JPS63132244A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 電性電子写真感光体の改良に関する。

〔従来の技術〕

カールソン方法の電子写真複写機においては、感光体表
面に帯電させた後、露光によって静電潜像を形成し、そ
の静電潜像をトナーによって現像し、次いでその可視像
を紙等に転写、定着させる。

一方、感光体には付着トナーの除去や除−１表面の清浄
化が施され、長期に亘って反復使用される。

従って、電子写真感光体上しては、帯Ｔ、！、ν性およ
びｇ度が良好で更に暗減衰が小さい等の電子写真特性は
勿論、加えて繰返し使用での耐剛性、耐摩耗性、耐湿性
等の物理的性質や、コロナ散型時に発生するオゾン、露
光時の紫外ｅｉｌ等への耐性（耐環境性）においても良
好であることが要求される。

従来、電子写真感光体上しては、セレン、酸化４鉛、硫
化カドミウム等の無機光導電性物質を主成分とする感光
体層を宵する無機感光体が広く用いられている。

一＋ｍｈｍｔｊ調＠卑３２１Ｗｔ＆ｈ＆ｌ？ｆ−ｒ、〒
工ＷＨＢζ早−体の感光体層の材料として利用すること
が近年活発に研究、開発されている。

例えば特公昭５０１０４９６号には、ポリ−Ｎ−ビニル
カルバゾールと２．４．７−ドリニトロー９−フルオレ
ノンを含有した感光体層を有する有機感光体について記
載されている。しかしこの感光体は、感度及び耐久性に
おいて必ずしも満足できるものではない。このような欠
点を数片するために、感光体層において、電荷発生機能
と電荷輸送機能とを５゛ｄなる物質に個別に分担させる
ごとにより、感度が高くて耐久性の大きい有機感光体を
開発する試みがなされている。このようないわば機能分
離型の電子写真感光体においては、各機能を発揮する物
質を広い範囲のものから選択することができるので、任
ごの特性を有する電子写真感光体を比較的容易に作製す
ることが可能である。

こうした機能分離型の電子写真感光体に有効な電荷発生
物質として、従来数多くの物質が提案されている。無機
物質を用いる例としては、例えば特公昭４３１６１９８
号に記載されているように、無定形セレンがある。これ
は有機電荷輸送物質と組合される。

また、有機染料や有機顔料を電荷発生物質として用いた
電子写真感光体も多数提案されており、例えば、ビスア
ゾ化合物を含有する感光体、フを有するものは、特開昭
４７−３７５４３号、同５５−２２８：Ｎ号、同５４−
７９６３２号、同５６−１１６０４０号等により既に知
られている。

ところで、有機光導電性物質を用いる公知の洛光体は通
常、負帯電用として使用されている。この理由は、負帯
電使用の場合には、？ｕＲのうちホールの移動度が大き
いことから、光感度等の而で有利なためである。

しかしながら、このような負帯電使用の場合の問題は、
帯ｒｊ、器による負÷；）１時に雰囲気中にオゾンが発
生し易くなり、環境条件を悪くしてしまう。

また、負帯電用感光体の現像には正極性のトナーが必要
となるが、正極性のトナーは強磁性体型間粒子に対する
摩擦帯電系列からみて製造が困難であることである。

そこで、有機光導電性物質を用いる感光体を正帯電で使
用する、例えば、電荷発生層上に電荷輸送層を積層し、
電荷輸送層を電子輸送能の大きい物質で形成する正帯電
感光体等が提案されている。

しかしながら電荷輸送層に例えばトリニトロフルオレノ
ン等を含有せしめると、該物質か発癌性である等の問題
を提起することがある。他方、ホール輸送能の大きい電
荷輸送層−Ｌに電荷発生層を積層した正帯電感光体が考
えられるが、この機構では表面側に存在させる電荷発生
層を非常に薄くする必要があり、耐刷性等が悪くなり、
実用的な層構成ではない。

また、ＩＥ帯電感光体上して、米国特許３．６１５，４
１４号には、デアビリリウム塩（電荷発生物質）をポリ
カーボネート（バインダ樹脂）と錯体を形成するように
含有させたものが示されている。しかしこの感光体では
、メモリ現象が大きく、ゴーストも発生し易いという欠
点がある。また米国時、ｉ’Ｆ３．３５７．９８９号に
は、フタロシアニンを含有せしめた感光体が示されてい
るが、フタロシアニンは結晶型によって特性が変化する
上に、結晶型を厳密に制御する必要があり、更に短波長
感度が不足しかつメモリ現象も大きく、可視光波長域の
光源を用いる複写機には不適当である。

このように正帯電感光体を得るための試みが種々行なわ
れているが、いずれも光感度、メモリ現象又は労働衛生
等、また紫外線耐性、耐オゾン酸化性等の耐用性の点で
数群すべき多くの問題点がある。

そこで機能上から光照射時ホール及び電子を発生ずる電
荷発生物質を含有する電荷発生層を上層（表面層）とし
、ホール輸送機能を何する電荷輸送物質を含む電荷輸送
層を下層とする積層構成の感光体を正、負両用帯電感光
体の基本形とし、足らざるを補完することが考えられる
。

なおかかる感光体においては、構造用に例えば電子吸引
性縫を有する電６：ｊ発生物質を用いるようにすれば、
感光体表面の圧電ぶＩを打消すための電子の移動が早く
なり、高感度特性が得られることが考えられる。

しかしながら、前記正帯電感光体は電荷発生物質を含む
層が表面層として形成されるため、光照射、特に紫外線
等の短波光照射、コロナ放電、湿度、オゾン酸化、機械
的摩擦等外部作用に脆弱な電荷発生物質が直接に曝され
ることとなり、感光体の保存中及び像形成の過程で電子
写真性能が劣化し、画質が低下するようになる。

従来の電荷輸送層を表面層とする負帯電感光体において
は、前記各種の外部作用の影響は極めて少なく、むしろ
前記電荷輸送層が下層の電荷発生１・閏を保護する作用
を有している。

そこで、例えば絶縁性かつ透明な樹脂から成るｒｌｌｉ
い保護層を設（ジ、前記電荷発生物質を含む層を外部作
用から保護することが考えられるが、光源ｑ・１時発生
する電荷が該保護層でブロッキングされて光照射効果が
失なわれてくるし、また表面層となる保護層が厚い場合
には感度低下を招き、剰え紫外線遮断効果も少いので、
外部作用からの遮蔽、特に紫外線からの保護を単なる保
護層だけに委ねることはできない。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、正、負帯電に適用することができ、良
好な感度を有し、耐環境性に優れ、特に紫外線耐性、耐
酸化性がよく、耐用物性のよい有機光導電性電子写真感
光体の提供にある。

〔発明の構成及び作用効果〕

前記本発明の目的は、導電性支持体」−に電荷発生物質
（ＣＧＭと標記）及び電荷輸送物質（、Ｃ’Ｉ’　Ｍと
標記）を含んでなる層を有する電子写真感光体に於て、
下記一般式で表わされる化合物を含有することを特徴と
する電子写真感光体によって１成される。

式中、Ｒ１は水素を置換するヒドロキン、アルコキシ、
ニトロ及び置換アミノの各置換基を表し、ｎは０〜３の
整数である。ｎ≧２の時の各Ｒ＋は同じでも異っていて
もよい。また（Ｒ、）ｎは環を形成してもよい。

ｎは水素原子及びアルキル、了り−ル、置換アリールの
各基を表す。ｍはＯまたはｌである。

不発明に係る導電性支持体上に設ける感光体層は、Ｃ’
ｒＭ及びＣＧＭを混和した単層構成でもよいし、ＣＴＭ
を含む層を下層としＣＧＭを含む層を上層とする複層構
成でもよし或はその逆の構成でしよい。また必要に応じ
て保護層　（ＯＣＬと−１−己）を設（すてもよい。

本発明に係る化合物は前記の少くとも一層に添加される
が感光体層表層に添加されることが好ましい。尚表囚に
最も濃密に、内部にゆくに従って逓減さける形態であっ
てもよい。

以下に本発明の詳細な説明する。

カールソンプロセスに基く電子写Ｊ″Ｌプロセスには、
一般に像露光、消去露光、転写前露光、クリーニング露
光等に紫外線を発生ずる光源が用いられており、該光源
からの光に含まれ、可視光に比べ大きなエネルギを有す
る紫外線の繰返し１１．１１射は、感光体に用いられて
いる有機化合物分子を解裂させるに充分である。即ら感
光体をなずＣＧ　Ｍ、ＣＱＭ　％Ｊ−けｒｌ、（〕＋、
　Ｉ’ｆｒ　ｒ４二Ｘ！　Ｊ＋　＋１．　ｈｎ自Ａ　ｙ
？−者：Ｊ　ｌ　−に−Ｊｔｉ　小分子構造を失って劣
化し、従って感光体の劣化を招来し、具体的には感度低
下、残電位］−５７等を惹起し、かぶりの発生、画質の
低下に陥る。

感光体の紫外線或は紫外線及びオゾンによって誘発、派
生する複合劣化は反復して付加される各種露光処理、コ
ロナ放電によって生「るが、露光によって発生ずる一重
項酸素によっても強められると考えられる。また、感光
体の層構成、ＣＧ　ＭやＣＴＭの種類等によっても紫外
線等による複合劣化を受ける程度は変化するが、ＣＴＭ
の方が劣化を受は易く、特に有機光導電性物質を使用ず
ろ場合、その影響は極めて大きい。

本発明者らは、感光体の複合劣化（特に電位低下）の改
良に関し鋭意検討の結果。感光体層中に１肖記一般式で
示される特定の化合物が複合劣化を著しく防止するだけ
でなく、その他の電子写真特性や物理的性質の向上にも
寄ｌチオることを見い出し　ノこ　。

本発明に於て前記一般式で示される化合物は次の化合物
群を包含している。

（Ａ）　　安息香酸エステル類 （Ｉ３）サリチル酸エステル類 （Ｃ）　　ヒドロキシ安息香酸エステル類（Ｉ））アル
コキシ安息香酸エステル類ｎ：　　１，２，３゜ （Ｅ）　　アミノ安息香酸エステル類 （■２）ニトロ安息香酸エステル類 （Ｇ）　　桂皮酸エステル類 Ｒ：　　Ｉ＋、アルキル、アリール、置換アリールＲ’
：ｌ（、ヒドロキシ、アルコキシ ｎ＋　　１．２，３゜ 前記の本発明に係る化合物即ち一般に紫外線吸収剤と目
される化合物の有機物質に対する安定化機構としては、
紫外線　（ＵＶと標記することがある）の保育する分解
エネルギがＵＶ吸収剤内で振動のエネルギに変貌するこ
とによると思われる。

この振動のエネルギは該Ｕｖ吸収剤から熱エネルギとし
て放出されるが、熱エネルギでは既に有機物質を劣化さ
せるには不充分であって、感光体は紫外線の峰返し照射
による害から保護されるものと思われる。

以下に本発明の化合物の代表的具体例を示すが、これに
よって本発明に用いられる化合物がこれらに限定される
ものではない。

（１，２）　　　　　　　　１（ （１４）　　　ｃ＋＋ａ　　　３”　’バラ） （２３）　　　　　　　　　Ｃ，Ｈ，。

（Ｆ）　　　　　　　　　　　　Ｎｏ、　　　　　　　
Ｉ？　　　　　　　　ｎ（２７）　　　　　　　　Ｃ，
２＋１．、　　　２　　（メタ）（２９）　　（ＣＩ！
・０（メタ）　　　　。！１３　　　　　□０１（（バ
ラ） （３０）　　（ＣＨ３０（メタ）ｃ、ｏｅ　　　　２０
＋１　　（バラ） （Ｌ（ン　その他として 本発明において用いられる前記一般式で示される化合物
（以下、本発明の化合物と称する）の添加量は、感光体
の層構成、ＣＴＭの種類などによって一定ではないが、
ＣＴＭに対して、０．１〜１００重Ｍ％、好ましくは１
〜５０重１％、特に好ましくは５〜２５重量％の範囲で
用いられる。

次に本発明の感光体の＋（■成を図面によって説明する
。

本発明の感光体は例えば第１図に示すように支持体１　
（導電性支持体まにはソート上に導電層を設けたしの）
上にＣ０Ｍ５と必要に応してバインダ樹脂を含有する電
荷発生層　（以下、ＣＧＬと標記する）２を下層とし、
ＣＴ　Ｍ　６と必要に応じてバインダ樹脂を含有する電
荷輸送層　（以下、ＣＴＬと標記する）３を上層とする
積層構成の感光体層４を設けたもの、第２図に示すよう
に支持体ｌ上にＣＴ　Ｌ　３を下層と）−１ＣＧＬ２を
上層とする積層構成の感光体層４を設けたもの、および
第３図に示すように支持体！上にＣＧＭ、ＣＴＭおよび
必要に応じてバインダ樹脂を含有する単層構成の感光体
層４を設けたもの等が挙げられる。

また、第２図と同様の層構成で上層のＣＧＩ、にＣＧＭ
とＣＴＭの両方が含有されてもよく、該層の上に保護−
（ＯＣＬ）を設けてもよ（、支持体上′Ｓ先体１の間に
中間層を設けてしよい。第４図にその１例を示しである
。すなわち、支持体ｌ上に中＋Ｆ！ｉ　ｆＷｌ　７を設
け、その上にＣＴ　Ｍ６　ａとバインダ９Ｉ指を含有す
るＣＴＬ　３およびＣＧ〜１５、ＣＴＭ６ｂおよびバイ
ンダ樹脂を含有するＣＧＬ２を積層しｆコ感光体層４を
有し、更にバインダを主成分とずろ０ＣＬ８を設けた感
光体である。

本発明の化合物は、感光体を構成するＣＧＬ、ＣＴＬ、
単層構成感光体層またはＯＣＬのいずれに含有されても
よく、複数層に含有されてもよい。

悴発明の効果がより顕著に発揮されるのは、ＣＧＩ、を
上、智としＣＴＬを下層とする積層構成の感光体におい
てである。

次に本発明に適するＣＧＭとしては、可視光を吸収して
フリー電荷を発生するものであれば、無り顔料及び有機
顔料の何れをも用いることができる。無定形セレン、三
方品系セレノ、セレン−砒；七合金、セレン−テルル合
金、硫化力ｌ・ミウム、化水銀、酸化鉛、硫化鉛等の無
機顔料の外、次の代表例で示されるような９機顔料が用
いられろ。

（１）モノアゾ顔料、ポリアゾ顔料、金属錯塩アゾ顔料
、ピラゾロンアゾ顔料、スヂルヘンアゾ及びチアゾール
アゾ顔料等のアゾ系顔料。

（２）ペリレン酸無水物及びペリレン酸イミド等のペリ
レン系顔料。

（３）アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体
、ジベンズピレンキノン誘導体、ピラントロン誘導体、
ヒオラントロン３秀導体及びイソビオラントロン誘導体
等のアントラキノン系又は多環キノン系顔料 （４）インジゴ誘導体及びヂオインノゴ誘導体等のイン
ノボイド系顔料 （５）金属フタロシアニン及び無金属フタロノアニン等
のフタロシアニン系顔料 （６）　ジフェニルメタン系顔料、トリフヱニルメタン
顔料、キサンチン顔料及びアクリジン顔料等のカルボニ
ウム系顔料 （７）７ジン顔料、オキサノン門Ｕル！ド手ア・ノ゛ノ
顔料等のキノンイミン系顔料 （８）　シアニン顔料及びアゾメチン顔料等のメチン系
顔料 （９）キノリン系顔料 （１０）ニトロ系顔料 （１１）二）・ロソ系顔料 （１２）　　ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料（１
３）ナフタルイミド系顔料 （１４）　　ビスベンズイミダゾール誘導体等のペリノ
ン系顔料 １１［ｊ足木発明に用いられるアゾ系顔料としては、例
えば次の例示構造化合物群（１）〜〔■〕で示されるも
のがあり、該例示構造化合物群の中の個々の好ましい具
体的化合物の数例を併せ掲げる。

その好ましい具体的化合物の全容については特願昭６１
−１９５８８１号が参照される。

／−二・、 以下５．茶゛、、白 例示構造化合物群［１）コ 例示構造化合物群〔■〕： 例示構造化合物群〔■〕； 例示構造化合物群〔■〕。

例示構造化合物群〔■〕ニ ー！　ｊ二、以下の多環キノン顔料から成る例示構造化
合物群〔■〕〜（Ｖｌ　）はＣＧ　Ｍとして最も好ま例
示構造化合物群（ＶＩ）・ 例示構造化合物群〔〜１〕： ″）、 例示構造化合物群〔■〕： 次に本発明で使用可能なＣＴ　Ｍとしては、特に制限は
ないが、例えばオキサゾール誘導体、オキサノアゾール
誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、ト
リアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダシロン
誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘
導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン
誘導体、オキサシロン誘導体、ヘンジチアゾール誘導体
、ヘンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ヘン
シフラン誘導体、アクリジン誘導体、フエナンン誘導体
、アミノスチルベン誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾ
ール、ポリ−１−ビニルピレン、ポリ−９−ビニルアン
トラセン等であってよい。

しかしながら光照射時発生するホールの支持体側への輸
送能力か浸れている外、前記ＣＧＭとの組合せに好適な
らのが好ましく用いられ、かかるＣＴＭとしては、例え
ば下記例示構造化合物群〔ＩＸ〕又はＣＸ）で示される
スチル化合物が使用されろ。該例示構造化合物群中の個
々の具体的化合物の数例を併仕掲げろが、その全貌につ
いてはＬＡ’Ｉｒ６　　ｌＶ２　　Ｒ＋　　−１Ｑへ只
２１興　ｈ（歿　ＩＩ召　七　光　Ａ例示構造化合物群
〔ＩＸ〕・ 例示構造化合物群（Ｘ） また、ＣＴＭとして下記例示構造化合物ＩＨ（ＸＩ　）
〜（ＸＶ）で示されるヒドラゾン化合物し使用可能であ
る。向側々の具体的化合物の全容については特願昭６１
．−１９５８８１号が参照され札。

例示構造化合物群〔■〕 例示構造化合物群（ＸＩＩＩ　）　： 例示構造化合物！ｎ　（ｘ　＋Ｖ　）・例示構造化合物
群（ＸＶ　）　： 例示構造化合物群ＣＸ■）： また、ＣＴＭとして下記例示構造化合物群〔Ｘ■〕で示
されるアミン誘導体ら便用可能である。

尚詳しくは特願昭６１−１９５８８１号が参照される。

本発明の感光体の層構成は前記のように積層構成と単層
構成とがあるが、表面層となるＣＴＬ。

ＣＧ　Ｌ、ＯＣＬ、中層感光体層またはｏＣＬのいずれ
か、もしくは複数層には感度の向上、残留電位ないし反
復使用時の疲労低減等を目的として、１種または２種以
上の電子受容性物質を含有せしめることができる。

本発明の感光体に使用可能な電子受容性物質としては、
例えば無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレ
イン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、テ
トラブロム無水フタル酸、３−ニトロ無水フタル酸、４
−ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メリ
ット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメ
タン、０−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、
１，３．５．−トリニトロベンゼン、パラニトロベンゾ
ニトリル、ビクリルクロライド、キノンクロルイミド、
クロラニル、ブルマニル、２−メチルナフトキノン、ジ
クロロジシアノバラベンゾキノン、アントラキノン、ジ
ニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、９−
フルオレニリデン〔ジシアノメチレンマロノジニトリル
〕、ポリニドａ−９−フルオレニリデンー〔ジシアノメ
チレンマロノジニトリル〕、ピクリン酸、フタル酸等が
挙げられろ。

本発明において感光体層に使用可能なバインダ樹脂とし
ては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル
樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、エボキン樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂
、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーホネー
ト樹脂、ソリコン樹脂、メラミン樹脂等の付加重合型樹
脂、重付加型樹脂、重縮合型樹脂並びにこれらの樹脂の
９Ｎ１返し単位のうちの２つ以上を含む共重合体樹脂、
例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂等の絶縁
性樹脂の他、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール等の高分子
有機半導体が挙げられろ。

また、前記中間層は接着層又はバリヤｎ等として機能す
るもので、上記バインダ樹脂の外に、例えばポリビニル
アルコール、エチルセルロース、カルボキシメチルセル
ロース、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル
−酢酸ビニル−無水マし・イン酸共重合体、カゼイン、
Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、澱粉等が用いられる
。

次に前記感光体層を支持する導電性支持体上しては、ア
ルミニウム、ニッケルなどの金属板、金属ドラム又は金
属箔、アルミニウム、酸化錫、酸化インジウムなどを蒸
着したプラスチックフィルムあるいは導電性物質を塗布
した紙、プラスチツクなどのフィルム又はドラムを使用
することができる。

ＣＧＬは既述のＣＧＭを上記支持体上に真空蒸着させる
方法、ＣＧＭを適当な溶剤に単独もしくは心当なバイン
ダ樹脂と共に溶解もしくは分散せしめたものを塗布して
乾燥さける方法により設けることができる。

上記ＣＧＭを分散せしめてＣＧＬを形成する場合、当該
ＣＧＭは２μｍ以下、好ましくは１μｍ以下の平均粒径
の粉粒体上するのが好ましい。即ち、粒径があまり大き
いと層中への分散が悪くなると共に、粒子が表面に一部
突出して表面の平滑性が悪くなり、場合によっては粒子
の突出部分で放電が生じたり或はそこにトナー粒子が付
着してトナーフィルミング現象が生じ易い。

ただし、上記粒径があまり小さいと却って凝集し易く、
層の抵抗が上昇したり、結晶欠陥が増えて感度及び繰返
し特性が低下したり、或いは微細化する上で限界がある
から、平均粒径の下限を０．０１μｍとするのが望まし
い。

ＣＧＬは、次の如き方法によって設けることができる。

即ち、記述のＣＣＬをボールミル、ホモミキザ等によっ
て分散媒中で微細粒子とし、バインダ樹脂を加えて混合
分散して得られる分散液を塗布する方法である。この方
法において超音波の作用下に粒子を分散さＵ゛ろと、均
一分散が可能である。

ＣＴ　Ｌの形成に用いられる溶媒としては、例えばＮ、
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ベンゼン、トルエン、ギン
レン、モノクロルベンゼン、１．２−ジクロロエタン、
ジクロロメタン、！、１．２−トリクロロエタン、テト
ラヒドロフラン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢
酸ブチル等を挙げることができる。

前記第１．２図及び第４図の様な機能分離層構成では、
ＣＧＬ中ＣＧＭバインダ樹脂１００重量当り２０〜２０
０重量部、好ましくは２５〜１００重量部である。ＣＧ
Ｍがこれより少ないと光感度が低く、残留電位の増加を
招き、又これより多いと暗減衰が増大し、かつ受容電位
が低下する。

以上のようにして形成されるＣＧＬの膜厚は、正帯電用
構成の場合は好ましくは、１〜１０μｍ１特に好ましく
は３〜７μｍであり、負帯電用構成の場合は好ましくは
０．０１〜１０μｍ１特に好ましくは０．１〜３μｍで
ある。

前記正帯電用構成においてはＣＧＬが表面層となるので
耐傷性に欠け、耐用性向上のためにはＣＧＬ膜厚を厚く
する必要があるが、感度低下を引き起こす。これを抑制
する手段としてＣＧＬ中へＣ′Ｉ”　Ｍが添加される。

この場合のＣＧＭとＣ’ｒ　Ｍの比ｉ；ｋｃＧＭ１００
重量部に対してｃＴＭ３０重量部から４００重量部であ
る。

しかしながら、このＣＴＭはＣＧＭに比べ複合劣化を受
は易い構造を有するので、紫外線等により容易に劣化を
受は感光体の耐久性が損なわれる。

本発明は、この悪循環を本発明の化合物の添加により解
消したものである。

次に、ＣＴＬは、既述のＣＴ　Ｍを上述のＣＧＬと同様
にして　（即ち、単独であるいは上述のバインダ樹脂と
共に溶解、分散せしめたものを塗布、乾燥して）形成す
ることができる。

ＣＴＬ中のＣＴ　Ｍ　ｆｆｌはバインダ樹脂１００重量
部当り２０〜２００重量部、好ましくは３０〜１５０重
量部である。

Ｃ’］’　Ｍの含有割合がこれより少ないと光感度が、
悪く残留Ｉｕ位が高くなり易く、又これより多いと溶媒
溶解性が悪くなる。

形成されるＣＴＬの膜厚は、好ましくは５〜５０μｍ、
特に好ましくは５〜３０μｍである。また、ＣＧＬとＣ
ＴＬの膜厚比は１：（１〜３０）であるのが好ましい。

前記第３図に示した単層構成の場合、ＣＧ　Ｍがバイン
ダ樹脂に含有される割合は、バインダ樹脂１、００１７
４１部に対して２０〜２００重９部、好ましくは２５〜
ｌ　００　＞１量部である。

ＣＧＭの含有割合がこれより少ないと光感度が低く、残
留電位の増加を招き、又これより多いと暗減衰及び受容
電位が低下する。

またＣＴＭがバインダ樹脂に対して含有される割合は、
バインダ樹脂１００重６ｔ　ｆ’ｌに対して２０〜２０
０重ｊｌｔ部、好ましくは３０〜１５０重量部である。

ＣＴ　Ｍの含有割合がこれより少ないと光感度が悪く残
留電位が高くなり易く、又これより多いと溶媒溶解性が
悪くなる。

中層構成の場合感光体層中のＣＧＭに対するＣＴ　Ｍの
へ１比は重Ｉ′ｉｔ比でｌ：３〜１：２とするのが好ま
しい。また、この場合の感光体層の膜厚は７〜５０μｍ
１　好ましくは１０〜３０μｍである。

本発明おいて必要に応じて設けられるＯ　Ｃｔ、のバイ
ンダとして体積抵抗１０”００１以上、好ましくは＋、
　ａ　ｌ　ａΩＣ１１１以上、より好ましくは１０１３
ΩＣ１以上の透明樹脂が用いられる。又前記バインダは
光又は熱により硬化する樹脂を少なくとも５０重量％以
−Ｌ含有するものとされる。

かかる光又は熱により硬化する樹脂としては、例えば熱
硬化性アクリル樹脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、ウ
レタン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル
樹脂、アルキッド樹脂、メラミン樹脂、光硬化性の桂皮
酸樹脂等又はこれらの共重合もしくは共縮合樹脂があり
、その外電子写真材料に供される光又は熱硬化性樹脂の
全てが利用される。又前記ＣＧＬ中には加工性及び物性
の改良（亀裂防＋ｈ、柔軟性付与等）を目的として必要
により熱可塑性樹脂を５０重量％未満含有せしめること
ができる。かかる熱可塑性樹脂としては、例えばポリプ
ロピレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル
樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ブヂラール樹脂
、ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、又はこれらの
ノリＲ合樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合
体樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール等の高分子有機
半導体、その他電子写真材料に供される熱可塑性樹脂の
全てが利用される。

また前記ＯＣＬは、電子受容性物質を含有してもよく、
その他、必要によりＣＧ　Ｌを保護する目的で酸化防止
剤等を含有してもよく、前記バインダと共に溶剤に溶解
され、例えばデイブブ塗布、スプレー塗布、ブレード塗
布、ロール塗布等により塗布・乾燥されて２μｍ以下、
好ましくは１μｍ以下の層厚に形成される。

〔実施例〕

以下、本発明を実施例により説明するが、これにより本
発明の実施の態様が限定されるものではない。

実施例　１ アルミニウム箔をラミ不−トシたポリエステルフィルム
、及びアルミニウムドラムより成る導電性支持体上に、
塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体（エ
スレックＭＴ”−１０、漬水化学工業社製）よりなる厚
さ０．１μｌの中間層を形成した。

次いでＣＴ　Ｍ　（ＩＸ−７５）／ポリカーボネート樹
脂（パンライトＩ、−１２５０．帝人化成社製）−７５
／’１００（重量比）を１６．５ｆｆｌｆ１１％含有す
る１、２−ジクロルエタン溶液を前記中間層上にディッ
プ塗布、乾燥して１５μｍ厚のＣＴＬを得た。

次いで、ＣＧＭとして昇華した４、１０−ジブロモアン
スアンスロン（Ｖ［−３）／パンライトＬ　　１２５０
＝　５０／　１００（重量比）をボールミルテ２４時間
粉砕し、９ＴＩｆｍ％になるよう１．２−ジクロルエタ
ンを加えて更にボールミルで２４時間分散した液にＣＴ
　Ｍ　（ｉＸ−７５）をパンライトＬ−１２５０に対し
て７５重Ｈｋ％および本発明の化合物（６）をＣＴＭに
対して１０重量％加えた。この分散液にモノクロロベン
ゼンをＩｎｎえてモノクロロベンゼン／１，２−ジクロ
ルエタン＝３／７（体積比）になるよう調製したものを
ＣＴ　Ｌ上にスプレー塗布方法により厚さ５μｍのＣＧ
Ｉ、を形成し、積層措成の感光体層を有する本発明の感
光体Ｉを得た。

比較例　（１） ＣＧＬ中の化合物（６）を除いた以外は実施例１と同様
にして比較用の感光体（１）を得た。

実施例　２ 実施例１における化合物（６）に代えて、化合物（１３
）を添加した以外は実施例１と同様にして感光体２を得
た。

実施例　３ 実施例１における化合物（６）に代えて化合物（４）を
添加した以外は実施例１と同様にして本発明の感光体３
を得た。

実施例、４ 実施例１における化合物（６）に代えて化合物（１８）
を添加した以外は実施例１と同様にして本発明の感光体
４を得た。

実施例　５ 実施例１における化合物（６）に代えて化合物（２９）
を添加した以外は実施例１と同様にして本発明の感光体
５を得た。

実施例　６ 実施例１のＣＧＬから化合物（６）を除いた感光体（比
較例Ｉの感光体に同じ）上に、熱硬化性アクリル−メラ
ミン−エポキシ（１：ｔ：Ｉ）樹脂り、５５１ｍ部およ
び本発明の化合物（６）　０．１５５重量部をモノクロ
ロベンゼン／１，１．２−トリクロロエタン（１／１体
積比）混合溶媒１００重量部中に溶解して得られた塗布
液をスプレー塗布、乾燥して１μｌ厚のＯＣＬを形成し
、本発明の感光体６をｉ５た。

実施例　７ 実施例ＩのＣＧＩ、から化合物（６）を除いた感光体ｊ
ユに、シリコンハードコート用プライマ１１１！　９１
　（東芝シリコン社製）をＱ、１μｌ厚にスプレー塗布
し、史にその上にシリコンハードコートトスガード５１
．０（東芝シリコン社製）および化合物（６）を樹Ｒｆ
ｆｌＯＱ重？？を部に対して１０重量部となるよう添加
した溶液をスプレー塗布、乾燥して１μｍ０ｃＬを形成
し、本発明の感光体７を得た。

実施例　８ アルミニウム箔をラミネートしたポリエステルフィルム
、及びアルミニウムドラムより成る導電性支持体」−に
実施例Ｉと全く同様の中間層を形成した。

次いでＣ’１”　Ｌ用塗布液としてブチラール樹脂（エ
スレック［３Ｘ−１、積木化学社製）８重ら１％、Ｃ’
Ｉ”Ｍ（■−７５）６重量％となるようメチルエチルケ
トンに溶解１７て得られる溶液を前記中間層上に塗布、
乾燥して１０１１１１＋厚のＣＴＬを形成した。

次いでＣＧ　Ｍ　ＣＩ’／−７）０．２ｙをペイントコ
ンデショナ（Ｐａｉｎｔ　Ｃｏｎｄｉｔｉｏｎｅｒ、　
Ｒｅｄ　Ｄｅｖｉ１社製）で３０分粉砕し、これにポリ
カーボネート樹脂（パンライトＬ−１２５０．前出）を
１．２−ジクロロエタン／Ｉ、　１．２−１−リクロ〔
Ｊエタン混合溶媒に０．５重量％となるよう溶解させた
溶液を８．３９加えて３分間分散した後、これにポリカ
ーボネート樹脂、Ｃ’ｒ　Ｍ　（ＩＸ　−７５）および
化合物（６）を、それぞれ３．３重量％、２．１重％お
よび０．２６重量％となるよう１．２−ジク「Ｊロエタ
ン／１．．１．２−）ジクロロエタン混合溶媒に溶解し
て得られる溶液１９．１９を加えて更に３００分間分散
た。

かくして得られた分散液を前記ＣＴＬ上にスプレー塗布
し、かつ乾燥して５重層厚のＣＧＬを形成し、積層構成
の感光体層を有する本発明の態様の感光体８を得た。

比較例　（２） ＣＧ　Ｌ中の化合物（６）を除いた以外は実施例８と同
様にして比較用の感光体（２）を得た。

実施例　９ 実施例８における化合物（６）に代えて、化合物（１３
）を添加した以外は実施例８と同様にして本発明の感光
体９を得た。

実施例　１０ 実施例８における化合物（６）に代えて、化合物（４）
を添加した以外は実施例８と同様にして本発明の感光体
１０を得た。

実施例　１１ 実施例８における化合物（６）に代えて、化合物（１８
）を添加した以外は実施例８と同様にして本発明の感光
体１１を得た。

実施例　１２ 実施例８における化合物（６）に代えて、化合物（２９
）を添加した以外は実施例８と同様にして本発明の感光
体１２を得た。

実施例　１３ 実施例８のＣＧＬから化合物（６）を除いた感光体（比
較例２の感光体に同じ）上に、実施例６に用いた化合物
（６）を含有するＯＣＩ、を設け、本発明の感光体１３
を得た。

実施例　１４ 実施例８のＣＧＬから化合物（６）を除いた感光体上に
、実施例７に用いた化合物（６）を含有するＯ　ＣＬを
設け、本発明の感光体１４を得た。

実施例　１５ アルミニウム箔をラミネートしたポリエステルフィルム
、及びアルミニウムドラム上に、実施例１と全く同様の
中間層を形成した。

次いで昇ｊ）（シた４、１０−ジブロモアンスアンスロ
ン（Ｖｌ−３）４ｈを磁製ボールミルにて４　Ｏｒｐｍ
で２４時間粉砕し、パンライｌ−Ｌ−１，２５０、（前
出）２０９と１．２−ジクロロエタン１３００−を加え
、更に２４時間分散してＣＧ　Ｌ用塗布液とした。これ
を前記中間層上に塗布し膜厚１μｍのＣＧＬを設けた。

次いでＣＴ　Ｍ　（ＩＸ−６１）７．５９、パンライト
Ｌ−１２５０］Ｏｙおよび化合物（６）０．７５９を、
１．２−ジクロロエタン８０ｍＱに溶解した溶液を前記
ＣＧ　Ｌに塗布して膜厚１５μ薄のＣＴ　Ｌを形成し、
本発明の感光体１５を作成した。

比較例　（３） ＣＴ　Ｌ中の化合物（６）を除いた以外は実施例１５と
同様にして比較用の感光体（３）を得た。

実施例】６ アルミニウム箔をラミネートしたポリエステルフィルム
、及びアルミニウムドラムから成る導電性支持体」二に
、実施例１と全く同様の中間層を形成した。

次いでＣＧＬとしてビスアゾ化合物（ＩＶ−７）！、５
ｙを１．２−ジクロロエタン／モノエタノールアミン（
１０００／１体積比）混合溶媒１００ｍ（２中にボール
ミルで８時間分散させた分散液を」―正中間層−ヒに塗
布し、充分乾燥して０．３７厚のＣＧＬを設けた。

次いでＣＴＭとしてスチリル化合物（ＩＸ−４３）１１
、．２５ｇ、パンライトＩ、−１２ｓｏ（ｉＱ出）１５
９および化合物（６）１．２５９を１．２−ジクロロエ
タン１００ｍＱに溶解した溶液を前記ＣＧＬ、上に塗布
し、充分乾燥して１５μ薄厚のＣＴ　Ｌを形成し、本発
明の感光体】６を作夜した。

比・咬例　（・１） ＣＴ　Ｉ、中の化合物（６）を除いた以外は、実施例１
６と同様にして比較用の感光体（・１）を作成した。

前記実施例試料１〜１６及び比較例試料（１）〜（４）
についてｔ、Ｊ　Ｖ耐性について、帯電性に対する２万
回の実写テスト及びＵＶ曝射による感度変化の定量的測
定を行った。

：１′Ｉ電性実写テストは、Ｕ−Ｉ３　ｉｘ　２８１２
　ＭＲ（小西六写真工業（株）製）の改造実験機に試料
感光体ドラムを装着し、正または負帯電させ、前記感光
体に対する像露光をはじめとする各工程及び定着からな
る単位サイクルを２万回繰返し、実写テスト初期の正、
負帯電電位を±ｖｏ、２万回終了後回終了後帯電電位を
±Ｖ、とする。

またＵＶ曝射による感度変化は、既知強度の紫外線を試
料フィルムを断裁した感光体シートに照射し、その照射
前後に於て、→−または一６００■に帯電させた該感光
体の電位を夫々±１００■にまで７す露光潰Ｅ　１１０
０を用いて求めた。

感光体の感度ＳはＥ”００ＣＩ／Ｓの関係として定義さ
れ、ＥＧＱＱが小さいほど感度Ｓは大きく硬調な画像か
えられる。

ＵＶ曝曝射後後感度を夫々Ｓｏ、Ｓ７とずれば、その逆
数比Ｆｊ　ｓ　：　Ｃ１／　Ｓ　、）／　（１，／　Ｓ
　ｏ）　−Ｓ　。／　Ｓ　ＩはＵＶ耐性を表し、Ｒｓが
大きいほどＵＶ耐性があることになる。

ＵＶ照射は理化学用水銀ランプＳ　Ｔ−Ｉ　Ｌ　−１０
０Ｕ　Ｖ−２（（株）東芝製）を用い試料の感光体シー
トを３００１ｍの距離に置き他の電磁波を遮断しＵＶ強
度［５００ｃｄ／ｍ”で１００分間照射を行い、感度測
定は静電試験機（川口電機製作所：５Ｐ−４２８型）に
よった。

これらの結果を第１表に示す。

第：表 註：括弧を付した試料Ｎｏ、は比較試料。

第１表からも明るかなように、本発明の化合物を添加す
ることにより、紫外線照射下におけるコロナ帯電での電
位低下が著しく改善される。しかも、本発明の化合物の
添加により、感度低下も姶どないことが判る。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第４図は本発明の感光体の断面図である。 １・・・支持体 ２・・電荷発生層（ＣＧＬ） ３・・電荷輸送層（Ｃ’ｌ’Ｌ） ４・・・感光層 ５・・・電荷発生物質（ＣＧＭ） ６−・電荷輸送物質（ＣＴＭ） ７・・・中間層 ８・・保護、惰（ＯＣＬ）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 導電性支持体上に電荷発生物質及び電荷輸送物質を含ん
   でなる層を有する電子写真感光体に於て、下記一般式で
   表される化合物を含有することを特徴とする電子写真感
   光体。 一般式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿１は水素を置換するヒドロキシ、アルコキ
   シ、ニトロ及び置換アミノの各置換基を表し、ｎは０〜
   ３の整数である。ｎ≧２の時の各Ｒ＿１は同じでも異っ
   ていてもよい。また（Ｒ＿１）ｎは環を形成してもよい
   。 Ｒは水素原子及びアルキル、アリール、置換アリールの
   各基を表す。ｍは０または１である。〕