JPH02178262A - 1―(2′―ハロプロピオニル)ピロリジン―2―オン誘導体 - Google Patents
1―(2′―ハロプロピオニル)ピロリジン―2―オン誘導体Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、新規なピロリジン−2−オン誘導体、特に抗
菌剤として有用な1−アルキルカルバペネム化合物の合
成中間体として使用される新規なピロリジン−2−オン
誘導体に関する。
菌剤として有用な1−アルキルカルバペネム化合物の合
成中間体として使用される新規なピロリジン−2−オン
誘導体に関する。
(従来の技術)
抗菌剤として有用な活性を有するチェナマイシン〔米国
特許第8.950.857号明細書; J、 Am。
特許第8.950.857号明細書; J、 Am。
Chem、 Soc、、 100.818(1978)
)が天然から発見され、それが報告されて以来、種々
のカルバペネム化合物を純合成的に得る方法が報告され
ている。
)が天然から発見され、それが報告されて以来、種々
のカルバペネム化合物を純合成的に得る方法が報告され
ている。
最近に至り、カルバペネム骨格の1位メチレン基がアル
キル基で置換された化合物が合成され、特に1−メチル
カルバペネム化合物(Hetorocycles、 2
1.29(1984) )は従来の1位無置換カルバペ
ネム化合物に比べて生体内安定性等において優れており
、抗菌剤として極めて有用であることが報告されている
。それに伴い1−アルキルカルバペネム化合物の有効す
製造法の開発にも多くの興味がもたれるようになった。
キル基で置換された化合物が合成され、特に1−メチル
カルバペネム化合物(Hetorocycles、 2
1.29(1984) )は従来の1位無置換カルバペ
ネム化合物に比べて生体内安定性等において優れており
、抗菌剤として極めて有用であることが報告されている
。それに伴い1−アルキルカルバペネム化合物の有効す
製造法の開発にも多くの興味がもたれるようになった。
その中で、特に、次に一般式
〔式中、R2は水素原子又は、水酸基の保護基を表わす
。〕 で表わされるβ−ラクタム化合物が、1−カルバペネム
化合物の重要な中間体として、興味を集め、その有効な
製造法について多くの研究がなされている。
。〕 で表わされるβ−ラクタム化合物が、1−カルバペネム
化合物の重要な中間体として、興味を集め、その有効な
製造法について多くの研究がなされている。
例えば、細巾等の方法(Tetrahedron Le
tt、。
tt、。
28、88(1987) )に示されるように、ある種
のβ−アミノ酸誘導体に誘導した後に、β−ラクタム環
を合成すること番こより、〔■〕を合成する方法あるい
はβ−ラクタム骨格を有する化合物に化学修飾を行なっ
てCI)に誘導する方法(Heterocycles、
21.29(1984) 、J、Am、Chem。
のβ−アミノ酸誘導体に誘導した後に、β−ラクタム環
を合成すること番こより、〔■〕を合成する方法あるい
はβ−ラクタム骨格を有する化合物に化学修飾を行なっ
てCI)に誘導する方法(Heterocycles、
21.29(1984) 、J、Am、Chem。
Soc、、 108 4678.4675(1986)
)等が知られており、その他の合成方法についても色々
な試みがなされて来た。
)等が知られており、その他の合成方法についても色々
な試みがなされて来た。
(発明が解決しようとする問題点)
従来技術では、化合物CI)の立体異性体の中で、特に
有用と考えられる1つの立体異性体、例えば次の一般式 の結果本願発明化合物であるピロリジン−2−オン誘導
体が化合物CI)を、高立体選択的かつ工業的に製造す
る上で、重要な中間体であることを見出し、本発明を完
成した。
有用と考えられる1つの立体異性体、例えば次の一般式 の結果本願発明化合物であるピロリジン−2−オン誘導
体が化合物CI)を、高立体選択的かつ工業的に製造す
る上で、重要な中間体であることを見出し、本発明を完
成した。
(問題点を解決するための手段)
1)目的物質
本発明は、一般式
〔式中、RIlは前述と同じ意味を表わす。〕で表わさ
れる立体異性体を、高立体選択的に得ることが困難であ
るか、又は工業的製法としては、原料、試薬等の入手、
反応操作の困難さから、実際的な工業的製造法としては
多くの問題を有している。
れる立体異性体を、高立体選択的に得ることが困難であ
るか、又は工業的製法としては、原料、試薬等の入手、
反応操作の困難さから、実際的な工業的製造法としては
多くの問題を有している。
そこで、本発明者らは、化合物CI)の高立体選択的か
つ工業的製法として、より優れた有効な製造法を見出す
べく、涌々検討を加えた。そ〔式中、R1は水酸基の保
護基又はアリール基を表わし、Xはハロゲン原子を表わ
す。〕で表わされる新規なピロリジン−2−オン誘導体
を提供するものである。
つ工業的製法として、より優れた有効な製造法を見出す
べく、涌々検討を加えた。そ〔式中、R1は水酸基の保
護基又はアリール基を表わし、Xはハロゲン原子を表わ
す。〕で表わされる新規なピロリジン−2−オン誘導体
を提供するものである。
本明細書中、特に上記一般式(II)に関連して使用さ
れる「アリール」なる用語は通常炭素数20を超えない
芳香族炭化水素基を意味し、フェニル、ナフチル、アン
スラニル等力包含される。なお、アリール基が置換され
ている場合、その置換基としては低級アルキル、低級ア
ルコキシ、アミン、ハロゲン等が例示される。
れる「アリール」なる用語は通常炭素数20を超えない
芳香族炭化水素基を意味し、フェニル、ナフチル、アン
スラニル等力包含される。なお、アリール基が置換され
ている場合、その置換基としては低級アルキル、低級ア
ルコキシ、アミン、ハロゲン等が例示される。
水酸基の保護基としては、例えばC1−Caアルキル(
メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブ
チル、5ec−ブチル、t−ブチル等)のような低級ア
ルキル基、置換メチルまたはエチル(メトキシメチル、
ベンジルオキシメチル、2−メトキシエトキシメチル、
1−ブトキシメチル、メチルチオメチル、2.2゜2−
トリクロロエトキシメチル、1−メチル−1−メトキシ
エチル、トリクロロエチル等)のような置換低級アルキ
ル基、テトラヒドロピラニル基、置換または無置換モノ
フェニルメチル、ジフェニルメチルまたはトリフェニル
メチル(ベンジル、p−メトキシベンジル、p−クロロ
ベンジル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル等)
のような置換または無置換モノアリール(低級)アルキ
ル、ジアリール(低級)アルキルまたはトリアリール(
低級)アルキル基、置換シリル基(トリメチルシリル、
トリエチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、t−ブ
チ)F;”’; z ニールシリル等)、を好適なもの
として挙げることができるが、C2〜C6アルカノイル
(アセチル、イソブチリル、ピパロイル等)のような低
級アルカノイル基、1〜8のハロゲンで置換された02
〜C11アルカノイル(ジクロロアセチル、トリクロロ
アセチル、トリフロロアセチル等)のようなハロ(低級
)アルカノイル基、アリールカルボニル基(ベンゾイル
、トルイル、ナフトイル等)、01〜C6アルコキシカ
ルボニル(メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
イソブトキシカルボニル等)のような低級アルコキシカ
ルボニル基、1〜Bのハロゲンで置換された01〜Cδ
アルコキシカルボニル(2−ヨウ化エトキシカルボニル
、2.2.2−トリクロロエトキシカルボニル等)のよ
うなハロ(低級)アルコキシカルボニル基、02〜C6
アルケニルオキシカルボニル(ビニルオキシカルボニル
、アリルオキシカルボニル等)のようft低級アルケニ
ルオキシカルボニル基、置換t;/:ハ無置換フェニル
メチルオキシカルボニル(ベンジルオキシカルボニル、
p−メトキシベンジルオキシカルボニル、2.4−ジメ
トキシベンジルオキシカルボニル等)のような置換また
は無置換アリールメチルオキシカルボニル基等をも、用
いることができる。
メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブ
チル、5ec−ブチル、t−ブチル等)のような低級ア
ルキル基、置換メチルまたはエチル(メトキシメチル、
ベンジルオキシメチル、2−メトキシエトキシメチル、
1−ブトキシメチル、メチルチオメチル、2.2゜2−
トリクロロエトキシメチル、1−メチル−1−メトキシ
エチル、トリクロロエチル等)のような置換低級アルキ
ル基、テトラヒドロピラニル基、置換または無置換モノ
フェニルメチル、ジフェニルメチルまたはトリフェニル
メチル(ベンジル、p−メトキシベンジル、p−クロロ
ベンジル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル等)
のような置換または無置換モノアリール(低級)アルキ
ル、ジアリール(低級)アルキルまたはトリアリール(
低級)アルキル基、置換シリル基(トリメチルシリル、
トリエチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、t−ブ
チ)F;”’; z ニールシリル等)、を好適なもの
として挙げることができるが、C2〜C6アルカノイル
(アセチル、イソブチリル、ピパロイル等)のような低
級アルカノイル基、1〜8のハロゲンで置換された02
〜C11アルカノイル(ジクロロアセチル、トリクロロ
アセチル、トリフロロアセチル等)のようなハロ(低級
)アルカノイル基、アリールカルボニル基(ベンゾイル
、トルイル、ナフトイル等)、01〜C6アルコキシカ
ルボニル(メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
イソブトキシカルボニル等)のような低級アルコキシカ
ルボニル基、1〜Bのハロゲンで置換された01〜Cδ
アルコキシカルボニル(2−ヨウ化エトキシカルボニル
、2.2.2−トリクロロエトキシカルボニル等)のよ
うなハロ(低級)アルコキシカルボニル基、02〜C6
アルケニルオキシカルボニル(ビニルオキシカルボニル
、アリルオキシカルボニル等)のようft低級アルケニ
ルオキシカルボニル基、置換t;/:ハ無置換フェニル
メチルオキシカルボニル(ベンジルオキシカルボニル、
p−メトキシベンジルオキシカルボニル、2.4−ジメ
トキシベンジルオキシカルボニル等)のような置換また
は無置換アリールメチルオキシカルボニル基等をも、用
いることができる。
なおピロリジン−2−オン誘導体(IDは2個の不整炭
素を有しており、これらに基づいて各種の光学異性体や
立体異性体が存在する。本明細書では、これらの異性体
は便宜辷単一の式で示されCいるが、それらが単離の状
態であると混合物の状態であるとを問わず、総て本発明
の技術的範囲に包含されるものと理解されなければなら
ない。
素を有しており、これらに基づいて各種の光学異性体や
立体異性体が存在する。本明細書では、これらの異性体
は便宜辷単一の式で示されCいるが、それらが単離の状
態であると混合物の状態であるとを問わず、総て本発明
の技術的範囲に包含されるものと理解されなければなら
ない。
水酸基の保護方法については、[プロテクティブ・グル
ープ・イン・オルガニック・シンセシス(Protec
tive Group in Organic 5yn
thesis)J1981年ジテン・ウィリー・アンド
・サンプ(John Wiley & 5ons)
発行ニュ E−り、新実験化学講座14巻「有機化合物
の合成と反応(DJ2495頁以下(昭和53年)等を
含む種々の総説や論文に記載があり、それらに記載され
た常套の方法が本発明においても採用されてよい。
ープ・イン・オルガニック・シンセシス(Protec
tive Group in Organic 5yn
thesis)J1981年ジテン・ウィリー・アンド
・サンプ(John Wiley & 5ons)
発行ニュ E−り、新実験化学講座14巻「有機化合物
の合成と反応(DJ2495頁以下(昭和53年)等を
含む種々の総説や論文に記載があり、それらに記載され
た常套の方法が本発明においても採用されてよい。
2)目的物質の製造
本発明の目的物質であるピロリジン−2−オン誘導体(
II)は、例えば次の方法によって製造することができ
る。
II)は、例えば次の方法によって製造することができ
る。
(Ill) (IV)
”〕〔式中、R1およびXは前述と同じ意味を表わし
、LおよびZはハロゲン原子又は活性エステル等の脱離
基を表わす。〕 なお、原料化合物〔■I〕は、文献公知の方法、例えば
J、 Org、 Chem、、 45.815(198
0)に記載の方法でグルタミン酸又はピログルタミン酸
より合成することができる。
”〕〔式中、R1およびXは前述と同じ意味を表わし
、LおよびZはハロゲン原子又は活性エステル等の脱離
基を表わす。〕 なお、原料化合物〔■I〕は、文献公知の方法、例えば
J、 Org、 Chem、、 45.815(198
0)に記載の方法でグルタミン酸又はピログルタミン酸
より合成することができる。
(第1工程)
化合物(III)の水酸基を変換して、化合物(IV)
に誘導する工程であり、その方法としては例えば、通常
の水酸基の保護基導入反応等を用いることができる。
に誘導する工程であり、その方法としては例えば、通常
の水酸基の保護基導入反応等を用いることができる。
反応は、例えば保護化試剤、RlLと化合物(9)を不
活性溶媒中、脱酸剤存在下、反応させることにより化合
物(IV)に誘導することができる。
活性溶媒中、脱酸剤存在下、反応させることにより化合
物(IV)に誘導することができる。
保護化試剤R+Lとしては、通常の保護基導入試剤を使
用することができ、好適なものとしては、トリフェニル
メチルクロライド、トリフェニルメチルブロマイド等の
トリアリールメチルハライドを挙げることができる。
用することができ、好適なものとしては、トリフェニル
メチルクロライド、トリフェニルメチルブロマイド等の
トリアリールメチルハライドを挙げることができる。
不活性溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム等
のハロゲン化炭化水素系溶媒、THF。
のハロゲン化炭化水素系溶媒、THF。
ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、トルエン等の芳
香族系溶媒及びそれらの混合溶媒等を用いることができ
る。
香族系溶媒及びそれらの混合溶媒等を用いることができ
る。
脱酸剤としては、トリエチルアミン、ピリジン、ジメチ
ルアミノピリジン等の有機塩基又は炭酸ナトリウム、炭
酸リチウム、炭酸カリウム等の無機塩基を挙げることが
できる。
ルアミノピリジン等の有機塩基又は炭酸ナトリウム、炭
酸リチウム、炭酸カリウム等の無機塩基を挙げることが
できる。
(第2工程)
本工程は、化合物(ff)を塩基存在下、化合物(Y)
で処理し、化合物(II)を製造するものである。用い
られる化合物CDとしては、塩化α−クロロプロピオニ
ル、臭化α−クロロプロピオニル、ヨウ化a−クロロプ
ロピオニル、塩化α−プロモプロビオニル、臭化α−ブ
ロモプロピオニル、ヨウ化α−ブロモプロピオニル、塩
化a−ヨードプロピオニル、臭化α−ヨードプロピオニ
ル、ヨウ化α−ヨードプロピオニルなどが例示できるが
、好適には臭化α−ブロモプロピオニルが用いられる。
で処理し、化合物(II)を製造するものである。用い
られる化合物CDとしては、塩化α−クロロプロピオニ
ル、臭化α−クロロプロピオニル、ヨウ化a−クロロプ
ロピオニル、塩化α−プロモプロビオニル、臭化α−ブ
ロモプロピオニル、ヨウ化α−ブロモプロピオニル、塩
化a−ヨードプロピオニル、臭化α−ヨードプロピオニ
ル、ヨウ化α−ヨードプロピオニルなどが例示できるが
、好適には臭化α−ブロモプロピオニルが用いられる。
塩基としては、リチウムヒドリド、ナトリウムヒドリド
、カリウムヒドリドなどのアルカリ金属水素化物、メチ
ルリチウム、n−ブチルリチウム、5ec−ブチルリチ
ウム、t−ブチルリチウム、フェニルリチウムなどのア
ルキルおよびアリールリチウム化合物、ナトリウム、リ
チウム、カリウムなどのアルカリ金属が用いられる。
、カリウムヒドリドなどのアルカリ金属水素化物、メチ
ルリチウム、n−ブチルリチウム、5ec−ブチルリチ
ウム、t−ブチルリチウム、フェニルリチウムなどのア
ルキルおよびアリールリチウム化合物、ナトリウム、リ
チウム、カリウムなどのアルカリ金属が用いられる。
また、脱酸剤の存在下に、化合物(IV)と、三置換シ
リルハライドとを反応させて得られる活性中間体と化合
物〔Y〕を反応させることによっても(II)を製造す
ることができる。脱酸剤としては、第1工程で用いたも
のを用いることができ、置換シリルハライドとして、ト
リメチルシリル、トリエチルシリル、t−ブチルジメチ
ルシリル、t−ブチルジフェニルシリルクロライド又は
ブロマイドを用いることができる。
リルハライドとを反応させて得られる活性中間体と化合
物〔Y〕を反応させることによっても(II)を製造す
ることができる。脱酸剤としては、第1工程で用いたも
のを用いることができ、置換シリルハライドとして、ト
リメチルシリル、トリエチルシリル、t−ブチルジメチ
ルシリル、t−ブチルジフェニルシリルクロライド又は
ブロマイドを用いることができる。
いずれの場合も、反応は溶媒中で行なわれるが、溶媒と
してはジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、1.2−ジメトキシエタンなどのエーテル系gg
、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサンなど
の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタンな
どのハロゲン系溶媒、N、N−ジメチルホルムアミド、
N、N−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホリ
ックトリアミドなどの極性非プロトン性溶媒あるいはこ
れらの溶媒の混合物が例示できる。反応は一80°Cか
ら50’Cの間で円滑に進行する。
してはジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、1.2−ジメトキシエタンなどのエーテル系gg
、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサンなど
の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタンな
どのハロゲン系溶媒、N、N−ジメチルホルムアミド、
N、N−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホリ
ックトリアミドなどの極性非プロトン性溶媒あるいはこ
れらの溶媒の混合物が例示できる。反応は一80°Cか
ら50’Cの間で円滑に進行する。
8)目的物質の利用
本発明のピロリジン−2−オン誘導体f(II)は、l
−アルキルカルバペネム化合物の重要中間体である化合
物(I)の製造に有用であり、例えば下記経路によって
化合物(I)へ、高立体選択的1こ誘導することができ
る。
−アルキルカルバペネム化合物の重要中間体である化合
物(I)の製造に有用であり、例えば下記経路によって
化合物(I)へ、高立体選択的1こ誘導することができ
る。
CI)
〔式中、Rr 、 RgおよびXは前述と同じ意味を表
わし、Yは脱離基を表わす。〕 Yにおける脱離基としては例えば、塩素原子又は臭素原
子等のハロゲン原子、アセトキシ、プロパノイルオキシ
等の低級アルカノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ、p
−クロロベンゾイルオキシ等の無置換又は置換芳香族ア
シルオキシ基、メチルスルホニル、エチルスルホニル等
の低級アルキルスルホニル基、フェニルスルホニル、p
−クロロフェニルスルホニル、p−メチルスルホニル等
の無置換又は置換フェニルスルホニル基を挙げることが
できる。
わし、Yは脱離基を表わす。〕 Yにおける脱離基としては例えば、塩素原子又は臭素原
子等のハロゲン原子、アセトキシ、プロパノイルオキシ
等の低級アルカノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ、p
−クロロベンゾイルオキシ等の無置換又は置換芳香族ア
シルオキシ基、メチルスルホニル、エチルスルホニル等
の低級アルキルスルホニル基、フェニルスルホニル、p
−クロロフェニルスルホニル、p−メチルスルホニル等
の無置換又は置換フェニルスルホニル基を挙げることが
できる。
(第1工程)
本工程は、β−ラクタム化合物(W)と、化合物(II
)を、金属來の存在下化合物(Vl)を得るものである
。化合物〔■〕の製造において化合物印〕として、光学
活性体を用いた場合には得られる化合物(II)は、2
種のジアステレオマー混合物である。しかし、本工程に
おいては、これらのジアステレオマーをそれぞれ高極性
成分と低極性成分とに分離したものを使用しても、また
ジアステレオマー混合物のまま使用してもその反応性お
よび立体選択性に関して全く差異はない。
)を、金属來の存在下化合物(Vl)を得るものである
。化合物〔■〕の製造において化合物印〕として、光学
活性体を用いた場合には得られる化合物(II)は、2
種のジアステレオマー混合物である。しかし、本工程に
おいては、これらのジアステレオマーをそれぞれ高極性
成分と低極性成分とに分離したものを使用しても、また
ジアステレオマー混合物のまま使用してもその反応性お
よび立体選択性に関して全く差異はない。
本反応は溶媒中で行なわれ、溶媒としてはジエチルエー
テル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、1.2−ジメトキシエタンなどのエーテル系溶媒
、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサンなど
の炭化水素系溶媒、N、N−ジメチルホルムアミド、N
+N−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホリ
ックトリアミドなどの極性非プロトン性溶媒などが例示
できる。反応は一50°Cから100°Cの間で円滑に
進行する金属とし°Cは、マグネシウム、亜鉛、スズ等
のグリニヤタイプ反応に用いられる金属が一般的に用い
られるが、特に亜鉛を好適なものとして挙げることがで
きる。
テル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、1.2−ジメトキシエタンなどのエーテル系溶媒
、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサンなど
の炭化水素系溶媒、N、N−ジメチルホルムアミド、N
+N−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホリ
ックトリアミドなどの極性非プロトン性溶媒などが例示
できる。反応は一50°Cから100°Cの間で円滑に
進行する金属とし°Cは、マグネシウム、亜鉛、スズ等
のグリニヤタイプ反応に用いられる金属が一般的に用い
られるが、特に亜鉛を好適なものとして挙げることがで
きる。
特に下記反応においては、β−メチルカルバペネムの原
料である〔■a〕を単一化合物として高収率に得ること
ができる。
料である〔■a〕を単一化合物として高収率に得ること
ができる。
CIIa)
〔■a〕
(第2工程)
本工程は、化合物〔■〕を加水分解反応に付すことによ
り、化合物CI)を得る工程である。
り、化合物CI)を得る工程である。
この加水分解反応は、各種の公知加水分解態様が可能で
あるが、通常のアルカリ加水分解反応が適用できる。例
えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属
塩の存在下、−50°C〜+80″Cの温度で反応させ
ることによるアルカリ加水分解反応が好ましいものとし
てあげることができる。
あるが、通常のアルカリ加水分解反応が適用できる。例
えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属
塩の存在下、−50°C〜+80″Cの温度で反応させ
ることによるアルカリ加水分解反応が好ましいものとし
てあげることができる。
反応溶媒としてtジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、メタノール、エ
タノール、プロパツール等のアルコール系溶媒、N、N
−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの極性非
プロトン性溶媒あるいはその混合溶媒酸体が用いられる
。
ン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、メタノール、エ
タノール、プロパツール等のアルコール系溶媒、N、N
−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの極性非
プロトン性溶媒あるいはその混合溶媒酸体が用いられる
。
本工程の実施時に、化合物(IV)が副生成するが、こ
のものは中性化合物であり酸性化合物CI)とは容易に
分離可能で、好収率で回収することができる。なお化合
物〔口〕として光学活性体を用いた場合には、化合物(
[V)を、光学純度を低下させることなく回収すること
ができ、同様に反復使用が可能である。
のものは中性化合物であり酸性化合物CI)とは容易に
分離可能で、好収率で回収することができる。なお化合
物〔口〕として光学活性体を用いた場合には、化合物(
[V)を、光学純度を低下させることなく回収すること
ができ、同様に反復使用が可能である。
なお、化合物(I)は、例えば、特開昭57−1281
82号明細書に記載の方法、すなわち、下記経路により
、1−メチルカルバペネム化合物への変換が可能である
。
82号明細書に記載の方法、すなわち、下記経路により
、1−メチルカルバペネム化合物への変換が可能である
。
\1、
\、
\、
CI)
〔■〕
次に実施例および参考例をあげて本発明を更に具体的に
説明するが本発明はもちろんこれらによって何ら限定さ
れるものではない。
説明するが本発明はもちろんこれらによって何ら限定さ
れるものではない。
実施例1 (5R)−1−(2’−ブロモプロピオニ
ル)−5−1リフエニルオキシ メチルビロリジン−2−オン (ff) 〔x〕 (II〕 〔式中、R2は前述と同じ意味を表わし、R8およびR
′はカルボキシル基の保護基を表わす。〕化合物〔夏〕
は、更に公知の方法によって各埋の1−メチルカルバペ
ネム化合物に訊導することができる。
ル)−5−1リフエニルオキシ メチルビロリジン−2−オン (ff) 〔x〕 (II〕 〔式中、R2は前述と同じ意味を表わし、R8およびR
′はカルボキシル基の保護基を表わす。〕化合物〔夏〕
は、更に公知の方法によって各埋の1−メチルカルバペ
ネム化合物に訊導することができる。
(実施例および参考例)
62.8%油性水素化ナトリウム(11,8fりをTH
F(50tnt)にけんだ< 勝共(5R) −5−ト
リフェニルメチルオキシメチルピロリジン−2−オン(
10#)のTHF(20m)溶液を水冷上滴下した後、
室温で8時間撹拌した。
F(50tnt)にけんだ< 勝共(5R) −5−ト
リフェニルメチルオキシメチルピロリジン−2−オン(
10#)のTHF(20m)溶液を水冷上滴下した後、
室温で8時間撹拌した。
ついで再び氷冷し、α−プロモブロピオニルブajド(
66,4F)を滴下し、1時間同温度で撹拌した。
66,4F)を滴下し、1時間同温度で撹拌した。
反応液に水、ジクロロメタンを加えて、洗浄分液し、さ
らに5%重ソー溶液、水で有機層を洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥後溶媒留去した濃縮残渣をn−へブタンか
ら結晶上段濾過し、n−ヘプタンで洗浄し、高極性(5
R)−1−(2’−ブロモプロピオニル)−5−トリフ
ェニルメチルオキシメチルピロリジン−2−オンと低極
性(5R)−1−(2’−ブロモプロピオニル)−5−
トリフェニルメチルオキシメチルピロリジン−2−オン
の混合物を得た(92%収率)。
らに5%重ソー溶液、水で有機層を洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥後溶媒留去した濃縮残渣をn−へブタンか
ら結晶上段濾過し、n−ヘプタンで洗浄し、高極性(5
R)−1−(2’−ブロモプロピオニル)−5−トリフ
ェニルメチルオキシメチルピロリジン−2−オンと低極
性(5R)−1−(2’−ブロモプロピオニル)−5−
トリフェニルメチルオキシメチルピロリジン−2−オン
の混合物を得た(92%収率)。
別途シリカゲルクロマトグラフィー(ベンゼン)により
高極性誘導体と低極性誘導体を分離した。
高極性誘導体と低極性誘導体を分離した。
高極性誘導体 融点185〜6°C
H−NMR(CDC47g ) :δ= 1.7〜1.
9 (IH,m)、1.84(8H,d、$=6.6H
z)、2.04(IH,m)、2.49(IH,m)、
2.96(IH。
9 (IH,m)、1.84(8H,d、$=6.6H
z)、2.04(IH,m)、2.49(IH,m)、
2.96(IH。
m)、8.09(IH,m)、8.7(IH,m)、4
.5(LH,m)、5.77 (LH,q 、 s=6
.6Hz)、7.2〜7.4 (15H,nl)低極性
誘導体 融点109〜110°CH−NMR(CDC6
8) :δ= 1.79(8H,d 、 J=6.9H
z)、1.8〜1.9 (IH,m)、2.04(IH
,m)、2.17(IH,m)、2.59(IH,m)
、8.0 (IH,m)、8.24(IH,m)、8.
57 (IH,m)、5.71(IH,q、s=6.9
Hz )、7.2〜7.4(15H,m) 実施例2 (1’R,1”R,BS 、4R,5”R)−8−(1
’−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−4−(
1“−(5”−トリフェニルメチルオキシメチルピロリ
ジン−2#′−オン−1“′−カルボニル)エチルクー
アゼチジン−2−オン (1’R,8R,4R)−8−(1’−t−ブチルジメ
チルシリルオキシエチル)−4−アセトキシアゼチジン
−2−オン(0,5F)および(5R) −1−2’−
ブロモプロピオニル−5−トリフェニルメチルオキシメ
チルピロリジン−2−オン(1,971,ジアステレオ
マーの1:1の混合物)のTHF(20m)溶液を、亜
鉛末(0,84f)のTHF(15mt)けんだく液中
へ、環流下に滴下し、さらに還流を1時間継続した反応
液を濃縮し、ジクロロメタン、酢酸(0,10f )を
加え、セライトを通して過剰の亜鉛を戸去し、少量のジ
クロロメタンで洗浄した有機層を水洗し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥後溶媒留去した。鎮縮残渣をシリカゲルクロ
マトグラフィー(ベンゼン:酢酸エチル=6:1)で精
製することにより、(1’R,1”R,8S 。
.5(LH,m)、5.77 (LH,q 、 s=6
.6Hz)、7.2〜7.4 (15H,nl)低極性
誘導体 融点109〜110°CH−NMR(CDC6
8) :δ= 1.79(8H,d 、 J=6.9H
z)、1.8〜1.9 (IH,m)、2.04(IH
,m)、2.17(IH,m)、2.59(IH,m)
、8.0 (IH,m)、8.24(IH,m)、8.
57 (IH,m)、5.71(IH,q、s=6.9
Hz )、7.2〜7.4(15H,m) 実施例2 (1’R,1”R,BS 、4R,5”R)−8−(1
’−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−4−(
1“−(5”−トリフェニルメチルオキシメチルピロリ
ジン−2#′−オン−1“′−カルボニル)エチルクー
アゼチジン−2−オン (1’R,8R,4R)−8−(1’−t−ブチルジメ
チルシリルオキシエチル)−4−アセトキシアゼチジン
−2−オン(0,5F)および(5R) −1−2’−
ブロモプロピオニル−5−トリフェニルメチルオキシメ
チルピロリジン−2−オン(1,971,ジアステレオ
マーの1:1の混合物)のTHF(20m)溶液を、亜
鉛末(0,84f)のTHF(15mt)けんだく液中
へ、環流下に滴下し、さらに還流を1時間継続した反応
液を濃縮し、ジクロロメタン、酢酸(0,10f )を
加え、セライトを通して過剰の亜鉛を戸去し、少量のジ
クロロメタンで洗浄した有機層を水洗し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥後溶媒留去した。鎮縮残渣をシリカゲルクロ
マトグラフィー(ベンゼン:酢酸エチル=6:1)で精
製することにより、(1’R,1”R,8S 。
4R、5″R) −8−(L’−t−ブチルジメチルシ
リルオキシエチル) −4−(1”−(5”−)リフェ
ニルメチルオキシメチルピロリジン−2″−オン−1″
′−カルボニル)エチルシーアゼチジン2−オンを得た
(97%収率)。
リルオキシエチル) −4−(1”−(5”−)リフェ
ニルメチルオキシメチルピロリジン−2″−オン−1″
′−カルボニル)エチルシーアゼチジン2−オンを得た
(97%収率)。
H−NjVIR(CDC/a) : a = 0.08
(6H,S )、0.86(9H。
(6H,S )、0.86(9H。
S)、1.18 (8H,d 、 J=6.6Hz )
、1.19(8)1.d。
、1.19(8)1.d。
J=6.8Hz)、2.05(2H,m)、2.52(
IH,m)、2.92(2H,m)、8.19 (IH
,dd 、 J=2.5Hz 。
IH,m)、2.92(2H,m)、8.19 (IH
,dd 、 J=2.5Hz 。
9.9Hz)、8.52(IH,m)、4.01 (L
H,m)、4.05(IH,m)、4.24(IH,m
)、4.41(LH。
H,m)、4.05(IH,m)、4.24(IH,m
)、4.41(LH。
m)、5.79σH,s)、7.21〜7.88(15
)1.m)別途濃縮残渣を一部とり、リチウムベンジル
アルコラードのTI−IFM液と反応させて、ベンジル
エステルに導き、HPLC所見より′l“βメチル異性
体/1″αメチル異性体、比は99%以上であることが
確認された。
)1.m)別途濃縮残渣を一部とり、リチウムベンジル
アルコラードのTI−IFM液と反応させて、ベンジル
エステルに導き、HPLC所見より′l“βメチル異性
体/1″αメチル異性体、比は99%以上であることが
確認された。
実施例8
(1’R,1”R,8S 、4R)−8−1’−t−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル−4−11−カルボキ
シエチル−アゼチジン−2−オン実施例2と同様にして
、(1’R,aR,4R)−3−1’−t−ブチルジメ
チルシリルオキシエチル−4−アセトキシアゼチジン−
2−オン(0,5F)および(5R)−1−2’−ブロ
モプロピオニル−5−トリフェニルメチルオキシメチル
ピロリジン−2−オン(1,97y1ジアステレオマー
の1:1の混合物)より得られた、反応処理濃縮−残渣
をTHF (2d)に溶解し、水酸化リチウム水和物(
0,168f )の水(1−)溶液を水冷下加え、同温
度で3時間攪拌した。水(4fnt)、酢酸エチル、n
−へブタンを加えて分散し、水層を塩酸でpH3とし、
酢酸エチルで抽出分液し、有機層を硫酸マグネシウムで
乾燥後溶媒留去した。
チルジメチルシリルオキシエチル−4−11−カルボキ
シエチル−アゼチジン−2−オン実施例2と同様にして
、(1’R,aR,4R)−3−1’−t−ブチルジメ
チルシリルオキシエチル−4−アセトキシアゼチジン−
2−オン(0,5F)および(5R)−1−2’−ブロ
モプロピオニル−5−トリフェニルメチルオキシメチル
ピロリジン−2−オン(1,97y1ジアステレオマー
の1:1の混合物)より得られた、反応処理濃縮−残渣
をTHF (2d)に溶解し、水酸化リチウム水和物(
0,168f )の水(1−)溶液を水冷下加え、同温
度で3時間攪拌した。水(4fnt)、酢酸エチル、n
−へブタンを加えて分散し、水層を塩酸でpH3とし、
酢酸エチルで抽出分液し、有機層を硫酸マグネシウムで
乾燥後溶媒留去した。
残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ベンゼン:酢酸
エチル:酢酸=1:1:0.01)で分離精製し、(1
’R,1’R,3S、4R)−3−1’−t−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル−4−1“−カルボキシエチ
ル−アゼチジン−2−オンを得た。
エチル:酢酸=1:1:0.01)で分離精製し、(1
’R,1’R,3S、4R)−3−1’−t−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル−4−1“−カルボキシエチ
ル−アゼチジン−2−オンを得た。
融点 145〜6°C
H−NMR(CD(4s): δ= 1.20(8H,
d、J=6.3Hz)、1.27(8H,d、s=6.
9Hz)、2.75(IH,m)、8.0(LH,m)
、8.94(LH,m)、4.21(IH,m)、6.
26(IH,S) さらに、中性有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒
濃縮し、残渣をn−へブタンで結晶化t、、(5R)−
5−トリフェニルメチルオキシメチルピロリジン−2−
オンを回収した。
d、J=6.3Hz)、1.27(8H,d、s=6.
9Hz)、2.75(IH,m)、8.0(LH,m)
、8.94(LH,m)、4.21(IH,m)、6.
26(IH,S) さらに、中性有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒
濃縮し、残渣をn−へブタンで結晶化t、、(5R)−
5−トリフェニルメチルオキシメチルピロリジン−2−
オンを回収した。
弁考例1
(5R)−5−トリフェニルメチルオキシメチルピロリ
ジン−2−オン 文献(J、 Org、 Chem、、 45.845(
1980) )記載の方法でD−グルタミン酸あるいは
D−ピログルタミン酸より得られた(5R)−5−ヒド
ロキシメチルピロリジン−2−オン(12,82f)を
ジクロロメタン(128m)に溶解し、トリエチルアミ
ン(18,5i、ジメチルアミノピリジン(1,4F)
及びトリチルクロライド(87,89)を順次仕込み、
25〜80°Cで8時間撹拌した。反応液に水を加え洗
浄分液し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒留去
した。濃縮残渣をn−へブタンから結晶上段濾過し、n
−へブタンで洗浄後乾燥し、89.0yの(5R)−5
−トリフェニルメチルオキシメチルピロリジン−2−オ
ンを得た。
ジン−2−オン 文献(J、 Org、 Chem、、 45.845(
1980) )記載の方法でD−グルタミン酸あるいは
D−ピログルタミン酸より得られた(5R)−5−ヒド
ロキシメチルピロリジン−2−オン(12,82f)を
ジクロロメタン(128m)に溶解し、トリエチルアミ
ン(18,5i、ジメチルアミノピリジン(1,4F)
及びトリチルクロライド(87,89)を順次仕込み、
25〜80°Cで8時間撹拌した。反応液に水を加え洗
浄分液し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒留去
した。濃縮残渣をn−へブタンから結晶上段濾過し、n
−へブタンで洗浄後乾燥し、89.0yの(5R)−5
−トリフェニルメチルオキシメチルピロリジン−2−オ
ンを得た。
融点 164〜5°C
H−NMR(CD(Jun) :δ= 1.7 (IH
,m)、2.18(IH,m)、2.88(2H,m)
、8.0(IH,m)、8.2(IH,m)、8.9(
IH,m)、5.82(IH,s)手続補正書(自発) 平成元年tO■:q\日
,m)、2.18(IH,m)、2.88(2H,m)
、8.0(IH,m)、8.2(IH,m)、8.9(
IH,m)、5.82(IH,s)手続補正書(自発) 平成元年tO■:q\日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1は水酸基の保護基又はアリール基を表わ
し、Xはハロゲン原子を表わす。〕で表わされるピロリ
ジン−2−オン誘導体。 2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1及びXは前述と同じ意味を表わす。〕 で表わされる特許請求の範囲第1項記載のピロリジン−
2−オン誘導体。 3)R_1が、トリフェニルメチル基である特許請求の
範囲第1項および第2項記載のピロリジン−2−オン誘
導体。 4)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_2は水素原子又は水酸基の保護基を表わし
、Yは脱離基を表わす。〕 で表わされるβ−ラクタム化合物と一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1は水酸基の保護基又はアリール基を表わ
し、Xはハロゲン原子を表わす。〕で表わされるピロリ
ジン−2−オン誘導体を不活性溶媒中、金属存在下、縮
合させることを特徴とする 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1およびR_2は前述と同じ意味を表わす
。〕 で表わされるβ−ラクタム化合物の製造法。 5)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_2は水素原子又は水酸基の保護基を表わし
、Yは脱離基を表わす。〕 で表わされるβ−ラクタム化合物と一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1は水酸基の保護基又はアリール基を表わ
し、Xはハロゲン原子を表わす。〕で表わされるピロリ
ジン−2−オン誘導体を不活性溶媒中、金属存在下縮合
させて得られる一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1およびR_2は前述と同じ意味を表わす
。〕 で表わされるβ−ラクタム化合物に導き、ついで加水分
解することを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_2は前述と同じ意味を表わす。〕で表わさ
れるβ−ラクタム化合物の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63334578A JPH02178262A (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | 1―(2′―ハロプロピオニル)ピロリジン―2―オン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63334578A JPH02178262A (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | 1―(2′―ハロプロピオニル)ピロリジン―2―オン誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02178262A true JPH02178262A (ja) | 1990-07-11 |
Family
ID=18278966
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63334578A Pending JPH02178262A (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | 1―(2′―ハロプロピオニル)ピロリジン―2―オン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02178262A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0597423A2 (en) * | 1992-11-13 | 1994-05-18 | Tanabe Seiyaku Co., Ltd. | Azetidinone compound and process for preparation thereof |
US5847115A (en) * | 1992-11-13 | 1998-12-08 | Tanabe Seiyaku Co., Ltd. | Azetidinone compound and process for preparation thereof |
US6011150A (en) * | 1992-11-13 | 2000-01-04 | Tanabe Seiyaku Co., Ltd. | Azetidinone compound and process for preparation thereof |
WO2011048583A1 (en) | 2009-10-23 | 2011-04-28 | Ranbaxy Laboratories Limited | Process for the preparation of carbapenem compounds |
US8841444B2 (en) | 2008-07-30 | 2014-09-23 | Ranbaxy Laboratories Limited | Process for the preparation of carbapenem compounds |
-
1988
- 1988-12-28 JP JP63334578A patent/JPH02178262A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0597423A2 (en) * | 1992-11-13 | 1994-05-18 | Tanabe Seiyaku Co., Ltd. | Azetidinone compound and process for preparation thereof |
EP0597423A3 (en) * | 1992-11-13 | 1995-04-12 | Tanabe Seiyaku Co | Azetidinone compound and process for its preparation. |
US5442055A (en) * | 1992-11-13 | 1995-08-15 | Tanabe Seiyaku Co., Ltd. | Azetidinone compound and process for preparation thereof |
US5847115A (en) * | 1992-11-13 | 1998-12-08 | Tanabe Seiyaku Co., Ltd. | Azetidinone compound and process for preparation thereof |
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US8841444B2 (en) | 2008-07-30 | 2014-09-23 | Ranbaxy Laboratories Limited | Process for the preparation of carbapenem compounds |
WO2011048583A1 (en) | 2009-10-23 | 2011-04-28 | Ranbaxy Laboratories Limited | Process for the preparation of carbapenem compounds |
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