JPS63165349A - 新規な２―アゼチジノン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は新規なアミノ酸誘導体、特に抗菌剤として有用
なｌ−アルキルカルバペネム化合物の合成中間体として
使用される新規なアミノ酸誘導体に関する。

（従来の技術） 抗菌剤として有用な活性を有するヂエナマイシン［米国
特許第３，９５０，３５７号明細書：Ｊ　、Ａｍ、Ｃｈ
ｅｍ。

Ｓｏｃ、、１００．３１３（１９７８）］が天然から発
見され、それが報告されて以来、種々のカルバペネム化
合物を純合成的に得る方法か報告されている。

最近に至り、カルバペネム骨格の１位メチレン基がアル
キル基で置換された化合物が合成され、特にｌ−メチル
カルバペネム化合物［Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ、牡、
　２９（１９８４）］は往来の１位無置換カルバペネム
化合物に比べて生体内安定性等において優れており、抗
菌剤として極めて有用であることが報告されている。そ
れに伴い１−アルキルカルバペネム化合物の有効な製造
法の開発にも多くの興味がもたれるようになった。

（発明の解決しようとする問題点） 本発明者らは、■−アルキルカルバペネム化合物の有効
な製造法について種々検討を加え１こ結果、ある種のア
ミノ酸誘導体が■〜アルキルカルバペネム化合物の製造
上重要な中間体となることを見出し、本発明を完成した
。

（問題点を解決するための手段） ｌ）目的物質 本発明は、一般式： ％式％ ［式中、Ｒは低級アルキル基を示し、Ｒ１は水素原子ま
たはカルボキシル基の保護基を示し、Ｒ１２は水素原子
、アミノ基の保護基、式 Ｒ３ −ＣＨ２ＣＨ＝Ｃ（１） （式中、Ｒ３およびＲ４は同一または互いに異なってい
てもよく、水素原子、低級アルキル基あるいはアリール
基を示す。） で表わされる置換らしくは無置換のアリル基、水酸基か
保護らしく（よ無保護であるβ−ヒトロキシエヂル基、
ホルミル基か保護らしくは無保護であるホルミルメチル
基、カルボキシル基が保護され７ニカルポキンルメチル
基または２−フリルメチル堰を示し、Ｘは保護もしくは
無保護であるカルボキシル基、水酸基が保護らしくは無
保護であるヒトロギノメグ・ル基または式 ％式％（２） （式中、Ｒ６はアリール基またはアラ（低級）アルキル
基を示す。） て表わされる置換基を示す。］ て表わされる新規なアミノ酸誘導体を提供するものであ
る。

本明細占中、特に上記一般式（１）に関連して使用され
ろ「低級」なる用語は一般に炭素￥１．８を超えない基
、特に炭素数６を超えない基、就中炭素数４を超えない
基を表すものとする。従って、例えば「低１及アルキル
」にはメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、
ｎ−ブチル、５ｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル等が包含され
、「低級アルコキシ」にはメトキン、エトキシ、ロープ
ロポキン、イソプロポキノ、ｎ−ブトキン、５ｅｃ−ブ
トキシ等が包含され、「低級アルカノイル」にはアセチ
ル、プロピオニル、ブチリル等が包含される。また、「
ハロゲン」なる用語は通常、塩素、臭素、ヨウ素および
フッ素を包括的に意味するために使用される。なおまた
、「アリール」なる用語は、通常炭素数２０を超えない
芳香族炭化水素基を意味し、フェニル、ナフチル、アン
スラニル等か包含されろ。なお、アリール基か置換され
ている場合、その置換基としては低級アルキル、低級ア
ルコキン、ニトロ、アミノ、ハロゲン等が例示される。

カルボキシル基、アミノ基、ヒドロキシル基、ホルミル
基等の官能基の保護方法については、「プロテクティブ
・グループ・イン・オルガニック・ノンセンス（Ｐｒｏ
ｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　
５ｙｎｔｈｅｓｉｓ）　ｊ１９８１年ジョン・ウィリー
・アンド・センス（Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　　５ｏ
ｎｓ）発行ニューヨーク、新実験化学講座１４巻「有機
化合物の合成と反応［Ｖ］」２４９５頁以下（昭和５３
年）等を含む種々の綜説や論文に記載があり、それらに
記載された常套の方法が本発明においても採用されてよ
い。

カルボキシル基の保護基としては、例えば０１〜Ｃ４ア
ルキル（メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル
、ｎ−ブチル、５ｅｃ−メチル、ｔ−メチル等）のよう
な低級アルキル基、１〜３のハロケンで置換された０１
〜Ｃ４アルキル（２−ヨウ化エチル、２，２．２−　ト
リクロロエチル等）のようなハロ（低級）アルキル基、
Ｃ，−Ｃ，フルコキンメヂル（メトキンメチル、エトキ
ンメチル、イソブトキノメチル等）のような低級アルコ
キシメチル基、Ｃ，−Ｃ，アルコキン力ルポニルオキシ
ェヂル（ｌ−メトキシカルボニルオキシエチル、ｌ−エ
トキノ力ルポニルオキシエヂル等）のような低級アルコ
キシカルボニルオキシエチル基、Ｃ１〜Ｃ。

アルカノイルオキシメチル（アセトキシメチル、プロピ
オニルオキシメチル、ブチリルオキシメチル、ピバロイ
ルオキシメチル等）のような低級アルカノイルオキシメ
チル基、置換または無置換０３〜Ｃａアリル（アリル、
２−メチルアリル、３−メチルアリル、シンナミル等）
のような置換または無置換低級アルケニル基、置換また
は無置換フェニルメチル（ベンジル、ｐ−メトキンベン
ジル、２゜４−ジメトキシベンジル、０−ニトロベンジ
ル、ｐ−ニトロベンノル、ｐ−クロロベンジル等）のよ
うな置換または無置換アリールメチル褪、置換または無
置換ジフェニルメチル（ジフェニルメチル、ジ−ｐ−ア
ユシルメチル等）のような置換または無置換ジアリール
メチル基、置換または無置換フェニル（フェニル、ｐ−
ニトロフェニル、ｐ−クロロフェニル、２．６〜ジメチ
ルフエニル等）のような置換または無置換アリール基等
を挙げることがてきる。

アミノ基の保護基としては、例えばＣ８〜Ｃ５アルコキ
シカルボニル（ｔ−ブチルオキシカルボニル等）のよう
な低級アルコキシカルボニル基、１〜３のハロゲンで置
換された０１〜Ｃ３アルコキンカルボニル（２−ヨウ化
エトキノカルボニル、２．２゜２−トリクロロエトキシ
カルボニル等）のようなハロ（低級）アルコキシカルボ
ニル基、置換まｆこは無置換フェニルメトキシカルボニ
ル（ベンジルオキシカルボニル、０−ニトロベンジルオ
キシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル等）のような
置換または無置換アリールメトキシカルボニル基、置換
または無置換フェニルメチル（ベンジル、ｐ−メトキシ
ベンジル、２．４−ジメトキシベンノル、０−ニトロベ
ンジル、ｐ−ニトロベンジル等）のような置換または無
置換アリールメチル基、置換または無置換ジフェニルメ
チル（ジフェニルメチル、ジ−ｐ−アユシルメチル等）
のような置換または無置換ジアリールメチル基、α−０
１〜Ｃ４アルキル−ベンジル（α−メチル−ベンジル、
α−エヂルーベンジル等）のようなα−低吸アルキルー
ベンジル括、トリチル基、置換フェニル（ｐ−メトキン
フェニル、２．４−ジメトキシフェニル、０−ニトロフ
ェニル、ｐ−ニトロフェニル、２．４−ジニトロフェニ
ル等）のような置換アリール基、トリ（０１〜Ｃ，）ア
ルキルノリル（トリメチルシリル、し−ブチルツメデル
シリル等）のようなトリ（低級）アルキルシリル基、置
換メチル（メトキシメチル、２−メトキシエトキンメチ
ル、ベンジルオキシメチル、メチルチオメチル等）のよ
うな置換低級アルキル基、テトラヒドロピラニル基等を
挙げろことができる。

水酸法の保護基としては、例えば０１〜Ｃ４アルキル（
メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブ
チル、５ｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル等）のような低級ア
ルキル基、置換メチルまたはエチル（メトキンメチル、
ベンジルオキシメチル、２−メトキシエトキンメチル、
し−ブトキシメチル、メチルチオメチル、２，２．２−
トリクロロエトキシメチル、ｌ−メチル−１−メトキシ
エチル、トリクロロエチル等）のような置換低級アルキ
ル基、テトラヒドロピラニル基、置換または無置換モノ
フェニルメチル、ジフェニルメチルまたはトリフェニル
メチル（ベンジル、ｐ−メトキンベンジル、０−ニトロ
ベンジル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−クロロベンジル、
ジフェニルメチル、トリフェニルメチル等）のような置
換または無置換モノアリール（低９及）アルキル トリアリール（低級）アルキル基、置換シリル基（トリ
メチルノリル、トリメチルシリル、ｔ−ブチルツメデル
シリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル等）、ホルミル基
、Ｃ２〜Ｃ５アルカノイル（アセチル、イソブヂリル、
ピバロイル等）のような低級アルカノイル基、１〜３の
ハロゲンで置換されたＣ。

〜Ｃ，アルカノイル（ジクロロアセチル、トリクロロア
セチル、トリフロロアセチル等）のようなハロ（低級）
アルカノイル基、アリールカルボニル基（ベンゾイル、
トルイル、ナフトイル等）、Ｃ，〜Ｃ５アルコキシカル
ボニル（メトキシカルボニル、エトキンカルボニル、イ
ソブトキノカルボニル等）のような低級アルコキシカル
ボニル基、１〜３のハロゲンで置換された０１〜Ｃ，ア
ルコキシカルボニル（２−ヨウ化エトキシカルボニル、
２，２．２＝トリクロロエトキノカルボニル等）のよう
なハロ（低級）アルコキシカルボニル基、Ｃ，〜Ｃｌｌ
アルケニルオキン力ルボニル（ビニルオキシカルボニル
、アルコキシカルボニル等）のような低級アルケニルオ
キシカルボニル基、置換または無置換フェニルメヂルオ
キンカルボニル（ベンジルオキシカルボニル、ｐ−メト
キノベンジルオキノ力ルボニル、２．４−ジメトキンベ
ンジルオキシ力ルボニル、０−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル等）の
ような置換または無置換アリールメチルオキンカルボニ
ル基等を挙げることができろ。

保護されたホルミル基の具体例としてはジ（Ｃ。

〜Ｃ４）アルコキシメチル（ンメドキンメチル、ジェト
キシメチル、ジ−ｎ−プロピルオキシメチル等）のよう
なジ（低級）アルコキシメチル基、ジ（ハロ（低級）ア
ルコキシ）メチル基（ジ（トリクロロエトキン）メチル
等）、：／（アリールオキシ）メチル基（ジベンジルオ
キソメチル等）、式： ［式中、Ｙは酸素原子または硫黄原子を示し、ｎは２ま
たは３を示す。］ で表わされる環状の置換基等を挙げることができろ。

前記一般式（Ｉ）で示されるアミノ酸誘導体において特
に好適なものは、Ｒがメチル基で示される化合物である
。更に好適なしのとしては、Ｒがメチル基で、［也、か
ヘンノル基、２−プｃ１ベニル基、２−フリルメチルＪ
、ｒ、または２，２−ジェトキシメチル１．（て示さ〕
−ろ化合物を）ｆげろことかできろ。

なお、アミノ酸誘導体（［）は４個の不整炭素原子を資
しており、これらにノ、（づいて各種の光学異性体や立
体異性体が存在する。本明細書では、これらの異性体は
便宜上単一の式で示されているが、それらが弔離の状態
であると混合物の状態であるとを問わず、総て本発明の
技術的範囲に包含される乙のと理解されなければならな
い。

２）目的物質の製造 本発明の目的物質であるアミノ酸誘導体（１）は、例え
ば式・ ｏ　　　ＮＨＲ。

［式中、Ｒ，Ｒ，、Ｒ２およびＸは前記と同じ意味を有
する。コ で示される化合物を還元することによって製造すること
か出来る。還元は種々の方法によってこれを行うことが
出来、例えば白金、パラジウム、ニッケル等の触媒を用
いる触媒水素添加反応、液体アンモニアあるいは低級ア
ルキルアミン中でリチウム、ナトリウム等のアルカリ金
属を用いる還元反応、水素化アルミニウム、有機スズ水
素化物（水素化トリエチルスズ、水素化トリーｎ−ブチ
ルスズ、水素化トリフェニルスズ等）、ヒドロシラン（
トリメデルシラン、トリメデルシラン、ノエヂルシラン
等）のような金属水素化物を用いる還元反応、ボラン類
（ジボラン、９−ボラビシクロ［３，３，１］ノナン、
ジベンゾイルオキシボラン、モノクロロボラン、ジクロ
ロボラン、カテコールボラン、ジシクロヘキシルボラン
等）を用いる還元反応、金属水素錯化合物（水素化リチ
ウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム、シアン化
水素化ホウ素ナトリウム、シアン化水素化ホウ素リチウ
ム、アセトキシ水素化ホウ素ナトリウム等）を用いる還
元反応等を利用して行えばよい。なお、還元は単一の方
法で行ってらよいが、異なる還元方法を組合せて２段階
で行ってもよい。好適な還元方法のうち、代表的な具体
例を挙げれば次のとおりである。

還元方法（Ａ）ニー 化合物（Ｉｌ）を、酢酸、プロピオン酸、エタノール、
メタノール等の溶媒中、鉱酸（塩酸、硫酸等）やカルボ
ン酸（酢酸、プロピオン酸、酒石酸、シュウ酸等）のよ
うな酸の存在下、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素
化ホウ素ナトリウム、アセトキン水素化ホウ素ナトリウ
ム等の還元剤で処理することによって、化合物（Ｉ）を
得る。

用いられろ還元剤の量は化合物（Ｉｌ）に対して２〜５
当里が好ましい。反応は適宜冷却または加熱することに
よって抑制または促進することができるが、通常は一４
０℃から８０℃で実施するのが望ましい。

なお、本還元方法において特に好適には酢酸またはプロ
ピオン酸中で水素化ホウ素ナトリウムまたはシアノ水素
化ホウ素ナトリウムを作用させるのか望ましい。

還元方法（Ｂ）ニー 化合物（ｎ）を、不活性溶媒中、まずボラン類で処理し
、次に金属水素錯化合物（シアン化水素化ホウ素ナトリ
ウム、水素化ホウ素ナトリウム等）のような還元剤を用
いて処理した後、ソルボリシスによって、化合物（１）
を得る。

本ぶ元方法で用いられるボラン類はジボラン、９−ボラ
ビシクロ［３，３，１］ノナン、ジベンゾイルオキンボ
ラン、モノクロロボラン、ジクロロボラン、カテコール
ボラン等から泗ぶことができろが、特にカテコールボラ
ンが好ましい。ボラン類は化合物（ＩＴ）に対して通常
１〜２．５当ｍを使用する。ボラン類との処理に際して
用いられる不活性溶媒としては、エーテル類（テトラヒ
ドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン、グライム
等）、ハロゲン化炭化水素類（クロロホルム、ジクロロ
メタン等）、芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン等
）等を挙げることができる。反応は一＋００°Ｃから室
温の範囲で行うのか好ましい。

次の金属水素錯化合物のような還元剤による処理は不活
性溶媒（酢酸、プロピオン酸、エーテル、テトラヒドロ
フラン、クロロホルム等）中、酸（酢酸、プロピオン酸
、シュウ酸、塩酸、硫酸等）の存在下に行うことができ
る。用いられる還元剤の量は化合物（ＩＩ）に対し１〜
３当量が好ましい。反応は通常−４０〜８０℃の範囲で
行なわれる。

ソルボリシスは溶媒（水、メタノール等）中、塩基（炭
酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム
等）の存在下、０〜４０°Ｃの温度で行うことができる
。

なお、上記還元方法（Ａ）および（Ｂ）においては、次
式で示されるＲについての立体異性体およびそれぞれの
対掌体（ｅｎａｎｔ　ｉｏｍｅｒ）、すなわち計４種の
異性体か優先的に生成する・ （Ｉ　ａ）　　　　　　　　　　　　（Ｉ　ｂ）［式中
、Ｒ１Ｒ１，ＲｔおよびＸは前記と同じ意味を存する。

〕。

反応条件、反応基質等によって異性体の生成比は異なる
が、それらを適宜に選択することによって立体異性体（
Ｉ　ａ）とその対掌体の混合物を主成績体として得るこ
とが出来る。この立体異性体（Ｉａ）はｌ−アルキルカ
ルバペネム誘導体に誘導した際、次式で示されるｌβ−
アルキルカルバペネム誘導体を与える点で工業的に好ま
しい：［式中、ＲおよびＲ，は前記と同じ意味を有する
。

Ｒ６は水素原子または水酸基の保護基を示し、Ｚは有機
基を示す。］。

３）目的物質の利用 本発明のアミノ酸誘導体（１）は抗菌作用を有するｌ−
アルキルカルバペネム化合物の製造中間体として有用で
あり、例えば下記経路によって１−アルキルカルバペネ
ム化合物に誘導することができる： ＯＨＮ　ＨＲ。

（ＩＶ） ［式中、Ｒ５Ｒ２およびＸは前記と同じ意味を有する。

］。

第（１）工程ニー 化合物（１）を通常のカルボキシル基の脱保護反応に付
すことにより、化合物（ＩＶ）へ誘導する。

Ｘが保護されたカルポギンル基の場合、すなわち化合物
（Ｉ　ｃ）の場合には、テトラヘドロン・レターズ（Ｔ
ｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬ　ｅｔｔｅｒｓ）、其、２７８
３〜２７８６（１９８０）；　２２．９１３〜９１６（
１９８１）に記・戟の方法に県ごて次のとおり化合物（
■゛）へ誘導することができる。

（Ｖ） ＯＨＮ　ＨＲ１ （■゛） ［式中、ＲＳＲ，およびＲ７は前記と同じ意味を有する
。ＲｏｌおよびＲ″、はカルボキシル基の保護基を示す
。］ 上記の変換工程（１）はラクトン化反応であって、化合
物（Ｉ　ｃ）をハロゲン化炭化水素（塩化メチレン、ク
ロロホルム、ジクロロエタン等）、芳香族炭化水素（ヘ
ンゼン、トルエン等）、エーテル（テトラヒドロフラン
、ジオキサン等）あるいはそれらの混合溶媒中、塩化水
素あるいは臭化水素で処理することによって達成される
。

二つの異性体（Ｉ　ａ）型、（Ｉ　ｂ）型の混合物を用
いた場合には、下に示すとおり、異性体（Ｉ　ａ）型を
選択的に化合物（Ｖａ）へ誘導することが出来、後者は
ｌβ−アルキルカルバペネム化合物に誘導することが可
能であろ： ＨＮＨＲ２ （Ｉ　ｂ）型 ［式中、Ｒ１Ｒ＋、ＦｔａおよびＲ′１は前記と同じ意
味を有する。］ 変換工程（２）は前記文献記載の方法に準じてラクトン
化合物（Ｖ）を化合物（■°）へ変換せしめるものであ
る。なお、ラクトン化合物（Ｖ）は種々の立体異性体を
含むものであるが、便宜上ラクトン化合物（Ｖａ）を例
に挙げて以下の説明を行う。

（ａ） ＯＨＮ　ＨＲ＊ （Ｉ　ｄ） ＯＨＮＨＲｙ （ＩＶ’ａ） ［式中、Ｒ，Ｒ，、Ｒ３およびＲ″１は前記と同じ意味
を有する。］ 化合物（Ｖａ）においてラクトン環を選択的にアルカリ
加水分解に付すことにより化合物（Ｉ　ｄ）へ導き、次
にＲ１で示されるカルボキシル基の保護基の除去反応に
おいて影響されないカルボキシル基の保護基Ｒ”、でカ
ルボキシ基を保護した後、Ｒ１の除去反応に付すことに
よって化合物（ＩＶ’ａ）へ導くことができろ。上記の
アルカリ加水分解に用いる試薬としては、例えば水酸化
バリウム水溶液、水酸化ナトリウト水溶液、水酸化カリ
ウム水溶液、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド水
溶液等が挙げられが、特に水酸化バリウム水溶液が好適
である。反応溶媒としては通常のアルカリ加水分解に用
い得るものであれば、いずれも使用可能であるが、好適
なものとしてはテトラヒドロフラン、アセトン、メタノ
ールあるいはピリジンもしくはこれらと水との混合物が
例示される。反応は適宜冷却または加熱することにより
抑制または促進することが可能であるが、好ましくは０
〜７０℃で行う。

カルボキシル基の保護反応および脱保護反応は通常用い
られる方法によって行えば良い。

（ｂ） ＣＯＯＲ，Ｃ００Ｈ （Ｖｂ）　　　　　　　　　　　　　（Ｖｃ）（Ｖｄ） ［式中、ｎ、Ｒ＋およびＲ”１は前記と同じ意味を６す
る。Ｒ’ｔはアミノ基の保護基を示す。〕アミノ基が無
保護である化合物（ｌＶ’ｂ）は化合物（Ｖｂ）からこ
れを順次エステル基の加水分解、アミノ基の保護基の除
去反応およびラクトン環の開裂反応に付すことにより得
ることができる。例えばカルボキシル基の保護基か低級
アルキル基、アミノ基の保護基がアリールメチル基（ベ
ンジル基等）である場合、まず化合物（Ｖｂ）を鉱酸（
塩酸等）で処理することによりエステル基を選択的に加
水分解して化合物（Ｖ　ｃ）に導く。次いでこれを水酸
化パラジウム−炭素のような触媒の存在下、水素化分解
反応に付してアミノ基の保護基を除去する。

次いてここに得られた化合物（Ｖｄ）をアルコール（ベ
ンジルアルコール等）を用いるラクトン環のアルコリシ
ス反応に付し、化合物（ＩＶ’ｂ）を得る。

（ｃ） ｃｏｏＲ。

（Ｖｅ） ＯＨＮＨＲ。

（１％”ｃ） Ｕ式中、ＲｌＲ，、Ｒ３およびＲ″１は前記と同じ意味
を有する。コ 化合物（ＩＩ／”ａ）の水酸基の立体配位が反転した化
合物（ＩＶ’ｃ）は化合物（Ｉｄ）から例えばジエチル
アゾジ力ルポキシレートおよびトリフェニルホスフィン
を用いる光延反応によってラクトン（Ｖｅ）に導き、そ
の後前記の（ａ）および（ｂ）で説明した方法によって
化合物（［Ｖ’ｃ）へ導（ことができる。光延反応にお
いては反応補助剤として有機塩基（トリエチルアミン等
）を加えることによって化合物（Ｖｅ）の生成を促進す
ることができる。　・ なお、化合物（Ｉ）においてＸが保護されたカルボキシ
ル基であるもの、すなわち化合物（Ｉ　ｃ）をアルカリ
加水分解することによって選択的に化合物（［ｄ）へ誘
導することができる。この選択的アルカリ加水分解に用
いる試薬としては、水酸化バリウム水溶液、水酸化ナト
リウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、水酸化カルシウ
ム水溶液、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド水溶
液等が例示されるが、特に水酸化バリウム水溶液の使用
が好ましい。反応溶媒としては通常のアルカリ加水分解
に用い得るものであればいずれも使用可能であるが、好
適なものとしてテトラヒドロフラン、アセトン、メタノ
ールあるいはピリジンもしくはこれらの有機溶剤と水と
の混合物が挙げられる。

反応は適宜冷却または加熱することにより抑制または促
進することが可能であるが、好適には反応温度０〜７０
６Ｃである。

以上の操作はジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル
・ソサエティ（Ｊ　、Ａｍ、　Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、１
０３．２４０５〜２４０６（１９８１）やテトラヘドロ
ン・レターズ（Ｔ　ｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅ
ｒｓ）、２１．２７８３〜２７８６（１９８０）；　２
２．９１３〜９１Ｂ（１９８１）の記載を参考にして行
えばよい。

第（１１）工程ニー 化合物（ＩＶ）を脱水閉環反応に付することにより化合
物（ＶＩ）を得る。

この脱水閉反応は、例えば化合物（Ｊ）を不活性溶媒中
、塩基の存在または不存在下、脱水剤（２゜２−ジピリ
ジルジスルフィド−トリフェニルホスフィン、シンクロ
ヘキシルカルボジイミド等）と処理すれば良い。

第（ｉｉｉ）工程ニー 化合物（Ｖｌ）について必要に応じその水酸基を保護し
たうえ、Ｘで表される置換基の種類に応じて適宜の手段
を適用して化合物（■）を得る。

所望に応じて行なわれる化合物（Ｖｌ）の水酸基の保護
は自体常套の方法によって行なえばよい。

Ｘが保護されたカルボキシル基である場合には、加水分
解、水添反応、酸処理等の自体常套の手段を適用してそ
の保護基を脱離せしめ、化合物（■）を得る。

Ｘが保護されたヒドロキシメチル基である場合には、自
体常套の方法でその保護基を除去したうえ、クロム酸酸
化のような自体公知の酸化方法（ジャーナル・オブ・ア
メリカン・ケミカル・ソサエティ（Ｊ　、Ａｍ、Ｃｈｅ
ｍ、Ｓｏｃ、）、川、１６５９〜１６６０（１９８３）
）によって化合物（■）を得る。

Ｘが式（２）の置換基である場合には、これにヨウ化メ
チルのようなアルキルハライドを作用させてハロゲノメ
チル基とし、これを公知の方法によりヒドロキシメチル
基に導き、これを上記と同様にして化合物（■）を得る
［テトラヘドロン・レターズ（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ
　　Ｌｅｔｔｅｒｓ）、　５７８７〜５７８８（１９６
８）］。

第にＩＶ）工程−一 化合物（■）に対し、そのＲ７の種類に応じて適宜の手
段を適用して化合物（ＩＩ［）を得る。なお、化合物（
■）においてＲ１が水素原子であるものは公知物質であ
り、ｌ−メチルあるいはｌ−アルキルカルバペネム誘導
体の原料として用いられている［ヘテロサイクルズ（Ｈ
ｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ）、２１．２９〜４０（１９８
４）：テトラヘドロン・レターズ（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒ
ｏｎＬｅｔｔｅｒｓ）、川、５８７〜５９０（１９８５
）］。

Ｒ７が保護基の場合は、その種類に応じて水添反応、酸
化、酸処理等の公知の脱離方法を適用して保護基を除去
する。

Ｒ７が式（１）の置換基の場合には、化合物（■）につ
いて例えば特願昭６０−１２３１１７号明細書に記載の
方法に従って以下のように変換反応を実施し、化合物（
Ｘ）を得る： （■） （ＩＫ） （Ｘ） し式中、Ｒ、Ｒｌ、　Ｒｓ、Ｒ４およびＲａｌま前δ己
と同じ意味を有する。ｐｈはフェニル基を示す。］すな
わち、変換工程（ａ）においては、化合物（■）をオゾ
ン酸化した後、酸化剤（メタクロロ過安息香酸等）によ
る処理、相聞移動触媒（クラウンエーテル、四級アンモ
ニウム化合物等）の存在下あるいは非存在下過マンガン
酸カリウムによる酸化等公知の方法を適用して化合物（
ＩＫ）に変換する。

次に変換工程（ｂ）においては、化合物（ＩＸ）にカル
ボキシル基の保護反応、脱保護反応、チオフェノールの
アシル化反応等公知の方法を適用することによって化合
物（Ｘ）に導く。

なお、Ｒ３が２−フルリメチル基である化合物、すなわ
ち式： ［式中、Ｒ，Ｒ，およびＲ６は前記とおなし意味を有す
る。］ で示される化合物である場合も上記と同様にして化合物
ＣＸ）に導くことかできろ。

Ｒ２が保護らしくは無保護であるβ−ヒドロキンエエチ
基の場合ら、水酸基か保護されている場合には公知方法
によって保護基を除去してβ−ヒドロキシエチル括に変
換したうえ、クロム酸酸化のようなヒドロキシメチル基
をカルボキシル基に変換する方法により化合物（ＩＸ）
を得、これを前記と同様にして化合物（Ｘ）に誘導する
。

Ｒ２が保護されたポルミルメチル基である場合には、公
知の方法によって保護基を除去してホルミルメチル基に
誘導し、クロム酸酸化のようなホルミル基をカルボキシ
ル基に変換する方法により化合物（ＩＸ）を得、これを
前記と同様にして化合物（Ｘ）に誘導する。

Ｒ２が保護されたカルボキシルメチル基である場合には
、公知の方法によってカルボキシル基の保護基を除去し
て化合物（ＩＸ）を得、前記と同様にして化合物（Ｘ）
に誘導する。

なお、化合物（Ｘ）は、例えば特願昭６０−２９０４８
０号明細書に記載の方法、すなわち下記経路により、ｌ
−メチルあるいはｌ−アルキルカルバペネム誘導体への
変換が可能である。

（Ｘａ） ＧＯＯｒ（Ｉ （ＸＩ） ＣＯＯＩ’（。

（■） 「式中、Ｒ５およびＰｈは前記と同じ意味を有する。Ｒ
’ｅは水酸基の保護基を示す。］変換工程（ｃ）におい
ては、化合物（Ｘａ）をエーテル（テトラヒドロフラン
等）、芳香族炭化水素（トルエン等）あるいはそれらの
混合物のような不活性溶媒中で、塩基（ソジウムジイソ
ブロピルアミド、水素化ナトリウム等）で処理すること
によって化合物（ＸＩ）を得る。

変換工程（ｄ）においては、化合物（Ｘ［）を塩基（ジ
イソプロピルエチルアミン等）の存在下、不活性溶媒（
アセトニトリル等）中、ジフェニルホスホリルクロリド
と反応させることによって化合物（■）を得る。

この化合物（Ｘｌｌ）は更に公知の方法によって各種ｌ
−メメチカルバベネム化合物に誘導することができる。

前記の如くアミノ酸誘導体（１）には不斉炭素原子に基
づく光学異性体が存在しており、それら光学異性体やそ
れらの混合物（ラセミ体）は総て本発明の技術的範囲に
包含されるが、特に望ましいのは式（１ａ）の化合物で
あり、これは式：ＣＯ０Ｈ （ｒｌｌａ） ［式中、Ｚは前記と同じ意味を何する。コて表わされる
光学活性ｌβ−メチルカルバペネム化合物の合成に有利
な中間体である。

また、光学活性ｌβ−メチルカルバペネム化合物（■ａ
）は化合物（■）においであるいはアミノ酸誘導体（１
）から化合物（■）に導びく各中間体のカルボキシル基
あるいはアミノ基を利用して光学分割することによって
も得ることが可能である。

例えば式（■）で表される化合物の（３Ｓ、４　Ｓ＞異
性体と（３Ｒ，４Ｒ）異性体との混合物および光学活性
アミンを不活性溶媒中で混合し、化合物（■）と光学活
性アミンとの塩を生成させた後、そのまま分別結晶化す
るか、あるいは結晶化後、結晶を採取し、不活性溶媒中
に溶解して分別結晶化し、生成した結晶をろ別すること
により、（３Ｓ、４Ｓ）異性体の光学活性アミン塩と（
３Ｒ，４Ｒ）異性体の光学活性アミン塩とを分離するこ
とができる。

化合物（■）の（３Ｓ、４Ｓ）異性体あるいは（３Ｒ２
４ｒｔ）異性体の光学活性アミン塩を酸あるいはアルカ
リを用いて塩分解すると、化合物（１）の（３Ｓ、４Ｓ
）異性体あるいは（３Ｔ１，４Ｒ）異性体を得ることが
できる。

上記の光学活性アミンとしては、例えばα−フエネヂル
アミン、α−ナフチルメチルアミン、ノルエフェドリン
、シンコニン、シンコニジン、キニーネ、キニジン、Ｉ
−（２−ナフチル）エチルアミン、プルシン、１．１−
ジフェニル−２−アミノプロパツール、■−フェニルー
２−ｌ）−トリルエチルアミン等を挙げることができる
。特に、シンコニン、シンコニジン、キニーネ、キニジ
ン等カ好ましい。

塩の生成あるいは分別結晶化を行う不活性溶媒としては
、例えば炭化水素類（ペンタン、ヘキサン、シクロヘキ
サン等）、芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キ
シレン等）、ハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン、
クロロホルム、１．２−ジクロルエタン等）、エーテル
類（ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン等）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソ
プロパツール等）、ニトリル類（アセトニトリル等）、
エステル類（酢酸エチル等）、ケトン類（アセトン、メ
チルエチルケトン等）、水またはそれらの混合物を用い
ることができる。好適な溶媒としてイソプロパツール、
酢酸エチル、アセトンまたはそれらの混合物を挙げるこ
とができる。

塩の生成は化合物（■）の異性体混合物と光学活性アミ
ンとを必要に応じ加熱下に不活性溶媒中に溶解せしめる
ことによって行なわれる。加熱は使用する溶媒の還流す
る温度までの範囲で異性体混合物および光学活性アミン
が溶解するまで行うことができる。

このようにして得られるジアステレオマー塩の混合物を
含む溶液を冷却、好ましくは徐冷することにより分別結
晶化せしめるか、または上記溶液を冷却、ろ取して得ら
れる結晶を不活性溶媒を用いて分別結晶化することによ
り、一方のジアステレオマー塩を分離することができる
。必要に応じて、更に再結晶化を行うことにより、一層
高純度のジアステレオマー塩を得ることができる。

結晶化は、通常、０℃から室温の範囲で行なわれるが、
例えば−２０℃から室温の範囲で、あるいは例えば４０
℃程度までの範囲に加熱しながら行ってもよい。

光学活性アミンの使用量は化合物（■）の異性体混合物
の混合比により調節することができろが、例えば（３Ｓ
、４Ｓ）異性体と（３Ｒ，４Ｒ）異性体との比がｌ対ｌ
である場合には、当該異性体混合物１モルに対して光学
活性アミンは０．５〜１，２モルが用いられ、通常は１
モルあるいは１１モル程度までの過剰量が用いられる。

また、分別結晶化に用いる溶媒ｍは溶媒の種類によって
変化し得るが、例えば酢酸エチルを用いる場合には化合
物（■）に対して１０〜１００倍量（重量比）程度、通
常は２０〜４０倍量程度である。

以上のようにして化合物（■）の目的とする異性体と光
学活性アミンとの塩を得ることかできる。

このようにして得られた塩はろ過性が良いので、工業的
製法として優れているばかりでなく、本発明方法では光
学的に高純度の塩を取得することができ、しかも効率的
である。

塩分解は上記のようにして得た光学活性アミン塩を水、
メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、ジクロルメタン
、１．２−ジクロルエタン等やそれらの混合物のような
不活性溶媒中、酸あるいはアルカリ水溶液で加水分解す
ることによって行うことができ、その後通常の有機化学
的手段によって目的物を単離する。酸としては各種の酸
を用いることができるが、塩酸、硫酸等の鉱酸が望まし
い。またアルカリ水溶液としては各種のアルカリ水溶液
を使用することができるが、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の水溶液が
好ましい。

上記した光学分割方法は、化合物（■）においてＲ，Ｒ
２およびＲ８が先に定義したとおりの置換基であるもの
に対して等しく適用できるが、特にＲかメチル基であっ
て、Ｒ８が水素原子であるものに対し好ましく適用され
る。Ｒ２はフリルメチル基、置換もしくは無置換のモノ
アリールメチル基（ベンジル、ｐ−メトキシベンジル、
２．４−ジメトキシベンジル、０−ニトロベンジル、ｐ
−ニトロベンジル等）あるいは置換もしくは無置換のジ
アリールメチル基（ジフェニルメチル、ジ−ｐ−アユシ
ルメチル等）であることが好ましく、特にフリルメチル
基が望ましい。

次に一般式（Ｉ［ｌａ）の化合物の６位置換基であるｌ
−ヒドロキシエチル基（８位）の立体化学について述べ
る。化合物（Ｉｌｌａ）の８位がＳ配置のものを所望す
る場合には化合物（Ｉ　ａ）をそのまま用いることによ
って得ることができ、Ｒ配置のむのを所望する場合には
化合物（Ｉ　ａ）から化合物（■）に至る各中間体の水
酸基の立体配置を反転さけることによって得ることがで
きる。

水酸基の反転方法としては一般に用いられる種々の公知
方法を用いることができるが、例えばジエチルアゾジカ
ルボキシレートとトリフェニルホスフィンを用いる光通
反応による方法［テトラヘドロン・レターズ（Ｔｅｔｒ
ａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ）、社、２７８３〜２
７８６（１９８０）および２２．９１３〜９１６（１９
８１）］、あるいは水酸基を酸化反応に付してカルボニ
ル基に変換し、カリウム−セレクトリド等の還元剤を用
いて立体選択的に還元する方法［ジャーナル・オブ・ア
メリカン・ケミカル・ソサエティー（Ｊ。

Ａｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、）、１０２．６１６１〜６１
８３（１９８０）コ等を挙げることができる。

４）原料物質の製造 本発明の原料物質であるアセチルエナミン化合物（ＩＩ
）は種々の方法で製造することが可能であり、その代表
例を以下に示す。

製法［Ａ］ニー ＯＮＨＲｔ （Ｘ［［） 【式中、Ｒ８、Ｒｔ、ＸおよびＲは前記と同じ意味を有
する。コ 化合物（ＸＩＩ［）をアルキル化することによってアセ
チルエナミン化合物（ＩＩ）を得る。

このアルキル化反応は不活性溶媒中で塩基の存在下にア
ルキル化剤を反応させることによって行う。不活性溶媒
としては、例えば芳香族炭化水素（ベンゼン、トルエン
等）、エーテル（ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等）、ケトン（アセトン、メチルイソブ
チルケトン等）、アルコール（メタノール、エタノール
、ｔ−ブタノール等）、アミド（ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリックア
ミド等）等またはそれらの混合物を挙げることかできる
。また塩基としては、例えば水素化アルカリ金属（水素
化ナトリウム、水素化カリウム等）、アミンのアルカリ
金属塩（ソジウムアミド、リチウムジイソプロピルアミ
ド、リチウムビス（トリメチルシリル）アミド等）、ア
ルコールのアルカリ金属塩（ナトリウムメチラート、ナ
トリウムエチラート、カリウムメチラート、カリウムｔ
−ブトキシド等）、アルカリ金属（金属ナトリウム、金
属すチウム等）、アルカリ金属炭酸塩（炭酸カリウム、
炭酸ナトリウム等）、ｎ−ブチルリヂウム、ソジウムメ
チルスルフィニルメチド等を挙げることかできる。アル
キル化剤としては、低級アルキルハライド（ヨウ化メチ
ル、ヨウ化エチル、臭化ｎ−ブチル等）、スルホン酸低
級アルキル（トソル酸メチル、トンル酸エチル、メタン
スルホン酸メチル、メタンスルボン酸エチル、トリフロ
ロメタンスルホン酸メチル等）等が例示される。

アルキル化剤および塩基の量は反応が充分進行し得る爪
を用いることか望ましい。また、反応は適宜冷却または
加熱することによって抑制または促進することができる
。反応終了後、反応混合物からの化合物（ｎ）の回収は
通常の有機化学的手段を適用することによって行うこと
ができろ。

製法［Ｂ］ニー （ＸＩＶ） ［式中、Ｒ３、Ｒ１、ＲおよびＸは前記と同じ意味を有
する。」 化合物（ＸＩＶ）をアセチル化することによってアセデ
ルエナミン化合物（ＩＩ）を得る。

このアセデル化反応は活性メチレン基のアセチル化に採
用される種々の手段を適用して行えば良く、通常は不活
性溶媒中アセチル化剤を作用させて実施する。不活性溶
媒としては、例えば芳香族炭化水素（ベンゼン、トルエ
ン等）、エーテル（ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン等）、ハロゲン化炭化水素（クロロホルム、ジクロ
ルメタン、１．２−ジクロロエタン等）、ケトン（アセ
トン等）等やそれらの混合物を使用することができる。

好適なアセデル化剤の具体例としてはケテン、無水酢酸
、酢酸ハライド等を挙げることができる。無水酢酸や酢
酸ハライドを用いる場合にはトリエチルアミン、ピリジ
ン等の塩基の存在下で行うのが望ましい。

アセチル化剤及び塩基の量は反応が充分進行するに足る
量を用いることが望ましい。反応は適宜冷却または加熱
することによって抑制または促進することができるが、
好適には一１θ℃から９５℃の範囲で行なう。反応終了
後、化合物（ｎ）を回収するには、通常の有機化学的手
段を採用すればよい。

（実施例および参考例） 次に実施例および参考例をあげて本発明を更に具体的に
説明するが本発明はもちろんこれらによって何ら限定さ
れるものではない。なお、以下の実施例および参考例で
用いた略号の意味は次のとおりである。

ＰＮＢ：　Ｐ−ニトロベンジル基 Ｂｎ　：ベンジル基 Ｐｈ　：フェニル基 Ｍｅ　：メチル基 Ｅｔ　：エチル基 ｔＢｕ：ｔ−ブチル基 Ｔｒ　：　トリフェニルメチル基　　　。

Ｔｌ３Ｍ５：　ｔ−ブチルジメチルシリル基［３０Ｍ：
ペンジルオキシメチル基 ＭＯＭ：メトキシメチル基 ＭＥＭ：　　２−メトキシエトキシメチル基ＭＴＭ：メ
チルチオメチル基 実施例１ （２ＳＲ，３ＲＳ、４Ｒ３） 十 ＯＨＮＨＢｎ　　（ｌｂ） （２Ｒ８，３ＳＲ，４Ｒ３） ２−アセチル−３−ベンジルアミノ−４−メチル−２−
ペンテンニ酸エチルベンジルエステル４゜１０９（１’
Ｏｍｍｏｌｅ）を乾燥テトラヒドロフラン４０ｍＱに溶
解し、−７８℃でカテコールボラン１．５６９（１３ｍ
ｍｏｌｅ）を滴下し、同温度で２時間撹拌した後、室温
に戻し、溶媒を減圧留去した。残渣に酢酸４１ｍ（！を
加え、１０〜１２°Ｃで水素化ホウ素ナトリウム７５７
　ｍ９ｃ２０　ｍｍｏｌｅ）を徐々に加え、同温度で３
０分さらに室温で４時間撹拌した。その後室温にて酢酸
を減圧留去し残渣にクロロホルムを加え、有機層を飽和
重曹水で６回洗浄した後、さらに食塩水で洗浄し、芒硝
で乾燥、溶媒を減圧留去することにより、（２ＳＲ，３
Ｒ５，４Ｒ９）−２−［＋（Ｓｒｔ）−ヒドロキンエチ
ルゴー３−ペンノルアミノ−４−メチルペンタンニ酸エ
チルベンジルエステル（１ａ）と（２Ｒ９，３ＳＲ，４
Ｒ９）−２−［＋（ｒｔＳ）−ヒドロキシエチル］−３
−ベンジルアミノ−４−メチルペンタンニ酸エチルベン
ジルエステル（Ｉｂ）を比９８／２の混合物として得た
。

収率７５％。

１１”ｔ（ｎｅａｔ）：３３３５　（ｂｒｏａｄ）、　
１７２０　、　Ｉ　４４５　。

１１５２．７３０，６９０（ｃ、ＩＩ＋−’）ＮＭｎδ
（ＣＤ　Ｃｌ２３）： （ｌａ）　　　３．８８（ＡＢｑ、２Ｈ）、３．２０［
ｔ（Ｊ＝４．９Ｈｚ）、ＩＯ３，２、９８（ｍ、　１ｌ
−１）、２．６　１　　［ｄｄ（Ｊ　＝２．３と４．０
Ｈｚ）、ｉｌ（コ（Ｉｂ）　　　３．７７（ＡＢＱ、２
ｌ−１）、３　、３２　［ｄｄ（Ｊ−４，３と６．９Ｈ
ｚ）、ＩＯ３，２，８６（ｍ、　１　ｔｌ）、２．５８
［ｄｄ（Ｊ＝２．（３と４　．３　　Ｈｚ）、ｌ　　Ｉ
Ｉコ。

又１触え ２−アセチル−３−フルフリルアミノ−４−メチル−２
−ペンテンニ酸エチルベンジルエステル４００　ｍ９ｃ
　１　ｍｍｏｌ）を乾燥テトラヒドロフラン４ａＱに溶
解し、−７８℃にてカテコールボラン１５６ｍｇｃ　１
　、３　ｍｍｏｌｅ）を加えて同温度で１時間撹拌した
後、室温に戻し、溶媒を減圧留去した。残渣に酢酸４　
、０　ｔｔｒＱを加え、１０〜１２℃で水素化ポウ素ナ
トリウム７６　ｍｇ（２ｍｍｏｌｅ）を徐々に加え、同
温度で３０分、室温で３時間撹拌した。その後室温にて
酢酸を減圧留去し、残渣にクロロホルムを加え、有機層
を飽和重曹水で６回洗浄した後、さらに食塩水で洗浄し
、芒硝で乾燥、溶媒を減圧留去することにより、（２Ｓ
Ｒ，３ＲＳ、４ｒｔＳ）−２−［１（Ｓｎ）−ヒドロキ
シエチルコー３−フルフリルアミノ−１１−メチルペン
タンニ酸エチルベンジルエステル（２ａ）と（２ＲＳ、
３ＳＲ，４ｒ（Ｓ）−２−［ＩＣＲ９）−ヒドロキシエ
チル］−３−フルフリルアミノ−４−メチルペンタンニ
酸エチルベンジルエステル（２ｂ）を比９７／３の混合
物として得た。

収率７４％。

Ｉ　　Ｒ（ＣＨＣＣ，）：ｌ　　７　２　３，１　４　
５　２，１　３　７　３゜１２６０．１１６０（ｃｍ−
’）。

ＮＭＲδ（ＣＤＣ１２３）： （２ａ）　　　７．３６（ｍ、５Ｈ）、６．３０　［ｄ
ｄ（Ｊ　＝２．０と３．３Ｈｚ）、ＩＯ３，６，２０［
ｄ（Ｊ＝３．３Ｈｚ）、ＩＯ３，５、１２（ＡＢｑ、　
２　Ｈ）、 ４．０９［ｑ（Ｊ＝７．３Ｈｚ）、２Ｈ］、４　、０１
　［ｄｑ（Ｊ　＝２．３と６．６Ｈ２）、１１−１］、
３、ｓ　８（ＡＢｑ、２Ｈ）、 ３　、Ｉ　　５　［ｄｄ（Ｊ　　＝４．０と５．６Ｈｚ
）、１８コ、２．９０（ｍ、　Ｉ　Ｈ）、 ２　、５９　［ｄｄ（Ｊ＝２．３と３．６Ｈｚ）、ＩＨ
］、１．１８〜１．２６（９Ｈ）。

実施例３ ０　　ＮＨＢｎ　　　　→　ＯＨＮＨＢｎ　　（３ａ）
（２ＳＲ，３Ｒ５，４ＲＳ） ＋ ＯＨＮＨＢｎ　　（３ｂ） （２Ｒ８，３ＳＲ，４ＲＳ） ２−アセデル−３−ベンジルアミノ−４−メチル−５−
ペンジルオキシメチルオキシ−２−ペンテン酸ベンジル
エステル２３１ｉＦ（０、０４７ｍｍｏｌｅ）をプロピ
オン酸０　、２　ｘＱに溶解し、−２０〜−２５°Ｃで
水素化シアノホウ素ナトリウム６ｍｇ（０，０９５ｍｍ
ｏｌｅ）を徐々に加え、同温度で６時間撹拌した。その
後室温で溶媒を減圧留去し、残渣をクロロホルムに溶解
して、有機層を飽和重曹水で３回・食塩水で２回洗浄し
た後、芒硝で乾燥、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカ
ゲルクロマトグラフィーで精製することにより（２ＳＲ
，３Ｒ９，４ＲＳ）−２−［１（ＳＲ）−ヒドロキシエ
チルコーク−ベンジルアミノ−４−メチル−５−ベンジ
ルオキシメチルオキシペンタン酸ベンジルエステル（３
ａ）と（２Ｒ９，３ＳＲ，４ｒｌｔＳ）−２−［＋（Ｒ
８）−ヒドロキシエチル］−３−ベンジルアミノ−４−
メチル−５−ベンジルオキシメチルオキシペンクン酸ベ
ンジルエステル（３ｂ）の混合物を得た。３ａと３ｂの
生成比は、ＮＭＲの積分比より５７＝４３であった。収
率７４％。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：３３４０，１７２０，１４４６．１
１５０゜１０４５．７２８，６９３（ｃｒ’） ＮＭＲδ（ＣＤＣ＋２３）： （３ａ）　　　７．３２（ｍ、１５Ｈ）、５．１２　（
ＡＢＱ、２Ｈ）、４．６６（ｓ、２Ｈ）、４．５７（ｓ
、２Ｈ）、４　、０６　［ｄｑ（Ｊ　＝２．３と６．６
Ｈｚ）、ＩＨ］、３．８５（ＡＢｑ、２Ｈ）、 ３　、５２　［ｄｄ（Ｊ　＝６．３と９．６Ｈｚ）、Ｉ
Ｉ４］、３．４３　［ｄｄ（Ｊ　＝５．９と９．９ｔｌ
ｚ）、１！■」、３．０８［ｔ（Ｊ＝４．６Ｈｚ）、１
１−目、２．６　１［ｑ（Ｊ＝２．３１１ｚ）、　　Ｉ
ＩＩコ、２．２１（ｍ、ＩＩ（）、 １．２０［ｄ（Ｊ＝Ｇ、６１（ｚ）、３　ＩＩ］、１　
．０　１［ｄ（Ｊ＝６．９Ｈｚ）、　３　　Ｈコ、（３
ｂ）　　　　７．３１（ｍ、１５１０．５．１３（ｓ、
２Ｈ）、４．７２（ｓ、２Ｈ）、４．５６（ｓ、２Ｈ）
、４、ＩＯ［ｄｑ（Ｊ＝２．３と６．６Ｈｚ）、３　、
８３　（Ａ　ＢＱ、２Ｈ）、３　、５４　（ｍ、２Ｈ）
、３　、１７　ｃａａ（Ｊ＝３．６と５．３Ｈｚ）、Ｉ
Ｈ］、２．５９（ｍ、ＩＨ）、２．２９（ｍ、ＩＨ）、
１．１　７［ｄ（Ｊ＝６．６Ｈｚ）、　３　　Ｈコ、０
．８４［ｄ（Ｊ＝７．３Ｈｚ）、３■］］。

実施例４ ＋ ｅＯＯＣ ２−アセデル−３−ベンジルアミノ−４−メチル−２−
ペンテンニ酸ジメチルエステル２０ｇ（６２，６ｍｍｏ
ｌｅ）の酢酸１３５酎溶液を水素化シアノホウ素ナトリ
ウム７．８６１Ｆ（１２５＋＋＋＋＋＋ｏｌｅ）の酢酸
１２１ｘｆｆ溶液へ１０〜１２℃で２０分間滴下し、同
温度で２時間撹拌した。酢酸を減圧留去し、残渣を酢酸
エチルで希釈した後、飽和型ソウ水で３回、食塩水で１
回洗浄し、芒硝で乾燥、溶媒を減圧留去後、残渣をシリ
カゲルクロマトグラフィーで精製することにより、（２
ＳＲ，３ｒｔＳ、４Ｒ９）−２−［１（ＳＲ）−ヒドロ
キシエチル］−３−ベンジルアミノ−４−メチルペンタ
ンニ酸ジメチルエステル（４ａ）と（２Ｒ９，３ＳＲ，
４ＲＳ）−１−［１（Ｒ９）−ヒドロキシエチルヨー３
−ベンジルアミノ−４−メチルベンタンニ酸ジメチルエ
ステル（４ｂ）を混合物として得た。４ａと４ｂの生成
比はＮＭＲの積分比より３＝１であった。収率７０％。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：３３４０．１７３０．＋１６０．１
０２３゜７３５．６９３（ｃｘ−’） ＮＭＲδ（ＣＤＣＱ３）； （４ａ）　　３．１４［ｔ（Ｊ−＝４．６Ｈｚ）、ＩＬ
Ｉ］、２．５　７　ＥｄｄＣＪ　　＝２．３と４．０Ｈ
ｚ）、　ＩＲコ、１．２３［ｄ（Ｊ＝６．６Ｈｚ）、３
Ｈ］、１．１８［ｄ（Ｊ＝６．９Ｈｚ）、３Ｈ］。

実施例５ （２ＲＳ、３ＳＲ，４Ｒ３） ２−アセチル−３−アリルアミノ−４−メチル−２−ペ
ンテンニ酸ジメチルエステル８３０１！ｇ（３、０８ｍ
ｍｏｌｅ）と水素化シアノホウ素ナトリウム３８７　ｍ
９ｃＧ　、　１６　ｍｍｏｌｅ）とを用いて、実施例４
と同様な操作を行ない、（２ＳＲ，３ＲＳ、４Ｒ５）−
２−口（Ｓ　Ｒ）−ヒドロキシエチル］−３−アリルア
ミノ−４−メチルーベンタンニ酸ジメチルエステル（５
ａ）と（２ＲＳ、３Ｓｒｔ、４Ｒ９）−２−［１（Ｒ８
）−ヒドロキシエチル］−３−アリルアミノ−４−メチ
ルペンタンニ酸ジメチルエステル（５ｂ）を混合物とし
て得たａ　５ａと５ｂの生成比はＮＭＲの積分比より３
．２：Ｉであった。収率６９％。

Ｉｒｔ（ｎｅａｔ）：３３５０，１７３５，１４３６，
１１９８゜１１６４　（ｃｒ’） ＮＭＲδ（ＣＤＣＩ２３）： （５ａ）　　　３．６９（ｓ、３Ｈ）、３．６７（ｓ、
：Ｈ−１）、３　　、　５　４　　［ｄｄ（Ｊ　　＝５
．６と　１３．５Ｈｚ）、　　ＩＩＩコ、２　、５７　
［ｄｄ（Ｊ　＝２．０と３．６Ｈｚ）、Ｉ　Ｈ］、Ｉ１
２’３［ｄ（Ｊ＝７．３Ｉ−１ｚ）、３Ｈ］、１．１８
［ｄ（Ｊ＝６．９Ｈｚ）、３Ｈ］。

実施例６ ２−アセデル−３−ベンジルアミノ−４−メチル−２−
ベンテンニ酸ジメチルエステル３２ｍ９（０、１ｍｍｏ
ｌｅ）を乾燥テトラヒドロフランＯ、Ｉ　ｍＱに溶かし
、０．５５Ｎカテコールボラン−テトラヒドロフラン溶
液０　、２　ｔｔｔＱを一７０℃で滴下し、同温度で２
時間撹拌した後、室温に戻し、溶媒を減圧留去した。残
渣を酢酸０　、　ｌ　ｙＱに溶かし、１０〜１２℃で水
素化シアノホウ素ナトリウム１３＋＋＋９（０、２ｍｍ
ｏｌｅ）を加え、同温度で１時間、さらに室温で１．５
時間撹拌した。その後室温にて酢酸を減圧留去し、残渣
をクロロホルムに溶解し、有機層を飽和重曹水で６回洗
浄した後、さらに食塩水で洗浄し、芒硝で乾燥、溶媒を
減圧留去することにより（２ＳＲ，３ＲＳ、４ＲＳ）−
２−［１（ＳＲ）−ヒドロキシエチル］−３〜ベンジル
アミノ−４−メチルペンタンニ酸ジメチルエステル（４
ａ）と（２ＲＳ、３ＳＲ，４ＲＳ）−２−ε１（ＲＳ）
−１＝ドロキシエヂル］−３−ベンジルアミノ−４−メ
チルベンタンニ酸ジメチルエステル（４ｂ）を混合物と
して得た。４ａと４ｂの生成比はＮＭＲの積分比より９
４６であった。収率７８％。

本反応で得た４ａ及び４ｂのｒＲ，ＮＭＲは実施例・１
で得られたものと一致した。

実施例７ １）ＮＩ３００ＣＰＮＢＯＯＣ （２ＳＲ，３ＲＳ、４ＲＳ） ＋ （２Ｒ３，３ＳＲ；４Ｒ３） ２−アセチル−３−ベンジルアミノ−４−メチル−５−
フェニルチオ−２−ペンテン酸ｐ−ニトロベンノルエス
テル１Ｑｌｘ９（０，２開ｏｌｅ）を酢酸０　、２　ｍ
Ｑに溶解し、水素化ンアノホウ素ナトリウム１５　ｍ９
ｃｏ　ｙ２４　ｍｍｏｌｅ）を８〜ｌＯ°Ｃに保って徐
々に加え、同温度で２時間撹拌した。酢酸を減圧留去し
た後、酢酸エチルで希釈し、有機層を飽和重曹水で３回
食塩水で１回洗浄し、芒硝で乾燥、溶媒を減圧留去した
後、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し
、（２ＳＲ，３Ｒ３，４Ｒ９）−１−［１（ＳＲ）−ヒ
ドロキシエチル］−３−ベンジルアミノ−４−メチル−
５−フェニルチオペンタン酸ｐ−ニトロベンジルエステ
ル（７ａ）と（２Ｒ８，３ＳＲ，４ＲＳ）−２−［１（
ＲＳ）−ヒドロキシエチル」−３−ベンジルアミノ−４
−メチル−５−フェニルチオペンタン酸ｐ−ニトロベン
ジルエステル（７ｂ）を２：Ｉの単離比で得た。収率７
５％。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：３３４０，１７２２．１５１２，１
３３８゜１１４２．７２８（ｃｒ’） ＮＭＲδ（ＣＤＣ１２３）： （７ａ）　　５．２０（ｓ、２Ｈ）、 ４　、０３　［ｄＱ（Ｊ　＝２．８と６．４Ｈｚ）、Ｉ
Ｈ］、３．７６（ＡＢｑ、２Ｈ）、 ３．１１［ｔ（Ｊ＝４．３Ｈｚ）、ＩＨ］、３　、０５
　［ｄｄ（Ｊ　＝８．５と１２　、８　Ｉ（ｚ）、ＩＨ
］、２　．６　１　　［ｄｄ（Ｊ　　＝２．８と４．４
Ｈｚ）、　　ｕ−Ｂ、２　、５３　［ｄｄ（Ｊ　＝８．
６と１２．８Ｈｚ）、１１−１］、２．１７（ｍ、ＬＨ
）、 １．１　９［ｄ（Ｊ＝６．３１（ｚ）、　３　Ｈコ、１
．１１［ｄ（Ｊ＝６．９Ｈｚ）、ＩＨ］。

（７ｂ）　　　５．２０（ｓ、２Ｈ）、４　．０　２　
Ｃｄｑ（Ｊ　　＝２．６と６．６ｌ−１ｚ）、　ＩＲコ
、３．７４（ＡＢＱ、２Ｈ）、 ３　、　ｌ　７　［ｄｄ（Ｊ　＝３．３と４．６Ｈｚ）
、ＩＨ］、２．９０［ｄ（Ｊ＝６．９Ｈｚ）、２Ｈ］、
２．５３Ｊ、ｔ（Ｊ＝２．６Ｈｚ）、ＩＨ］、２．２６
（ｍ、　Ｉ　Ｉ（）、 １．１５［ｄ（Ｊ＝６．３Ｈｚ）、３Ｉ］］、０．９　
１［ｄ（Ｊ＝７．３Ｈｚ）、　　３Ｈ］。

実施例８ （２ＳＩ？、３Ｒ３，４Ｒ５） ＋ （２ＲＳ、３ＳＲ，４ＲＳ） ２−アセチル−３−アリルアミノ−４−メチル−５−フ
エニルチオ〜２−ペンテン酸ｐ−ニトロベンジルエステ
ル９２屑９（０、２ｍｍｏｌｅ）を用いて、実施例８と
同様な操作を行ない、（２ＳＲ，３Ｒ９゜４Ｒ９）−２
−［１（ＳＲ）−ヒドロキシエチル］−３−アリルアミ
ノ−４−メチル−５−フェニルチオペンタン酸ｐ−ニト
ロベンジルエステル（８ａ）と（２Ｒ５，３ＳＲ，４Ｒ
９）−２−［１（Ｒ９）−ヒドロキシエチル］−３−ア
リルアミノ−４−メチル−５−フェニルチオペンタン酸
ｐ−ニトロベンジルエステル（８ｂ）を２：１の単離比
で得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：３３６０，１７３０，１５２１．１
３４２゜１１５２．７３８（ｃｒ’） ＮＭＲδ（ＣＤＣρ、）： （８ａ）　　５．８１（ｍ、ＩＨ）、５．２２（ｓ、２
Ｈ）、５．０８（ｍ、２Ｈ）、 ４　、０４　［ｄＱ（Ｊ　＝２．６と６．６Ｈｚ）、ｌ
　Ｈ］、２　、６１　［ｄｄ（Ｊ　＝２．６と４．３Ｈ
ｚ）、１ｒ（］、２　、５４　［ｄｄ（Ｊ　＝８．６と
１２．５Ｈｚ）、ＩＨ］、２．０８Ｃ＋＋＋、１）−Ｉ
）、 １．２０　［ｄ（Ｊ　＝　６．３　Ｒ２）、３１（１，
１，０８［ｄ（Ｊ　＝　６．８１−１ｚ）、３ｔｌ］。

（８ｂ）　　５．８３（ｍ、ＩＨ）、５．２１（ｓ、２
Ｈ）、５．１３（ｍ、２Ｈ）、 ４　、０９　［ｄｑ（Ｊ　＝２．６と６．６Ｈｚ）、１
ｔ−１］３　．３　６　　［ｄｄ（Ｊ　　＝５．８と　
ｉ３．９）１ｚ）、　　１１−Ｉ　Ｊ、３　、１４　［
ｄｄ（Ｊ　＝３．３と５．３Ｈｚ）、ｌ　■（］、］３
、０８　［ｄｄ（Ｊ　＝６．６と１３．９Ｈｚ）、ＩＩ
］］、２　．９　０　［ｄｄ（Ｊ　　＝３．３と７．３
Ｈｚ）、　２Ｈコ、２．５５［ｔ（Ｊ＝３．３Ｈｚ）、
ＩＨ］、２．１６（ｍ、ｌＨ）、 １．１　８Ｃｄ（Ｊ＝６．３Ｈｚ）、　　３　Ｉ（］、
］０８８［ｄ（Ｊ　＝７．３）−１ｚ）、３Ｈ］。

実施例９ （２ＳＲ，３Ｒ３，４Ｒ８） ＋ ｅＯＯＣ 〜女ノゾ０Ｂｎ （２Ｒ３，３ＳＲ，４Ｒ３） ２−アセチル−３−アリルアミノ−４−メチル−５−ベ
ンジルオキシ−２−ペンテン酸メチルエステル３５０ｎ
（１，０６ｍｍｏｌｅ）を酢酸３　、５　ｘＱに溶解し
、水素化シアノホウ素ナトリウム１３８ＪＩ９（２，２
ｍｍｏｌｅ）を加えて、１０〜１２℃で１時間撹拌した
。酢酸を減圧留去した後、酢酸エチルを加えて希釈し、
飽和重曹水で３回、食塩水で１回洗浄した。芒硝で乾燥
、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフ
ィーにより精製し、（２ＳＲ，３ＲＳ、４Ｒ９）−２−
４１−（ＳＲ）−ヒドロキノエチル］−３−アリルアミ
ノ−４−メチル−５−ベンジルオキシベンクン酸メチル
エステル（９ａ）と（２ＲＳ、３ＳＲ，４ＲＳ）−２−
［１（ＲＳ）−ヒドロキンエチル］−３−アリルアミノ
−４メチル−５−ベンノルオキシペンクン酸メチルエス
テル（９ｂ）の混合物を得た。９ａと９ｂの生成比はＮ
ＭＲの清分比より１．５：Ｉであった。

ＩＲ（ｎｅａｔ）　二３３４９，１７２５，１４５０．
１１　５８゜１０８６．９１０，７３２（ＣＪ！−リＮ
〜ＩＲδ（ＣＤＣＱ３）： （９ａ）　　３．６４（ｓ、３ｌ−１）、２　．５　４
　　［ｄｄ（Ｊ　　＝２．３と４．ＱＩ−（ｚ）、　ｌ
　Ｉ−１コ、１．２０［ｄ（Ｊ＝６．３Ｈｚ）、　３　
１−１コ、１、ＯＯ［ｄ（Ｊ＝６．９１（Ｚ）、３１−
Ｉ］。

（９ｂ）　　３．６８（ｓ、３Ｈ）、２．４６（ｍ、Ｉ
Ｉ−υ、１．１８［ｄ（Ｊ＝６．６Ｈｚ）、３１−１］
、０．８　５［ｄ（Ｊ　　＝６．９Ｈｚ）、　　３ＬＩ
］。

実施例１Ｏ〜２１ 実施例１１３．４または６に記載の方法と同様の処理に
より、対応するアセチルエナミン誘導体からアミノ酸誘
導体を（１°ＳＲ，２ＳＲ，３ＩＩＳ。

４Ｒ５）体（ａ）と（ビＲＳ、２Ｒ５，３Ｓｒｔ、４Ｒ
Ｓ）体（ｂ）の混合物として得た。反応条件、収率校び
混合物の生成比（ａ）　：　（ｂ）は下記の表に示すと
おりである。

第　　１　　表 （１°ＳＲ，２ＳＲ，３Ｒ３，４Ｒ３）十 Ｒ，０ＯＣ ＯＨＮＨＲｔ ＊　反応条件　　Ａは実施例４ Ｂは実施例６ に記載の反応条件と同様の条件を示す。

＊＊生成比はＮ　Ｍ　ｎの積分比より算出した。

生成物のスペクトルデータ 参考例１−１ メタクリル酸６　、８８９（８０ｍｍｏｌｅ）を乾燥テ
トラヒドロフラン４ＣＪｍＱに溶解し、室温でトリエチ
ルアミン８　、０９（８０ｍｍｏｌｅ）とチオフェノー
ル８゜８１　ｇ（８０ｍｍｏｌｅ）を順次加え、２１１
時間撹拌した。

溶媒を減圧留去することにより、２−メチル−３−フエ
ニルチオブロピオン酸を得た。

ＩＲ（＊ｅａｔ）：１７０５．１５７２，１４７５，１
３９０゜１２１２、１１６０（ｃｒ’）。

焚考例１−２ ２−メチル−３−フェニルチオプロピオン酸４゜６０９
（２３，４４ｍｍｏｌｅ）を乾燥アセトニトリル２０ｒ
ｑＱに溶解し、水冷下で１．１−カルボニルシイミグゾ
ール４．５６９（２８、１３ｍｍｏｉｅ）を加え、同温
度で３０分間撹拌した。反応液をマロン酸モノｐ−ニト
ロベンジルエステルマグネシウム塩１７゜５３９（３５
ｍｍｏｌｅ）の乾燥アセトニトリル７０ｘ（溶液に５０
℃で徐々に滴下し、同温度で３０分間撹拌した。反応終
了後、室温に戻し、酢酸エチルで希釈、有機層をＩＮ塩
酸、水、飽和重曹水、水および食塩水の順序で洗浄し、
芒硝で乾燥、溶媒を減圧留去した後、残渣をシリカゲル
クロマトグラフィーで精製することにより、３−オキソ
−４−メチル−５−フェニルチオペンタン酸ｐ−ニトロ
ヘンノルエステルを得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：ｌ　７３８．１７０４，１４１５．
１３４７゜７３２　（ｃｒ’）。

参考例！−３Ｌ ＨＢｎ ３−オキソ−４−メチル−５−フェニルチオペンタン酸
ｐ−ニトロベンジルエステル１．１２９（３ｍｍｏｌｅ
）を塩化メチレン１屑σ−メタノール４ｍ（ｌの混合溶
媒に溶解し、ベンジルアミン１．６１９（１５ｍｍｏｌ
ｅ）とモレキュラーシーブス３Ａ２９を加えた。

その反応混合物へ、水冷下乾燥メタノール２ｎρに塩化
アセチル７８５　ｍ９ｃ　ｌ　Ｏｍｍｏｌｅ）を加えて
から１分間撹拌することにより調製した溶液を加え、室
温で２日間放置した。モレキュラーシーブスをろ過し、
酢酸エチルで希釈した後、有機層を飽和重曹水、水およ
び食塩水の順に洗浄し、芒硝て乾燥、溶媒を減圧留去し
た。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製するこ
とにより、３−ペンノルアミノ−４−メチル−５−フェ
ニルチオ−２−ペンテン酸ｐ−ニトロベンノルエステル
を得た。

ｌ１ｌ（ｎｅａｔ）＋１６５２．１６００．１３−１４
．１１７１゜７３３　（ｃｍ−’）。

ＰＮＢ　ＯＯＣ ＯＮ１−ＩＢｎ ３−ベンジルアミノ−４−メチル−５−フェニルチオ−
２−ペンテン酸ｐ−ニトロベンジルエステル５０５　ｍ
９ｃ　ｌ　ｍｍｏｌｅ）をトルエン５ｍＱに溶解し、室
温でケテンガスを通じ、反応終了後、溶媒を減圧留去し
、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製すること
により、２−アセデル−３−ベンジルアミノ−４−メチ
ル−５−フェニルチオ−２−ペンテン酸ｐ−ニトロベン
ジルエステルを得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：１７０５．１５８３，１５１９，１
３４１゜１２７０．１０９２．７３７（ｃｌＷ一つ。

ＯＮＨＢｎ ３−ベンジルアミノ−４−メチル−５−フェニルチオ−
２−ペンテン酸ｐ−ニトロベンジルエステル１．５８９
（３，５１ｍｍｏｌｅ）をトルエン５ｚＱに溶解し、５
０〜６０°Ｃでトリエチルアミンｔ、ｏｅｈ（Ｉ　Ｏ、
５ｍｍｏｌｅ）を加えた。さらに、塩化アセチル６３０
　Ｈ（８、０ｍｍｏｌｅ）を−気に加え、１０分間撹拌
した。反応液にベンゼン５０ｍ（７を加え、飽和重Ｉｌ
ｌ／水、水、希塩酸および食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した後、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、２
−アセチル−３−ベンジルアミノ−４−メチル−５−フ
ェニルチオ−２−ペンテン酸ｐ−ニトロベンジルエステ
ルを得た。

参考例１−５ ％ アリルアミン８４２　ａ９（１５ｍｍｏｌｅ）を用いて
、参考例１−３と同様の操作を行ない、３−アリルアミ
ノ−４−メチル−５−フェニルチオ−２−ペンテン酸ｐ
−ニトロベンジルエステルを得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：１６５０．＋５９６．１３４２．１
１６３゜７３６　（ｃｍ−’）。

参考例１−６ 旨 ３−アリルアミノ−４−メチル−５−フエニルヂオー２
−ペンテン酸ｐ−ニトロベンジルエステル４．５４　ｍ
９（１ｍｍｏｌｅ）を用いて、参考例ｌ−４−（１）と
同様な操作を行ない、２−アセチル−３−アリルアミノ
−４−メチル−５−フェニルチオ−２−ペンテン酸ｐ−
ニトロベンジルエステルを得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：１７００，１５８１．１５　＋７．
１３４１゜１２６６．７３３（ｃｍ一つ。

斐号男２−１ Ｎ、気流下、水素化ナトリウム（５０％）５．２８９（
０、ｌ　ｌ　ｍｏｌｅ）を乾燥テトラヒドロフラン５０
ｍＱに加え、そこへメタアリルアルコール７．２９（０
゜１　ｍｏｌｅ）の乾燥テトラヒドロフラン２０ｗＱ溶
液を水冷下体々にへη下した。３０分間撹拌した後、ベ
ンジルアミノ１７．１ｇ（０，１ｍｏｌｅ）の乾燥テト
ラヒドロフラン２０ｍＱ溶液を加え、反応を止め、酢酸
エチルで６釈し、ＩＮ塩酸、水および食塩水で順次６機
層を洗浄し、芒硝で乾燥、溶媒を減圧留去することによ
り、ｌ−ベンジルオキシ−２−メチル−２−プロペンを
得た。

Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）：ｌ　６５０，１４９０，１４４２
．ｔｏ　９０゜８９２　（ｃｍ−’）。

参考例２−２ １−ベンジルオキシ−２−メチル−２−プロペン８　、
　Ｉ　ｇ（５０ｍｍｏｌｅ）を乾燥テトラヒドロフラン
５０酎に溶解し、水冷下、１Ｍボラン−テトラヒドロフ
ラン溶液２５　ｍ（Ｉｃ　２５　ｍｍｏｌｅ）を滴下し
、その後室温で１時間撹拌した。水４ｍσ、３Ｍ水酸化
ナトリウム水溶液８　、５　ｍＱｃ２５　、５　ｍｍｏ
ｌｅ）を加えた後、４０℃で５分間撹拌し、さらに３５
％過酸化水素水５　、１　ｘｃ（５３ｍｍｏｌｅ）を加
え、同温度で１゜５時間撹拌した。室温に戻し、飽和食
塩水１００ｍＱを加え、エーテル抽出（１５０ｍＣｘ３
）全有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧
留去した後、３−ベンジルオキシ−２−メチルプロパノ
ールの粗生成物８．５９を得た。このうち、５゜４１９
＜３０　ｍｍｏｌｅ）をアセトン２２ｔｐＱに溶解し、
既加法により調製したＪ　ｏｎｅｓ試薬（１、８ｍｍｏ
ｌｅ／　ｍＱ）ｌＧ、７・＋ρ（３０ｎ＋ｍｏｌｅ）を
水冷下滴下し、３時間撹拌し７こ。不溶物をろ別し、ろ
液に氷水２５０ｍＱと酢酸エチル４００！２を加え、抽
出した後、全有機層を飽和重曹水で洗浄、水層と何機層
に分離し、水層を８塩酸でｐｒ−■２とし、酢酸エチル
を加えて抽出した。有機層を芒硝で乾燥、溶媒を減圧留
去後、残？九をシリカゲルクロマトグラフィーで精製す
ることにより、３−ベンジルオキシ−２−メチルプロピ
オン酸を得た。

１１１（Ｎｕｊｏｌ）：Ｉ　６９５．１４５５，１０７
０，９３２゜７０６　（ｃｌｌ−’）。

なお、（Ｓ）−（＋）−３−ヒドロキシ−２−メチルプ
ロピオン酸メチルに酸化銀存在下、ベンジルブ［Ｊミド
を作用させると水酸基をベンジル基で保護することかで
きる。

Ｉｒ１（ｎｅａｔ）：１７３５，１４５０，１３６０．
１＋９５゜１０９０．７３５（ＣＪＩ−リ。

ＮＭＲδ（ＣＤＣ１２３）ニ ア　、３２　（ｍ、　５１−Ｄ、 ４．５２（ｓ、２ｌ−１）、 ３．７０（ｓ、３Ｈ）、 ３　、６６　［ｄｄ（Ｊ＝２．７Ｈｚと９．２Ｈ２）、
ＩＯ３，３、４９［ｄｄ（Ｊ　＝　５．９Ｈｚと９　、
２１−（ｚ）、Ｉｌｌ］、２．７９（ｍ、　Ｉ　Ｈ）、 １．１８［ｄ（Ｊ＝７．３Ｈｚ）、３Ｉ（］。

象４獅しし１影 ３−ベンジルオキシ−２−メチルプロピオン酸３．０ｇ
（１５，４ｍｍｏｌｅ）を乾燥アセトニトリル２０ｍＱ
に溶解し、水冷下、１，１°−カルボニルジイミダゾー
ル２．９２ｇ（１８ｍｍｏｌｅ）を加え、３０分間撹拌
した。このものをマロン酸モノｐ−ニトロベンジルエス
テルマグネシウム塩９．０１９（１８ｍｍ。

ｌｅ）の乾燥アセトニトリル４０ｍＱ溶液に５０℃で徐
々に滴下し、３時間加熱還流した。室温に戻した後、酢
酸エチルで希釈し、有機層を水、希塩酸水、飽和重曹水
および食塩水の順に洗浄し、芒硝で乾燥、溶媒を減圧留
去後、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製
し、３−オキソ−５−ベンンルオキン−４−メチルペン
タン酸ｐ−ニトロベンジルエステルを得た。

Ｉｎ（ｎｅａｔ）：１７２０，１６８３，１５７６．１
４９０゜１３１６．１０６５．７０５（ｃＪＩ−’）。

参考例２−４ 水素化ホウ素ナトリウム１．８９９（５０ｍｍｏｌｅ）
をメタノール２０ｍＱに加え、１０分間加熱還流しに後
、室温に戻し、３−オキソ−５−ベンジルオキシ−４−
メチルペンタン酸ｐ−ニトロベンジルエステル３　、７
９（Ｉ　Ｏｍｍｏｌｅ）を無溶媒で滴下し、室温で２時
間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、希塩酸およ
び食塩水で有機層を洗浄、芒硝で乾燥、溶媒を減圧留去
後、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製するこ
とにより、３−オキソ−５−ベンジルオキシ−４−メチ
ルペンタン酸メチルエステルを得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：１７４２，１７１３，１６２２，１
４４８゜１３０５、　ｌ　Ｏ９０，７３５（ｃｍ−’）
。

参考例２−５ 旨 ３−オキソ−４−メチル−５−ベンジルオキシペンタン
酸メチル１．１１ｇ（４，４３ｍｍｏｌｅ）を乾燥メタ
ノール５ｍＱに溶解し、アリルアミン１．２６９および
モレキュラーシーブス３Ａ０．６ｇを加えた。

さらに水冷下、乾燥メタノール２ｍｇに塩化アセチル１
　、０４　＆（１３、３ｍｍｏｌｅ）を加えてから１分
間撹拌することによりシ１１製した溶液を加え、４０°
Ｃで１２時間反応を行なイつせた。モレキュラーツーブ
スをろ過し、ろ液を酢酸エチルで希釈し、これを飽和重
曹水および食塩水で洗浄、芒硝で乾燥、溶媒を減圧留去
した。残渣をトルエン５ｍＱに溶解し、室温でケテンガ
スを通じ、反応終了後、溶媒を減圧留去、残渣をシリカ
ゲルクロマトグラフィーで精製することにより、２−ア
セチル−３−アリルアミノ−４−メチル−５−ベンジル
オキシ−２−ペンテン酸メチルエステルを得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：１７０２，１５７７．１４４５，１
４３８゜１２６４．１０Ｂ０，７３６（ｃｒ’）。

参考例３−１−（１） （Ｓ）−（＋）−２−メチル−３−ヒドロキシプロピオ
ン酸メチル２　、０９（１６、９ｍｍｏｌｅ）とジイソ
プロピルエチルアミン２．２９（１７，１ｍｍｏｌｅ）
を無水ジクロロメタン２ＦＩＱに溶解し、ペンジルオキ
ンメチルクロリド２　、７９（１７、３ｍｍｏｌｅ）を
滴下し、１時間撹拌した。ＩＮ塩酸１０ｘ（２と酢酸エ
チル２０ｍＱを加えて分岐し、水層をさらに酢酸エチル
で抽出した。有機層を重曹水および水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。溶媒留去後、残渣をシリカ
ゲルクロマトグラフィーで精製することにより、（Ｓ）
−３−ベンジルオキシメチルオキシ−２−メチルプロピ
オン酸メチルを得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：１７３０．１４４５，１３７０，１
１９５゜１０３０　（Ｇｘ−’）。

ＮＭＲδ（ＣＤ　Ｃ１２３）：　７　、３４　（ｓ、　
５　Ｈ）、４．７５（ｓ、２Ｈ）、４．５９（ｓ、２Ｈ
）、３．７０（ｓ、３Ｈ）、２．８１　（ＩＩＩ、　Ｉ
　Ｈ）、１．２０［ｄ（Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３Ｈ］。

以下に示すメチルエステル誘導体は、ペンジルオキジメ
チルクロリドに代えてメトキシメチルクロリドあるいは
２−メトキシエチルクロリドを用い、参考例３−１−（
１）に記載の方法と同様の操作により得られた。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：１７２５，１４５０，１４３０゜１
１９３．１０３０．９１０（ｃｍ−’）ＮＭＲδ（ＣＤ
Ｃ（３）：４．６１（ｓ、２Ｈ）、３　、７０　（ｓ、
２Ｈ）、３．６５（ｍ、２Ｈ）、３　、３４　（ｓ、３
Ｈ）、２．７９（ｍ、　ｌ　ｌ−１）、１．１　９［ｄ
（Ｊ＝７．０Ｈｚ）、　　３　　Ｈコ。

Ｉｎ（ｎｅａｔ）：１７３５，１４５０，１２００゜１
１１０．１０４０（ｃｍ−１） ＮＭｒｔδ（ＣＤ　Ｃ１２３）：４　、７２　（ｓ、　
２　Ｈ）、３　、７１　（ｓ、３Ｈ）、３．４１（ｓ、
３１■）、２．８０（ｍ、ＩＨ）、１．ｔ９［ａ（、ｒ
＝７．３Ｈｚ）、３■］］。

（Ｓ）−（＋）−２−メチル−３−ヒドロキンプロピオ
ン酸メチル２　、３６１Ｆ（２０ｍｍｏｌｅ）を無水酢
酸４０ｇ（に溶解し、乾燥ジメチルスルホキシド４０ｚ
（ｌを加え、室温で５日間撹拌した。反応液を水５００
ｍＱで希釈し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（ｌ。

ｌ）で抽出した。有機層を水、飽和重曹水および水で順
次洗浄し、芒硝で乾燥後、溶媒留去した。

残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、（Ｓ
）−３−メチルチオメトキシ−２−メチルプロピオン酸
メチルを得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：ｌ　７３０，１４５０，１４３２．
１１６０゜１０４２　（ｃｘ−’） ＮＭＲδ（ＣＤ　Ｃｌ２３）：　１　、２０　［ｄ（Ｊ
＝７．３Ｈｚ）、３１！］、２．１３（ｓ、３Ｉ−１）
、２．７６（ｍ、Ｉ　Ｈ）、３．５〜３．８（ｍ、２Ｈ
）、 ３．７１（ｓ、３１０．４．６３（ｓ、２ｌ−１）。

（Ｓ）−Ｃ＋）−２−メチル−３−ヒドロキシプロピオ
ン酸メチル２　、３６　ｇ（２０ｍｍｏｌｅ）を乾燥ジ
クロロメタン３０ｍＱに溶解し、濃硫酸０　、２　ｍＱ
を加えた後、−６０〜−７０°Ｃに冷却し、イソブチン
２３．５９を吹込み、室温で３時間撹拌した。反応液を
密封し、−夜撹拌後、未反応のイソブチンを留去し、水
および飽和重曹水で順次洗浄した後、芒硝で乾燥、溶媒
留去し、（Ｓ）−３−ｔ−ブトキシ−２−メチルプロピ
オン酸メチルを得た。

Ｉｎ（ｎｅａｔ）＋１７３５．１７１０．（ｓｈ）、１
４５０゜１３６０．１１９５，１０８０，１０５１０５
０（’）。

Ｎ　Ｍ　Ｉｔδ（ＣＤ　Ｃ１２３）：　３　、６９　（
ｓ、　３　Ｈ）３　、５８　［ｄｄ（Ｊ　＝７．２５と
８．６Ｈｚ）、１）ｆ］、３　．３　５　　［ｄｄ（Ｊ
　　＝６．２と８゜６Ｈｚ）、　ＩＨコ、２．６６（ｍ
、　Ｉ　Ｈ）、１．１７（ｓ、９Ｈ）、１．１６［ｄ（
Ｊ＝７．０Ｉ（ｚ）、３Ｈ］。

参考例３−１−（４） （Ｓ）−（＋）−２−メチル−３−ヒドロキシプロピオ
ン酸メチル１　、１８９（ｌ　Ｏｍｍｏｌｅ）、トリチ
ルクロリド３．１９（１１，１３ｍｍｏｌｅ）およびＮ
、Ｎ−ジメチルアミノピリジン１，３４９（ｌ　１ｍｍ
ｏｌｅ）を乾燥ジメチルホルムアミドｌＯＨに溶解し、
室温で一夜撹拌した。未反応のトリチルクロリドを消失
させるためにメタノール５酎を加え、３時間撹拌した後
、反応液に水２０ｍ（ｌを加え、トルエン２０ｍＱで３
回抽出し、抽出液を水洗後、芒硝で乾燥、溶媒留去し、
得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィにて精製し
、（Ｓ）−３−）ジチルオキシ−２−メチルプロピオン
酸メチルを得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：１７２５，１４５０，１３７０，１
１９５゜１０８０．７０５（ｃｘ−’）。

ＮＭＲδ（ＣＤＣＩ２３）ニア、４３〜７．２２（ｍ、
１５Ｈ）、３．７０（ｓ、３Ｈ）、 ３　、２８　［ｄｄ（Ｊ　＝７．１と８．７５Ｈｚ）、
ＩＨ］、３　．１　７　　［ｄｄ（Ｊ　　＝５．８と８
．７５Ｈｚ）、　ＩＩ（コ、２．７３（ｍ、　１１−Ｉ
）、 １．１５［ｄ（Ｊ＝７．３Ｉ（ｚ）、３Ｈ］。

参考例３−１−（５） （Ｓ）−（＋）−２−メチル−３−ヒドロキシプロピオ
ン酸メチル１　、Ｏｇ（８，４７ｍｍｏｌｅ）、イミダ
ゾール１．１５９（１６，９ｍｍｏｌｅ）を乾燥ジメチ
ルホルムアミドＩＯｍＱ、に溶解し、ｔ−ブチルジメチ
ルクロルシラン１．３０ｇ（８，６２ｍｍｏｌｅ）を加
え、室温で一夜撹拌した。反応液を酢酸エチル６０ｍＱ
で希釈し、食塩水５０ｍ１２で３回洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。残渣をシリ
カゲルクロマトグラフィーで精製することにより、（Ｓ
）−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−メチル
プロピオン酸メチルを得た。。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：１７４０，１４６０，１２５０．１
１９５゜１０９０．８３０，７７０（ａｆｆ−’）。

ＮＭＲδ（ＣＤＣ１２３）：３．７８［ｄｄ（Ｊ＝６．
９と９．６＋１ｚ）、ＩＨ］、３．６８（ｓ、３Ｈ）、 ２．６５（ｍ、ＩＨ）、 に１４［ｄ（Ｊ＝６．９Ｈｚ）、　３Ｈ］、０．８７（
ｓ、９Ｈ）、０．０４（ｓ、３Ｈ）、０．０１（ｓ、３
Ｈ）。

楚考週」二じしヨコ〕 （Ｓ）−３−ベンジルオキシメチルオキシ−２−メチル
プロピオン酸メチル１　、２０９（５ｍｍｏｌｅ）をメ
タノール１２ｔｘ（ｌに溶解し、水冷下にＩＮ水酸化ナ
トリウム水溶液５　、５　ｘＱを加え、室温で一夜撹拌
した。反応液を水３０ｍＱで希釈し、エーテル２０酎で
２回洗浄した。水層を水冷下に６Ｎ塩酸で酸性とし、酢
酸エチル３０村で３回抽出した。有機層を水洗し、芒硝
で乾燥、溶媒を減圧留去して、（Ｓ）−３−ベンジルオ
キシメチルオキシ−２−メチルプロピオン酸を得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：１７０５，１４４５，１３７０，１
１００゜１０３５　（ｃ、ｔ一つ。

ＮＭＲδ（ＣＤ　Ｃｌ２３）：　７　、３４　（ｓ、　
５　Ｈ）、４．７６（ｓ、２Ｈ）、４．５９（ｓ、２Ｈ
）、３　、７８　［ｄｄ（Ｊ　＝７．６と９．６Ｈｚ）
、ＩＨＩ、３　、６８　［ｄｄ（Ｊ　＝５．３と９．６
Ｈｚ）、ＩＨＩ、２．８０（ｍ、　ｌ　Ｈ）、 １．２３．［ｄ（Ｊ　＝　７．２５　Ｈｚ）、３Ｈ］。

参考例３−２−（２）〜３−２−（８）以下の表に示す
カルボン酸は対応するメチルエステルを参考例３−２−
（１）に記載の方法と同様の処理に付して得た。

参考例３−３−（１） （Ｓ）−３−ペンジルオキシメチルオキシ−２−メチル
プロピオン酸０．６９ｇ（３，０７５ｍｍｏｌｅ）、１
．１’−カルボニルジイミダゾール０．６０９（３゜６
７５　ｍｍｏｌｅ）およびマロン酸モノベンジルエステ
ルマグネシウム塩１．５０９（３，６７５ｍｍｏｌｅ）
を用いて参考例１−２と同様な操作を行ない、（Ｓ）−
３−オキソ−４−メチル−５−ベンジルオキシメトキシ
ペンクン酸ベンジルエステルを得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：１７３５，１７１０，１４４５，１
０３５゜７３５．６９０（ｃｍ一つ。

ＮＭＲδ（ＣＤ　Ｃ１２３）：　７　、３５　（ｓ、　
５　Ｈ）、７．３２　（ｓ、　５　Ｈ）、５．１７（ｓ
、２Ｈ）、４．６８（ｓ、２Ｈ’）、４．５４（ｓ、２
Ｈ）、３　、７２　［ｄｄ（Ｊ　＝７．９と９．６Ｈｚ
）、ＩＨＩ、３．６１（ｓ、２Ｈ）、２．９６（ｍ、　
ｌ　Ｈ）、１．１　０［ｄ（Ｊ＝６．９Ｈｚ）、　　３
Ｈ］。

参考例３−３−（２）〜３−３−（８）以下の表に示す
β−ケトエステル誘導体は対応するカルボン酸を参考例
３−３−（１）に記載の方法と同様の処理に付して得た
。

参考例３−４−（１） （Ｓ）−３−オキソ−４−メチル−５−ベンジルオキシ
メトキシペンクン酸ベンジルエステル１４０　ｖｇ（０
、３９ｍｍｏｌｅ）をベンジルアルコール０．９ｍＱに
溶解し、モレキュラシーブ３Ａ０．２ｇ、ベンジルアミ
ン５０　ｍ９（０、４７ｍｍｏｌｅ）、トリエチルアミ
ン塩酸塩５４　＋ｖｙ（０、３９ｍｍｏｌｅ）を加え、
８０℃で１０時間反応させ、反応液をクロロホルムＩＯ
１！ｃで希釈し、モレキュラシーブ等の不溶物をろ去し
、ろ液を水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を留去し、次にベンジルアルコールを減圧留
去した。残渣を乾燥トルエンに溶解し、室温でケテンガ
スを通じ、反応完結を確認して反応液を減圧濃縮した。

得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製
し、（Ｒ）−２−アセチル−３−ベンジルアミノ−４−
メチル−５−ベンジルオキシメトキン−２−ペンテン酸
ベンジルエステルを得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）＋１７００．１５８０．１４４８，１
３５２゜１２７０　（ｂｒ）、１０９７．１０３３（ｃ
ｌす。

参考例３−４−（２）〜１４−（８） 以下の表に示すアセチルエナミン誘導体は対応するβ−
リドエステル誘導体を参考例３−４−（１）に記載の方
法と同様に処理して得た。

第　４　表　（続き） 参考例３−５ ベンジルアミンの代わりにグリシンベンジルエステルを
使用した以外は参考例３−４−（１）の記載の方法と同
様に処理して２−アセチル−３−ベンジルオキシカルボ
ニルメチルアミノ−４−メチル−３−ｔ−ブトキシペン
テン酸ベンジルエステルを得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：１７４７．１７０２，１５８８，１
４５０゜１３５８．１１９０（ｃｍ一つ 参考例４−１−（１） ＭｅＯＯ（、、丈／ＣＯＯＭｅ→ ｅＯＯＣ アセトンジカルボン酸ジメチルエステル５０９（０、２
９ｍｍｏｌｅ）をトルエン１５０ｘ（７に溶解し、ベン
ジルアミン３２　、２９（０、３ｍｍｏｌｅ）を加えて
、３０分間脱水しながら加熱還流した。室温に戻した後
、反応液にケテンガスを通じ、生じる結晶をろ取し、こ
のものをエタノールより再結晶することにより、２−ア
セチル−３−ベンジルアミノ−２−ペンテンニ酸ジメチ
ルエステルを得た。

ｍ、　ｐ、　　１２３．５〜１２４．０°ｃ。

ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：１７１８．１６８５．１５８５゜
１３６５、１０９２（ｃｒ’）。

参η例４−１−（２） アセトンジカルボン酸ジメチルエステル１０ｇ（５７、
４ｍｍｏｌｅ）とアリルアミン１１．５９（０，２ｍｍ
ｏｌｅ）を用いて、参考例４−１−（１）と同様な操作
を行ない、２−アセチル−３−アリルアミノ−２−ペン
テンニ酸ジメチルエステルを得た。

ｍ、ｐ、　　９１．５〜９２．０°ｃ。

Ｉｎ（Ｎｕｊｏｌ）：ｌ　７２０，１６９０，１５９２
゜１３７１．１　ｌ　００（ｃｒ’）。

Ｎ２気流下、乾燥テトラヒドロフランＩＯｍＱに水素化
ナトリウム（６０％）　ｌ　、　６８　ｇ（４２ｍｍｏ
ｌｅ）を加え、水冷下にて、２−アセチル−３−ペンジ
ルアミノ−２−ペンテンニ酸ジメチルエステル６゜２９
（２０ｍｍｏｌｅ）の乾燥テトラヒドロフラン４０ｍＱ
溶液を徐々に加え、同温度で１５分間撹拌した。

その後室温でヨウ化メチル５　、６８９Ｃ４０ｍｍｏｌ
ｅ）を加え、室温で１時間、４０℃で１時間撹拌した。

水を加えて反応を止め反応液を酢酸エチルで希釈した。

有機層を水、希塩酸および食塩水で順次洗浄した後、芒
硝で乾燥、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルクロマ
トグラフィーで精製することにより、２−アセチル−３
−ベンジルアミノ−４−メチル−２−ペンテンニ酸ジメ
チルを得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：１７３５．Ｉ　６９８．１５８２，
１４２７゜１２５６　（ｃｍ−’）。

水素化ナトリウム（６０％）０．８！１ｔ（２Ｏｍｍｏ
ｌｅ）、２−アセデル−３−アリルアミノ−２−ペンテ
ン１酸ジメチルエステル２．５５９（ｌ　Ｏｍｍｏｌｅ
）、ヨウ化メチル２．８４９（２０ｍｍｏｌｅ）を用い
て、参考例４−２−（１）と同様な操作を行ない、２−
アセデル−３−アリルアミノ−４−メチル−２−ペンテ
ンニ酸ジメチルを得た。

ｍｌ（ｎｅａｔ）：ｌ　７３９，１７００．１５Ｂ３，
１４３１゜１２６２　（ｃｒつ。

参考例５−１ アセトンジカルボン酸ジエチルエステルｌＯ１＋　１９
（５０ｍｍｏｌｅ）とベンジルアミン５．５７ｇ（５２
ｍｍｏｌｅ）を用いて参考例４−１−（１）と同様な操
作を行ない、２−アセチル−３−ベンジルアミノ−２−
ペンテンニ酸ジエチルエステルを得た。

ｍ、ｐ、　　８５〜８６℃。

参考例５−２ 水素化ナトリウム（６０％）　８８　ｇ（２、２ｍｍｏ
ｌｅ）、２−アセチル−３−ペンジルアミノ−２−ペン
テンニ酸ジエチルエステル３３３肩９（１ｍｍｏｌｅ）
、ヨウ化メチル１５６　ＨＣｌ　、　ｌ　ｍｍｏｌｅ）
を用いて参考例＝１−２−（１）と同様な操作を行ない
、２−アセチル−３−ベンジルアミノ−４−メチル−２
−ペンテンニ酸ジエチルエステルを得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：ｌ　７３０．Ｉ　Ｇ　９６．１５８
０，１４３８゜１２５７　（ｃｍ−’）。

参考例６−１ リ アセト酢酸メチルとナトリウムメチラートより調製した
アセト酢酸メヂルナトリウム４１．２４ｇ（９ｍｍｏｌ
ｅ）を乾燥トルエンＬＯｒｘＱに＠蜀し、２−クロロホ
ルミルプロパン酸エチル１．１２４ｊ（６，８ｍｍｏｌ
ｅ）の乾燥トルエン５ｊ１１２溶液を室温で滴下した。

同温度で一時間撹拌後、不溶物をろ去し、ろ液を４０℃
で減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー
により精製し、３．５−ジオキソ−４−メトキシカルボ
ニル−２−メチルヘキサン酸エチルを得た。

Ｔ　Ｒ（ｎｅａｔ）：　１７５０　（ｓｈｏｕｌｄｅｒ
）。

１７３０　（ｓｈｏｕｌｄｅｒ）、　Ｉ　７２０　、　
　　　　’１５７０　（ｂｒｏａｄ）、　１４３５　（
ｃｍ−’）。

参考例６−２ ３．５−ジオキソ−４−メトキシカルボニル−２−メチ
ルヘキサン酸エチル１７６　ｍＱ（０，７２ｍｍｏｌｅ
）をテトラヒドロフラン１．３１に溶かし、１．７Ｎア
ンモニア水溶液０．８５１１１２を室温で加えた。同温
度で一夜静置後、テトラヒドロフランを減圧留去し、Ｉ
Ｎ塩酸０．７　ｍＱと食塩水を加え酢酸エチルで抽出し
た。有機層を無水硫酸マグネシウムと芒硝で乾燥、減圧
濃縮した残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより精
製し、４−エトキシカルボニル−３−オキソペンタン酸
メチルを得た。

Ｉ　　Ｒ（ｎｅａｔ）＋１７　３　５　．１７　２　０
　　（ｓｈｏｕｌｄｅｒ）、１４３Ｂ。

１３２２．１２４０，１１９３（ｃｒ’）。

ＮＭＲδ（ＣＤ　Ｃ（２３）：　１．２８　（３ｔｔ、
ｔ、　Ｊ　＝７．１Ｈｚ）、１．３７（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝
７．３Ｈｚ）、３．６３　（２Ｈ，ｍ）、３．７４（３
Ｈ，ｓ）、４．２０（２ＨＳｑＳＪ＝７．１Ｈｚ）。

参考例６−３ ４−エトキシカルボニル−３−オキソベンクン酸メチル
エステル２００ｍＣ（１，０６ｍｍｏｌｅ）を乾燥メタ
ノール２　、５　ｍＱに溶解し、ベンジルアミン３８６
　ｍ９ｃ　３　、　Ｇ　ｍｍｏｌｅ）とモレキュラーシ
ーブス３Ａ０．３９を加え、さらに水冷下、塩化アセチ
ル１７０　ｍＱ（２、１７ｍｍｏｌｅ）を乾燥メタノー
ル０　、９　ｒｐ、Ｑに加えて調整した溶液を室温で加
え、１６時間放置した。モレキュラーシーブスをろ別し
、ろ液を酢酸エチルで希釈、有機層を飽和重曹水および
水で洗浄し、芒硝て乾燥、溶媒を減圧留去した。残渣を
トルエン２　、５　ｍＱに溶解し、室温でケテンガスを
通じ、反応終了後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィーで精製することにより、２−アセ
チル−３−ベンジルアミノ−４−メチル−２−ペンテン
ニ酸メチルエチルエステルを得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：ｌ　７２７，１６９２，１５７５，
１４２８゜１２５２　（ｃｍ−’）。

ＮＭＲδ（ＣＤＣＩ２３）：４．５２（Ｉｌｌ、３Ｈ）
、３．７１（ｓ、３Ｈ）、２．３１　（ｓ、３　Ｈ）、
１．４２［ｄ（Ｊ＝７．３’Ｈｚ）、３Ｈ］。

参考例７−１ ２−カルボキシ−プロピオン酸エチル３．６５９（２５
ｍｍｏｌｅ）、１．１’−カルボニルジイミダゾール４
．４５５１Ｆ（２７，５ｍｍｏｌｅ）およびマロン酸モ
ノベンジルエステルマグネシウム塩１１．２７５ｇ（２
７、５ｍｍｏｌｅ）を用いて参考例１−２と同様な操作
を行ない、４−エトキシカルボニル−３−オキソベンク
ン酸ベンジルを得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：１７３０，１４４５，１３７０，１
３１５゜１２３０．７４０，６９０（ｃｒ’）。

ＮＭＲδ（ＣＤ　Ｃ１２３）ニア’、３５（Ｓ、５Ｈ）
、５’、１７（ｓ、　２　Ｈ）、４．１６［ｑ（Ｊ＝７
．０Ｈｚ）、２Ｈ］、３．７０［ｑ（Ｊ＝７．０Ｈｚ）
、ＩＨ］、３．６７（ｓ、２Ｈ）、 １．３５　［ｄ（Ｊ　＝　７．０　Ｈｚ）、３１］］、
ｌ、２４　［ｔ（Ｊ　＝　７．０　Ｈｚ）、３■］］。

４−エトキシカルボニル−３−オキソベンクン酸ベンジ
ル６９５　ｍ９ｃ　２　、５　ｍｍｏｌｅ）、ベンジル
アミン５３５　ｍＱ（５、０ｍｍｏｌｅ）をイソプロパ
ツール１．４１に溶解し、トリエチルアミン塩酸塩２６
０＋９（１，８７５ｍｍｏｌ）および粉末状のモレキュ
ラーシーブ３Ａ０．７９を加え、８０〜９０℃で３〜４
時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、不溶物をろ去
し、酢酸エチルで洗浄後ろ液及び洗液を合わせ、酢酸エ
チル１５ｍＣで希釈し、水洗を２回行い、有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去した。残渣を充
分減圧下で乾燥した後、乾燥塩化メチレン２０１１Ｑに
溶解し、室温でケテンガスを通じ、反応終了後、反応液
を重曹水次いで食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥した後、溶媒を留去しｌ：ｏ油状の残渣をシリカゲル
クロマトグラフィーにて精製することにより２−アセデ
ル−３−ベンジルアミノ−４−メチル−２−ペンテン１
酸エチルベンジルエステルを得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：１７３３，１６９２．１５７８，１
４５０゜１２５５．１１２０．１０８５（ｃｒ’）。

ＮＭＲδ（ＣＤ　Ｃｆ２．）：　７　、３６　（ｍ、　
１０　Ｈ）、５　、１９　（Ａ　Ｂｑ、２Ｈ）、４　、
４８　（ｍ、２Ｈ）、３．９４（ｍ、ＩＨ）、２．２６
　（ｓ、　３　Ｈ）、１　．４　２［ｄ（Ｊ　　＝７．
３Ｈｚ）、　３Ｈコ１、　　１．１５［ｔ（Ｊ＝７．３
Ｈｚ）、３Ｈ］。

ベンジルアミンをフルフリルアミンにかえた以外は参考
例７−２−（ｔ）に記載の方法と同様の操作により２−
アセチル−３−フルフリルアミノ−４−メチル−２−ベ
ンテンニ酸エチルベンジルエステルを得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：１７３０，１６９０，１５８０，１
４３５゜１２４８．１１１５．１０１０７５（一つ。

ＮＭＲδ（ＣＤ　ＣＱ、）：　７　、３６　（ｍ、　５
　Ｈ）、６　、３２　［ｄｄ（Ｊ　＝２．０と３．３Ｈ
ｚ）、Ｉ■（］、６　、２６　［ｄｄ（Ｊ　＝０．７と
３．３Ｈｚ）、ＩＨ］、５．１９（ＡＢｑ、２Ｈ）、 ４．４３（ｍ、２Ｈ）、２．２４（ｓ、３Ｈ）、１．４
６　［ｄ（Ｊ　＝　６、−９　Ｈｚ）、３Ｈ］、１．２
０［ｔ（Ｊ＝７．３Ｈｚ）、　３Ｈコ。

参考例７−２−（３） ＯＮ１−１ 畷 ＣＨｔ　ＣＨ（ＯＭ　ｅ）　ｔ ベンジルアミンを２−アミノアセトアルデヒドジメチル
アセタールにかえた以外は参考例３−４に記載の方法と
同様の操作により２−アセチル−３−ジメトキシメチル
アミノ−４−メチル−２−ペンテン酸エチルベンジルエ
ステルを得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：１７３１，１６９２，１５８０゜１
４４０．１３５Ｂ、１２４３゜ １１２５．１０７０（ｃπつ。

ＮＭＲδ（ＣＤＣＩ２３）ニア、３６（ｍ、５Ｈ）、５
　、１８　（ＡＢｑ、　２　Ｈ）、 ４．４５　［Ｌ（Ｊ　＝　５．３　Ｉ２）、　　ｌ　Ｉ
ｔ］、３．４２（ｓ、６１１）、２．２４（ｓ、３１−
Ｄ、１．４２［ｄ（Ｊ＝７．３Ｈｚ）、３１−Ｄ、１．
２２ｃｔ（Ｊ＝７．３Ｈｚ）、３■］］。

菟煮例７−１−（４） （ａ）４−エトキシカルボニル−３−オキソベンクン酸
ベンジル２７８　ｍ９ｃ　ｌ　、　Ｏｍｍｏｌｅ）をイ
ソプロパツール０　、４　ｍＱとベンジルアルコール０
．８肩νの混合溶媒に溶解し、グリシンベンジルエステ
ル塩酸塩６０５　ｍｇ（３、０ｍｍｏｌｅ）とトリエチ
ルアミン３０３　Ｈ（３、０ｍｍｏｌｅ）を加え、さら
にモレキュランーブ３Ａ０．３９を加え、室温で２日間
放置した。

不純物をろ去し、クロロホルムで洗浄後、溶媒を留去し
た。曲状の残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し
、アセチルエナミン誘導体を得ｒ二。

（ｂ）上記（ａ）で得られたアセチルエナミン誘導体を
乾燥塩化メチレン１ｍＱに溶解し、室温にてケテンガス
を通じ、反応終了後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し、２−アセチル−
３−ペンノルオキノカルポニルメチルアミノー１１−メ
チル−２−ペンテンニ酸エチルベンジルエステルを得た
。

Ｉｎ（ｎｅａｔ）：ｌ　７５０．１７３０．１６８２．
１５８０（ｂｒ）、１４５２，１２３０（ｂｒ）、１１
１５゜１０４２（ｃ扉Ｉ）。

参考例８ ＨＮＨＢｎ （２ＳＲ，３Ｒ３，４ＲＳ） ＯＨＮＨ２ （２ＳＲ，３ＲＳ、４Ｒ３） （３ＳＲ，４ＳＲ） （ａ）（２ＳＲ，３ＲＳ、４Ｒ９）−２−［１（ＳＲ）
−ヒドロキンエチル］−３−ペンノルアミノ−４−メチ
ルベンタンニ酸エチルベンジルエステル５０９即をメタ
ノール５ｍＱに溶がし、水酸化パラジウム炭素末！０２
即存在下３〜４に９／ｃｍ”の水素雰囲気上室温で攪拌
した。原料の消失後触媒をろ別し、ろ液および洗液を合
し、減圧濃縮して（２ＳＲ，３Ｒ９，４ＲＳ）−２−［
＋（ＳＲ）−ヒドロキシエチル］−３−アミノ−４−エ
トキシカルボニルペンタン酸を得た。

Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）：３３５０　（ｂｒ）、　１７２０
　。

１６２０（ｓｈ）、　ｌ　５９０（ｂｒ）。

１２０５（ｃｍつ。

（ｂ）　（ａ）で得た（２ＳＲ，３ＲＳ、４ＲＳ）−２
−５１（Ｓ　Ｒ）−ヒドロキシエチル］−３−アミノ−
４−エトキシカルボニルベンクン酸の全量を乾燥アセト
ニトリル５ｍＱに＠濁し、Ｎ、Ｎ’−ジシクロへキノル
力ルポジイミド２６６ｘ９を加え室温で１０分間、次い
で６０℃で２時間攪拌した。溶媒を減圧留去後、残留物
に酢酸エチル５ｎＩ２を加え、室温で疑拌した。＠副液
を約５℃で５時間静置後不溶物をろ別し、冷酢酸エチル
で洗浄した。ろ液と洗液を合し、減圧濃縮した残漬物を
シリカゲルクロマトグラフィーにて精製して（３Ｓ　Ｒ
，４Ｓ　Ｒ）−３−［１（Ｓｒｔ）−ヒドロキシエチル
］−４−Ｅ１（ＲＳ）−エトキシカルボニルエチル］−
２−アゼチンノンを得た。

Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）：　３４００　（ｓｈ）、　３３０
０（ｂｒ）。

１７６０　（ｓｈ）、１７３０　（ｂｒ：＋。

！４５５，１３７０，１１８０（ｃｚ　’）。

Ｎ　Ｍ　Ｒδ　（ＣＤ　　Ｃｌ２３）：　　２　．６　
５　　（ｍ、　　Ｉ　　Ｈ）、３　、０６　［ｄｄ（Ｊ
　＝２．：（と５．６Ｈｚ）、＋＋［、３　．７　１　
１：ｄｄ（Ｊ　　＝２．３と７．３Ｈｚ）、　ＩＨコ。

参考例９ （２ＳＲ，３Ｒ３，４ＲＳ） （２ＳＲ，３Ｒ５，４ＲＳ） （３ＳＲ５４Ｓｌ？） （ａ）（２ＳＲ，３ＲＳ、４ＲＳ）−２−［１（ＳＲ）
−ヒドロキンエチルコー３−フルフリルアミノ−４−ベ
ンタンニ酸エチルベンジルエステル４０ｍ９（０、１ｍ
ｍｏｌｅ）をエタノール１順に溶解し、１０％パラジウ
ム−炭素８巧を加えて常温常圧で水素添加を行なった。

反応終了後、触媒をろ別、溶媒を減圧留去して（２ＳＲ
，３ＲＳ、４Ｒｓ）−２−４１（Ｓｒｊ）−ヒト［ｌキ
シエチル］−３−フルフリルアミノ−４−エトキシカル
ボニルベンクン酸を得た。

［ｊ（ｎｅａｔ）：１７３０．１７０５（ｓｈ）、１５
９０゜１３８０．１＋９５．１０１０．７５０（ｃｉす
。

（ｂ）　（ａ）で得られた（２ＳＲ，３ＲＳ、４ＲＳ）
−２−［１（ＳＲ）−ヒドロキシエチルコー３−フルフ
リルアミノ−４−エトキシカルボニルベンクン酸２９　
ｍ９（０，１ｍｍｏｌｅ）を乾燥アセトニトリル２Ｈに
溶解し、室温でノンクロヘキシルカルホジイミド２５１
Ｒ９（０、Ｉ　２　ｍｍｏｌｅ）を加え、６０〜６５°
Ｃに昇温し、２．５時間攪拌した。室温に戻した後、ノ
ンクロへキシルウレアをろ別、溶媒を減圧留去し、残渣
をシリカゲルクロマトグラフィーで精製して（３ＳＲ，
４ＳＲ）−３−Ｅｌ（ＳＲ）−ヒドロキンエチル］−４
−［１（Ｒ９）−エトキシカルボニル］エチルー１−フ
ルフリル−２−アゼチジノンを得た。

Ｉ　Ｒ（ＣＤＣｆ２３）＋３４５０（ｂｒ）、１７４０
．１３７５　。

１１７８．１０５０．ＩＯ１２ Ｃｃｍ　’）。

ＮＭＲδ（ＣＤＣｆ２３）ニア、３７（ｍ、ＩＨ）、６
　、３３　［ｄｄ（、ｒ　＝２．０と３．３ｌ−１ｚ）
、ｌ）Ｉ］、６　．２　７　　［ｄｄ（Ｊ　　＝０．７
と３．３ｌ−１２）、　　ＩＨ］、４．４２　（ＡＢｑ
、２Ｈ）、４　、０２　（ｍ、ＩＨ）、３．６１　［ｄ
ｄ（Ｊ　＝２．３と５．３Ｈ２）、ＩＨ］、３．０９（
ｍ、　ｌ　Ｈ）、２．８１　（ｍ、　Ｉ　Ｈ）、２　　
、２　３　　［ｄ（Ｊ　　＝　５．０ｒ−１ｚ）、　　
ＩＨ］、１．１９〜１．２９（９１，０゜ 参考例１０ ０ＨＮＨＢｎ （２ＳＲ，３Ｒ３，４Ｒ３） （３ＳＲ，４ＳＲ） （２ＳＲ，３ＲＳ、１ＩＲＳ）−２−［＋（ＲＳ）−ヒ
ドロキシエチル］−３−ベンジルアミノ−４−メチル−
５−フェニルチオペンタン酸ｐ−ニトロベンノルエステ
ル３０ｘ９（０，０５９ｍｍｏｌｅ）に濃塩酸２ｍ（ｌ
を加え、１７時間加熱還流した後、塩酸を減圧留去し、
残渣にアセトニトリルを加え、過剰のトリエチルアミン
を滴下して中和した。溶媒、過剰のトリエチルアミンを
減圧留去した後、アセトニトリル１ｍ（！、２，２°−
ジピリジルノスルフィド２６　ｍｇ（０、Ｉ　２　ｍｍ
ｏｌｅ）とトリフェニルホスフィン３１　ｍ９（０、１
２ｍｍｏｌｅ）を室温で加え、５５時間加熱還流した。

室温に戻した後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲル
クロマトグラフィーで精製することにより、（３Ｓ　Ｒ
，４Ｓ　ｌｌ）−３−４１（ＳＲ）−ヒドロキシエチル
］−４−［１（Ｒ３）−メチル−２−フェニルヂオ］エ
チルー１−ペンツルーシーアゼチジノンを得た。

Ｉｎ（ｎｅａｔ）：３４３０．１７３８．１５７８，１
４３７゜１３９５．１３７５．１０１２（ｃＩ！”７゜
Ｎ　Ｍ　’Ｆｌδ（ＣＤ　Ｃ１２３）＋　７　、２３　
（ｍ、　１０　日）、４．６８［ｄ（Ｊ＝１５．２Ｉ−
（ｚ）、１１−（］、３．９３（ｍ、ＩＨ）、 ３．７　８［ｄ（Ｊ　　＝　　１　５．２１（ｚ）、　
　Ｉ　　Ｉ（コ、３．３　０［ｄｄ（Ｊ＝２Ｊと　５．
０Ｈｚ）、　　１ｉ−ｔ　ｌ、２　、５０　［ｄｄ（Ｊ
　＝　９．２と１２．７ｌ−１ｚ）、１［Ｉ］、１．８
７（ｍ、ＩＩ−Ｄ、 １．２０［ｄ（Ｊ＝６．３Ｌｌｚ）、３１−Ｉ］、０　
。９７［ｄ（Ｊ＝６．６Ｈｚ）、　　３　トＩ］。

撃考例Ｉｔ 陥 （２ＳＲ，３Ｒ３，４ＲＳ） （３ＳＲ，４ＳＲ） （２ＳＲ，３Ｒ９，４Ｒ９）−２−［１（ＳＲ）−ヒド
ロキノエチル］−３−アリルアミノ−４−メチル−５−
フェニルヂオペンタン酸ｐ−ニトロベンノルエステル２
７　ｍｇ（０，０６ｍｍｏｌｅ）を用いて参考例１０と
同様な操作を行ない、（３ＳＲ，４ＳＲ）−３−［１（
Ｓ＋ｔ）−ヒドロキシエチル］−４−４ｌ（Ｒ８）−メ
チル−２−フェニルチオ］エチルー１−ベンツルー２−
アゼチジノンを得た。

Ｉｎ（ｎｅａｔ）：３４２５，１７４０，１６３９，１
４３９゜１３９８．１３７（ｉ、１２７５．９２７（ｃ
ｍつ。

ＮＭＲδ（ＣＤ　Ｃｌ２３）：　７　、３４　（ｍ、　
５　Ｈ）、５．７０（ｍ、　Ｉ　Ｈ）、５．２１（ｍ、
２１（）、３　、５５　［ｄｄ（Ｊ　＝２．３と５，０
Ｉ−１ｚ）、ｌＩＩ］、３　．４　３　　［ｄｄ（Ｊ　
　＝７．３と１６．８Ｈ２）、　ｌ　Ｉ（コ、３　、０
４　［ｄｄ（Ｊ　＝４．３と１２□９１４ｚ）、ｌ　Ｈ
Ｆ、２　、８７　［ｄｄ（Ｊ　＝　１．７と６．６Ｈｚ
）、Ｉ）−１］、２　、６５　［ｄｄ（Ｊ　＝８．９と
１２．９Ｈｚ）、ＩＩ］］、２．００（ｍ、ＩＨ）、 １．３１　［ｄ（Ｊ　＝　６．３　Ｈｚ）、３Ｉ］］、
１．１３［ｄ（Ｊ＝６．９Ｈｚ）、３１１］。

参考例１２−１ （３ＳＲ，４ＳＲ）　　　　　　　　（３ＳＲ，４ＳＲ
）（３ＳＲ，イ５Ｒ）−３−［１（ＳＲ）−ヒドロキシ
エチル］−４，−［１（Ｒ３）−エトキンカルボニル］
エチルー１−フルフリル−２−アゼチジノン３０　Ｍｇ
（０、１ｍｍｏｌｅ）をメタノール０　、３　ｍＱに溶
解し水冷下０．２Ｎ−ＮａＯＨ０，５ｘ１２（０，１ｉ
ｍｏｌｅ）を滴下した後、同温度で１０時間撹拌した。

反応液に酢酸エチルを加えて希釈し、抽出、有機層と水
層を分離した後、水層を希塩酸でｐＨ２以下とし、メチ
ルイソブチルケトンを加えて抽出した。有機層を水、食
塩水の順に洗浄した後、芒硝乾燥、溶媒を減圧留去する
ことにより（３Ｓ　Ｒ，４Ｓ　Ｒ）−３−［１（ＳＲ）
−ヒドロキシエチル］−４−［１（Ｒ８）−力ルボキシ
］エチルー１−フルフリル−２−アゼデジノンを得た。

ｍ、ｐ、　　　１２５〜１２７°Ｃ Ｉｎ（ＫＢｒ）：３４５０，３３７０，１７２３゜１６
９２（ｓｈ）、１４３７゜ １２１０　（ｃｍ−リ。

ＮＭＲδ（ＣＤ　３０　Ｄ）：４　、４２　（Ａ　Ｂｑ
、　２　Ｈ）、４．０２（ｍ、ＩＩ（）、 ３．７８（ｄｄ（Ｊ＝２．３と４．６Ｈｚ）、１ｌｌ）
、３．７８（ｍ、ＩＨ）　　　　２．８３（ｍ、ＩＨ）
、１．２５（ｄ（Ｊ＝６．３Ｈｚ、３Ｈ）、１．１６（
ｄ（Ｊ＝７．３Ｈｚ）、３Ｈ）。

参考例１２−２ （３ＳＲ，４ＳＲ）　　　　　　　　（３Ｓ、４Ｓ）酢
酸エチル１ｍ（とイソプロピルアルコールＯｔｍ（ｌの
混合溶媒にシンコニジン２０１１１９（０，０６８ｍｍ
ｏｌｅ）と３−（１’　　−ヒドロキシエチル）−４−
（１′　−カルボキシエチル）−１−フルフリル−２−
アゼチジノン［（３Ｓ、４Ｓ、ｌ’Ｓ、ｌ”Ｒ）：（３
Ｒ。

１ＩＴ１，１″Ｒ，ビＳ）：（３Ｓ、４　Ｓ、Ｉ’ｓ、
ビＳ）：（３Ｒ，４Ｒ，ｌ’Ｒ，ビＲ）−４５＋４５：
５：５］２０ｍ９（０，０７５ｚｍｏｌｅ）を加え、加
熱溶解した。放冷し、室温で１２時間静置した後、析出
した結晶をろ別して（３Ｓ、４５）−３〜［＋（Ｓ）−
ヒドロキシエチル：Ｉ−４−［１（Ｒ）−カルポキシエ
チル］−１−フルフリル−２−アゼチジノンシンコニノ
ン塩＋８゜５、Ｂを得た。

ｍ、ｐ、　　　１７７．５〜１７８．５℃。

この塩にＩＮ塩酸を加えて溶解し、メチルイソブチルケ
トンで抽出後、抽出液を食塩水で洗浄、芒硝で乾燥、溶
媒を減圧留去して（３Ｓ、４Ｓ）−３−、ｃ＋　（Ｓ）
−ヒドロキンエチル］−４−（ｌ（Ｒ）−カルボキンエ
チル］−１−フルフリル−２−アゼチジノン　９Ｈを得
た。これをベンゼン０．４πｇとメタノールＳｍＱの混
合物に溶解し、トリメチルンリルジアゾメタン（１０％
ヘキサン溶液）４０１（０、０３５ｍｍｏｌｅ）を加え
、室温で３０分間撹拌後、溶媒を減圧留去し、残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィーで精製して（３Ｓ、・ｌ５
）−３−こＩ（Ｓ）−ヒドロキンエチル’１−４−（：
１ＯＮ）−メトキンカルボニル］エチル〜１〜フルフリ
ル−２−アゼチジノンを主生成物とずろ混合物を得た。

ＩＩ　Ｐ　Ｌ　Ｃ分Ｆｆｒ（カラム：０Ａ−３０００、
展開液：ＥＤＣ−ヘキザンーエタノール−５５−６５−
４）により、（３Ｓ、４　Ｓ、Ｉ’Ｓ、１”Ｒ）：（３
Ｓ、４Ｓ、Ｉ’ｓ、じＳ）：（３Ｒ，４Ｒ，ｌｏＲ，ビ
５）−８８：１０：３であることが確認されｆこ。

［α’：２５−＋　２４．０°（Ｃｌ（ＣＱ３）ＩＲ（
ｎｅａｔ）；３４２０（ｂｒｏａｄ）、１７４５．１７
１５゜１３６５．１＋９３．１０５０゜ １０００　Ｃｃｖｔ−リ ＮＭＲδ（ＣＤＣＣ３）ニア、３７（ｍ、ｌＨ）、６．
３３（ｍ、１１１）、６．２７（ｍ、Ｉｔ（）、４．４
１　（ＡＢｑ、　２　Ｈ）、４　、０２　（ｍ、　１ｉ
ｌ）、３．６９（ｓ、３Ｈ）、３．６１（ｄｄ（Ｊ−２
゜３　と　５　．３　１（ｚ）、Ｉ　　Ｈ）、　　３　
．０　９　　（＋ｎ、１ｉｔ）、２．８２（ｍ、１１■
）１．２７（ｄ（Ｊ＝６．３Ｈ２）、３Ｈ）、１．２１
　（ｄ（Ｊ　＝　７　、３１−１ｚ）、３１（）。

また上記の反応においてシンコニジンをキニーネに代え
て用いることによっても光学活性な（３Ｓ、４　Ｓ＞−
３−［１（Ｓ）−ヒドロキシエチル］−４−Ｃｌ（Ｒ）
−メトキシカルボニル］エチルー１−フルフリル−２−
アゼチジノンを得ることができる。

参考例１２−３ 参考例！２−２で得た（３Ｓ、４Ｓ）−３−［１（Ｓ）
−ヒドロキンエチル］−４−［１（Ｒ）−メトキシカル
ボニル］エチルー１−フルフリル−２−アゼチジノン　
８　、０　ｍ９ｃＯ、０２８ｍｍｏｌｅ）をジクロロメ
タノ０　、６　ｍＱとメタノール０．３靜の混合物に溶
解し、−７８°Ｃに冷却した後、オゾンガスを吹き込ん
だ。３０分後室温に戻し、トリフェニルホスフィン８　
ｆｆ＠（０、０３１１ｍｏｌｅ）を加え、３０分間撹拌
した。

反応液から溶媒を減圧留去し、残渣にベンゼン０゜７５
ｍ１２とメタノール０．２５ｍＱの混合物を加え、さら
に室温でトリメチルンリルジアゾメタン（１０％ヘキサ
ン溶液）１００Ｂ（０，０８８＊ｍｏｌｅ）を加えた。

同温度で１時間撹拌した後、溶液を減圧留去し、残渣を
シリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより（
３Ｓ、４　Ｓ）−３−［１（Ｓ）−ヒドロキシエチル］
−４−［１（Ｒ）−メトキンカルボニル］エチルー１−
メトキシカルボニルメチル−２−アゼチンノンを得た。

Ｉ　Ｒ（ＣＩＩ　Ｃ１２３）　： ３１１７０（ｂｒ）、１７５０（ｓｈ）、１７３２゜１
３５８．１１７０．１１１８（ｃｓ−’）。

ＮＭＲδ（ＣＤＣ（２ａ）： ４　、１　ｆ３（ｍ、　Ｉ　Ｈ）、４　、０６　（Ａ　
Ｉ３　ｑ、２Ｈ）、３．９９（ｄｄ（Ｊ　＝　２　、６
と４　、６１−１ｚ）、１１（）。

３．７６（ｓ、３１−Ｄ、３　、７０　ＣＢ、　３１−
．１）、３．１０　（ｄｄ（Ｊ　＝　２　、６とＧ　、
　６　［（ｚ）ＩＨ）、２　、８４　（ｍ、ＩＨ）、１
．３３（ｄ（Ｊ　＝６．３Ｈｚ）、３Ｈ）１．２５（ａ
（Ｊ　＝６．９Ｈｚ）、３　トＩ）　。

参考例１３−１ （３Ｓ　Ｒ，４Ｓ　Ｒ）　　　　　　（３Ｒ，４Ｒ）酢
酸エチル１ｍ（ｌとイソプロピルアルコールＯ９１ｍＱ
の混合物にノンコニン２０Ｔｎ９（０，０６５ｉｍｏｌ
ｅ）と３−（１−ヒドロキシエチル）−１−（１−カル
ボキシエチル）−１−フルフリル−２−アゼチジノン［
（３Ｓ、４Ｓ、ＩｏＳ、ビＲ）：（３Ｒ，４Ｒ，ビＲ，
ビＳ）・（３Ｓ、４Ｓ、Ｉ’ｓ、ビＳ）・（３Ｒ，４Ｒ
，ｌ”Ｒ，ビＲ）＝４５：４５：５：５］　２０！１ｇ
（０、０７５ｘｍｏｌｅ）を加え、加熱溶解した。放冷
し、室温で２４時間静置した後、析出した結晶をろ別し
て（３Ｒ，４Ｒ，ｌ−３−［１（Ｒ）−ヒドロキシエチ
ル］−４−［＋（Ｓ）−カルポキンエチルコー■−フル
フリル−２−アゼチジノンンンコニン塩＋７ｚｙを得た
。

ｍ、ｐ、　　１７０〜１７２℃。

上記ンンコニン塩を参考例１２−２と同様に後処理して
（３Ｓ、４Ｓ、ビＳ、ビＲ）：（３Ｒ９４ｒｔ。

１　’　Ｒ、ビＳ）：（３Ｒ，４Ｒ，１’Ｒ，ビＲ）＝
６．５：９３・０．５の目的物を得た。

［ａコ”−＋　　２　６．４’　　（ＣＨＣ（Ｌ）。

ＮＭＩ”ｔ、Ｉｌｌは参考例１２−２で得ｆコらのと一
致した。

撃考例１３−２ （３Ｒ，４Ｒ）　　　　　　　　　（３Ｒ，４Ｒ）参η
例＋３−１で得た（３　Ｒ，４Ｒ）−３−［＋　（Ｒ）
−ヒドロキシエチル］−４−［＋（Ｓ）−メトキンカル
ボニルコニチル−１−フルフリル−２−アゼデジノン　
８　、０　ｍｇを用いて参考例１２−（３）と同様にし
て（３Ｒ，４Ｒ）−３−［１（Ｓ）−ヒドロキシエチル
（−４−［１（Ｒ）−メトキソカルボニル］エヂルーｌ
−メトキシカルボニルメチル−２−アゼチジノンを得た
。

［αＬ２５＝−１１，３°（ＣＩ（ＣＩ２３）ＮＭＲ，
ＩＲは参考例１２−３で得られたものと同一であった。

参考例１４ （１’　ＳＲ，３ＳＲ，４ＳＲ） （１’　ＲＳ、３ＳＲ，４ＳＲ） （１°Ｒ３，３ＳＲ，４ＳＲ） （ａ）（３ＳＲ，４’５Ｒ）−３−［１（ＳＲ）−ヒド
ロキンエチル］−４−（ｌ（Ｒｓ）−エトキンカルボニ
ル］エヂルー１−フルフリル−２−アゼチジノン３０　
ａｇ（０、ｌ　ｍｍｏｌｅ）をＮ、気流下、乾燥テトラ
ヒドロフラン０　、３　ｒ！Ｑに溶解し、水冷下トリフ
ェニルポスフィン３　ｌ　Ｍ９（０、１２ｍｍｏｌｅ）
ギ酸（９８−１００％）　７　ｍＷ（０、Ｉ　５　ｍｍ
ｏｌｅ）を順に加え、同温度で５分間撹拌した。さらに
ジェチルアゾジヵルボキル−ト２３屑１？（０、Ｉ　３
　ｍｍｏｌｅ）を加えた後、昇温し、室温で２１時間撹
拌した。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルクロマト
グラフィーにより精製することにより（３ＳＲ，４ＳＲ
）−３−Ｃ１（Ｒ９）−ホルミルオキシエチル］−４−
［＋　（ＲＳ）−エトキシカルボニル］エチルー１−フ
ルフリル−２−アゼデジノンを得た。

ｒＲ（ＣＨＣＣ３）：３３２５，１７３８（ｓｈ）。

＋　７２０．１３９５．１２０５ （ｂｒ）、　Ｉ　Ｉ　７０　（ｃｒ’）。

ＮＭＲδ（ＣＤ　Ｃ（Ｊ３）ニア、９７（ｓ、ｌｌ−１
）、７．３８（ｍ、ＩＨ）、６．３４　［ｄｄ（Ｊ　＝
２．０と３．３Ｈｚ）、ｌ　Ｉ−（］、］６２６［ｄ（
Ｊ　＝３．３ｌ−１ｚ）、ＩＨ］、５．２８（ｍ、ＩＨ
）、４．４２（Ａｌ１（１，２Ｈ）、４　．１　６　　
Ｃｑ（Ｊ　　＝　　７．３　　ｒ−ｒｚ）、　２　Ｈコ
、３　、６３　［ｄｄ（Ｊ　＝２．０と４．６ｌ−１ｚ
）、ＩＨ］、３　．２　８　　［ｄｄ（Ｊ　　＝２．０
と　７．３Ｈｚ）、　　ＩＨコ、２．８５（ｍ、　１　
）Ｄ、 １．３　８ｊｄ（Ｊ＝６．３Ｈｚ）、　　３　　Ｈコ、
１．２６１１．Ｌ（Ｊ＝７．３Ｈｚ）、３■１］、１．
１８［ｄ（Ｊ＝７．３Ｈｚ）、３Ｉ−ｆ］。

（ｂ）（３ＳＲ，４ＳＲ）−３−［１（Ｒ９）−＊ルミ
ルオキンエチル］４−［１（ＲＳ）−エトキシカルボニ
ル］エチルー１−フルフリル−２−アゼチジノン９　、
０　ｍ９ｃ０　、０２９　ｍｍｏｌｅ）をメタノール０
　、２　ｍ（１に溶解し、室温で無水酢酸ナトリウム１
２ｉｙ（０゜１５ｍｍｏｌｅ）を加えて同温度で２時間
撹拌した。反応液を減圧濃縮した後、酢酸エチルで希釈
、有機層を水、食塩水の順に洗浄し、芒硝で乾燥、溶媒
を減圧留去することにより（３Ｓ　Ｒ，４Ｓ　Ｒ）−３
−［１（ＲＳ）−ヒドロキシェチ／１，１−４−［１（
Ｒ３）−エトキシカルボニル］エチルー１−フルフリル
−２−アゼチジノンを得た。

Ｉｎ（ＣＩ−（Ｃ１２ｓ）：３４５０，１７３２，１３
７０゜１１７　Ｂ　、１０５０．１００５（ｃｆｆ一つ
。

ＮＭＲδ（ＣＤＣ１２３）ニア、３７（ｍ、ＩＨ）、６
　．３　３　　［ｄｄ（Ｊ　　＝　２．０と３．３Ｈｚ
）、　ＩＨコ、６　、２６　［ｄ（Ｊ　＝３．３Ｈｚ）
、ＩＨ］、４．４３（ＡＢｑ、２Ｈ）、 ４　、１５　［ｑ（Ｊ　＝７．３Ｈｚ）、２Ｈ］、３　
．７　２　　［ｄｄ（Ｊ　　＝２．０と５．６Ｈｚ）、
　ＩＨコ、３　、０５　ｆ：ｄｄ（Ｊ　＝　１．３と６
４Ｈｚ）、　Ｉ）Ｉ］、２．８２（ｍ、ＩＨ）、２　、
３２　（ｂｒｏａｄｓ、　Ｉ　Ｈ）、１．２１〜１．３
０　　（９Ｈ）。

参考例１５ ０ＯＥｔ （２ＳＲ，３ＳＲ，４ＲＳ、５Ｒ３） 実施例１４で得た２−［ｌ−ヒドロキシエチル］−３−
ベンジルアミノ−４−メチルペンタンニ酸ジエチルエス
テル（１０ａ）と（１０ｂ）の混合物１０５ｍｇを乾燥
ジクロロメタン０．９婦にとかし、室温で１時間塩化水
素ガスを吹込んだ後、さらにそのまま１．５時間撹拌し
た。反応液をジエチルエーテルＩＯｍＱで希釈し、飽和
重曹水で洗浄した。

水層をジエチルエーテルで再び抽出し、ジエチルエーテ
ル層を合わせ、飽和食塩水で洗浄をくり返し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、溶媒で留去し、油状の残渣を薄層ク
ロマトグラフィーにて精製することにより（２ＳＲ，３
ＳＲ，４ＲＳ、５ＲＳ）−テトラヒドロ−２，５−ジメ
チル−６−オキソ−４−ペンノルアミノ−２Ｈ−ピラン
−３−カルボン酸エチルを得た。

ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：ｌ　７３０，１７１５，１２８２
，１１９８゜１１７５、　Ｉ　１０２Ｃｃｍ−’）。

ＮＭＲδ（ＣＤＣ（！＋）： １．２６［ｔ（Ｊ＝６．９Ｈｚ）、３Ｉ−１］、１．３
３［ｄ（Ｊ＝６．６Ｈｚ）、３Ｉ］］、１．４　５［ｄ
（Ｊ＝６．６Ｈｚ）、　３　Ｈコ、２　、３６　［ｄｑ
（Ｊ　＝８．２５と６．６Ｈｚ）、ＩＨ］、２　　、　
７　７　　［ｄｄ（Ｊ　　＝２．０と　３．０Ｈｚ）、
　　Ｉ　１（１，３、０２［ｄｄ（Ｊ　＝２．０と８．
２５Ｈｚ）、ｔ　Ｈ］、３．７１［ｄ（Ｊ＝　１３．２
Ｈｚ）、ｌｌ−１］、３．８　８［ｄ（Ｊ　　＝　　１
　３．２Ｈｚ）、　　ＩＨ］、４　．１　８　［ｄｑ（
Ｊ　＝　１．３と６．９Ｈｚ）、　　ＩＨコ、４．７４
　［ｄｑ）Ｊ　＝３．０と６゜６１１ｚ）、２■１］。

参考例１６ 且 ＣＯＯＭｅ （２ＳＲ，３ＳＲ，４ＲＳ、５Ｒ３） 実施例４で得た２−［１−ヒドロキシエチル］−３−ペ
ンノルアミノ−４−メチルペンタンニ酸ツメチルエステ
ル（４ａ）と（４ｂ）の混合物２１５ｇを、乾燥ンクロ
ロメタン１８ｍＱ、にとｈ化、室温で１時間塩化水素ガ
スを吹き込んだ後、そのまま１時間撹拌し、３０〜４０
℃で反応液を減圧濃縮し、濃縮液にジエチルエーテルを
撹拌しながら加え、（２Ｓｆｌ、３Ｓ１１，４ＲＳ、５
Ｒ９）−テトラヒドロ−２゜５−ジメチル−６−オキソ
−４−ペンノルアミノ−２ｌ（−ピラン−３−カルボン
酸メチル塩酸塩を結晶として得た。

ｍ、ｐ、　　１５９．５〜１６１０Ｃ（ｄｅｃ、）。

参考例１７ （２Ｒ３，３Ｒ３，４ＳＲ，５ＳＲ） 実施例１４て得た２−［＋−ヒドロキシエチル］−５−
ｌ＼ンノルアミノー４−メチルペンタンニ酸ジエチルエ
ステルＩ　＝１０ｉ９（Ｉ　Ｏａ：　ｌ　Ｏｂ　＝　　
５　：２）をテトラヒドロフラン４ｍＱにとかし、水酸
化バリウム２５０Ｉ１９を加えた後、水２ｍＱを加え、
室温で４５分間はげしく撹拌した。不溶物をろ去し、エ
タノールで洗浄した後、ろ洗液を減圧濃縮した。

残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィーでチェックし
た。新しいスポットが見出だされると共に、原料部分お
よび原点部分にもスポットが認められた。

残渣のシリカゲル薄層クロマトグラフィー処理を行い、
新しく生成したスポットの部分を分取精製すると（２ｆ
ｌＳ、３Ｒ９，４５Ｒ１５Ｓ　Ｒ）−２−メチル−３−
ベンジルアミノ−４−エトキシカルホニル−５−ヒドロ
キン−ヘキサン酸７０ｍｇが得られた。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：１７３０，１６００，１４５５，１
３８０゜１１８０、＋１０５．１０２０．７４５（ｃｍ
−リ。

ＮＭＲδ（ＣＤＣｆ２３）： １．２３Ｊｄ（Ｊ＝６．６Ｈｚ）、３Ｈコ、１．２７［
ｄ（Ｊ＝６．９Ｈｚ）、３１４］、１．２　９［ｔ（Ｊ
＝７．３Ｈｚ）、　３　Ｈコ、２　、６１　［ｄｄ（Ｊ
　＝２．６と２．９Ｈｚ）、ｌ　Ｈ］、２．８２（ｍ、
　Ｉ　Ｈ）、 ３　　、　　＋　　７　　［ｄｄ（Ｊ　　＝　３．０と
　５．６ｌ−（ｚ）、　　ＩＨＩ、３．７４［ｄ（Ｊ＝
Ｉ３．２Ｈｚ）、ＩＨ］、３　．８　３　　［ｄｑ（Ｊ
　　＝３．０と６．６Ｈｚ）、　　ｌＩ■］。

参考例１８ （２ＳＲ，３ＳＲ，４Ｒ９，５Ｒ８）−テトラヒドロ−
２，５−ジメチル−６−オキソ−４−ペンノルアミノ−
２ｔｌ−ピラン−３−カルボン酸エチル３Ｍｇと水酸化
バリウム７ｒｔｒｇをテトラヒドロフラン−水（２：Ｉ
）の混合液中、室温で１時間激しく撹拌した。反応液は
参考例１７と同様の方法にて処理し、（２ｆｌＳ、３１
１Ｓ、４ＳＲ，５ＳＲ）−２−メチル−３−ベンジルア
ミノ−４−エトキシカルボニル−５−ヒドロキシ−ヘキ
サン酸を得た。氷晶は、参考例１７で得たものとＩＲ，
ＮＭＲの各スペクトルが一致した。

参考例１９ （２ＳＲ，３ＳＲ，４Ｒ３，５Ｒ３） （２Ｓｒｔ、３ＳＩｔ、４Ｒ９，５ＲＳ）−テトラヒド
ロ−２，５−ツメチル−６−オキソ−４−ペンノルアミ
ノ−２Ｈ−ピラン−３−カルボン酸メチル塩酸塩６２ｍ
ｇをテトラヒドロフラン４ｖ、Ｑにとかし、水酸化バリ
ウム１６６１１１９、水２ｍ（ｌを加え、室温で１時間
激しく撹拌した。反応液を参考例１７と同様の方法にて
処理し、（２Ｒ５，３Ｒ９，４ＳＲ，５Ｓ　１１）−２
−メチル−３−ペンノルアミノ−４−メトキシカルボニ
ル−５−ヒドロキシ−ヘキサン酸を得た。

ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３３００．＋７１５．１４５０゜
１４００、＋３７０（Ｃｍ−’）。

参考例２０ （２ＳＲ，３ＳＲ，４Ｒ９，５ＲＳ）−テトラヒドロ−
２，５−ジメチル−６−オキソ−４−ベンジルアミノ−
２１１−ピラン−３−カルボン酸メチル塩酸塩１１０Ｉ
Ｉ！９を濃塩酸０．９尻Ｑにとかし、２時間還流した。

冷却後、反応液をエタノールで希釈し、減圧留去した。

残渣を薄層クロマトグラフィーにて精製し、（２Ｓ１１
．３ＳＲ，４Ｒ９，５Ｒ９）−テトラヒドロ−２，５−
ジメチル−６−オキソ−４−ベンジルアミノ−２Ｈ−ピ
ラン−３−カルボン酸を得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：１７２２，１４５０，１３８５，１
２０５゜１０５０　（ｃｍつ。

斐Δ鯉λ上 （２ＳＲ，３ＳＲ，４Ｒ３，５Ｒ３） （２ＳＲ，３ＳＲ，４Ｒ９，５ＲＳ）−テトラヒドロ−
２，５−ジメチル−６−オキソ−４−ベンジルアミノ−
２Ｈ−ピラン−３−カルボ゛ン′酸１ＯＯ１１０、を酢
酸２０ｍＱにとかし、水酸化パラジウム−炭素末［Ｊ、
Ａｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、、８３．４７９ｇ（１９６１
）に記載の方法により調製した。］２０巧を加え３〜４
に９／Ｃがの水素雰囲気下、室温で攪拌した。原料の消
失後触媒をろ別して、触媒を水洗し、ろ液、洗液を合わ
せ、４０℃で減圧濃縮して（２Ｓｒｔ、３ＳＲ。

４ＲＳ、５Ｒ９）−テトラヒドロ−２，５−ジメチル−
６−オキソ−４−アミノ−２Ｈ−ピラン−３−カルボン
酸を得た。

Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）：３４００　（ｂｒｏａｄ）、　１
７２０　、１３８５　。

１２１５．１１０７（ｃ肩′）。

ＮＭＲδ（ＣＤ３０　Ｄ）：１．４１［ｄ（Ｊ　＝５．
９Ｈｚ）、３Ｈ］、１．４９　［ｄ（Ｊ　＝　６．３　
Ｈｚ）、３　Ｈ］、２．９５（ｍ、ＩＨ）、 ３．６９［ｄｄ（Ｊ＝３．０と９．４Ｈ２）、ＩＨ］、
５．００（ｍ、ＩＨ）。

参考例２２ （２Ｒ３，３ＲＳ、４ＳＲ，５ＳＲ）　　　　　　　”
ＯＯＭｅ （２Ｒ８，３ＳＲ，４Ｒ３，５ＲＳ） ＋ 巨 ＯＯＭｅ （２ＳＲ，３ＳＲ，４Ｒ３，５Ｒ３） （２Ｒ９，３Ｒ９，４ＳＲ，５ＳＲ）−２−メチル−３
−ベンジルアミノ−４−メトキシカルボニル−５−ヒド
ロキンヘキサン酸３４０ｍ９（１、１ｚｍｏｌｅ）とト
リフェニルホスフィン３９３所（１，５ＩＩＩｍｏｌｅ
）を乾燥トルエン６ｍ（ｉにとかし、トリエチルアミン
１５１．５１１ｇ（１，５ｍｍｏｌｅ）を加え、−１５
℃まで冷却しジエチルアゾジカルボキシレート２６１　
ｍ９ｃ　１　、５５ｎｏｔｅ）を加え、−１０〜−５°
で１時間攪拌した。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィーにより精製して（２ＲＳ。

３ＳＲ，４ＲＳ、５ｒｔＳ）−テトラヒドロ−２，５−
ジメチル−６−オキソ−４−ベンジルアミノ−２ｌ−Ｉ
−ビラン−３−カルボン酸メチル１９０所及び（２ＳＲ
，３Ｓｒ（，４ＲＳ、５ＲＳ）−テトラヒドロ−２，５
−ジメチル−６−オキソ−４−ベンジルアミノ−２Ｈ−
ピラン−３−カルボン酸メチル５５１ｇを得た。

（２ＲＳ、３ＳＲ，４ＲＳ、５ＲＳ）体のスペクトルデ
ータ ＩＲ（ｎｅａｔ）：３３００，１７１５，１２２０．１
０５８（ｃｘ　’）。

ＮＭＲδ（ＣＤＣ１２３）：ｌ、３７　［ｄ（Ｊ＝６Ｊ
Ｈｚ）、３Ｈ］、１．４　２［ｄ（Ｊ＝、７．３Ｈｚ、
３Ｈコ、２．５５（ｍ、ＩＨ）、 ２．６７　［ｔ（Ｊ＝１０．６Ｉ（ｚ）、ＩＨコ、３．
１５［ｄｄ（Ｊ＝９．６とｉｏ、６ｔ（ｚ］、ｉｌｌ］
、３．７８［ｓ、３Ｈ］、 ４．５１　［ｄｑ（Ｊ　＝１０．６と７．３Ｈｚ）、Ｉ
ＩＩ］。

（２ＳＲ，３Ｓ１１，４ＲＳ、５ｒ（Ｓ）体のスペクト
ルデータ ＩＲ（ｎｅａｔ）：Ｉ　７４０，１４５０，１３９０，
１２８０゜１２００．１１７２，１１０５．７４０（ｃ
＋ｚ　’）。

ＮＭｒｔδ（ＣＤ　Ｃ１２３）＋１．３４　［ｄ（Ｊ　
＝６．６Ｈｚ）、３Ｉ−１］、１．４３［ｄ（Ｊ＝６．
６Ｈｚ、３Ｈコ、２．３　８Ｃｄｑ（Ｊ＝８．２５　　
と６．６Ｈｚ）コ、１１１コ、２．８０［ｄｄ（Ｊ＝２
．０と２．６Ｈｚ）、ｉｌｌ］、３　．０　２　　［ｄ
ｄ（Ｊ　　＝　　２．０　　と８．２５１−１　ｚ］　
、ｉｌｌコ、３．７１［ｄ（Ｊ＝１２．９Ｈｚ）、ＩＨ
］、３．７１［ｓ、３Ｈ］、 ３　。８Ｂ［ｄ（Ｊ＝１　２．９Ｈｚ）、ＩＨコ、４．
７４［ｄＱ（Ｊ＝２．６　　と６．６Ｈ２）、ｌＨ］。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒは低級アルキル基を示し、Ｒ＿１は水素原子
   またはカルボキシル基の保護基を示し、Ｒ＿２は水素原
   子、アミノ基の保護基、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿３およびＲ＿４は同一または互いに異って
   いてもよく、水素原子、低級アルキル基あるいはアリー
   ル基を示す。） で表わされる置換もしくは無置換のアリル基、水酸基が
   保護もしくは無保護であるβ−ヒドロキシエチル基、ホ
   ルミル基が保護もしくは無保護であるホルミルメチル基
   、カルボキシル基が保護されたカルボキシルメチル基ま
   たは２−フリルメチル基を示し、Ｘは保護もしくは無保
   護であるカルボキシル基、水酸基が保護もしくは無保護
   であるヒドロキシルメチル基または式： −ＣＨ＿２ＳＲ＿５ （式中、Ｒ＿５はアリール基またはアラ（低級）アルキ
   ル基を示す。） で表わされる置換基を示す。］ で表わされるアミノ酸誘導体。 ２、Ｒがメチル基を示す特許請求の範囲第１項記載のア
   ミノ酸誘導体。 ３、Ｘが保護もしくは無保護であるカルボキシル基を示
   す特許請求の範囲第１項または第２項記載のアミノ酸誘
   導体。 ４、Ｘが水酸基が保護もしくは無保護であるヒドロキシ
   メチル基を示す特許請求の範囲第１項または第２項記載
   のアミノ酸誘導体。 ５、Ｘが式：−ＣＨ＿２ＳＲ＿５で表される置換基を示
   す特許請求の範囲第１項または第２項記載のアミノ酸誘
   導体。 ６、Ｒ＿２がベンジル基、２−プロペニル基、２，２−
   ジメトキシエチル基または２−フリルメチル基を示す特
   許請求の範囲第１項〜第５項のいずれかに記載のアミノ
   酸誘導体。 ７、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒは低級アルキル基を示し、Ｒ＿１は水素原子
   またはカルボキシル基の保護基を示し、Ｒ＿２は水素原
   子、アミノ基の保護基、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿３およびＲ＿４は同一または互いに異って
   いてもよく、水素原子、低級アルキル基あるいはアリー
   ル基を示す。） で表わされる置換らしくは無置換のアリル基、水酸基が
   保護もしくは無保護であるβ−ヒドロキシエチル基、ホ
   ルミル基が保護もしくは無保護であるホルミルメチル基
   、カルボキシル基が保護されたカルボキシルメチル基ま
   たは２−フリルメチル基を示す。）］ で表わされる化合物。 ８、Ｒがメチル基を示す特許請求の範囲第７項記載の化
   合物。 ９、式； ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒは低級アルキル基を示し、Ｒ＿２は水素原子
   、アミノ基の保護基、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿３およびＲ＿４は同一または互いに異って
   いてもよく、水素原子、低級アルキル基あるいはアリー
   ル基を示す。） で表わされる置換もしくは無置換のアリル基、水酸基が
   保護もしくは無保護であるβ−ヒドロキシエチル基、ホ
   ルミル基が保護もしくは無保護であるホルミルメチル基
   、カルボキシル基が保護されたカルボキシルメチル基ま
   たは２−フリルメチル基を示し、Ｘは保護もしくは無保
   護であるカルボキシル基、水酸基が保護もしくは無保護
   であるヒドロキシルメチル基または式： −ＣＨ＿２ＳＲ＿５ （式中、Ｒ＿５はアリール基またはアラ（低級）アルキ
   ル基を示す。） で表わされる置換基を示す。］ で表わされる化合物。 １０、Ｒがメチル基である特許請求の範囲９項記載の化
   合物。 １１、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒは低級アルキル基を示し、Ｒ＿１は水素原子
   またはカルボキシル基の保護基を示し、Ｒ＿２は水素原
   子、アミノ基の保護基、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿３およびＲ＿４は同一または互いに異って
   いてもよく、水素原子、低級アルキル基あるいはアリー
   ル基を示す。） で表わされる置換もしくは無置換のアリル基、水酸基が
   保護らしくは無保護であるβ−ヒドロキシエチル基、ホ
   ルミル基が保護もしくは無保護であるホルミルメチル基
   、カルボキシル基が保護されたカルボキシルメチル基ま
   たは２−フリルメチル基を示し、Ｘは保護もしくは無保
   護であるカルボキシル基、水酸基が保護もしくは無保護
   であるヒドロキシルメチル基または式： −ＣＨ＿２ＳＲ＿５ （式中、Ｒ＿５はアリール基またはアラ（低級）アルキ
   ル基を示す。） で表わされる置換基を示す。］ で表わされる化合物。 １２、Ｒがメチル基である特許請求の範囲１１項記載の
   化合物。 １３、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒは低級アルキル基を示し、Ｒ＿１は水素原子
   またはカルボキシル基の保護基を示し、Ｒ＿２は水素原
   子、アミノ基の保護基、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿３およびＲ＿４は同一または互いに異って
   いてもよく、水素原子、低級アルキル基あるいはアリー
   ル基を示す。） で表わされる置換もしくは無置換のアリル基、水酸基が
   保護もしくは無保護であるβ−ヒドロキシエチル基、ホ
   ルミル基が保護もしくは無保護であるホルミルメチル基
   、カルボキシル基が保護されたカルボキシルメチル基ま
   たは２−フリルメチル基を示し、Ｘは保護もしくは無保
   護であるカルボキシル基、水酸基が保護もしくは無保護
   であるヒドロキシルメチル基または式： −ＣＨ＿２ＳＲ＿５ （式中、Ｒ＿５はアリール基またはアラ（低級）アルキ
   ル基を示す。） で表わされる置換基を示す。］ で表わされる化合物を還元することを特徴とする式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ、Ｒ＿１、Ｒ＿２およびＸは前記と同じ意味
   を有する。］ で表されるアミノ酸誘導体の製法。