JPS63159856A

JPS63159856A - 電子写真正帯電感光体及びその像形成プロセス

Info

Publication number: JPS63159856A
Application number: JP30969086A
Authority: JP
Inventors: Kiyoshi Tamaki; 玉城　喜代志; Koichi Kudo; 浩一工藤; Yoshihiko Eto; 嘉彦江藤; Yoshiaki Takei; 武居　良明
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1986-12-24
Filing date: 1986-12-24
Publication date: 1988-07-02
Anticipated expiration: 2010-04-26
Also published as: JPH0738077B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は電子写真感光体に関し、特に正帯電用感光体に
関する。

〔従来の技術〕

従来、例えば電子写真感光体としては、セレン、酸化亜
鉛、硫化カドミウム等の無機光導電性物質を含有する感
光層を有する感光体が広く用いられている。

一方、種々の有機光導電性物質を電子写真感光体の感光
体層の材料として利用することが近年活発に研究、開発
されている。

例えば特公昭５０−１０４９６号には、ポリ−Ｎ−ビニ
ルカルバゾールと２．４．７−）ジニトロ−９−フルオ
レノンを含有した感光体層を有する有機感光体について
記載されている。しかしこの感光体は、感度及び耐久性
において必ずしも満足できるものではない。このような
欠点を改善するために、感光体層において、電荷発生機
能と電荷輸送機能とを異なる物質に個別に分担させるこ
とにより、感度が高くて耐久性の大きい有機感光体を開
発する試みがなされている。このような、いわば機能分
離型の電子写真感光体においては、各機能を発揮する物
質を広い範囲のものから選択することができるので、任
意の特性を有する電子写真感光体を比較的容易に作製す
ることが可能である。

、こうした機能分離型の電子写真感光体に有効な電荷発
生物質として、従来数多くの物質が提案されている。無
機物質を用いる例としては、例えば特公昭４３−１６１
９８号に記載されているように、無定形セレンがあり、
これは有機電荷輸送物質と組合される。

また、有機染料や有機顔料を電荷発生物質として用いた
電子写真感光体も多数提案されており、例えば、ビスア
ゾ化合物を含有する感光体層を有するものは、特開昭４
７−３７５４３号、同５５−２２８３４号、同５４−７
９６３２号、同５６−１１６０４０号等により既に知ら
れている。尚これらの有機光導電性物質は通常負帯電感
光体に使用されていて、その理由は、負帯電使用の場合
には、電荷のうちホールの移動度が大きいことから、光
感度等の面で何利なためである。　　しかしながら、こ
のような負帯電使用では、帯電器による負帯電時に雰囲
気中にオゾンが発生し易くなり、環境条件を悪くすると
いう問題がある。さらに他の問題は、負帯電用感光体の
現像には正極性の小ナーが必要となるが、正極性のトナ
ーは強磁性体電荷粒子に対する摩擦帯電系列からみて製
造が困難であることである。

そこで、有機光導電性物質を用いる感光体を正帯電で使
用することが提案されている。例えば、電荷発生層上に
電荷輸送層を積層して感光体を形成する際、感光体表面
の正電荷を能率よく打消すため前記電荷輸送層に電子輸
送能の大きい、例えばトリニトロフルオレノン等が使用
される。しがし該物質は発癌性があり、労働衛生上極め
て不適当である等の問題を生ずる。

さらに正帯電感光体として、米国特許３，６１５，４１
４号には、チアピリリウム塩（電荷発生物質）をポリカ
ーボネート（バインダ樹脂）と共晶錯体を形成するよう
に含有させたものが示されている。しかしこの公知の感
光体では、メモリ現象が大きく、ゴーストら発生し易い
という欠点がある。又米国特許３，３５７，９８９号に
も、フタロシアニンを含有せしめた感光体が示されてい
るが、フタロシアニンは結晶型によって特性が変化する
上に、結晶型を厳密に制御しなければならないという難
点があり、か、っメモリ現象か大きく、短波長感度が低
いため前記短波長を含む可視光を光源とする複写機には
不適当である。

このように正帯電用感光体を得るための試みが種々行な
われているが、いずれも光感度、メモリ現象又は労働衛
生等の点で改善すべき多くの問題点がある。

そこで光照射時ホール及び電子を発生する電荷発生物質
を含有する電荷発生層を上層（表面層）とし、ホール輸
送機能を有する電荷輸送物質を含む電荷輸送層を下層と
する積層構成の感光体層をディする感光体を正帯電用と
して使用することが考えられる。さらに又、前記電荷発
生物質と前記電荷輸送物質を含む単層構成の感光体層を
有する感光体も正帯電用として使用可能と考えられる。

なおかかる正帯電用とされる感光体においては、構造中
に例えば電子吸引性基を有する電荷発生物質を用いるよ
うにすれば、感光体表面の正電荷を打消すための電子の
移動が早くなり、高感度特性が得られることが考えられ
る。

しかしながら、前記正帯電用感光体はいずれも電荷発生
物質を含む層が表面層として形成されるため、光照射特
に紫外線等の短波光照射、コロナ放電、湿度、機械的摩
擦等の外部作用に脆弱な電荷発生物質が前記表面層近傍
に存在することとなリ、感光体の保存中及び像形成の過
程で電子写真性能が劣化し、画質が低下するようになる
。

従来の電荷輸送層を表面層とする負帯電用感光体におい
ては、前記各種の各部作用の影響は極めて少なく、むし
ろ前記電荷輸送層が下層の電荷発生層を保護する作用を
有している。

そこで、例えば絶縁性かつ透明な樹脂から成る薄い保護
層を設け、前記電荷発生物質を含む層を外部作用から保
護することが考えられるが、光照射時発生する電荷が該
保護層でブロッキングされて光照射効果が失なわれてく
るし、また表面層となる保護層の膜厚が厚い場合には感
度低下を招き、剰え紫外線遮断効果も少いので、外部作
用からの遮蔽、特に紫外線からの保護を単なる保護層だ
けに委ねることはできない。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、電荷発生物質（ＣＧＭと標記）及び電
荷輸送物質（ＣＴＭと標記）を含んでなり正帯電性感光
体層を有し、紫外線耐性のよい高感度で耐久性の大きい
電子写真正帯電感光体を提供することにある。

〔発明の構成および作用効果〕

前記した本発明の目的は、導電性支持体上にＣＴＭ及び
ＣＧＭを含んでなる層を有する電子写真感光体に於て、
下記一般式で表される化合物を含有することを特徴とす
る電子写真正帯電感光体によって達成される。

式中、Ｒ１及びＲ，は水素原子またはアルキル、アリー
ル基を表す。Ｒは水素原子、ハロゲン原子またはニトロ
、アミノ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキ
ルの各置換基を表し、ｎはＯｌｌまたは２である。ｎ＝
２の時Ｒは同じでも異っていてもよい。

本発明に係る導電性支持体上に設ける感光体層は、ＣＴ
Ｍ及びＣＧＭを混和した単層構成でもよいし、ＣＴＭを
含む層を下層としＣＧＭを含む層を上層とする複層構成
でもよい。また必要に応じて保護層（ＯＣＬと標記）を
設けてもよい。

本発明に掘る化合物は前記の少くとも一層に添加される
が感光体層表層に添加されることが好ましい。尚表層に
最も濃密に、内部にゆくに従って逓減させる形態であっ
てもよい。

以下に本発明の詳細な説明する。

カールソンプロセスに基く電子写真プロセスには、一般
に像露光、消去露光、転写前露光、クリーニング露光等
に紫外線を発生する光源が用いられており、該光源から
の光に含まれ、可視光に比べ大きなエネルギを有する紫
外線の繰返し照射は、感光体に用いられている有機化合
物分子を解裂させるに充分である。即ち感光体をなすＣ
ＧＭ、ＣＴＭ或はバインダ等はラジカル解離を起し本来
の分子構造を失って劣化し、従って感光体の劣化を招来
し、具体的には感度低下、残電位上昇等を惹起し、かぶ
りの発生、画質の低下に陥る。

従来の技術でも記述したように有機光導電性物質を用い
た正帯電用感光体においては、電荷発生層（以下、ＣＧ
Ｌと標記）が表面層となるので耐傷性に欠け、耐久性向
上のためにはＣＧ　Ｌ、膜厚を厚くする必要がある。し
かしながら、膜厚を厚くすると感度低下を引起す。この
感度低下を抑制する手段としてＣＧＬ中への電荷輸送物
質（ＣＴＭ）の添加が効果的であるが、このＣＴＭは電
荷発生物質（ＣＧＭ）に比べ紫外線酸化を受は易い構造
を有するので、紫外線により容易に劣化され感光体の耐
久性が損われてしまう。

本発明者らは、紫外線劣化防止に関し鋭意検討の結果、
正帯電感光体の表面層であるＣＧＬ中にイミダシリン類
化合物を含有させることにより、上記劣化を著しく軽減
できることを見い出した。

前記した化合物即ち紫外線吸収剤の有機化合物安定化機
構としては、紫外線（ＵＶと標記することがある）の保
有する分解エネルギがＵＶ吸収剤内で振動のエネルギに
変化することによると思われる。この振動のエネルギは
熱エネルギとして該Ｕ■吸収剤から放出されるが、熱エ
ネルギは既に有機化合物を劣化させるには不充分であっ
て、感光体が紫外線繰返し照射の害から保護されろもの
と思われる。

次に具体的化合物を例示する。

尚表中の接頭数字は置換位置を示す。

本発明の化合物の添加量は、ＯＣＬ中に用いられる場合
、ＯＣＬ中のＣＴＭに対して０．１〜１００重量％、好
ましくは１〜５０重量％、特に好ましくは５〜２５重量
％である。また、ＯＣＬ中に用いられる場合、ＯＣＬ中
のバインダ樹脂に対して０．１〜１００重量％、好まし
くは１〜５０重里％である。

次に本発明の感光体の構成を図面によって説明する。感
光体としては例えば第１図に示すように支持体ｌ　（導
電性支持体またはシート上に導電層を設けたもの）上に
ＣＴＭと必要に応じてバインダ樹脂を含有する電荷輸送
１（ＣＴＬと標記）２を下層とし、ＣＧＭ、ＣＴＭと必
要に応じてバインダ樹脂を含有するＯＣＬ３を上層とす
る積層構成の感光体層４を設けたもの、第２図に示すよ
うに第１図の感光体層の上に保護層（ｏｃＬ）４を設け
たもの及び第３図に示すように支持体上にＣＧ　ＭとＣ
ＴＭと必要に応じてバインダ樹脂を含有する単層構成の
感光体層４を設けたもの、等が挙げられるが、第３図の
単層構成の感光体層上にＯＣＬが設けられてもよく、ま
た支持体と感光体層の間に中間層が設けられてもよい。

次に本発明に適するＣ　Ｇ　Ｍとしては、可視光を吸収
してフリー電荷を発生するものであれば、無機顔料及び
有機顔料の何れをも用いることができる。無定形セレン
、三方晶系セレン、セレン−砒素合金、セレン−テルル
合金、硫化カドミウム、セレン化カドミウム、硫セレン
化カドミウム、硫化水銀、酸化鉛、硫化鉛等の無機顔料
の外、次の代表例で示されるような有機顔料が用いても
よい。

（＋、）　　モノアゾ顔料、ポリアゾ顔料、金属錯塩ア
ゾ顔料、ピラゾロンアゾ顔料、スチルベンアゾ及びデア
ゾールアゾ顔料等のアゾ系顔料（２）ペリレン酸無水物
及びペリレン酸イミド等のペリレン系顔料（３）アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体
、ジベンズピレンキノン誘導体、ビラントロン誘導体、
ビオラントロン誘導体及びイソビオラントロン誘導体等
のアントラキノン系又は多環キノン系顔料（４）　インジゴ誘導体及びチオインジゴ誘導体等のイ
ンジゴイド系顔料（５）金属フタロシアニン及び無金属フタロシアニン等
のフタロシアニン系顔料（６）　ジフェニルメタン系顔料、トリフェニルメタン
顔料、キサンチン顔料及びアクリジン顔料等のカルボニ
ウム系顔料（７）アジン顔料、オキサジン顔料及びチアジン顔料等
のキノンイミン系顔料（８）シアニン顔料及びアゾメチン顔料等のメチン系顔
料（９）キノリン系顔料（１０）ニトロ系顔料（１１）ニトロソ系顔料（１２）ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料（１３）
ナフタルイミド系顔料（１４）　　ビスベンズイミダゾール誘導体等のペリノ
ン系顔料前記本発明に用いられるアゾ系顔料としては、例えば次
の例示構造化合物群（１）〜（Ｖ）で示されるものがあ
り、該例示構造化合物群の中の個々の好ましい具体的化
合物の数例を併せ掲げる。

その好ましい具体的化合物の全容については特願昭６１
−１９５８８１号が参照される。

例示構造化合物群〔Ｉ〕：例示構造化合物群〔■〕：例示構造化合物群〔■〕：例示構造化合物群〔■〕：例示構造化合物群〔■〕：ま、た、以下の多環キノン顔料から成る例示構造化合物
群〔■〕〜〔■〕はＣＧＭとして最も好ま。

例示構造化合物群〔■〕：例示構造化合物群〔■〕：例示構造化合物群〔■〕：次に本発明で使用可能なＣＴＭとしては、特に制限はな
いが、例えばオキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘
導体、デアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリ
アゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダシロン誘
導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導
体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン誘
導体、オキサシロン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、
ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾ
フラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、
アミノスチルベン誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、ポリ−１−ビニルピレン、ポリ−９−ビニルアント
ラセン等であってよい。

しかしながら光照射時発生するホールの支持体側・・の
輸送能力が優れている外、前記ＣＧＭとの組合せに好適
なものが好ましく用いられ、かかるＣ、ＴＭとしては、
例えば下記例示構造化合物群〔ＩＸ〕又は（、Ｘ）で示
されるスチル化合物が使用される。該例示構造化合物群
中の個々の具体的化合物の数例を併せ掲げるが、その全
貌については特願昭６１−１９５８８１号が参照される
。

例示構造化合物群（ＩＸ　）　：また、ＣＴＭとして下記例示構造化合物群〔Ｍ、）〜（
ＸＶ　）で示されるヒドラゾン化合物も使用可能である
。向側々の具体的化合物の全容については特願昭６１−
１９５８８１号が参照される。

例示構造化合物群ＣＸ１ｌｌ　）　：また、ＣＴＭとして下記例示構造化合物群〔Ｘ■〕で示
されるアミン誘導体も使用可能である。

イ詳しくは特願昭６１−１９５８８１号が参照される。

次に本発明のＯＣＬに用いられてよいバインダは、体積
抵抗１０’Ωｃｍ以上、好ましくは１０Ｉ０Ωｃｍ以上
、より好ましくは１Ｑ１３Ωｃｍ以上の透明樹脂が用い
られる。又前記バインダは光又は熱により硬化する樹脂
を少なくとも５０重量％以上含有するものとされる。

かかる光又は熱により硬化する樹脂としてζよ、例えば
熱硬化性アクリル樹脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、
ウレタン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、ポリエステ
ル樹脂、アルキッド樹脂、メラミン樹脂、光硬化性の桂
皮酸樹脂等又はこれらの共重合もしくは共縮合樹脂があ
り、その外電子写真材料に供される光又は熱硬化性樹脂
の全てが利用される。又前記ＣＧＬ中には加工性及び物
性の改良（亀裂防止、柔軟性付与等）を目的として必要
により熱可塑性樹脂を５０重量％未満含有せしめること
ができる。かかる熱可塑性樹脂としては、例えばポリプ
ロピレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル
樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂
、ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、又はこれらの
共重合樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹
脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体
樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール等の高分子有機半
導体、その他電子写真材料に供される熱可塑性樹脂の全
てが利用される。

また前記ＯＣＬは、電子受容性物質を含有してもよく、
その他、必要によりＣＧＭを保護する目的でオゾン酸化
防止剤等を含有してもよく、前記バインダと共に溶剤に
溶解され、例えばディップ塗布、スプレー塗布、ブレー
ド塗布、ロール塗布等により塗布・乾燥されて２μｍ以
下、好ましくは１μｍ以下の層厚に形成される。

本発明の感光体層の層構成は前記のように積層構成と単
層構成とがあるが、ＣＴＬ、ＣＧＬまたはＯＣＬには感
度の向上、残留電位ないし反復使用時の疲労低減等を目
的として、１種または２種以上の電子受容性物質を含有
せしめることができる。

本発明に使用可能な電子受容性物質としては、例えば無
水こはく酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸
、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、テトラブ
ロム無水フタル酸、３＝ニトロ無水フタル酸、４−ニト
ロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メリット酸
、テトラシアノエヂレン、テトラシアノキノジメタン、
０−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、ｔ、ａ
、ｓ、、トリニトロベンゼン、バラニトロベンゾニトリ
ル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、クロラ
ニル、ブルマニル、２−メチルナフトキノン、ジクロロ
ジシアノバラベンゾキノン、アントラキノン、ジニトロ
アントラキノン、トリニトロフルオレノン、９−フルオ
レノンデン〔ジシアノメチレンマロノジニトリル〕、ポ
リニトロ−９−フルオレノンデンー〔ジシアノメチレン
マロノジニトリル〕、ピ・クリン酸、フタル酸等が挙げ
られる。

本発明において感光体層に使用可能なバインダ樹脂とし
ては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル
樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂
、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、シリコン樹脂、メラミン樹脂等の付加重合型樹
脂、重付加型樹脂、重縮合型樹脂、並びにこれらの樹脂
の＠□返し単位のうちの２つ以上を含む共重合体樹脂、
例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂等の絶縁
性樹脂の他、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール等の高分子
有機半導体が挙げられる。

次に前記感光体層を支持する導電性支持体としては、ア
ルミニウム、ニッケルなどの金属板、金属ドラム又は金
属箔、アルミニウム、酸化錫、酸化インジウムなどを蒸
着したプラスチックフィルムあるいは導電性物質を塗布
した紙、プラスチックなどのフィルム又はドラムを使用
することができる。

ＣＴＬは既述のＣＴＭを適当な溶媒に単独もしくは適当
なバインダ樹脂と共に溶解もしくは分散せしめたものを
塗布して乾燥させる方法により設ける。

ＣＴＬの形成に用いられる溶媒としては、例えばＮ、Ｎ
−ジメチルホルムアミド、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、モノクロルベンゼン、１．２−ジクロロエタン、ジ
クロロメタン、１，１．２−）ジクロロエタン、テトラ
ヒドロフラン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸
ブチル等を挙げることができる。

本発明に係る感光体層をＣＴＬとＣＧＬの複層構成で形
成する場合は、ＣＴＬの膜厚は、好ましくは５〜５０μ
ｍ１特に好ましくは５〜３０μｍである。

ＣＴＬ中のバインダ樹脂１００重量部当りＣＴＭが２０
〜２００重量部、好ましくは３０〜１５０重量部とされ
る。

ＣＴＭの含有割合がこれより少ないと光感度が悪く、残
留電位が高くなり易く、これより多いと溶媒溶解性が悪
くなる。

ＣＧＬは、既述のＣＧＭとＣＴＭを別々に、あるいは−
緒に適当な溶剤に単独もしくは適当なバインダ樹脂と共
に溶解もしくは分散せしめたものを塗布、乾燥してＣＴ
Ｌの場合と同様に形成することができる。

上記ＣＧ　Ｍを分散せしめてＣＧＬを形成する場合、当
該ＣＧＭは２μｍ以下、好ましくは１μｍ以下の平均粒
径の粉粒体とされるのが好ましい。即ち、粒径があまり
大きいと層中への分散が悪くなると共に、粒子が表面に
一部突出して表面の平滑性が悪くなり、場合によっては
粒子の突出部分て放電が生じたり或いはそこにトナー粒
子が付着してトナーフィルミング現象が生じ易い。

ただし、上記粒径があまり小さいと却って凝集し易く、
層の抵抗が上昇したり、結晶欠陥が増えて感度及び繰返
し特性が低下したり、或いは微細化する上で限界がある
から、平均粒径の下限を０、［ｌ１μｍとするのが望ま
しい。

ＣＧＬは、次の如き方法によって設けることができる。

即ち、記述のＣＧＭをボールミル、ホモミキサ等によっ
て分散媒中で微細粒子とし、バインダ樹脂およびＣＴＭ
を加えて混合分散して得られる分散液を塗布する方法で
ある。この方法において超音波の作用下に粒子を分散さ
せると、均一分散が可能である。

ＣＧＬ中のバインダ樹脂１００重量当りＣＧＭが２０〜
２００重量部、好ましくは２５〜１００重量部とされ、
ＣＴＭが２０〜２００重量部、好ましくは３０〜１５０
重量部とされる。

ＣＧＭがこれより少ないと光感度が低く、残留電位の増
加を招き、又これより多いと暗減衰が増大し、かつ受容
電位が低下する。

以上のようにして形成されるＣＧＬの膜厚は、好ましく
は１〜１（ｌｃｚｍ、特に好ましくは２〜７μｍである
。

積層構成の場合、ＣＧＬとＣＴＬの膜厚比は１：（１〜
３０）であるのが好ましい。

次に本発明の感光体を単層で構成する場合、ＣＧ　Ｉｖ
ｌがバインダ樹脂に含有される割合は、バインダ樹脂１
００重量部に対して２０〜２００重量部、好ましくは２
５〜１００重量部とされる。

ＣＧＭの含有割合がこれより少ないと光感度が低く、残
留電位の増加を招き、又これより多いと暗減衰及び受容
電位が低下する。

次にＣＴＭがバインダ樹脂に対して含有される割合は、
バインダ樹脂１００重量部に対して２０〜２００重Δ部
、好ましくは３０〜１５Ｑｆｆｌｆｆ１部とされろ。

ＣＴＭの含有割合がこれより少ないと光感度が悪く残留
電位が高くなり易く、又これより多いと溶媒溶解性が悪
くなる。

面記単、＠構成の感光体層中のＣＧＭに対するＣＴＭの
量比は重量比で１＝３〜ｌ：２とするのが好ましい。

また単層構成の感光体層の膜厚け７〜５０μｍ、更に好
ましくは１０〜３０μｍである。

また、前記中間層は接着層又はバリヤ層等として機能す
るもので、上記バインダ樹脂の外に、例えばポリビニル
アルコール、エチルセルロース、カルボキシメチルセル
ロース、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル
−酢酸ヒニルー無水マレイン酸共重合体、カゼイン、Ｎ
−アルコギシメチル化ナイロン、澱粉等が用いられる。

次に本発明の正帯電感光体を用いる像形成プロセスを第
４図を用いて説明する。

第・１図は静電潜像につづいてトナー像を担持する本発
明の感光体ドラムを取囲む、本発明の像形成プロセスに
関与する諸機能部材の配置の１例を示す。

本発明の正帯電感光体２０は、導電性支持体によりアー
スされており、正に整流されて正電荷を与えるコロナ放
電極等の帯電器２１（例えばスコロトロン等）によって
、予め正帯電され時計方向（図に於てＡの方向）に回転
する。

また原稿載置台上の原稿からの反射光Ｅは、ミラー、レ
ンズ等からなる光学系を経て感光体２０（ドラム）上へ
スリットＳを介して入射される。

感光体ドラム２０は予め帯電器２１により電荷を与えら
れているので、前記光学系からの光入射に従って該感光
体ドラム２０上には原稿に対応した静電潜像が順次形成
され、回転する感光体ドラム２０上の、前記静電潜像は
、現像器２２によって可視のトナー像となる。

一方、転写紙は給紙装置より繰出されて、ガイド板によ
り案内されて給紙ローラ３２に到り、感光体ドラム２Ｇ
上の前記トナー像の先端と転写紙との先端が一致するよ
うにタイミング信号に基づいて給紙される。

その後、転写極２３の作用により感光体ドラム２０上の
トナー像は転写紙上に転写される。そして分離極２４に
より、感光体ドラム２０上から分離された転写紙は転写
紙搬送手段３５を経て定着装置へ送られ、熱定着ローラ
および圧着ローラによって熔融定着されたのち、排紙ロ
ーラにより排紙皿上へ排出される。

一方、転写工程終了後、前記感光体ドラム２０は、ドラ
ム上に残留するトナーのクリーニング装置２６による除
去を容易にするため、交流のコロナ放電を行なうクリー
ニング除電極２５によって、ドラム表面が電気的に中和
される。次いで転写しきれずにドラム上に残ったトナー
はブレード等のクリーニング装置２６により掻き落され
る。

これによりドラムは次のコピーへの準備ができる。

以上が複写を行なう基本のプロセスであるが、画質を高
めるため、複写機には前露光といわれる工程が用いられ
る。第１の前露光装置２７は前記クリーニング装置２６
と帯電器２１との間に配設され、蛍光燈等の光源等から
成る。クリーニング装置２６で表面のトナーを除去され
た感光体ドラム２０は、この前露光装置２７によるクリ
ーニング露光によって、ドラム表面の残留電荷は除かれ
電位はゼロになる。

第２の前露光装置２８は、現像器２２と転写極２３、分
離極２４との間、第３の前露光装置２９は分離極その他
の分離部の後にあってクリーニング除電極２５の上流を
なす位置に配設され、蛍光燈等の光源等から成る。この
第２及び第３の前露光装置による光照射、即ち転写前露
光及び消去露光によって、感光体ドラム２０の表面電荷
が低減・均一化され、これによって転写・分離時の効率
が向上し、更には感光体ドラム２０上の残像のクリーニ
ングを容易、にする。

〔実施例〕

以下本発明を実施例により説明するが、これにより本発
明の実施の態様が限定されるものではない。

実施例　！アルミニウム箔をラミネートしたポリエステルフィルム
及びアルミニウムドラムより成る導電性支持体上に、塩
化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体（ニス
レックスＭＰ−Ｌ（１、漬水化学工業社製）よりなる厚
さ０，１μｍの中間層を形成した。

次いでポリカーボネート樹脂（パンライトＬ−１２５０
、音大化成社製）／　ＣＴ　Ｍ　（ＩＸ　−７５）　−
１００／　７５（重量比）を１６，５重量％含有する１
、２−ジクロルエタン溶液を中間層上にディップ塗布し
、１５μｍ厚のＣＴＬを形成した。次に、ＣＧＭとして
昇華した４、ｌＯ−ジブロムアンスアンスロン（■−３
）／パンライトＬ　−１２５０＝　１／２（重量比）が
９重量％になるように１．２−ジクロルエタン中ボール
ミルで２４時間粉砕し、更に２４時間分散した液にＣＴ
Ｍ（ＩＸ−７５）をパンライトＬ−１２５０に対して７
５重量％およびＣＴＭに対して１０重量％の例示化合物
（３）を加えた。

この溶液にモノクロルベンゼンを加えて１．２−ジクロ
ルベンゼン／モノクロルベンゼン−７、／３（体積比）
になるよう調製した分散液を前記ＣＴＬ上にスプレー塗
布し、乾燥して５μ輪のＣＧＬを形成し、積層構成の感
光体層を有する本発明の感光体試料１を得た。

比較例（１）実施例１において、例示化合物（３）を除いた以外は実
施例１と全く同様にして比敦の感光体試料（１）を得た
。

実施例　２実施例１において、例示化合物（３）に代えて例示化合
物（１）を用いた以外は全く同様にして感光体層ＩＬ４
２を得た。

実施例　３実施例１の例示化合！１ｍ（３）を除いた感光体層（比
較例１の感光体に同じ）上に、熱硬化性アクリル−メラ
ミン−エポキシ（１：１：１）樹脂１．５５重量部およ
び例示化合物（３）　０．１５５重量部をモノクロルベ
ンゼン／１，１．２−）ジクロルエタン混合溶媒に溶解
させた塗布液をスプレー塗布し、乾燥して１μ醜厚のＯ
ＣＬを有する感光体試料３を得た。

実施例　４実施例１の例示化合物（３）を除いた感光体層上に、シ
リコンハードコート用プライマＰＩ（９１（東芝シリコ
ン社製）を０．１μｍとなるようにスプレー塗布し、更
にその上にシリコンハードコートトスガード５１０（東
芝シリコン社製）及び例示化合物（３）を樹脂１００重
量部に対して１０ｆｆｉ量部となるよう添加した溶液を
スプレー塗布し、乾燥して１μｍ厚のＯＣＬを形成し感
光体試料４を得た。

実施例　５アルミニウム箔をラミネートしたポリエステルフィルム
、及びアルミニウムドラムより成る導電性支持体上に、
塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体（エ
スレックＭ　Ｐ　−ｔｏ、前出）よりなる厚さ約０．１
μｍの中間層を形成した。

次いでＣＴＬ用塗布液としてブチラール樹脂（エスレッ
クＢ　Ｘ　−１、種水化学社製）８重量％とＣＴ　Ｍ　
（ＩＸ　−７５）　６重量％をメチルエチルケトンに溶
解して得られる塗布液を前記中間層上に塗布・乾燥して
１０μｍ厚のＣＴＬを形成した。

次いでＣＧＭ（ＩＶ−７）０．２９をペイントコンデシ
ロナ（Ｐａｉｎｔ　Ｃｏｎｄｉｔｉｏｎｅｒ、　Ｒｅｄ
　Ｄｅｖｉ１社製）で３０分粉砕し、これにポリカーボ
ネート樹脂（パンライトＬ−１２５０．前出）を１．２
−ジクロルエタン／１，１．２−トリクロルエタン混合
溶媒に０．５重１％となるよう溶解させた溶液を８．３
ｇ加えて３分間分散し、次いでこれにポリカーボネート
樹脂、ＣＴＭ（ＩＸ−７５）および例示化合物（３）を
それぞれ３．３重量％、２，６重量％および０．２６重
量％となるよう１，２−ジクロルエタン／１，１．２−
）ジクロルエタン混合溶媒に溶解して得られる溶液１９
．１９を加えてさらに３００分間分散た。かくして得ら
れた分散液を前記ＣＴＬ上にスプレー塗布し、かつ乾燥
して５μｍ厚のＣＧＬを形成し、積層構成の感光体層を
有する感光体試料５を得た。

比較例　（２）実施例５において例示化合物（３）を除いた以外は実施
例５と全く同様にして比較の感光体試料（２）を得た。

実施例　６実施例５において、例示化合物（３）に代えて例示化合
物（１）を用いた以外は全く同様にして感光体試料６を
得た。

実施例　７実施例５の例示化合物（３）を除いた感光体層（比較例
２の感光体に同じ）上に、実施例３と同様の例示化合物
（３）を含有する保護層を設置し、感光体試料７を得た
。

実施例　８実施例５の例示化合物（３）を除いた感光体層上に、実
施例４と同様の例示化合物（３）を含有する保護層を設
置し、感光体試料８を得た。

前記実施例試料１〜８及び比較例試料（１）、（２）に
ついてＵＶ耐性について、帯電性に対する２万回の実写
テスト及びＵＶ曝射による感度変化の定量的測定を行っ
た。

帯電性実写テストは、本発明の像形成プロセスを行うＵ
−Ｂ　ｉｘ　２８１２　Ｍ　Ｒ（小西六写真工業（株）
製）の改造実験機に試料感光体ドラムを装着し、正帯電
させ、前記感光体に対する像露光をはじめとする各工程
及び定着からなる単位サイクルを２万回繰返し、実写テ
スト初期の正帯電電位を＋ｖｏ、２万回終了後回終了後
電位を＋Ｖ、とする。

またＵＶ曝射による感度変化は、既知強度の紫外線を試
料フィルムを裁断した感光体シートに照射し、その照射
前後に於て、＋　６００Ｖに帯電させた該感光体の電位
を＋１００Ｖまで責す露光量Ｅ’、”を用いて求めた。

感光体の感度ＳはＥ：■ＯＣＩ／Ｓの関係として定義さ
れ、Ｅ？■が小さいほど感度Ｓは大きく硬調な画像かえ
られる。

ＵＶ曝射前後の感度を夫々Ｓｏ、Ｓ、とすれば、その逆
数比Ｒｓ；（１／　Ｓ　１）／　（１／　Ｓ　ｏ）＝’
　Ｓ　ｏ／　Ｓ　１１ｅｔ。

Ｕ　Ｖ耐性を表し、Ｒｓが大きいほどＵ−Ｖ耐性がある
ことになる。

ＵＶ照射は理化学用水銀ランプＳ　ＨＬ　−１００Ｕ　
Ｖ−２（１）東芝製）を用い試料フィルムを断裁した感
光体シートを３０ｃｍの距離に置き他の電磁波を遮断し
、ＵＶ強度１５００ｃｄ／ｃｍ”で１００分間照射を行
い、感度測定は静電試験機（川口電機製作所；５Ｐ−１
２８型）によった。

これらの結果を第１表に示す。

第１表第１表から本発明の感光体はいずれも紫外線耐性および
電子写真特性共にすぐれているのに対し、比較用感光体
は紫外線劣化が著しく電子写真特性も良くない二とが判
る。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第３図は本発明の正帯電感光体の断面図で
ある。第４図は像形成プロセスの説明図である。ｌ・・・支持体２・・・電荷輸送層（ＣＴＬ）３・・・電荷発生層（ＣＧＬ）４・・・感光体層５・・・電荷輸送物質（ＣＴＭ）６・・電荷発生物質（ＣＧＭ）７・・保護層（ＯＣＬ　）２０・・・感光体２１・・・帯電器２２・現像器２６・・・クリーニング装置

Claims

【特許請求の範囲】

（１）導電性支持体上に電荷輸送物質及び電荷発生物質
を含んでなる層を有する電子写真感光体に於て、下記一
般式で表される化合物を含有することを特徴とする電子
写真正帯電感光体。一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿１及びＲ＿２は水素原子またはアルキル、
アリール基を表す。Ｒは水素原子、ハロゲン原子または
ニトロ、アミノ、アルキル、アルコキシ、アリール、ア
ラルキルの各置換基を表し、ｎは０、１または２である
。ｎ＝２の時Ｒは同じでも異っていてもよい。〕
（２）前記電子写真正帯電感光体に於て、導電性支持体
上に電荷輸送層、電荷発生層及び必要に応じて設けられ
る保護層の順に積層し、電荷発生層中に電荷輸送物質を
含有し、且つ電荷発生層及び／または必要に応じ設けら
れる保護層に前記一般式で示される化合物を含有するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の電子写真正
帯電感光体。
（３）前記電子写真正帯電感光体を用いて、該感光体上
に正電荷を付与し、像露光を行って正の静電潜像を形成
し、トナー現像を施すことを特徴とする像形成プロセス
。