JPS63155047A - 電子写真感光体 - Google Patents
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- JPS63155047A JPS63155047A JP30493986A JP30493986A JPS63155047A JP S63155047 A JPS63155047 A JP S63155047A JP 30493986 A JP30493986 A JP 30493986A JP 30493986 A JP30493986 A JP 30493986A JP S63155047 A JPS63155047 A JP S63155047A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子写真感光体に関し、特にa機先導電性電子
写真感光体の改良に関する。
写真感光体の改良に関する。
カールソン方法の電子写真複写機においては、感光体表
面に帯電させた後、露光によって静電潜像を形成し、そ
の静電潜像をトナーによって現象し、次いてその可視像
を紙等に転写、定着させる。
面に帯電させた後、露光によって静電潜像を形成し、そ
の静電潜像をトナーによって現象し、次いてその可視像
を紙等に転写、定着させる。
一方、感光体には付着トナーの除去や除電、表面の清浄
化が施され、長期に亘って反復使用される。
化が施され、長期に亘って反復使用される。
従って、電子写真感光体としては、帯電特性および感度
が良好で更に暗減衰が小さい等の電子写真特性は勿論、
加えて繰返し使用での耐剛性、耐摩耗性、耐湿性等の物
理的性質や、コロナ放電時に発生ずるオゾン、露光時の
紫外線等への耐性(耐環境性)においてら良好で゛ある
ことが要求される。
が良好で更に暗減衰が小さい等の電子写真特性は勿論、
加えて繰返し使用での耐剛性、耐摩耗性、耐湿性等の物
理的性質や、コロナ放電時に発生ずるオゾン、露光時の
紫外線等への耐性(耐環境性)においてら良好で゛ある
ことが要求される。
従来、電子写真感光体としては、セレン、酸化1■鉛、
硫化カドミウム等の無機光導電性物質を主成分とする感
光体層を何する無機感光体が広く用いられている。
硫化カドミウム等の無機光導電性物質を主成分とする感
光体層を何する無機感光体が広く用いられている。
一方、種々の有機光導電性物質を電子写真感光体の感光
体層の材料として利用することが近年活発に研究、開発
されている。
体層の材料として利用することが近年活発に研究、開発
されている。
例えば特公昭50−10496号には、ポリ−N−ビニ
ルカルバゾールと2.4.7−ドリニトロー9−フルオ
レノンを含有した感光体層を得する有機感光体について
記載されている。しかしこの感光体は、感度及び耐久性
において必ずしも満足できるものではない。このような
欠点を改善するために、感光体層において、電荷発生機
能と電荷輸送機能とを異なる物質に個別に分担させるこ
とにより、感度が高くて耐久性の大きい有機感光体を開
発する試みがなされている。このようないわば機能分離
型の電子写真感光体においては、各機能を発揮する物質
を広い範囲のものから選択することができるので、任意
の特性を有する電子写真感光体を比較的容易に作製する
ことが可能である。
ルカルバゾールと2.4.7−ドリニトロー9−フルオ
レノンを含有した感光体層を得する有機感光体について
記載されている。しかしこの感光体は、感度及び耐久性
において必ずしも満足できるものではない。このような
欠点を改善するために、感光体層において、電荷発生機
能と電荷輸送機能とを異なる物質に個別に分担させるこ
とにより、感度が高くて耐久性の大きい有機感光体を開
発する試みがなされている。このようないわば機能分離
型の電子写真感光体においては、各機能を発揮する物質
を広い範囲のものから選択することができるので、任意
の特性を有する電子写真感光体を比較的容易に作製する
ことが可能である。
こうした機能分離型の電子写真感光体に有効な電荷発生
物質として、従来数多くの物質が提案されている。無機
物質を用いる例としては、例えば特公昭43−1619
8号に記載されているように、無定形セレンがある。こ
れは有機電荷輸送物質と組合される。
物質として、従来数多くの物質が提案されている。無機
物質を用いる例としては、例えば特公昭43−1619
8号に記載されているように、無定形セレンがある。こ
れは有機電荷輸送物質と組合される。
また、有機染料や有機顔料を電荷発生物質として用いた
電子写真感光体も多散堤案されており、例えば、ビスア
ゾ化合物を含有する感光体層を有ずろらのは、特開昭4
7−37543号、同55−22834号、同54−7
9632号、同56−116040号等により既に知ら
れている。
電子写真感光体も多散堤案されており、例えば、ビスア
ゾ化合物を含有する感光体層を有ずろらのは、特開昭4
7−37543号、同55−22834号、同54−7
9632号、同56−116040号等により既に知ら
れている。
ところで、有機光導電性物質を用いる公知の感光体は通
常、負帯電用として使用されている。この理由は、負帯
電使用の場合には、電荷のうちホールの移動度が大きい
ことから、光感度等の面で合判なためである。
常、負帯電用として使用されている。この理由は、負帯
電使用の場合には、電荷のうちホールの移動度が大きい
ことから、光感度等の面で合判なためである。
しかしながら、このような負帯電使用の場合の問題は、
帯電器による負帯電時に雰囲気中にオゾンが発生し易く
なり、環境条件を悪くしてしまう。
帯電器による負帯電時に雰囲気中にオゾンが発生し易く
なり、環境条件を悪くしてしまう。
また、負帯電用感光体の現像には正極性のトナーが必要
となるが、正極性のトナーは強磁性体電荷粒子に対する
摩擦帯電系列からみて製造が困帷であることである。
となるが、正極性のトナーは強磁性体電荷粒子に対する
摩擦帯電系列からみて製造が困帷であることである。
そこで、有機光導電性物質を用いる感光体を正帯電で使
用する、例えば、電荷発生層上に電荷輸送層を積層し、
電荷輸送層を電子輸送能の大きい物質で形成する正帯電
感光体等が提案されている。
用する、例えば、電荷発生層上に電荷輸送層を積層し、
電荷輸送層を電子輸送能の大きい物質で形成する正帯電
感光体等が提案されている。
しかしながら電荷輸送層に例えばトリニトロフルオレノ
ン等を含有せしめると、該物質が発癌性である等の問題
を提起することがある。他方、ホール輸送能の大きい電
荷輸送層上に電荷発生層を積層した正帯電感光体が考え
られるが、この機構では表面側に存在させる電荷発生層
を非常に薄くする必要があり、耐刷性等が悪くなり、実
用的な層構成ではない。
ン等を含有せしめると、該物質が発癌性である等の問題
を提起することがある。他方、ホール輸送能の大きい電
荷輸送層上に電荷発生層を積層した正帯電感光体が考え
られるが、この機構では表面側に存在させる電荷発生層
を非常に薄くする必要があり、耐刷性等が悪くなり、実
用的な層構成ではない。
また、正帯電感光体として、米国特許3,615.41
4号には、チアピリリウム塩(電荷発生物質)をポリカ
ーボネート(バインダ樹脂)と錯体を形成するように含
有させたものが示されている。しかしこの感光体では、
メモリ現象が大きく、ゴーストも発生し易いという欠点
かある。また米国特許3,357.989号には、フタ
ロンアニンを含有せしめた感光体が示されているが、フ
タロンアニンは結晶型によって特性が変化ケろ上に、結
晶型を厳密に制御する必要があり、更に短波長感度か不
足しかつメモリ現象ら大きく、可視光波長域の光源を用
いる複写機には不適当である。
4号には、チアピリリウム塩(電荷発生物質)をポリカ
ーボネート(バインダ樹脂)と錯体を形成するように含
有させたものが示されている。しかしこの感光体では、
メモリ現象が大きく、ゴーストも発生し易いという欠点
かある。また米国特許3,357.989号には、フタ
ロンアニンを含有せしめた感光体が示されているが、フ
タロンアニンは結晶型によって特性が変化ケろ上に、結
晶型を厳密に制御する必要があり、更に短波長感度か不
足しかつメモリ現象ら大きく、可視光波長域の光源を用
いる複写機には不適当である。
このように正帯電感光体を得るための試みが種々行なわ
れているが、いずれら光感度、メモリ現象又は労働衛生
等、また紫外線耐性、耐オゾン酸化性等の耐用性の点で
改善すべき多くの問題点がある。
れているが、いずれら光感度、メモリ現象又は労働衛生
等、また紫外線耐性、耐オゾン酸化性等の耐用性の点で
改善すべき多くの問題点がある。
そこで機能上から光照射時ホール及び電子を発生する電
荷発生物質を含有する電荷発生層を上層(表面層)とし
、ホール輸送機能を有する電荷輸送物質を含む電荷輸送
層を下層とする積層構成の感光体を正、負両用帯i感光
体の基本形とし、足らさるを補完することが考えられる
。
荷発生物質を含有する電荷発生層を上層(表面層)とし
、ホール輸送機能を有する電荷輸送物質を含む電荷輸送
層を下層とする積層構成の感光体を正、負両用帯i感光
体の基本形とし、足らさるを補完することが考えられる
。
なおかかる感光体においては、構造中に例えば電子吸引
性基を有する電荷発生物質を用いるようにすれば、感光
体表面の正電荷を打消すための電子の浮動が早くなり、
高感度特性が得られろことが考えられる。
性基を有する電荷発生物質を用いるようにすれば、感光
体表面の正電荷を打消すための電子の浮動が早くなり、
高感度特性が得られろことが考えられる。
しかしながら、前記正帯電感光体は電荷発生物質を含む
層が表面層として形成されるため、光照射、特に紫外線
等の短波光照射、コロナ放電、湿度、オゾン酸化、機械
的摩擦等外部作用に脆弱な電荷発生物質が直接に曝され
ることとなり、感光体の保存中及び像形成の過程で電子
写真性能が劣化し、画質が低下するようになる。
層が表面層として形成されるため、光照射、特に紫外線
等の短波光照射、コロナ放電、湿度、オゾン酸化、機械
的摩擦等外部作用に脆弱な電荷発生物質が直接に曝され
ることとなり、感光体の保存中及び像形成の過程で電子
写真性能が劣化し、画質が低下するようになる。
従来の電荷輸送層を表面層とする負帯電感光体において
は、前記各種の外部作用の影響は極めて少なく、むしろ
前記電荷輸送層が下層の電荷発生層を保護する作用を有
している。
は、前記各種の外部作用の影響は極めて少なく、むしろ
前記電荷輸送層が下層の電荷発生層を保護する作用を有
している。
そこで、例えば絶縁性かつ透明な樹脂から成る薄い保護
層を設け、前記電荷発生物質を含む層を外部作用から保
護することが考えられるが、光照射時発生する電荷が該
保護層でブロッキングされて光照射効果が失なわれてく
るし、また表面層となる保護層が厚い場合には感度低下
を招き、剰え紫外線遮断効果ら少いので、外部作用から
の遮蔽、特に紫外線からの保護を単なる保護層だけに委
ねるごとはでさない。
層を設け、前記電荷発生物質を含む層を外部作用から保
護することが考えられるが、光照射時発生する電荷が該
保護層でブロッキングされて光照射効果が失なわれてく
るし、また表面層となる保護層が厚い場合には感度低下
を招き、剰え紫外線遮断効果ら少いので、外部作用から
の遮蔽、特に紫外線からの保護を単なる保護層だけに委
ねるごとはでさない。
本発明の[1的は、正、負帯電に適用することができ、
良好な感度を有し、耐環境性に優れ、特に紫外線耐性、
耐酸化性がよく、耐用物性のよい有機光導電性電子写真
感光体の提供にある。
良好な感度を有し、耐環境性に優れ、特に紫外線耐性、
耐酸化性がよく、耐用物性のよい有機光導電性電子写真
感光体の提供にある。
前記本発明の目的は、導電性支持体上に電荷発生物質(
CG Mと標記)及び爪部輸送物質(C1’Mと標記)
を含んでなる層を有する電子写真感光体に於て、下記一
般式で表わされる化合物を含何することを特徴とする電
子写真感光体によって達成される。
CG Mと標記)及び爪部輸送物質(C1’Mと標記)
を含んでなる層を有する電子写真感光体に於て、下記一
般式で表わされる化合物を含何することを特徴とする電
子写真感光体によって達成される。
式中、Rは水素まj二はハロゲン原子を表し、R8はア
ミノ、アルキル、アリールアミノ、アルコキシ、フェニ
ルオキシ、ニトロの各基またはハロゲン原子を表し、ア
ルキル基は置換基を何して乙よい。R,はアミノ、アル
キル、アリールアミノ、アルコキン及びフェニルオキシ
の各基を表す。
ミノ、アルキル、アリールアミノ、アルコキシ、フェニ
ルオキシ、ニトロの各基またはハロゲン原子を表し、ア
ルキル基は置換基を何して乙よい。R,はアミノ、アル
キル、アリールアミノ、アルコキン及びフェニルオキシ
の各基を表す。
本発明に係る導電性支持体上に設ける感光体層は、CT
M及びCG Mを混和した単層構成でしよいし、CTM
を含む層を下層としCGMを含む層を上層とする複層構
成でしよいし或はその層構成でもよい。また必要に応じ
て保護層 (OCLと標記)を設けてもよい。
M及びCG Mを混和した単層構成でしよいし、CTM
を含む層を下層としCGMを含む層を上層とする複層構
成でしよいし或はその層構成でもよい。また必要に応じ
て保護層 (OCLと標記)を設けてもよい。
本発明に係る化合物は前記の少くとら一層に添加される
が感光体層表層に添加されることが好ましい。尚表層に
最乙濃密に、内部にゆくに従って逓減させる形態であっ
てもよい。
が感光体層表層に添加されることが好ましい。尚表層に
最乙濃密に、内部にゆくに従って逓減させる形態であっ
てもよい。
以下に本発明の詳細な説明する。
カールソンプロセスに基く電子写真プロセスには、一般
に像露光、消去露光、転写面露光、クリーニング露光等
に紫外線を発生する光源が用いられており、該光源から
の光に含まれ、可視光に比べ大きなエネルギを有する紫
外線の繰返し照射は、感光体に用いられている有機化合
物分子を解裂さ仕るに充分である。即ち感光体をなすC
GM、CTM或はバインダ等はラジカル解離を起し本来
の分子溝造を失って劣化し、従って感光体の劣化を招来
し、具体的には感度低下、残電位上昇等を惹起し、かぶ
りの発生、画質の低下に陥る。
に像露光、消去露光、転写面露光、クリーニング露光等
に紫外線を発生する光源が用いられており、該光源から
の光に含まれ、可視光に比べ大きなエネルギを有する紫
外線の繰返し照射は、感光体に用いられている有機化合
物分子を解裂さ仕るに充分である。即ち感光体をなすC
GM、CTM或はバインダ等はラジカル解離を起し本来
の分子溝造を失って劣化し、従って感光体の劣化を招来
し、具体的には感度低下、残電位上昇等を惹起し、かぶ
りの発生、画質の低下に陥る。
感光体の紫外線或は紫外線及びオゾンによって誘発、派
生する複合劣化は反復して付加される各種露光処理、コ
ロナ放電によって生ずるが、露光によって発生ずる一重
項酸素によっても強められろと考えられる。また、感光
体の層構成、CGMやC’I’ Mの種類等によっても
紫外線等による複合劣化を受ける程度は変化するが、C
TMの方か劣化を受は易く、特に有機光導電性物質を使
用する場合、その影響は極めて大きい。
生する複合劣化は反復して付加される各種露光処理、コ
ロナ放電によって生ずるが、露光によって発生ずる一重
項酸素によっても強められろと考えられる。また、感光
体の層構成、CGMやC’I’ Mの種類等によっても
紫外線等による複合劣化を受ける程度は変化するが、C
TMの方か劣化を受は易く、特に有機光導電性物質を使
用する場合、その影響は極めて大きい。
本発明者らは、感光体の複合劣化(特に電位低下)の改
良に関し鋭意検討の結果、感光体層中に面記一般式で示
される特定のキノン類化合物が複合劣化を著しく防出す
るたけでなく、その他の電子写真特性や物理的性質の向
」二にも寄与することを見い出した。
良に関し鋭意検討の結果、感光体層中に面記一般式で示
される特定のキノン類化合物が複合劣化を著しく防出す
るたけでなく、その他の電子写真特性や物理的性質の向
」二にも寄与することを見い出した。
前記の本発明に係る化合物即ち一般に紫外線吸収剤と目
されろ化合物の有機物質に対する安定化機構としては、
紫外線(UVと標記することがある)の保有する分解エ
ネルギがUV吸収剤内で振動のエネルギに変貌すること
によると思われる。
されろ化合物の有機物質に対する安定化機構としては、
紫外線(UVと標記することがある)の保有する分解エ
ネルギがUV吸収剤内で振動のエネルギに変貌すること
によると思われる。
この振動のエネルギは該UV吸収剤から熱エネルギとし
て放出されるが、熱エネルギでは既に有機物質を劣化さ
せる。には不充分であって、感光体は紫外線の繰返し照
射による害から保護されるものと思われる。
て放出されるが、熱エネルギでは既に有機物質を劣化さ
せる。には不充分であって、感光体は紫外線の繰返し照
射による害から保護されるものと思われる。
以下に本発明の化合物の代表的具体例を示すが、これに
よって本発明に用いられる化合物がこれらに限定される
しのではない。
よって本発明に用いられる化合物がこれらに限定される
しのではない。
、−\
以1、天余2守
(1)CC−NHz N11t(7
) CC−N11C,211,5−NIIC,、
Il、5(8) C&−N11C,11,7−N1
IC,Il、?(9) +1 −N11(
、、II、? −NI+(,11,7(10
) Br NHC811,7NHCall
I7(ll) Br N112N
H*(15) Br No2NH
。
) CC−N11C,211,5−NIIC,、
Il、5(8) C&−N11C,11,7−N1
IC,Il、?(9) +1 −N11(
、、II、? −NI+(,11,7(10
) Br NHC811,7NHCall
I7(ll) Br N112N
H*(15) Br No2NH
。
本発明において用いられる前記一般式で示される化合物
(以下、本発明の化合物と称する)の添加型は、感光体
の層構成、CTMの種類などによって一定ではないか、
CT Mに対して、0.1〜100重量%、好ましくは
1〜50重量%、特に好ましくは5〜25重伍%の範囲
で用いられる。
(以下、本発明の化合物と称する)の添加型は、感光体
の層構成、CTMの種類などによって一定ではないか、
CT Mに対して、0.1〜100重量%、好ましくは
1〜50重量%、特に好ましくは5〜25重伍%の範囲
で用いられる。
次に本発明の感光体の構成を図面によって説明する。
本発明の感光体は例えば第1図に示すように支持体l
(導電性支持体またはシート上に導電層を設けたもの)
上にCG M 5と必要に応じてバインダ樹脂を含有す
る電荷発生層 (以下、CGLと標記する)2を下層と
し、CTM6と必要に応じてバインダ樹脂を含有する電
荷輸送層 (以下、CTLと標記する)3を上層とする
積層構成の感光体層4を設けたもの、第2図に示すよう
に支持体i上にCi’ L 3を下層とし、CGL2を
上層とする積層構成の感光体層4を設けたもの、および
第3図に示すように支持体l上にCON2、CTMおよ
び必要に応してバインダ樹脂を含a4−ろ単層構成の感
光体層4を設けた乙の等が挙げられる。
(導電性支持体またはシート上に導電層を設けたもの)
上にCG M 5と必要に応じてバインダ樹脂を含有す
る電荷発生層 (以下、CGLと標記する)2を下層と
し、CTM6と必要に応じてバインダ樹脂を含有する電
荷輸送層 (以下、CTLと標記する)3を上層とする
積層構成の感光体層4を設けたもの、第2図に示すよう
に支持体i上にCi’ L 3を下層とし、CGL2を
上層とする積層構成の感光体層4を設けたもの、および
第3図に示すように支持体l上にCON2、CTMおよ
び必要に応してバインダ樹脂を含a4−ろ単層構成の感
光体層4を設けた乙の等が挙げられる。
また、第2図と同様の層構成で上層のCGLにCGMと
CT Mの両方が含有されてもよく、該層の上に保護層
(OCL)を設けてもよく、支持体と感光体層の間に中
間層を設けてもよい。第4図にその1例を示しである。
CT Mの両方が含有されてもよく、該層の上に保護層
(OCL)を設けてもよく、支持体と感光体層の間に中
間層を設けてもよい。第4図にその1例を示しである。
すなわち、支持体l上に中間層7を設け、その上にCT
M 6 aとバインダ樹脂を含有するCTL3および
CGM5、CTM6bおよびバインダ樹脂を含有するC
GL2を積層した感光体層−を育し、更にバインダを主
成分とする0CL8を設けた感光体である。
M 6 aとバインダ樹脂を含有するCTL3および
CGM5、CTM6bおよびバインダ樹脂を含有するC
GL2を積層した感光体層−を育し、更にバインダを主
成分とする0CL8を設けた感光体である。
本発明の化合物は、感光体を構成するCGL。
C’rL、単層構成感光体層またはOCL、のいずれに
含有されてもよく、複数屓に含有されてもよい。
含有されてもよく、複数屓に含有されてもよい。
本発明の効果がより顕著に発揮されるのは、CCl2を
上層としC’I’ Lを下層とする積層構成の感光体に
おいてである。
上層としC’I’ Lを下層とする積層構成の感光体に
おいてである。
次に本発明に適するCGMとしては、可視光を吸収して
フリー電荷を発生するものであれば、無機顔料及び有機
顔料の何れをも用いることができる。無定形セレン、三
方晶系セレン、セレン−砒素合金、セレン−テルル合金
、硫化カドミウム、セレン化カドミウム、硫セレン化カ
ドミウム、硫化水銀、酸化鉛、硫化鉛等の無機顔料の外
、次の代表例で示されるような何機顔料が用いられる。
フリー電荷を発生するものであれば、無機顔料及び有機
顔料の何れをも用いることができる。無定形セレン、三
方晶系セレン、セレン−砒素合金、セレン−テルル合金
、硫化カドミウム、セレン化カドミウム、硫セレン化カ
ドミウム、硫化水銀、酸化鉛、硫化鉛等の無機顔料の外
、次の代表例で示されるような何機顔料が用いられる。
(1)モノアゾ顔料、ポリアゾ顔料、金属錯塩アゾ顔料
、ピラゾロンアゾ顔料、スチルベンアゾ及びチアゾール
アゾ顔料等のアゾ系顔料(2)ペリレン酸無水物及びペ
リレン酸イミド等のペリレン系顔料 (3)アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体
、ノベンズピレンキノン誘導体、ビラントロン誘導体、
ビオラントロン誘導体及びイソビオラントロン誘導体等
のアントラキノン系又は多環キノン系顔料 (4)インノボ誘導体及びチオインノボ誘導体等のイン
ジゴイド系顔料 (5)金属フタロンアニン及び熱金属フタロシアニン等
のフタロシアニン系顔料 (6) ジフェニルメタン系顔料、トリフェニルメタン
顔料、キサンチン顔料及びアクリジン顔料等のカルボニ
ウム系顔料 (7)アジン顔料、オキサジン顔料及びチアジン顔料等
のキノンイミン系顔料 (8) シアニン顔料及びアゾメチン顔料等のメチン系
顔料 (9)キノリン系顔料 (10)ニトロ系顔料 (11)ニトロソ系顔料 (12)ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料(13)
ナフタルイミド系顔料 (14) ビスベンズイミダゾール誘導体等のペリノ
ン系顔料 前記本発明に用いられるアゾ系顔料としては、例えば次
の例示構造化合物群([)〜(V)で示されるものがあ
り、該例示構造化合物群の中の個々の好ましい具体的化
合物の数例を併せ掲げる。
、ピラゾロンアゾ顔料、スチルベンアゾ及びチアゾール
アゾ顔料等のアゾ系顔料(2)ペリレン酸無水物及びペ
リレン酸イミド等のペリレン系顔料 (3)アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体
、ノベンズピレンキノン誘導体、ビラントロン誘導体、
ビオラントロン誘導体及びイソビオラントロン誘導体等
のアントラキノン系又は多環キノン系顔料 (4)インノボ誘導体及びチオインノボ誘導体等のイン
ジゴイド系顔料 (5)金属フタロンアニン及び熱金属フタロシアニン等
のフタロシアニン系顔料 (6) ジフェニルメタン系顔料、トリフェニルメタン
顔料、キサンチン顔料及びアクリジン顔料等のカルボニ
ウム系顔料 (7)アジン顔料、オキサジン顔料及びチアジン顔料等
のキノンイミン系顔料 (8) シアニン顔料及びアゾメチン顔料等のメチン系
顔料 (9)キノリン系顔料 (10)ニトロ系顔料 (11)ニトロソ系顔料 (12)ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料(13)
ナフタルイミド系顔料 (14) ビスベンズイミダゾール誘導体等のペリノ
ン系顔料 前記本発明に用いられるアゾ系顔料としては、例えば次
の例示構造化合物群([)〜(V)で示されるものがあ
り、該例示構造化合物群の中の個々の好ましい具体的化
合物の数例を併せ掲げる。
その好ましい具体的化合物の全容については特願昭61
−195881号が参照されろ。
−195881号が参照されろ。
以下余白
例示構造化合物群(1)・
例示構造化合物群〔■〕。
例示構造化合物群〔■〕:
例示構造化合物群〔1v〕・
例示構造化合物群〔〕
また、以下の多環キノン顔料から成る例示構造化合物i
ff (VT )〜〔〜1〕はCGMとして最も好まし
く使用できる。
ff (VT )〜〔〜1〕はCGMとして最も好まし
く使用できる。
−へ
以・下、・余?
、ン
例示構造化合物群〔■〕:
例示構造化合物群〔■〕
以下余白
例示構造化合物群〔■〕:
次に本発明で使用可能なCT Mとしては、特に制限は
ないが、例えばオキサゾール誘導体、オキサノアゾール
誘導体、デアゾール誘導体、チアノアゾール誘導体、ト
リアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダシロン
誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリノン誘
導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン
誘導体、オキサシロン誘導体、ヘンジチアゾール誘導体
、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベン
ゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体
、アミノスチルベン誘導体、ポリ−N−ビニルカルバゾ
ール、ポリ−1−ビニルピレン、ポリ−9−ビニルアン
トラセン等であってよい。
ないが、例えばオキサゾール誘導体、オキサノアゾール
誘導体、デアゾール誘導体、チアノアゾール誘導体、ト
リアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダシロン
誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリノン誘
導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン
誘導体、オキサシロン誘導体、ヘンジチアゾール誘導体
、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベン
ゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体
、アミノスチルベン誘導体、ポリ−N−ビニルカルバゾ
ール、ポリ−1−ビニルピレン、ポリ−9−ビニルアン
トラセン等であってよい。
しかしながら光照射時発生するホールの支持体側への輸
送能力が優れている外、前記CGMとの組合什に好適な
らのが好ましく用いられ、かかるC ’1’ Mとして
は、例えば下記例示構造化合物群CIX )又は(X)
で示されるスチル化合物が使用されろ。該例示構造化合
物群中の個々の具体的化合物の数例を併せ掲げろが、そ
の全貌については特願昭61−195881号が参照さ
れる。
送能力が優れている外、前記CGMとの組合什に好適な
らのが好ましく用いられ、かかるC ’1’ Mとして
は、例えば下記例示構造化合物群CIX )又は(X)
で示されるスチル化合物が使用されろ。該例示構造化合
物群中の個々の具体的化合物の数例を併せ掲げろが、そ
の全貌については特願昭61−195881号が参照さ
れる。
例示構造化合物群(IX ) :
例示構造化合物群CX)
また、CT Mとして下記例示構造化合物群〔刈〕〜〔
X〕で示される一ヒドラゾン化合物も使用可能である。
X〕で示される一ヒドラゾン化合物も使用可能である。
向側々の具体的化合物の全容については特願昭61−1
95881号が参照される。
95881号が参照される。
例示構造化合物群〔■〕
例示構造化合物1ii (X III ) :例示構造
化合物群(XV ) : 例示構造化合物昨(XVI): また、CT Mとして下記例示構造化合物群〔X■〕で
示されろアミン誘導体ら使用可能である。
化合物群(XV ) : 例示構造化合物昨(XVI): また、CT Mとして下記例示構造化合物群〔X■〕で
示されろアミン誘導体ら使用可能である。
尚詳しくは特願昭61−195881号が参照される。
本発明の感光体の層構成は前記のように積層構成と単層
構成とがあるが、表面層となろCT 1.、CGL、O
CL、単層感光体層またはOCLのいずれか、もしくは
複数層には感度の向上、残留電位ないし反復使用時の疲
労低減等を目的として、1種または2種以上の電子受容
性物質を含存せしめることができる。
構成とがあるが、表面層となろCT 1.、CGL、O
CL、単層感光体層またはOCLのいずれか、もしくは
複数層には感度の向上、残留電位ないし反復使用時の疲
労低減等を目的として、1種または2種以上の電子受容
性物質を含存せしめることができる。
本発明の感光体に使用可能な電子受容性物質としては、
例えば無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレ
イン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、テ
トラブロム無水フタル酸、3−ニトロ無水フタル酸、4
−ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メリ
ット酸、テトランアノエチレン、テトランアノキノツメ
タン、0−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン、
1,3,5.−トリニトロベンゼン、バラニトロベン6
ゾニトリル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド
、クロラニル、ブルマニル、2−メチルナフトキノン、
ジクロロジノアノバラベンゾキノン、アントラキノン、
ノニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、9
−フルオレノンデン〔ジシアノメチレンマロノジニトリ
ル〕、ポリニトロ−9−フルオレノンデンー〔ジシアノ
メチレンマロノジニトリル〕、ピクリン酸、フタル酸等
が挙げられる。
例えば無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレ
イン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、テ
トラブロム無水フタル酸、3−ニトロ無水フタル酸、4
−ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メリ
ット酸、テトランアノエチレン、テトランアノキノツメ
タン、0−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン、
1,3,5.−トリニトロベンゼン、バラニトロベン6
ゾニトリル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド
、クロラニル、ブルマニル、2−メチルナフトキノン、
ジクロロジノアノバラベンゾキノン、アントラキノン、
ノニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、9
−フルオレノンデン〔ジシアノメチレンマロノジニトリ
ル〕、ポリニトロ−9−フルオレノンデンー〔ジシアノ
メチレンマロノジニトリル〕、ピクリン酸、フタル酸等
が挙げられる。
本発明において感光体層に使用可能なバインダ樹脂とし
ては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル
樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂
、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、シリコン樹脂、メラミン樹脂等の付加重合型樹
脂、重付加型樹脂、重縮合型樹脂並びにこれらの樹脂の
繰返し単位のうちの2つ以上を含む共重合体樹脂、例え
ば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−
酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂等の絶縁性樹
脂の他、ポリ−N−ビニルカルバゾール等の高分子有機
半導体が挙げられる。
ては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル
樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂
、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、シリコン樹脂、メラミン樹脂等の付加重合型樹
脂、重付加型樹脂、重縮合型樹脂並びにこれらの樹脂の
繰返し単位のうちの2つ以上を含む共重合体樹脂、例え
ば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−
酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂等の絶縁性樹
脂の他、ポリ−N−ビニルカルバゾール等の高分子有機
半導体が挙げられる。
また、前記中間層は接着層又はバリヤ層等として機能す
るもので、上記バインダ樹脂の外に、例えばボリヒニル
アルコール、エチルセルロース、カルボキシメチルセル
ロース、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル
−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、カゼイン、N
−アルコキンメチル化ナイロン、澱粉等が用いられる。
るもので、上記バインダ樹脂の外に、例えばボリヒニル
アルコール、エチルセルロース、カルボキシメチルセル
ロース、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル
−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、カゼイン、N
−アルコキンメチル化ナイロン、澱粉等が用いられる。
次に前記感光体層を支持する導電性支持体としては、ア
ルミニウム、ニッケルなどの金属板、金属ドラム又は金
属箔、アルミニウム、酸化錫、酸化インジウムなどを蒸
着したプラスチックフィルムあるいは導電性物質を塗布
した紙、プラスチックなどのフィルム又はドラムを使用
することができる。
ルミニウム、ニッケルなどの金属板、金属ドラム又は金
属箔、アルミニウム、酸化錫、酸化インジウムなどを蒸
着したプラスチックフィルムあるいは導電性物質を塗布
した紙、プラスチックなどのフィルム又はドラムを使用
することができる。
CGLは既述のCGMを上記支持体上に真空蒸着させる
方法、CGMを適当な溶剤に単独らしくは適当なバイン
ダ樹脂と共に溶解らしくは分散せしめたものを塗布して
乾燥さUる方法により設けることができる。
方法、CGMを適当な溶剤に単独らしくは適当なバイン
ダ樹脂と共に溶解らしくは分散せしめたものを塗布して
乾燥さUる方法により設けることができる。
上記CG Mを分故仕しめてCGLを形成する場合、当
該CGMは2μm以下、好ましくは1μm以下の平均粒
径の扮拉体とするのが好ましい。即ち、粒径があまり大
きいと層中への分散が悪くなると兵に、粒子が表面に一
部突出して表面の平滑性が悪くなり、場合によっては粒
子の突出部分で放電が生じたり或はそこにトナー粒子が
付着してトナーフィルミング現象が生じ易い。
該CGMは2μm以下、好ましくは1μm以下の平均粒
径の扮拉体とするのが好ましい。即ち、粒径があまり大
きいと層中への分散が悪くなると兵に、粒子が表面に一
部突出して表面の平滑性が悪くなり、場合によっては粒
子の突出部分で放電が生じたり或はそこにトナー粒子が
付着してトナーフィルミング現象が生じ易い。
ただし、上記粒径があまり小さいと却って凝集し易く、
層の抵抗が上昇したり、結晶欠陥が増えて感度及び繰返
し特性が低下したり、或いは微細化する上で限界がある
から、平均粒径の下限を0.01μmとするのが望まし
い。
層の抵抗が上昇したり、結晶欠陥が増えて感度及び繰返
し特性が低下したり、或いは微細化する上で限界がある
から、平均粒径の下限を0.01μmとするのが望まし
い。
CGLは、次の如き方法によって設けることができろ。
即ち、記述のCGLをホールミル、ホモミキサ等によっ
て分散媒中で微細粒子とし、バインダ樹脂を加えて混合
分散して得られる分散液を塗布する方法である。この方
法において超音波の作用下に粒子を分散させると、均一
分散が可能である。
て分散媒中で微細粒子とし、バインダ樹脂を加えて混合
分散して得られる分散液を塗布する方法である。この方
法において超音波の作用下に粒子を分散させると、均一
分散が可能である。
CTLの形成に用いられる溶媒としては、例えばLN−
ジメチルホルムアミド、ベンゼン、トルエン、キンレン
、モノクロルベンゼン、1.2−ジクロロエタン、ジク
ロロメタン、1,1.2−トリクロロエタン、テトラ上
10フラン、メチルエチルケトン、酢酸J、チル、酢酸
ブヂル等を挙げろことができろ。
ジメチルホルムアミド、ベンゼン、トルエン、キンレン
、モノクロルベンゼン、1.2−ジクロロエタン、ジク
ロロメタン、1,1.2−トリクロロエタン、テトラ上
10フラン、メチルエチルケトン、酢酸J、チル、酢酸
ブヂル等を挙げろことができろ。
前記第1.2図及び第4図の様な機能分離層構成では、
CG L 11’ CG Mバインダ樹脂100重量当
り20〜200重量部、好ましくは25〜100重量部
である。CGMがこれより少ないと光感度が低く、残留
電位の増加を招き、又これより多いと暗減衰が増大し、
かつ受容電位が低下する。
CG L 11’ CG Mバインダ樹脂100重量当
り20〜200重量部、好ましくは25〜100重量部
である。CGMがこれより少ないと光感度が低く、残留
電位の増加を招き、又これより多いと暗減衰が増大し、
かつ受容電位が低下する。
以上のようにして形成されるC G Lの膜厚は、正帯
電用構成の場合は好ましくは、1〜lOμm、特に好ま
しくは3〜7μmであり、負帯電用構成の場合は好まし
くは0.01〜IOμm1特に好ましくは0□1〜3μ
mである。
電用構成の場合は好ましくは、1〜lOμm、特に好ま
しくは3〜7μmであり、負帯電用構成の場合は好まし
くは0.01〜IOμm1特に好ましくは0□1〜3μ
mである。
前記正帯電用構成においてはCG Lが表面層となるの
で耐傷性に欠け、耐用性向上のためにはCGL膜厚を厚
くする必要があるが、感度低下を引き起こす。これを抑
制する手段としてCGL中へCT M h<添加される
。この場合のCGMとCTMの比はCGM100重爪部
に対してC’l’M30重量部から400重量部である
。
で耐傷性に欠け、耐用性向上のためにはCGL膜厚を厚
くする必要があるが、感度低下を引き起こす。これを抑
制する手段としてCGL中へCT M h<添加される
。この場合のCGMとCTMの比はCGM100重爪部
に対してC’l’M30重量部から400重量部である
。
しかしながら、このCT MはCGMに比べ複合劣化を
受は易い措造を有するので、紫外線等により容易に劣化
を受は感光体の耐久性が損なわれる。
受は易い措造を有するので、紫外線等により容易に劣化
を受は感光体の耐久性が損なわれる。
本発明は、この悪循環を本発明の化合物の添加により解
消したしのである。
消したしのである。
次に、Ci’ L ハ、既述のCTMを上述(7)CG
Lと同様にして (即ち、単独であるいは上述のバイン
ダ樹脂と共に溶解、分散せしめたものを塗布、乾燥して
)形成することができる。
Lと同様にして (即ち、単独であるいは上述のバイン
ダ樹脂と共に溶解、分散せしめたものを塗布、乾燥して
)形成することができる。
CTL中のC1’ M量はバインダ樹脂100重量部当
り20〜200重量部、好ましくは30〜150重量部
である。
り20〜200重量部、好ましくは30〜150重量部
である。
c ’r Mの含有割合がこれより少ないと光感度が悪
く残留電位が高くなり易く、又これより多いと溶媒溶解
性が悪くなる。
く残留電位が高くなり易く、又これより多いと溶媒溶解
性が悪くなる。
形成されるC ’I’ Lの膜厚は、好ましくは5〜5
0μm1特に好ましくは5〜30μmである。また、C
Gl、とCTLの膜厚比はl:(1〜30)であるのが
好ましい。
0μm1特に好ましくは5〜30μmである。また、C
Gl、とCTLの膜厚比はl:(1〜30)であるのが
好ましい。
前記第3図に示した単層構成の場合、CGMかバインダ
樹脂に含有される割合は、バインダ樹脂100重量部に
対して20〜200重量部、好ましくは25〜1(10
重量部である。
樹脂に含有される割合は、バインダ樹脂100重量部に
対して20〜200重量部、好ましくは25〜1(10
重量部である。
CG Mの含有割合がこれより少ないと光感度が低く、
残留電位の増加を招き、又これより多いと暗減衰及び受
容電位が低下する。
残留電位の増加を招き、又これより多いと暗減衰及び受
容電位が低下する。
またC T Mがバインダ樹脂に対して含有される割合
は、バインダ樹脂100重量部に対して20〜200徂
全部、好ましくは30〜150重−置部である。
は、バインダ樹脂100重量部に対して20〜200徂
全部、好ましくは30〜150重−置部である。
CT Mの含a割合かこれより少ないと光感度が悪く残
留電位が高くなり易く、又これより多いと溶媒溶解性か
悪くなる。
留電位が高くなり易く、又これより多いと溶媒溶解性か
悪くなる。
単層FM成の場合感光体層中のCG Mに対するC1’
Mの量比は重量比で1:3〜1・2とするのが好まし
い。また、この場合の感光体層の膜厚は7〜5071m
、好ましくは10〜30μmである。
Mの量比は重量比で1:3〜1・2とするのが好まし
い。また、この場合の感光体層の膜厚は7〜5071m
、好ましくは10〜30μmである。
本発明おいて必要に応じて設けられるOCLのバインダ
として体積抵抗108Ωcm以上、好ましくは1010
Ωcm以上、より好ましくはIQ13Ωcm以上の透明
樹脂が用いろれろ。又11を記バインダは光又は熱によ
り硬化する樹脂を少なくと乙50重量%以上含有ずろら
のとされろ。
として体積抵抗108Ωcm以上、好ましくは1010
Ωcm以上、より好ましくはIQ13Ωcm以上の透明
樹脂が用いろれろ。又11を記バインダは光又は熱によ
り硬化する樹脂を少なくと乙50重量%以上含有ずろら
のとされろ。
かかる光又は熱により硬化する樹脂としては、例えば熱
硬化性アクリル樹脂、ノリコン樹脂、エポキシ樹脂、ウ
レタン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル
樹1旨、アルキッド樹脂、メラミン樹脂、光硬化性の桂
皮酸樹脂等又はこれらの共重合らしくは共縮合樹脂があ
り、その外電子写真材料に供される光又は熱硬化性樹脂
の全てが利用される。又前記CGL中には加工性及び物
性の改良(亀裂防止、柔軟性付与等)を目的として必要
により熱可塑性樹脂を50重量%未満含有仕しめること
ができる。かかる熱可塑性樹脂としては、例えばポリプ
ロピレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル
樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ブヂラール樹脂
、ポリカーボネート樹脂、ノリコン樹脂、又はこれらの
共重合樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹
脂、塩化ヒニルー酢酸ビニルー無水マレイン酸ノ(重合
体樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール等の高分子何機
半導体、その他電子写真付料に供されろ熱可塑性樹脂の
全てが利用される。
硬化性アクリル樹脂、ノリコン樹脂、エポキシ樹脂、ウ
レタン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル
樹1旨、アルキッド樹脂、メラミン樹脂、光硬化性の桂
皮酸樹脂等又はこれらの共重合らしくは共縮合樹脂があ
り、その外電子写真材料に供される光又は熱硬化性樹脂
の全てが利用される。又前記CGL中には加工性及び物
性の改良(亀裂防止、柔軟性付与等)を目的として必要
により熱可塑性樹脂を50重量%未満含有仕しめること
ができる。かかる熱可塑性樹脂としては、例えばポリプ
ロピレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル
樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ブヂラール樹脂
、ポリカーボネート樹脂、ノリコン樹脂、又はこれらの
共重合樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹
脂、塩化ヒニルー酢酸ビニルー無水マレイン酸ノ(重合
体樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール等の高分子何機
半導体、その他電子写真付料に供されろ熱可塑性樹脂の
全てが利用される。
また前記OC[、は、電子受容性物質を含灯してもよく
、その他、必要によりCGLを保護する目的で酸化防止
剤等を含有してもよく、前記バインダと共に溶剤に溶解
され、例えばディップ塗布、スプレー塗布、ブレード塗
布、ロール塗布等により塗布・乾燥されて2μm以下、
好ましくは1μm以下の層厚に形成される。
、その他、必要によりCGLを保護する目的で酸化防止
剤等を含有してもよく、前記バインダと共に溶剤に溶解
され、例えばディップ塗布、スプレー塗布、ブレード塗
布、ロール塗布等により塗布・乾燥されて2μm以下、
好ましくは1μm以下の層厚に形成される。
以下、本発明を実施例により説明するが、これにより本
発明の実施の態様が限定されるらのではない。
発明の実施の態様が限定されるらのではない。
実施例 1
アルミニウム箔をラミネートしたポリエステルフィルム
、及びアルミニウムドラムより成る導電性支持体上に、
塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体(エ
スレックMF”−10、漬水化学工業社製)よりなる厚
さ01μmの中間層を形成した。
、及びアルミニウムドラムより成る導電性支持体上に、
塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体(エ
スレックMF”−10、漬水化学工業社製)よりなる厚
さ01μmの中間層を形成した。
次いてc ’r M (IX−75)/ポリカーボネー
ト樹脂(パンライトL −1250、帝人化成社製)−
75/100(重量比)を16.5重量%含有する1、
2−ジクロルエタン溶液を前記中間層上にディップ塗布
、乾燥して15μm厚のCT Lを得た。
ト樹脂(パンライトL −1250、帝人化成社製)−
75/100(重量比)を16.5重量%含有する1、
2−ジクロルエタン溶液を前記中間層上にディップ塗布
、乾燥して15μm厚のCT Lを得た。
次いで、CG Mとして昇華した4、10−ジブロモア
ンスアンスロン(VI−3)/パンライトL−1250
= 50/ 100(重量比)をボールミルで24時間
粉砕し、9市里%になるよう1.2−ジクロルエタンを
加えて更にボールミルで24時間分散した液にCTM(
IX−75)をパンライトI、−1250に対して75
重量%および本発明の化合物(1)をCT Mに対して
10重量%加えた。この分散液にモノクロロベンゼンを
加えてモノクロロベンゼン/1.2−ジクロルエタン=
3/7(体積比)になるよう調製したものをCTL上に
スプレー塗布方法により厚さ5μmのCGLを形成し、
積層構成の感光体層を何する本発明の感光体Iを得た。
ンスアンスロン(VI−3)/パンライトL−1250
= 50/ 100(重量比)をボールミルで24時間
粉砕し、9市里%になるよう1.2−ジクロルエタンを
加えて更にボールミルで24時間分散した液にCTM(
IX−75)をパンライトI、−1250に対して75
重量%および本発明の化合物(1)をCT Mに対して
10重量%加えた。この分散液にモノクロロベンゼンを
加えてモノクロロベンゼン/1.2−ジクロルエタン=
3/7(体積比)になるよう調製したものをCTL上に
スプレー塗布方法により厚さ5μmのCGLを形成し、
積層構成の感光体層を何する本発明の感光体Iを得た。
比較例(1)
CG L中の化合物(1)を除いた以外は実施例1と同
様にして比較用の感光体(1)を得た。
様にして比較用の感光体(1)を得た。
実施例 2
実施例1における化合物(1)に代えて、化合物(2)
を添加した以外は実施例1と同様にして感光体2を得た
。
を添加した以外は実施例1と同様にして感光体2を得た
。
実施例 3
実施例■のCGLから化合物(1)を除いた感光体(比
較例1の感光体に同じ)上に、熱硬化性アクリルーメラ
ミンーエポキン(1:I :l)樹脂155重量部およ
び本発明の化合物(1)0.155重量部をモノクロ〔
1ヘンゼン/1,1..2−トリクロロエタン(1/1
体積比)混合溶媒100重量部中に溶解して得られた塗
布液をスプレー塗布、乾燥して1μm厚のOCLを形成
し、本発明の感光体3を得た。
較例1の感光体に同じ)上に、熱硬化性アクリルーメラ
ミンーエポキン(1:I :l)樹脂155重量部およ
び本発明の化合物(1)0.155重量部をモノクロ〔
1ヘンゼン/1,1..2−トリクロロエタン(1/1
体積比)混合溶媒100重量部中に溶解して得られた塗
布液をスプレー塗布、乾燥して1μm厚のOCLを形成
し、本発明の感光体3を得た。
実施例 4
実施例1のCG Lから化合物(1)を除いた感光体上
に、ンリコンハートコート用プライマPI191(東芝
シリコン社製)を0.1μm厚にスプレー塗布し、更に
その上にノリコンバートコートトスガード510(東芝
/リコン社製)および化合物(1)を樹脂100重量部
に対して10重量部となるよう添加した溶液をスプレー
塗布、乾燥して171m0CLを形成し、本発明の感光
体4を得た。
に、ンリコンハートコート用プライマPI191(東芝
シリコン社製)を0.1μm厚にスプレー塗布し、更に
その上にノリコンバートコートトスガード510(東芝
/リコン社製)および化合物(1)を樹脂100重量部
に対して10重量部となるよう添加した溶液をスプレー
塗布、乾燥して171m0CLを形成し、本発明の感光
体4を得た。
実施例 5
アルミニウム箔をラミネートしたポリエステルフィルム
、及びアルミニウムドラムより成る導電性支持体上に実
施例1と全く同様の中間層を形成した。
、及びアルミニウムドラムより成る導電性支持体上に実
施例1と全く同様の中間層を形成した。
次いでC’1’ L用塗布液としてブチラール樹脂(エ
スレック13X−1、種水化学社製)8重量%、CT
M (IX −75) 6重量%となるようメチルエチ
ルケトンに溶解して得られろ溶液を前記中間層上に塗布
、乾燥して10μm厚のC’I’ Lを形成した。
スレック13X−1、種水化学社製)8重量%、CT
M (IX −75) 6重量%となるようメチルエチ
ルケトンに溶解して得られろ溶液を前記中間層上に塗布
、乾燥して10μm厚のC’I’ Lを形成した。
次いてCG M CI’/−7)0.29をペイントコ
ンデンヨナ(Paint Conditioner、
17ed DevilFf製)で30分粉砕し、これに
ポリカーボネート樹脂(パンライトL−1250、前出
)を1.2−ジクロロエタン/l、 1.2−トリクロ
ロエタン混合溶媒に0.5重量%となるよう溶解さけた
溶液を8.3g加えて3分間分散した後、これにポリカ
ーボネート樹脂、CT M (IX −75)および化
合物(1)を、それぞれ3.3重量%、2.6重量%お
よび0.26重量%となるよう1.2−ジクロロエタン
/1.1.2−トリクロロエタン混合溶媒に溶解して得
られる溶液+9.tyを加えて更に300分間分散た。
ンデンヨナ(Paint Conditioner、
17ed DevilFf製)で30分粉砕し、これに
ポリカーボネート樹脂(パンライトL−1250、前出
)を1.2−ジクロロエタン/l、 1.2−トリクロ
ロエタン混合溶媒に0.5重量%となるよう溶解さけた
溶液を8.3g加えて3分間分散した後、これにポリカ
ーボネート樹脂、CT M (IX −75)および化
合物(1)を、それぞれ3.3重量%、2.6重量%お
よび0.26重量%となるよう1.2−ジクロロエタン
/1.1.2−トリクロロエタン混合溶媒に溶解して得
られる溶液+9.tyを加えて更に300分間分散た。
かくして得られた分散液を前記CTL上にスプレー塗布
し、かつ乾燥して5μm厚のCGLを形成し、積層構成
の感光体層を汀する本発明の態様の感光体5を得た。
し、かつ乾燥して5μm厚のCGLを形成し、積層構成
の感光体層を汀する本発明の態様の感光体5を得た。
比較例 (2)
CGL中の化合物(1)を除いた以外は実施例5と同様
にして比較用の感光体(2)を得た。
にして比較用の感光体(2)を得た。
実施例 6
実施例5における化合物(1)に代えて、化合物(2)
を添加した以外は実施例5と同様にして本発明の感光体
6を得た。
を添加した以外は実施例5と同様にして本発明の感光体
6を得た。
実施例 7
実施例5のCGLから化合物(1)を除いた感光体(比
較例2の感光体に同じ)上に、実施例3に用いた化合物
(1)を含有するOCLを設け、本発明の感光体7を得
た。
較例2の感光体に同じ)上に、実施例3に用いた化合物
(1)を含有するOCLを設け、本発明の感光体7を得
た。
実施例 8
実施例5のCGLから化合物(1)を除いた感光体上に
、実施例7に用いた化合物(1)を含有するOCLを設
け、本発明の感光体8を得た。
、実施例7に用いた化合物(1)を含有するOCLを設
け、本発明の感光体8を得た。
実施例 9
アルミニウム箔をラミネートしたポリエステルフィルム
、及びアルミニウムドラム上に、実施例1と全く同様の
中間層を形成した。
、及びアルミニウムドラム上に、実施例1と全く同様の
中間層を形成した。
次いで昇華した4、IO−ジブロモアンスアンスロン(
’i’l1−3)40を磁製ボールミルにて4Orpm
で24時間粉砕し、パンライトL −1250、(前出
)20gと1,2−ジクロロエタン1300m12を加
え、更に24時間分散してCGL用塗布液とした。これ
を前記中間層上に塗布し膜71μmのCGLを設けた。
’i’l1−3)40を磁製ボールミルにて4Orpm
で24時間粉砕し、パンライトL −1250、(前出
)20gと1,2−ジクロロエタン1300m12を加
え、更に24時間分散してCGL用塗布液とした。これ
を前記中間層上に塗布し膜71μmのCGLを設けた。
゛次いでCT M (IX −61)7.5
g、パンライトL−1250109および化合物(+
)0.75gを、1.2−ジクロロエタン80mQに溶
解した溶液を前記CGLに塗布して膜厚15μmのCT
Lを形成し、本発明の感光体9を作成した。
g、パンライトL−1250109および化合物(+
)0.75gを、1.2−ジクロロエタン80mQに溶
解した溶液を前記CGLに塗布して膜厚15μmのCT
Lを形成し、本発明の感光体9を作成した。
比較例 (3)
C’I’ L中の化合物(+)を除いた以外は実施例9
と同様にして比較用の感光体(3)を得た。
と同様にして比較用の感光体(3)を得た。
実施例IO
アルミニウム箔をラミネートしたポリエステルフィルム
、及びアルミニウムドラムから成る導電性支持体上に、
実施例■と全く同様の中間層を形成 し ノニ 。
、及びアルミニウムドラムから成る導電性支持体上に、
実施例■と全く同様の中間層を形成 し ノニ 。
次いでCGLとしてビスアゾ化合物(■づ)1.59を
1.2−ジクロロエタン/モノエタノールアミン(10
00/ 1体積比)混合溶媒100m(!中にボールミ
ルで8時間分散さけた分散液を上記中間層上に塗布し、
充分乾燥して0.39厚のCGLを設けた。
1.2−ジクロロエタン/モノエタノールアミン(10
00/ 1体積比)混合溶媒100m(!中にボールミ
ルで8時間分散さけた分散液を上記中間層上に塗布し、
充分乾燥して0.39厚のCGLを設けた。
次いでCT Mとしてスチリル化合物(IX−43)1
1.259、パンライトL−1250(萌出月59およ
び化合物(1)1.259を1.2−ジクロロエタン1
00mQに溶解した溶液を前記CGL上に塗布し、充分
乾燥して15/1m l’、iのCTLを形成し、本発
明の感光体10を作成した。
1.259、パンライトL−1250(萌出月59およ
び化合物(1)1.259を1.2−ジクロロエタン1
00mQに溶解した溶液を前記CGL上に塗布し、充分
乾燥して15/1m l’、iのCTLを形成し、本発
明の感光体10を作成した。
比較例 (4)
C’I’ L中の化合物(1)を除いた以外は、実施例
10と同様にして比較用の感光体(・1)を作成した。
10と同様にして比較用の感光体(・1)を作成した。
面5己実施例試料1〜10及び比較例試料(1)〜(4
)についてUV耐性について、帯電性に対する2万回の
実写テスト及びU■曝射による感度変化の定量的測定を
行った。
)についてUV耐性について、帯電性に対する2万回の
実写テスト及びU■曝射による感度変化の定量的測定を
行った。
帯電性実写テストは、U−B ix 2812 MR(
小西六写真工業(株)製)の改造実験機に試料感光体ド
ラムを装着し、正または負帯電させ、前記感光体に対す
る像露光をはじめとずろ各工程及び定着からなる単位ザ
イクルを2万回繰返し、実写テスト初期の正、負帯電電
位を±v、、2万回終了後回終了後帯電電位を士■1と
する。
小西六写真工業(株)製)の改造実験機に試料感光体ド
ラムを装着し、正または負帯電させ、前記感光体に対す
る像露光をはじめとずろ各工程及び定着からなる単位ザ
イクルを2万回繰返し、実写テスト初期の正、負帯電電
位を±v、、2万回終了後回終了後帯電電位を士■1と
する。
またU、 V曝射による感度変化は、既知強度の紫外線
を試料フィルムを断裁した感光体シートに照射し、その
照射面後に於て、十まfこは一600Vに帯電させた該
感光体の電位を夫々±100Vにまで青す露光量E60
0を用いて求めた。
を試料フィルムを断裁した感光体シートに照射し、その
照射面後に於て、十まfこは一600Vに帯電させた該
感光体の電位を夫々±100Vにまで青す露光量E60
0を用いて求めた。
感光体の感度SはE”’■I/Sの関係として定義され
、E800が小さいほど感度Sは大きく硬界1な画像か
えられる。
、E800が小さいほど感度Sは大きく硬界1な画像か
えられる。
UV114射前後の感度を夫々So、S+とすれば、そ
の逆数比n s;(1/ S 1)/ (1/ S o
)−S o/ S 1はUV耐性を表し、Rsが大きい
ほどUV耐性があることになる。
の逆数比n s;(1/ S 1)/ (1/ S o
)−S o/ S 1はUV耐性を表し、Rsが大きい
ほどUV耐性があることになる。
UV照射は理化学用水銀ランプS [I L −100
U V−2((株)東芝製)を用い試料の感光体ソート
を30cmの距離に置き他の電磁波を遮断しUV強度1
500cd/m2で100分間照射を行い、−感度測定
は静電試験機(川口電機製作所、5P−428型)によ
った。
U V−2((株)東芝製)を用い試料の感光体ソート
を30cmの距離に置き他の電磁波を遮断しUV強度1
500cd/m2で100分間照射を行い、−感度測定
は静電試験機(川口電機製作所、5P−428型)によ
った。
これらの結果を第1表に示す。
第1表
註、括弧を付した試料No、は比較試料第1表からし明
らかなように、本発明の化合物を添加することにより、
紫外線照射下におけるコロナ帯電での電位低下が著しく
改善される。しから、本発明の化合物の添加により、感
度低下ら殆どないことが判る。
らかなように、本発明の化合物を添加することにより、
紫外線照射下におけるコロナ帯電での電位低下が著しく
改善される。しから、本発明の化合物の添加により、感
度低下ら殆どないことが判る。
第1図〜第4図は本発明の感光体の断面図である。
l・・・支持体
2・・・電荷発生層(CGL)
3・・・電荷輸送層(CTL)
4・・・感光層
5・・・電荷発生物質(CGM)
6 ・電荷輸送物質(CTM)
7・・・中間層
8・・・保護層(OCL)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 導電性支持体上に電荷発生物質及び電荷輸送物質を含ん
でなる層を有する電子写真感光体に於て、下記一般式で
表される化合物を含有することを特徴とする電子写真感
光体。 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは水素またはハロゲン原子を表し、R_1は
アミノ、アルキル、アリールアミノ、アルコキシ、フェ
ニルオキシ、ニトロの各基またはハロゲン原子を表し、
アルキル基は置換基を有してもよい。R_2はアミノ、
アルキル、アリールアミノ、アルコキシ及びフェニルオ
キシの各基を表す。〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30493986A JPS63155047A (ja) | 1986-12-18 | 1986-12-18 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30493986A JPS63155047A (ja) | 1986-12-18 | 1986-12-18 | 電子写真感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63155047A true JPS63155047A (ja) | 1988-06-28 |
JPH0547823B2 JPH0547823B2 (ja) | 1993-07-19 |
Family
ID=17939135
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30493986A Granted JPS63155047A (ja) | 1986-12-18 | 1986-12-18 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63155047A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5286588A (en) * | 1989-08-24 | 1994-02-15 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor |
US5424158A (en) * | 1990-03-26 | 1995-06-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Photosensitive material for electrophotography comprising metal free phthalocyanine molecularly dispersed in the binder polymer |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57122444A (en) * | 1981-01-23 | 1982-07-30 | Canon Inc | Electrophotographic receptor |
JPS58152247A (ja) * | 1982-03-05 | 1983-09-09 | Mita Ind Co Ltd | 電子写真用有機感光体 |
JPS5924852A (ja) * | 1982-08-03 | 1984-02-08 | Mita Ind Co Ltd | 電子写真用感光体 |
JPS59140454A (ja) * | 1983-01-31 | 1984-08-11 | Mita Ind Co Ltd | 電子写真用感光体 |
-
1986
- 1986-12-18 JP JP30493986A patent/JPS63155047A/ja active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57122444A (en) * | 1981-01-23 | 1982-07-30 | Canon Inc | Electrophotographic receptor |
JPS58152247A (ja) * | 1982-03-05 | 1983-09-09 | Mita Ind Co Ltd | 電子写真用有機感光体 |
JPS5924852A (ja) * | 1982-08-03 | 1984-02-08 | Mita Ind Co Ltd | 電子写真用感光体 |
JPS59140454A (ja) * | 1983-01-31 | 1984-08-11 | Mita Ind Co Ltd | 電子写真用感光体 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5286588A (en) * | 1989-08-24 | 1994-02-15 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor |
US5424158A (en) * | 1990-03-26 | 1995-06-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Photosensitive material for electrophotography comprising metal free phthalocyanine molecularly dispersed in the binder polymer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0547823B2 (ja) | 1993-07-19 |
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