チオ
ール基生成官舞基含有樹脂は、互いに立体的に近い位置
にある少なくとも2つの千オール基を1つの保護基で同
時に保護した形で有する官能基を少なくとも1種含有す
る樹脂である。
互いに立体的に近い位置にある少なくとも2つのチオー
ル基を1つの保護基で同時に保護した形で有する官能基
の例としては例えば下記一般式(V)、(Vl)及び(
■)で表わされるものを挙げることができる。
一般式(V) 一般式(Vl) 一般式(■) 式(V)及び弐(Vl)において、Z^はへテロ原子を
介してもよい炭素−炭素結合又はC−8結合同志を直接
連結する化学結合を表わす(但し、イオウ原子間の原子
数は4個以内である)。更に一方の +Z^−・C←結
合が単なる結合のみを表わし、例えば下記の様になって
いてもよい。
式(V[)において、R^I1、R’1%は、同じでも
異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基又は−0−
R”  (R”は炭化水素基を示す)を表わす。
式(Vl)において、R^1゜及びRA19は、好まし
くは互いに同じでも異なっていてもよく、水素原子、炭
素数1−12の置換されていてもよいアルキル基(例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基、2−メトキシエチル基、オクチル基等)、炭素
数7〜9の置換されていてもよいアラルキル基(例えば
ベンジル基、フェネチル基、メチルベンジル基、メトキ
シベンジル基、クロロベンジル基等)、炭素数5〜7の
脂環式基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル
基等)又は置換されていてもよいアリール基(例えばフ
ェニル基、クロロフェニル基、メトキジフェニル基、メ
チルフェニル基、シアノフェニル基等)又は−〇−R”
  (R^“はRAll1% R^19における炭化水
素基と同義である)を表わすゆ式(■)において、R’
tO1RA□1、RAt!、RA□。
は、互いに同じでも異なっていてもよく、各々水素原子
又は炭化水素基を表わす。好ましくは、水素原子又は、
RAlll、RA□において好ましいと記載した炭化水
素基と同義の内容を表わす。
本発明に用いられる一般式(1)〜(■)で示される官
能基を少なくとも1種含有する樹脂は、重合体中に含有
されるチオール基を高分子反応によって保護基により保
護した形にする方法又は予め保護基により保護された形
の1つ又は2つ以上のチオール基を含有する単量体の又
は該単量体及びこれと共重合し得る他の単量体の重合反
応により重合する方法により製造される。
チオール基を含有する重合体は、該チオール基がラジカ
ル重合を禁止するため、チオール基含有の単量体をその
まま重合することは困難であるため、高分子反応でチオ
ール基を導入する方法かあるいは本発明に用いられる官
能基、イソチウロニウム塩、プンテ塩等の形にチオール
基を保護した単量体を重合させた後分解反応を行なって
チオール基とする方法で製造される。
従って、重合体中のチオール基を保護した官能基を任意
に調整し得ること、不純物を混入しないことあるいは、
最終的にチオール基を保護した単量体でないと重合しな
いこと等の理由から、予め一般式(1)〜(■)の官能
基を含有する単量体からの重合反応により製造する方法
が好ましい。
1つ又は少なくとも2つのチオール基を、保護基により
保護された官能基に変換する製造法としては、例えば、
岩倉義勇・栗田恵輔著「反応性高分子」230頁〜23
7頁(講談社71977年刊)、日本化学余線「新実験
化学講座第14巻、有機化合物の合成と反応〔■〕、第
8章、第1700頁〜1713頁、(丸善株式会社 1
978年刊) 、J、 F、 W、 McOmie+ 
rProtective  Groupsin Org
anic Chemistry」第7章(Plenun
+ Press。
1973年刊) 、S、 Patai+  ’The 
Chemistry ofthe thiol gro
up Part2 J第12章、第14章(John 
Wiley & 5ons 、  1974年刊)等の
総説引例の公知文献記載の方法等を適用することができ
る。
1又は2以上のチオール基が保護基により保護された単
量体、例えば式(1)〜(■)で表わされる官能基を含
有する単量体は、具体的には、重合性の二重結合を含み
且つチオール基を少なくとも1個含有する化合物を、例
えば、前記した公知文献等に記載された方法に従って、
チオール基を一般式(1)〜(■)の官能基に変換する
か、あるいは一般式(1)〜(■)の官能基を含有する
化合物を重合性の二重結合を含む化合物と反応させる方
法によって、製造することができる。
更に具体的には、一般式([)〜(■)の官能基を含有
する単量体として以下の様な化合物を挙げることができ
るが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない
(1)    −(−CHI−CH−)−5COCR。
(2)    −+CH1−CH+− S COCt H5 (3)    −+CHオーC1− 5COC,H。
(4)    −(−CHI−C1− 薯 5COCHIC1 (5)    −(−CHI−C1− 5COOC,H。
(8)    −+CH,−CH−f−I S  5i(CHi)s (9)      −fC夏1□−CH←)−■ CHt S COOCa H* (1B)   +CH,−CH−)− ■ (20)   −(−CHI−CH−)−C00(CH
z)tS  C0CHzC1CH。
(22)   −(−CH,−C+ COO(CHz ) z S  CS OC! HsH
s (24)   −(−cHt   c→−ツ (25)   −(−CHt−CH−)−COCoo(
CHt)  S i (CH3)ICH。
(26)  +CH*−c→− COOCHgCHCHCooCHC3OCzllsS 
 C5OCtHs (27)   +CHz−c)I−)−C00(CHり
!5COOC4HI CH。
(28)  +CH,−C−÷− CON H(CHt> a S COOC4Hq)  
       ≧ (40)       cl−1゜ ′S□5 II S□5 (42)      CH。
+CH2−C+ 篭 Cz H5 (43)   −fcH,−CH+− 0CH,CHCH,5COCH3 5COCH。
(44)   −(−CH2−CH−)−0−CH□C
HCH2 Hx (45)  −+CH,−C→− (47)        CH。
−fCH、−C−±− 【 Coo(CH2)!5−3C,H。
(49)         CI(s 雪 (50)        CH。
+CI(z   C−÷− COO(CHz) t S COCHC1,t(51)
  六CH,−C1− (52)         CH。
一+CIb   C−÷− (53)      CH3 −(−CH、−C→− Coo(CH2)!  S  C0NH(CI(z)z
NHcHi又、本発明において、分解してホスホ基、例
えば下記一般式(■)又は(IX)の基を生成する官能
基を含有する樹脂について詳しく説明する。
一般式(■) l1 P−R1 −−H 一般式([X) Q8□ −P−Z−−H Z”3  H 式(■)において、R”は炭化水素基又は−ZtR1’
  (ここでRl /は炭化水素を示し、Zl□は酸素
原子又はイオウ原子を示す)を表わす。Q−は酸素原子
又はイオウ原子を表わす。Z−は、酸素原子又はイオウ
原子を表わす0式(IX)において、Q−1Z−及びZ
−は、各々独立に酸素原子又はイオウ原子を表わす。
好ましくは、R1は置換されていてもよい炭素数1〜1
2、直鎖状又は分岐状アルキル基(例えば、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、2−メトキシエチル基、
3−メトキシプロピル基、2−エトキシエチル基等)、
置換されていてもよい脂環式基(例えば、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基等)、置換されていてもよい炭
素数7〜12のアラルキル基(例えば、ベンジル基、フ
ェネチル基、メチルベンジル基、メトキシベンジル基、
クロロベンジル基等)又は置換されていてもよい芳香族
基(例えば、フェニル基、クロロフェニル基、トリル基
、キシリル基、メトキシフェニル基、メトキシカルボニ
ルフェニル基、ジクロロフェニル基等)、又は−Z”t
  R”″ (ここでZ■2は、酸素原子又はイオウ原
子を表わす。R1は炭化水素基を表わし、具体的には、
上記R1の炭化水素基で述べた置換基類を例として挙げ
ることができる)を表わす。
Q”、 、Q”□、Z”t 、Z”s 、Z−は、各々
独立に酸素原子又はイオウ原子を表わす。
以上の如き、分解により式(■)又は(IX)で示され
るホスホ基を生成する官能基としては、−般式(X)及
び/又は(XI)で示される官能基が挙げられる。
一般式(X) 一 1! −P−R” zm、  Lm。
一般式(XI) 一 −P−Z−−L”。
Z13 Ll。
式(X)及び(Xllおイテ、Q”t 、Q”t、z”
、 、z層3、Z−及びR3はそれぞれ式(■)及び(
XI)で定義した通りの内容を表わす。
L”l 、L”Z及びL−は互いに独立にそれぞれR1
,は、互いに同じでも異なってもよ(、水素原子、ハロ
ゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)
又はメチル基を表わす。XI、及びX−は、電子吸引性
置換基を表わし、好ましくはハロゲン原子(例えば塩素
原子、臭素原子、フッ素原子等) 、 CN、  C0
NHt 、 Not又は−3O,R1’  (R”は、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基、ベンジル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、
メシチル基等の如き炭化水素基を表わす)を表わす。
nはl又は2を表わす、更に、xllがメチル基の場合
には、R1,及びR1□がメチル基でn=1を表わす。
R8゜ L−〜L−が一3t−R−を表わす場合にり、5 おいて、R”2 、R”4及びRISは、互いに同じで
も異なっていてもよく、好ましくは水素原子、置換され
てもよい炭素数1〜18の直鎖状又は分岐状アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オク
タデシル基、クロロエチル基、メトキシエチル基、メト
キシプロビル基等)、置換されていてもよい脂環式基(
例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、置換
されてもよい炭素数7〜12のアラルキル基(例えばベ
ンジル基、フェネチル基、クロロベンジル基、メトキシ
ベンジル基等)又は置換されていてもよい芳香族基(例
えばフェニル基、ナフチル基、クロロフェニル基、トリ
ル基、メトキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニ
ル基、ジクロロフェニル基等)又は−ORl l# (
Rl m は、炭化水素基を表わし、具体的には、上記
R”:l 、R”4、R1,の炭化水素基で述べた置換
基類を例として挙げることができる)を表わす。
−R1,。を表わず場合において、R116、RIIフ
、RIlll、RII、及びR−0は、各々独立に炭化
水素基を表わす。好ましくは置換されていてもよい炭素
数1〜6の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル
基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、メト
キシメチル基、フェノキシメチル!、2,2.2−1−
リフルオロエチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル
基、L−ブチル基、ヘキサフルオロ−1−プロピル基等
)、置換されていてもよい炭素数7〜9のアラルキル基
(例えばベンジル基、フェネチル基、メチルベンジル基
、トリメチルベンジル基、ヘプタメチルベンジル基、メ
トキシベンジル基等)、置換されてもよい炭素数6〜1
2のアリール基(例えばフェニル基、トリル基、キシリ
ル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、メタンス
ルホニルフェニル基、メトキシフェニル基、ブトキシフ
ェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル5、t
−リフルオロメチルフェニル基等)を表わす。
表わす場合において、Y”l及びYl□は酸搬原子又は
イオウ原子を表わす。
本発明に用いられる官能基を少なくとも1種含有する樹
脂は、重合体に含有される上記の如き式(Vm)又は(
IX)の親水性基(ホスホ基)を高分子反応によって保
護基により保護した形にする方法、又は予め保護基によ
り保護された形の官能基(例えば式(X)又は(XI)
の官能基)を含有する単量体又は該単量体及びこれと共
重合し得る他の単量体との重合反応により重合する方法
により製造される。
いずれの方法においても、保護基を導入する方法として
は、同様の合成反応を用いることができる。具体的には
、J、 F6%4. Mc、 0m1e、 ’Prot
ectivegroups in Organic C
hea+1stry 」第6章(PlenusPres
s、 1973年刊)の総説引例の公知文献に記載の方
法、あるいは日本化学会鳩r新実験化学講座第14巻、
有機化合物の合成と反応〔■〕」第2497頁(丸善株
式会社刊、1978年)等の総説引例の公知文献に記載
のヒドロキシル基への保護基導入の方法と同様の合成反
応、あるいはS。
Patai、 rThe Chemistry of 
the Triol GroupPart2J第13章
、第14章(Wiley−1nterscience1
974年刊) 、T、 W、 Greene、  rP
rotectivegroups in Organi
c 5ynthesis J第6章(Wiley−In
terscience 1981年刊)等の総説引例の
公知文献等に記載のチオール基への保護基導入の方法と
同様の合成反応により製造できる。
保護基に用いられる一般式(X)及び/又は(XI)の
官能基を含有する重合成分の繰り返し単位となり得る具
体的な化合物例として以下の様な例を挙げることができ
る。しかし、本発明はこれらに限定されるものではない
0 5t(CHi)s OSi(CHl)z 「 0−31(CtHs)s ■ 0−3 i (OCHs)s 0=P−OCOChH。
■ 0COChHs 醤 0−COCH。
CH。
■ 0−3i(CHi)3 CH。
0  S i (CHs)zcJ* CH。
O5i(CHりz 5−COCH。
:15  C00Cz’Hs CH。
■ O5i(CH3)s OC0CzHs CH。
籠 5−C3OCH。
0−3i(CよHl)。
CH。
CH3 CH。
(77)   −+CH1−C→− ■ CH3 ■ 0(CHz)zcN 次に該分解によりアミノ基、例えば−NH,基及び/又
は−NHRc基を生成する官能基として、例えば下記一
般式(Xll)〜(XIV)で表わされる基を挙げるこ
とができる。
一般式(XII) −N−Coo−RC。
C0 一般式(XI[I) 一般式(XIV) 式(XII)及び式(XIV)中、RCoは各々、水素
原子、炭素数1〜12の置換されてもよいアルキル基(
例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、2−
クロロエチル基、2−ブロモエチル基、3−クロロプロ
ピル基、2−シアノエチル基、2−メトキシエチル基、
2−エトキシエチル基、2−メトキシ力ルポニルエヂル
基、3−メトキシプロピル基、6−クロロヘキシル基等
)、炭素数5〜8の脂環式基(例えば、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基等)、炭素数7〜12の置換され
てもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチ
ル基、3−フェニルプロピルL  1−フェニルプロピ
ル基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基、ブロモ
ベンジル基、メチルベンジル基等)、炭素数6〜12の
置換されてもよいアリール基(例えばフェニル基、クロ
ロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリル基、キシリ
ル基、メシチル基、クロロメチル基、クロロフェニル基
、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、クロロメ
トキシフェニル基等)等を表わす。
好ましくはRC,が該炭化水素基を表わす場合は、炭素
数1〜8の炭化水素基類が挙げられる。
式(Xn)で表わされる官能基において、RC。
は炭素数2〜12の置換されてもよい脂肪族基を表わし
、更に具体的にはRC3は下記式(XV)で示される基
を表わす。
式(XV) →−c −+−y C 式(XV)中、a1ga!は各々水素原子、ハロゲン原
子(例えば弗素原子、塩素原子等)又は炭素数1−12
の置換されてもよい炭化水素基(例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、メトキシメ
チル基、エトキシメチル基、2−メトキシエチル基、2
−クロロエチル基、3−ブロモプロピル基、シクロヘキ
シル基、ベンジル基、クロロベンジル基、メトキシベン
ジル基、メチルベンジル基、フェネチル基、3−フェニ
ルプロピル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、メ
シチル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基、ジ
クロロフェニル基、クロロメチルフェニル基、ナフチル
基等)を表わし、Ycは、水素原子、ハロゲン原子(例
えば弗素原子、塩素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4
のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基等)、置換基を含有してもよい芳香族基(例
えばフェニル、トリル基、シアノフェニル基、2,6−
シメチルフエニル基、2.4.6−)リメチルフェニル
基、ヘプタメチルフェニル基、2,6−シメトキシフエ
ニル基、2,4.6−トリメトキシフエニル基、2−プ
ロピルフェニル基、2−ブチルフェニルM、2−クロロ
−6−メチルフェニル基、フラニル基等)又は−3o!
−RC&  (RC&は、Ycの炭化水素基と同様の内
容を表わす)等を表わす。nは1又は2を表わず。
より好ましくは、ycが水素原子又はアルキル基の場合
には、ウレタン結合の酸素原子に隣接する炭素上のa、
及びa2は、水素原子以外の置換基を表わす。
Ycが水素原子又はアルキル基でない場合にはa、及び
a2は上記内容のいずれの基でもよい。
t も1つ以上の電子吸引性基を含有する基を形成する場合
あるいはウレタン結合の酸素原子に隣接する炭素が立体
的にかさ高い基を形成する場合が好ましい例であること
を示すものである。
又は具体的に、Re、は脂環式基(例えば単環式炭化水
素基(シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル5、l−メチル−シクロヘキシ
ル基、1−メチルシクロブチル基等)又は架橋環式炭化
水素基(ビシクロオクタン基、ビシクロオクテン基、ビ
シクロノナン基、トリシクロへブタン基等)等)を表わ
す。
一般式(Xlll)において、RC,及びRC,は同じ
でも異なっていてもよく、各々炭素数1〜12の炭化水
素基を表わし、具体的には、式(Xn)のYcにおける
脂肪族基又は芳香族基と同様の内容を表わす。
一般式(XrV)において、XC,及びXCzは同じで
も異なっていてもよく、各々酸素原子又はイオウ原子を
表わす* RC4*  Rc%は同じでも異なっていて
もよく、各々炭素数1〜Bの炭化水素基を表わし、具体
的には式(XII)のycにおける脂肪族基又は芳香族
基を表わす。
式(Xn)〜(XIV)の官能基の具体例を以下に示す
が本発明はこれらに限定されるものではない。
CH。
C,HS ■ (81)  −NHCOOCH,CF2(82)  −
NHCOOCHICC7!3(83)  −NCOOC
H,C)1tSO1CH!CH3 CH3 しztls CH3 S 本発明に用いられる分解によりアミノ基(例えば−NH
8基及び/又は−NHR基)を生成する官能基、例えば
上記一般式(XI[)〜(XIV)の群から選択される
官能基を少なくとも1種含有する樹脂は、例えば、日本
化掌編、「新実験化学講座第14巻、有機化合物の合成
と反応〔■〕」第2555頁(丸善株式会社刊) 、J
、F、 H,McOmie 。
rProtective  groups  in  
Organic  Chemistry  J  第2
章(P1enua+ Press  1973年刊)、
rProtec−tive groups in Or
ganic 5inthesis」第7章(JohnW
iley & 5ons、 1981刊)等の総説引例
の公知文献記載の方法によって製造することができる。
重合体中の一般式(Xll)〜(XIV)の官能基を任
意に調整し得ること、あるいは、不純物を混入しないこ
と等の理由から、予め一般式(Xll)〜(XIV)の
官能基を含有する単量体からの重合反応により製造する
方法が好ましい、具体的には、重合性の二重結合を含む
1級又は2級アミノ基を、例えば前記公知文献等に記載
された方法に従って、そのアミノ基を一般式(XII)
〜(XIV)の官能基に変換した後、重合反応を行ない
製造することができる。
更に又該分解により少なくとも1つのスルホ基を生成す
る官能基としては、例えば、−S式(X■)又は(X■
)で表わされる官能基が挙げられる。
一般式(XVI)  −3Q、−0−R−一般式(X■
)  −5ot S  RD□古、4 又は−NICOR”?を表わす。
式(XVlll)中、Re2は、炭素数1−18(7)
置換されでもよい脂肪族基、又は炭素数6〜22の置換
基を有してもよいアリール基を表わす。
上記一般式(XVI)、(X■)の官能基は、分解によ
って、スルホ基を生成するものであり、以下に更に詳し
く説明する。
Re。
R”s、R−は同じでも異なってもよく水素原子、ハロ
ゲン原子(例えば弗素原子、塩素原子、臭素原子等)又
は炭素数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基)
を表わす。Yは炭素数1〜18の置換されてもよいアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基
、ドデシル基、ヘキサデシル基、トリフロロメチル基、
メタンスルホニルメチル基、シアノメチル基、2−メト
キシエチル基、エトキシメチル基、クロロメチル基、ジ
クロロメチル基、トリクロロメチル基、2−メトキシカ
ルボニルエチル基、2−プロポキシカルボニルエチル基
、メチルチオメチル基、エチルチオメチル基等)、炭素
数2〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えばビ
ニル基、アリル基等)、炭素数6〜12の置換基を含有
してもよいアリール基(例えば、フェニル基、ナフチル
基、ニトロフェニル基、ジニトロフェニル基、シアノフ
ェニル基、トリフロロメチルフェニル基、メトキシカル
ボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、メ
タイスルホニルフェニル基、ベンゼンスルホニルフェニ
ル基、トリル基、キシリル基、アセトキシフェニル基、
ニトロナフチル基等)、又は−〇−R”、(R”。は、
脂肪族基又は芳香族基を表わし、具体的にはYDで記し
た該置換基の内容と同一のものを表わす)を表わす。
nは0,1又は2を表わす。より好ましくは、8% 置換基: −←C)i−Y”において、少なくとも1つ
古。4 の電子吸引性基を含有する官能基が挙げられる。
具体的には、nが0で、YDが置換基としして電子吸引
性基を含有しない炭化水素基の場合、R′′。
一+ch−において、少なくとも1ヶ以上のハロD4 ゲン原子を含有する。又nが0,1又は2で、YDが電
子吸引性基を少なくとも1つ含有する。更に〒°・ 等が挙げられる。該電子吸引性基とは、ハメットの置換
基定数が正値を示す置換基であり、例えば、ハロゲン原
子、−COO−1−C−1−SO,−1−CN、−No
、等が挙げられる。
もう1つの好ましい置換基として、−SO,−〇−R’
において酸素原子に隣接する炭素原子に少なくとも2つ
の炭化水素基が置換するかあるいは、n=O又はlで、
Y′がアリール基の場合に、アリール基の2−位及び6
−位に置換基を有する場合が挙げられる。
場合において、ZDは、環状イミド基を形成する有機残
基を表わす。好ましくは、−a式(X■)又は(XIX
)で示される有機残基を表わす。
一般式(X■) 一般式(XIX) 式(X■)中、R’9 、RDl。は各々同じでも異な
ってもよく、各々、水素原子、ハロゲン原子(例えば塩
素原子、臭素原子等)、炭素数1〜18の置換されても
よいアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドジテル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−ク
ロロエチル基、2−メトキシエチル基、2−シアノエチ
ル基、3−クロロプロピル1m、2−(メタンスルホニ
ル)エチル基、2−(エトキシオキシ)エチル基、等)
、炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル基(例
えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピ
ル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、メトキ
シベンジル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基等
)、炭素数3〜18の置換されてもよいアルケニル基(
例えばアリル基、3−メチル−2−プロペニル基)、 いて、R”% 、R”hは各々水素原子、脂肪族基(具
体的には、RD3、RD4のそれは同一の内容を表わす
)又は了り−ル基(具体的にはRD3、RD4のそれと
同一の内容を表わす)を表わす。
但しR”、及びRDbがともに水素原子を表わすことは
ない。
Re、が−NHCOR”、を表わす場合において、Ro
、は脂肪族基又はアリール基を表わし、具体的には、R
’3 、R”4のそれは同一の内容を各々表わす。
式(X■)中、RD!は、炭素数1−18の置換されて
もよい脂肪族基又は炭素数6〜22の置換基を有しても
よいアリール基を表わす。
更に具体的には前記した式(XVI)で表わされるYD
における脂肪族基又はアリール基と同様の内容を表わす
本発明に用いられる、一般式〔−5ot−o−Ro、 
)又は(−3Q、−0−R”り群から選択される官能基
を少なくとも1種含有する樹脂は、重合体に含有される
スルホ基を、高分子反応によって一般式(XVI)又は
(X■)の官能基に変換する方法、又は、一般式(X 
Vl )又は(X■)の官能基を1種又はそれ以上含有
する、1種又はそれ以上の単量体又は該単量体及びこれ
と共重合し得る他の単量体の重合反応により重合する方
法により製造される。
高分子反応によって該官能基に変換する方法は、高分子
反応においても、単量体における合成方法と同様にして
行なうことができる。
更に具体的に一般式(XVI) −3on  OR”を
又は一般式(X■)−3o、−0−R”2の官能基とし
て以下の様な例を挙げることができるが、本発明の範囲
はこれらに限定されるものではない。
(108)   5OzOCHzCFz(110)  
 5OzOCHz(CHF)zcHtF(111)  
−3O20CH1C(1゜(113)  −3o□0(
CHz)zso□Ca H90CH。
C,HS (122)   −3O!0−CH−COC,H。
(123)   −3OzO(CHzhSOzCtHs
(124)   −3o□SC,H。
(125)  −3O□SC,H,3 (126)   −SO□5(CHz)zOczHs(
12B)   −3o□0CH1CHFCH2F前記し
た如く、重合反応で所望の樹脂を製造する方法において
用いられる一般式(1)〜(■)、(X) 〜(XIV
)、(XVI)及び(X■)の官能基を含有する共重合
体成分について更に具体的に述べると、例えば下記一般
式〔A〕の如き成分が挙げられる。但しこれらの共重合
体成分例に限定されるものではない。
一般式〔A〕 X’ −Y’ −W 式〔A〕中、X′は、−O−、−CO−。
又はヘテロ環基を示す〔但し、Q、、Q、、Q、。
Q4は、各々水素原子、炭化水素基、又は式(Vl)中
の 千y’−w)を表わし、b+、bzは同じでも異な
っていてもよく、水素原子、炭化水素基又は式(Vl)
中の +Y’−W)を表わし、nは0〜18の整数を示
す]。
Y′は、結合基X′と結合基(W)を連結する、ヘテロ
原子を介していてもよい炭素−炭素結合を表わしくヘテ
ロ原子としては、酸素原子、イオウ原子、窒素原子を示
す)、 1′ (CH=CH)−、−0−、−3−、−N−。
−Coo−、−CONH−、−3o!−、−3owNH
−、−NHCOO−、−NHCONH−、等の結合単位
の単独又は組合せの構成より成るものである(但しbs
、ba、bsは、各々前記bl。
b!と同義である。) Wは式(1)〜(■)、(X)〜(XIV)、(XVI
)又は(X■)で表わされる官能基を表わす。
a l +  a2は同じでも異なっていてもよく、水
素原子、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)
、シアノ基、炭化水素基(例えば、メチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基、メトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシ
カルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、メトキシ
カルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、ブ
トキシカルボニルメチル基、等の置換されてもよい炭素
数1〜12のアルキル基、ベンジル基、フェネチル基等
のアラルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、
クロロフェニル基等のアリール等)、又は式〔A〕中の
−W基を含む置換基で置換されていてもよい、炭素数1
〜18のアルキル基、アキル基、アルケニル基、アラル
キル基、脂環式基、芳香族基を示す)を表わす。
又、式〔A〕中の(−X’ −Y’ )結合残基はt ←C→部と−W部を直接連結させてもよい。
これらの本発明の共重合体成分とともに、共重合し得る
他の共重合体成分としては、それらに相当する単量体と
してその例を挙げれば、例えば、酢酸ビニル、プロピオ
ン酸ビニル、酪酸ビニル、酢酸アリル、プロピオン酸ア
リル等の如き脂肪族カルボン酸ビニルあるいはアリルエ
ステル類、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イ
タコン酸、マレイン酸、フマール酸等の如き不飽和カル
ボン酸及びこれらの不飽和カルボン酸のエステル類又は
アミド類、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチ
レンの如きスチレン誘導体、α−オレフィン類、アクリ
ロニトリル、メタクロニトリル、N−ビニルピロリドン
の如きビニル基置換の′へテロ環化合物等が挙げられる
本発明の樹脂〔A〕におけるチオール基等の親水性基生
成官能基を含有する重合体成分は、樹脂〔A〕が共重合
体である場合には、全重合体中の1〜95重量%、特に
5〜60重量%、であることが好ましい。また、樹脂〔
A〕の重合体の分子量は10’ −10’ 、特に5X
10’〜5×lO%、であることが好ましい。
更に、本発明の樹脂〔A〕は、好ましくは樹脂〔B〕と
加熱又は光照射等によって架橋反応をする官能基を含有
する。それらの官能基としては、後述の樹脂CB)中に
含有される架橋反応を示す官能基と同様の官能基を挙げ
ることができる。
これらの官能基を含有する共重合体成分に相当する単量
体としては、樹脂〔A〕における親水性基生成官能基を
含有する重合体成分(例えば一般式〔A〕の化合物)と
共重合し得る、該架橋性官能基を含有するビニル系化合
物を挙げることができる。
例えば、高分子データ「高分子データ・ハンドブック〔
基礎編〕」培風館(1986刊)等に記載されている。
具体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル
酸(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体
、α−(2−アミノメチル体、α−クロロ体、α−ブロ
モ体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−シ
アノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β
−メトキシ体、α、β−ジクロロ体等)、メタクリル酸
、イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半
アミド頻、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類(
例えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、
2−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エ
チル−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半
エステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカ
ルボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン
酸、ビニルホスホ酸、ジカルボン酸類のビニル基又はア
リル基の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン酸又
はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換基
中に該官能基を含有する化合物等が挙げられる。
以上の如き、本発明の樹脂〔A〕において、前記した架
橋性官能基を含有する場合「該架橋性官能基を含有する
共重合体成分の含有量」は、樹脂〔A〕中の好ましくは
1〜20重景%、より好ましくは3〜lO重量%である
一方、本発明に供せられる樹脂〔B〕は、熱及び/又は
光によって架橋反応を行なう硬化性樹脂であり、好まし
くは、前記した樹脂〔A〕中の官能基と架橋反応を行な
うものである。
好ましくは熱硬化性樹脂として、具体的には、遠藤剛「
熱硬化性高分子の精密化(C,M、  C。
■、1986年刊)、原崎勇次「最新バインダー技術便
覧」第■−1章(総合技術センター、1985年刊)、
大津随行「アクリル樹脂の合成・設計と新用途開発」 
(中部経営開発センター出版部、1985年刊)、大森
英三「機能性アクリル系樹脂」 (テクノシステム 1
985年刊)等の総説に引例された熱硬化性樹脂として
従来公知の樹脂が用いられる。例えば、ポリエステル樹
脂、変性されていてもよいエポキシ樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、アルカン酸ビニル樹脂、変性ポリアミド樹脂
、フェノール樹脂、変性アルキッド樹脂、メラミン樹脂
、アクリル樹脂、イソシアナート系樹脂等が用いられる
光硬化性樹脂として具体的には、乾英夫、永松元太部、
「感光性高分子」 (講談社、1977年刊)、角田隆
弘、「新感光性樹脂」 (印刷学会出版部、1981年
刊) 、G、 E、 Green and B、 P、
 5tark。
J、 Macro、 Sci、 Reas、 Macr
o Chew、、 C21(2) 。
187〜273 (1981〜B2)、C,G、 Ra
ttey。
rPhotopolymerization of 5
urface Coatings 」(A、 Wile
y InterScience Pub、  1982
年刊)、等の総説に引例された光硬化性樹脂として従来
公知の感光性樹脂等が用いられる。
更に具体的には、例えば加熱又は光照射等によって架橋
反応をする官能基を含有する重合体を挙げることができ
該架橋性官能基の例としては、下記の如く異なる官能基
間の化学結合によるタイプ(例えば下表の官能基A群及
びB群から各々少なくとも1種が組合わされて反応する
)、又は、自己架橋性官能基によるタイプ〔具体的には
、 CON HCH! OR(Rは水素原子又はメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等の
炭素数1〜6のアルキル基、下記式〔B〕で示される重
合反応性を有する二重結合性基等〕が挙げられる。
式〔B〕中、X“は、−coo−、−oco−。
CO、Sow  、   C0NH。
−3OiNH−、−0−、−3−、芳香族基又はヘテロ
環基を表わし、Xl+X!は同じでも異なってもよく、
それぞれ水素原子又は置換されてもよい炭化水素基(例
えば、メチル基、エチル基。
プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、カルボキシメチル
基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニル
メチル基、ブトキシカルボニルメチル基、2−クロロエ
チル基、2−メトキシエチル基、エトキシメチル基、ベ
ンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ク
ロロベンジル基。
ブロモベンジル基、メチルベンジル基、メトキシベンジ
ル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、メトキシフ
ェニル基、クロロフェニル基、プロモフェニル基等)を
表わし、rは0又は1の整数を表わす。
これらの官能基を含有する共重合体成分に相当する単量
体としては、例えば、該架橋性官能基を含有するビニル
系化合物(具体的には樹脂〔A〕で記載のものと同様)
を挙げることができる。また、該架橋性官能基を含有す
る共重合成分と共重合し得る他の各成分に相当する単量
体の具体的な例は、樹脂〔A〕と同様のものが挙げられ
る。
樹脂〔B〕における「架橋し得る官能基を含有する共重
合体成分」の含有量は、1〜80重景%が特に好ましい
樹脂〔B〕の重量平均分子量は好ましくはlO″〜5X
10’、より好ましくは5X10’〜5×lOSである
本発明においては、樹脂〔B〕である熱及び/又は光硬
化性樹脂を併用することにより樹脂〔A〕と樹脂〔B〕
の架橋及び/又は樹脂(Bl同志の架橋が形成されるも
のである。
本発明に用いる樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の使用量の割合
は、一般に5〜80対95〜20(重量比)であり、好
ましくは15〜60対85〜40(重量比)である。
本発明では、必要に応じて反応促進剤を添加してもよい
0例えば、樹脂〔B〕が熱硬化性の官能基を含有する樹
脂の場合には、酸(例えば酢酸。
プロピオン酸、酪酸等の有機酸等)あるいは架橋剤を添
加してもよい。
用いられる架橋剤としては、通常架橋剤として用いられ
る化合物を使用することができる。具体的には、山下晋
三、金子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊(19
81年)高分子学会線r高分子データハンド・ブック「
基礎編」培風館(1986年)等に記載されている化合
物を用いることができる0例えば、有機シラン系化合物
(例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリブト
キシシラン、T−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、T−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、T
−アミノプロピルトリエトキシシラン等のシランカップ
リング剤等)、ポリイソシアナート系化合物(例えば、
トルイレンジイソシアナート、n−トルイレンジイソシ
アナート ジフェニルメタンジイソシアナート トリフ
ェニルメタントリイソシアナートポリメチレンボ−リフ
ェニルイソシアナート、へ′キサメチレンジイソシアナ
ート、イソホロンジイソシアナート、高分子ポリイソシ
アナート等)、ポリオール系化合物(例えば、1. 4
−ブタンジオール、ポリオキシプロピレングリコール、
ポリオキシアルキレングリコール、  1. 1.  
l−)リメチロールプロパン等)、ポリアミン系化合物
(例えば、エチレンジアミン。
T−ヒドロキシプロピル化エチレンジアミン、フェニレ
ンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、N−アミノエチ
ルピペラジン、変性脂肪族ポリアミン類等)、ポリエポ
キシ基含有化合物及びエポキシ樹脂(例えば、垣内弘編
著「新エポキシ樹脂」昭晃堂(1985年刊)、橋本邦
之編著「エポキシ樹脂」日刊工業新聞社(1969年刊
)等に記載された化合物類)、メラミン樹脂(例えば、
三輪一部、松永英夫編著「エリア・メラミン樹脂」日刊
工業新聞社(1969年刊)等に記載された化合物類)
、重合性二重結合基を2個以上含有する多官能性単量体
化合物(例えば、大河原信、三枝武夫、東村敏延編「オ
リゴマー」講談社(1976年刊)、大森英主「機能性
アクリル系樹脂」テクノシステム(1985年刊)等に
記載された化合物類が挙げられ、具体的にはジビニルベ
ンゼン、ジビニルグルタコン酸ジエステル、メタクリル
酸ビニル、メタクリル酸アクリル、エチレングリコール
ジメタクリラード、ポリエチレングリコールジアクリラ
ート、ネオペンチルグリコールジアクリラー)、  1
. 6−ヘキサンシオールジアクリラート、トリメチロ
ールプロパントリアクリラート、ペンタエリスリトール
ポリアクリラート。
ビスフェノールA−ジグリシジルエーテルジアクリラー
ト、オリゴエステルアクリラート:これらのメタクリラ
ート体等)がある。
又、樹脂CB)が光架橋反応性の官能・基を含有する樹
脂の場合には増感剤、光重合性単量体等を添加してもよ
い、具体的には前記した感光性樹脂に関する総説に引例
された化合物等を用いることができる。
本発明の結着樹脂は、画像受理層形成物を塗布した後架
橋される。架橋を行なうためには、例えば、乾燥条件を
高温度及び/又は長時間とするか又は塗布溶剤の乾燥後
、更に加熱処理することが好ましい。例えば60°C〜
120℃で5〜120分間処理する。   ′ 又光架橋性樹脂を併用した画像受理層形成物の場合は、
塗布した後に、電子線、X線、紫外線あるいはプラズマ
光照射をすることにより架橋され、乾燥中のみならず、
その前あるいは後でもいずれでもよく、上記乾燥条件の
加熱により反応はより促進する。上述の反応促進剤を併
用すると、より穏やかな条件で処理することができる。
本発明に供される樹脂とともに従来公知の樹脂も併用す
ることができる0例えば、前記した如きシリコーン樹脂
、アルキッド樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂
、スチレン−ブタジェン樹脂、アクリル樹脂等があげら
れ、具体的には、栗田隆治・石渡次部、高分子、第17
巻、第278頁(1968年)、宮本晴視、武井秀彦、
イメージング、  1973 (No、8)第9頁等の
総説引例の公知材料等が挙げられる。
本発明に供される樹脂と公知の樹脂とは任意の割合で混
合することができるが、全樹脂量中の親水性基生成官能
基含有樹脂の含有量が1〜80重量%重量音程されてい
ることが適当である。
全樹脂量中の上記含有量が1重量%より少ないと、得ら
れた平版印刷用原版は、不感脂化液・湿し水による不感
脂化処理により生ずる親水性が充分でなく、印刷時の汚
れが発生する。
一方、80重量%より多いと、複写時の画像形成性が良
くなく且つ、印刷時の画像受理層の被膜強度が弱くなり
耐久性が劣化する。
本発明の親水性基生成官能基を少なくとも1種含有する
樹脂〔A〕は、不感脂化液あるいは印刷時用いる湿し水
により加水分解あるいは加水素分解されて親水性基を生
成する。従って、前述の如く該樹脂を平版印刷用原版の
結着樹脂として用いると、不惑脂化液により親水化され
る非画像部の親水性が、樹脂中に生成される上記親水性
基によってより一層高められる為、画像部の親油性と非
画像部の親水性が明確となり、印刷時に非画像部に印刷
インキが付着するのを防止する。
かかる樹脂〔A〕に更に、本発明の樹脂〔B〕を併用す
ることで、本発明の樹脂〔A〕と架橋反応が起きる。
一方、エツチング処理及び印刷機上で印刷中の湿し水に
より、分解して生成したチオール基の親水性基含有の樹
脂〔A〕は、親水性となり、その含有量が多い場合には
通常水溶性となる。 この際、樹脂〔A〕は本発明に従
い併用された非水性である樹脂CB)と架橋構造を形成
していることにより、親水性を保持したまま水への溶解
性が著しく低下し難溶性もしくは不溶性となる。
従って、非画像部の親水性が樹脂中に生成される親水性
基によって、より一層高められる効果が向上し且つ持続
性が向上することとなると推察される。
より具体的な効果で言うならば、全結着樹脂中に含有さ
せる樹脂〔A〕を減量しても、親木性向上の効果が変わ
らず維持できること、あるいは印刷機の大型化あるいは
印圧の変動等印刷条件が厳しくなった場合でも地汚れの
ない鮮明な画質の印刷物を多数枚印刷することが可能と
なる。
本発明の画像受理層の他の構成成分として、無機顔料が
使用され、該無機顔料として、例えばカオリンクレー、
炭酸カルシウム、シリカ、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸
バリウム、アルミナ等が挙げられる。
画像受理層中の結着樹脂/顔料の割合は材料の種類及び
顔料の場合は更に粒径によって異なるが、一般に重量比
で1/(0,5〜5)、好ましくは1/(0,8〜2.
5)程度が適当である。
その他画像受理層には、膜強度をより向上させるために
架橋剤を添加してもよい。架橋剤としては、通常用いら
れる塩化アンモニウム、有機過酸化物、金属石けん、有
機シラン、ポリウレタンの架橋剤、エポキシ樹脂の硬化
剤等を用いることができる。具体的には、山下晋三、金
子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊(1981年
)等に記載されている。
本発明に使用される支持体としては、上質紙、湿潤強化
紙、ポリエステルフィルムのようなプラスチックフィル
ム、アルミ板のような金属板等が挙げられる。
本発明では支持体と画像受理層との間に耐水性及び層間
接着性を向上する目的で中間層を、また画像受理層とは
反対の支持体面にカール防止を目的としてバックコート
層を設けることができる。
ここで中間層はアクリル樹脂、スチレン−ブタジェン共
重合体、メタアクリル酸エステル−ブタジェン共重合体
、アクリロニトリル−ブタジェン共重合体、エチレン−
酢酸ビニル共重合体等のエマルジョン型樹脂;エポキシ
樹脂、ポリビニルブチラール、ポリ塩化ビニル、ポリ酢
酸ビニル等の溶剤型樹脂;前述のような水溶性樹脂等の
少くとも1種を主成分として構成されるが、必要に応じ
て無機顔料や耐水化剤を添加することもできる。
バックコート層の構成も中間層とほぼ同様である。
PPC製版として用いられる場合には、本発明の印刷原
版の地汚れをいっそう低減するため、印刷原版としての
体積固有抵抗がI Q 10. I Q 100cmと
なるように、更に画像受理層、中間層及び/又はバック
コート層に誘電剤を添加することができる。誘電剤とし
ては無機系のものでも有機系のものでもよく、無機系の
ものではN a 、 KlL i sMg、、Zn、C
o、Ni等の1価又は多価金属の塩が、また有機系のも
のではポリビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロ
ライド、アクリル樹脂変性四級アンモニウム塩等の高分
子カチオン導電剤や高分子スルボン酸塩のような高分子
アニオン導電剤が挙げられる。これらの導電剤の添加量
は各層に使用されるバインダー量の3〜40重川%、用
ましくは5〜20重量%である。
本発明の平版印刷用原版を作るには一般に、支持体の一
方の面に、必要あれば中間層成分を含む水性液を塗布乾
燥して中間層を形成後、画像受理層成分を含む水性液を
塗布乾燥して画像受理層を形成し、更に必要あれば他方
の面にバックコート層成分を含む水性液を塗布乾燥して
バックコート層を形成すれはよい。なお画像受理層、中
間層、バンクコート層の各付着量は夫々1〜30g/r
i、5〜20g/rd、5〜20g/rrfが適当であ
る。
(実施例) 以下に本発明の実施例を示すが、本発明の範囲がこれら
に限定されるものではない。
実施例1 エチルメタクリレ−1−79g、下記具体的化合物例〔
A〕の化合物20g、アクルリ酸1.0g及びトルエン
300gの混合溶液を窒素気流下75°Cの温度に加温
した後、アゾビスイソブチロニトリル(A、[、B、N
)1.5gを加え、8時間反応した。得られた共重合体
(A〕−1の重量平均分子量は43,000であった。
CH。
! 単量体〔A〕 ブチルメタクリレート75g1アリルメタクリレート2
5g及びトルエン200gの混合溶液を、窒素気流下6
0℃の温度に加温した後、2.2”−アゾビス(2,4
−ジメチルバレロニトリル)(A、 D、 M、 V、
 N) 1.0gを加え、8時間反応した。得られた共
重合体〔B〕−1の重量平均分子量は56,000であ
った。
続いて、共重合体〔A〕−1,25g(固形分量として
)、共重合体CB)−1,15g (固形分量として)
酸化亜鉛200g、及びトルエン300gの混合物を、
ボールミル中で2時間分散し、更に、この分散物に、ア
リルメタクリレートl。
g及びA、 D、 M、  V、 NO,5gを添加し
、ボールミルで10分間分散し、これを上質紙の一方の
面にバック層、他の面に中間層が設けられた支持体の中
間層の上に乾燥付着量が25g/nfとなるようにワイ
ヤーバーで塗布し、80℃で1. 5時間、更に100
’Cで1分間乾燥して、平版印刷用原版を作゛製した。
この原版を、不惑脂化処理液(富士写真フィルム■製E
LP−EX)でエツチングプロセッサーに1回通して処
理し、これに蒸留水2μlの水滴を乗せ、形成された水
との接触角をゴニオメータ−で測定した所、13であっ
た。尚、不惑脂化処理前は105°であった。このこと
は、本発明の版の画像受理層の非画像部が、親油性から
親水性に変化したことを示す(通常、印刷時に非画像部
が印刷地汚れ、点状汚れ等を発生しない親水化の度合は
、水との接触角で20°C以下であることが必要である
)。
次に、市販のPPCで製版し、得られた原版を上記と同
様の条件で不惑脂化処理を行ない、印刷用原版を得た。
得られた原版の画像部の濃度は1. 0以上であり、非
画像部の地力ブリもなく、画像部の画質も鮮明であった
。これをオフセット印刷機(ハマダスター■製ハマダス
ター5oosx型)にかけ上質紙上に印刷した。200
0枚を越えても印刷物の非画像部の地汚れ及び画像部の
画質に問題を生じなかった。
更に上記原版を用いて、環境条件を30°C180%P
Hとして、市販のPPCで製版した所、得られた原版の
画像は、画像部の濃度は1. 0以上有り非画像部の地
力ブリもなく、画像部の画質も鮮明であった。これを上
記と同様に印刷した所、2000枚を印刷しても問題な
かった。
以上の如く、本原版は、高温多湿の条件下でもPPC製
版で画質を劣化させなかった。
実施例2−18 実施例1において、本発明の樹脂(A3−1の代わりに
、表−2に示される共重合体〔A〕を25g用いた他は
、実施例1と同様に操作して、各平版印刷用原版を作製
した。
表−2 CH。
これを実施例1と同様の装置で製版した所、得られたオ
フセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で
画質は鮮明であった。更にエツチング処理して印刷機で
印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カプリのない鮮
明な画質であった。
更に、この感光材料を(45℃、75%RH)の環境条
件下にて2週間放置した後全く同様の処理を行なったが
、経時前と全く変わらなかった。
実施例19〜24 実施例1において、本発明の樹脂〔B〕−1の代わりに
、表−3に示される共重合体〔B〕を15g用いた他は
、実施例1と同様にし操作して、各平版印刷用原版を作
製した。
表−3 CH。
表−3 これを実施例1と同様の装置で製版した所、得られたオ
フセット印刷用マスタープレートの濃度は1. 0以上
で画質は鮮明であった。更にエツチング処理して印刷機
で印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カブリの少な
い鮮明な画質であった。
実施例25 実施例1において、本発明の樹脂〔B〕−1の代おりに
、下記化学構造の共重合体〔B〕−8を15g用いた他
は、実施例1と同様の組成ボールミルで2時間分散して
感光層形成物を調製した(但し、アリルメタクリレート
ADMUNを添加する工程は除り)。
共重合体〔B〕−8(重量平均分装置20,000)こ
れを実施例1と同様な紙支持体に乾燥付着量25g/%
となるようにワイヤーバーで塗布し、105°Cで2時
間乾燥し、平版印刷用原版を作製した。
これを実施例1と同様の装置で製版した所、得られたオ
フセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で
画質は鮮明であった。更にエツチング処理して印刷機で
印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カプリのない鮮
明な画質であった。
更に、この感光材料を(45°C175%RH)の条件
下に放置した後上記と全く同様の処理を行なったが、経
時前と全く変わらなかった。
実施例26 実施例25において、本発明の樹脂〔B〕−8の代わり
に、下記化学構造の共重合体〔B〕−9,8g及び共重
合体〔B〕−10,7gとした他は、実施例25と同様
にして平版印刷用原版を作製した。
共重合体〔B〕 −9:重量平均分子量35,000C
00C,H,Coo(CHI)2 共重合体〔B〕−10:重量平均分子121,000こ
れを実施例1と同様の装置で製版し、次いでエツチング
処理して印刷機で印刷した。製版後得られたオフセット
印刷用マスタープレートの濃度は1. 0以上で、画質
は鮮明であった。又1万枚印刷後の印刷物の画質は地力
ブリのない鮮明な画像のものであった。
実施例27〜28 実施例26において、本発明の樹脂CB)−9の代わり
に、下記表−4に示した共重合体〔B〕−11及び〔■
−12]を各々7gとした他は、実施例26と同様にし
て各平版印刷用原版を作製した。
H 表−4 これを実施例1と同様の装置で製版した所、得られたオ
フセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で
画質は鮮明であった。更にエツチング処理して印刷機で
印Fdll Lだ所、1万枚印刷後の印刷物は、カブリ
のない鮮明な画質であった。
(発明の効果) 本発明によれば、地汚れ、発生が良好に抑制されるとと
もに良好な耐刷力を併わせもつ直描型平版印刷用原版を
得ることができる。
手続補正書 1.1到牛のLm 昭和63年特許願第139344号 2、発明の名称 直溝型平版印刷用原版 3、補正をする者 羽生との1m、特許出願人 名称(520)富士写真フィルム株式会社4、代理人 住所〒100 東京都千代田区霞が関3丁目8番1号 虎の門三井ビル14階  電話(581)−9601(
ずしり栄光特許事務所 氏名 弁理士(8107)  佐々木 清除7、補正の
対象 1、特許請求の範囲の欄。
2、発明の詳細な説明の欄。
8、補正の内容 l)明細書第3頁15〜16行目の「使用環上」を「使
用環境下」と補正する。
2)同書第4頁末行〜第5頁1行目の[及び樹脂〔B〕
の少なくとも2種」を「の少なくとも1種及び下記樹脂
CB)の少なくとも1種」と補正する。
3)同書第5頁4行目、5頁10行目、6頁2行目、3
0頁2行目及び32頁6行目の「ホスホ基」を「ホスホ
ノ基」と補正する。
4)同書第8頁1行目の「水素原子、」を削除する。
5)同書第16頁16行目の「反応〔■〕、」を「反応
(III) J 、Jと補正する。
6)同書第30真下から4行目の’Zt」を「−Z8□
」と補正する。
7)同書第32頁末行の’(XI)Jをr (IX) 
Jと補正する。
8)同書第77頁表中行目の 9)同書第48頁12行目の「3−ブロモプロピル」を
「3−ブロモプロピル」と補正する。
10)同書第50頁11行目の「ビシクロオクテン」を
「ビシクロオクテン」と補正する。
11)同書第50頁12行目の「トリシクロへブタンJ
を「トリシクロヘプタン」とi重工する。
12)同書第56頁3行目のr −N HR基」をr 
−N HI7C基」と(山王する。
13)同M第57頁12行目の[式(X Vl )中」
の後に「、」を挿入する。
14)同書第sc+Hto行目の「メタンスルボニル」
を「メタンスルボニル」と補正する。
15)同書第60頁7行目のrn=1又は2で」を’n
が1又は2でYDが」と補正する。
16)同書第6tg3行目の(1η造式を次のように補
正する。
17)同書第61頁8行目の一般式(X■)の構造式を
次のように補正する。
1B)同書第61頁lO行目の一般式(XIX)の構造
式を次のように補正する。
19)同書第75頁14行目の「精密化」の後に「」」
を挿入する。
20)同書第77頁表中、官能基A群の末社の’  P
O3H」をr  POlHzJと補正する。
21)同書第77頁表中、官能基B群の3行の構造式を
次のように補正する。
−C11−U H2、−L; ti −L; It□、
」22)  同書第89頁6行目と7行目の間に次の文
を挿入する。
r本発明の樹脂〔A〕は活性光線の照射により、分解し
てチオール基、ホスホノ基、アミノ基あるいはスルホ基
を生成するものを包含する。ここで用いられる活性光線
としては、200〜900nn+の波長範囲にある光が
好ましく、その光源としては、例えば水銀燈、メタルハ
ライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプあるい
はカーボンアークランプなどがある。」 23)同書第98頁12行目の「メタクリレートADM
UNJを「メタクリレート、A、D、M。
V、N、、と補正する。
24)同書第100真下から3行目のr([1−12)
Jを’ 〔B〕−12Jと補正する。
特許請求の範囲 「支持体上に画像受理層を有する直溝型平版印刷用原版
において、該画像受理層の結着剤が主成分として、下記
樹脂〔A の小な と l  びjlJjA−脂〔B〕
の少なくとも1種を含有して成る事を特徴とする直溝型
平版印刷用原版。
樹脂〔A] :分解によりチオール基、ホスホノ基、ア
ミノ基及びスルホ基のうちの少なくとも1つを生成する
官能基を少なくとも1種含有する樹脂

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 支持体上に画像受理層を有する直描型平版印刷用原版に
    おいて、該画像受理層の結着剤が主成分として、下記樹
    脂〔A〕及び樹脂〔B〕の少なくとも2種を含有して成
    る事を特徴とする直描型平版印刷用原版。 樹脂〔A〕;分解によりチオール基、ホスホ基、アミノ
    基及びスルホ基のうちの少なくとも1つをを生成する官
    能基を少なくとも1種含有する樹脂 樹脂〔B〕;熱及び/又は光硬化性樹脂
JP13934488A 1988-06-08 1988-06-08 直描型平版印刷用原版 Pending JPH01309068A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1241526A2 (en) 2001-03-12 2002-09-18 Fuji Photo Film Co., Ltd. Direct drawing type lithographic printing plate precursor
EP1264687A2 (en) 2001-06-08 2002-12-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Direct drawing type lithographic printing plate precursor and production method thereof
EP1302312A2 (en) 2001-10-15 2003-04-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor
JP5860820B2 (ja) * 2011-02-03 2016-02-16 株式会社クラレ アクリル酸エステル誘導体、高分子化合物およびフォトレジスト組成物

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EP1302312A2 (en) 2001-10-15 2003-04-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor
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