JPS63132243A - 電子写真正帯電感光体及びその像形成プロセス - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子写真感光体に関し、特に正帯電用感光体に
関する。

〔従来の技術〕

従来、例えば電子写真感光体としては、セレン、酸化亜
鉛、硫化カドミウム等の無機光導電性物質を含有する感
光体層を有する感光体が広く用いられている。

一方、種々の有機光導電性物質を電子写真感光体の感光
体層の材料として利用することが近年活発に研究、開発
されている。

例えば特公昭５０−１０４９６号には、ポリ−Ｎ−ビニ
ルカルバゾールと２．４．７−ドリニトロー９−フルオ
レノンを含有した感光体層を有するイＴ機感光体につい
て記載されている。しかしこの感光体は、感度及び耐久
性において必ずしも満足できるものではない。このよう
な欠点を改善するために、感光体層において、電荷発生
機能と電荷輸送機能とを異なる物質に個別に分担させる
ことにより、感度が高くて耐久性の大きい有機感光体を
開発する試みがなされている。

このような、いわば機能分離型の電子写真感光体におい
ては、各ａ＠を発揮する物質を広い範囲のものから選択
することができるので、任意の特性を有する電子写真感
光体を比較的容易に作製することが可能である。

こうした機能分離型の電子写真感光体に有効な電荷発生
物質として、従来数多くの物質が提案されている。無機
物質を用いる例としては、特公昭４３−＋６１９８号に
記載されているように、無定形セレンがあり、これはｔ
ｒＪａ電荷輸送物質と組合される。

また、イｒ機染料やＹｆ機顔料を電荷発生物質として用
いた電子写真感光体も多数提案されており、例えば、ビ
スアゾ化合物を含有する感光体層を有するものは、特開
昭４７−３７５４３号、同５５−２２８３４号、同５４
−７９６３２号、同５６−１１６０４０号等により既に
知られている。尚これらの有機光導電性物質は通常負帯
電感光体に使用されていて、その理由は、負帯電使用の
場合には、電６：ｊのうちホールの移動度が大きいこと
から、光感度等の面で有利なためである。

しかしながら、このような負帯電使用では、帯電器によ
る負帯電時に雰囲気中にオゾンが発生し易くなり、環境
条件を悪くするという問題がある。

さらに他の問題は、負帯電用感光体の現像には正極性の
トナーが必要となるが、正極性のトナーは強磁性体１ａ
荷粒子に対する摩擦帯電系列からみて製造が困難である
ことである。

そこで、有機光導電性物質を用いる感光体を正帯電で使
用することが提案されている。例えば、電荷発生層−に
に電荷輸送層を積層して感光体を形成する際、感光体表
面の正電荷を能率よく打消すため前記電荷輸送層に電子
輸送能の大きい、例えばトリニド［Ｊフルオレノン等が
使用される。しかし該物質には発癌性があり、労働衛生
」二極めて不適当である等の問題を生ずる。

さらに正帯電感光体として、米国特許３，６１５，４１
４号には、デアビリリウム塩（電荷発生物質）をポリカ
ーボネート（バインダ樹脂）と共晶錯体を形成するよう
に含有させたものが示されている。しかしこの公知の感
光体では、メモリ現象が大きく、ゴーストも発生し易い
という欠点がある。又米国特許３，３５７，９８９号に
も、フタロシアニンを含有せしめたｈＥ光体が示されて
いるが７フタロシアニンは結晶型によって特性が変化す
る上に、結晶型を厳密に制御しなければならないという
難点があり、かつメモリ現象が大きく、短波長感度が低
いためＩＴｉ記短波長を含む１−ＩＪ視光を光源とする
複写機には不適当である。

このように正帯電用感光体を得るための試みが種々行な
われているが、いずれも光感度、メモリ現象又は労働衛
生等の点で改善すべき多くの問題点がある。

そこで光照射時ホール及び電子を発生ずる電荷発生物質
を含（ｆする電荷発生層をに層（表面層）とし、ホール
輸送機能を有する電荷輸送物質を含む電荷輸送層を下層
とする積層構成の感光体層をイｆする感光体を正帯電用
として使用することが考えられる。さらに又、前記電荷
発生物質と前記電荷輸送物質を含む単層構成の感光体層
をｆｉする感光体も正帯電用として使用可能と考えられ
る。

なおかかる正帯電用とされる感光体においては、構造中
に例えば電子吸引性基を有する電荷発生物質を用いるよ
うにすれば、感光体表面の正電荷を打消すための電子の
移動が早くなり、高感度特性が得られることが考えられ
る。

しかしながら、前記正帯電用感光体はいずれも電荷発生
物質を含む層が表面層として形成されるため、光照射特
に紫外線等の短波光照射、コロナ放電、湿度、機械的摩
捺等の外部作用に脆弱な電荷発生物質が１）を足表面層
近傍に存在することとなり、感光体の保存中及び像形成
の過程で電子写真性能が劣化し、画質が低下するように
なる。

従来の電荷輸送層を表面層とする負帯電用感光体におい
ては、＋１ｉｉ記各種の外部作用の影響は極めて少なく
、むしろ前記電荷輸送層が下層の電荷発生層を保護する
作用をｆｆシている。

そこで、例えば絶縁性かつ透明な樹脂から成る薄い保護
層を設け、前記電荷発生物質を含む層を外部作用から保
護することが考えられるが、光照射時発生する電荷が該
保護層でブロッキングされて光照射効果が失なわれてく
るし、また表面層となる保護層の膜厚が厚い場合には感
度低下を招き、剰え紫外線遮断効果ら少いので、外部作
用からの遮蔽、特に紫外線からの保護を単なる保護層だ
けに委ねることはできない。

〔発明の目的〕

本発明の１４的は、電６：ｊ発生物質（ＣＧＭと標記）
及び電荷輸送物質（Ｃ’ｌ’Ｍと標記）を含んでなりｉ
Ｅ帯電性感光体層を有し、紫外線耐性のよい高感度で耐
久性の大きい電子写真正帯電感光体を提供することにあ
る。

〔発明の構成および作用効果〕

前記した本発明の目的は、導電性支持体上にＣＴＭ及び
ＣＧＭを含んでなる層をイｆする電子写真感光体に於て
、下記一般式で表される化合物を含ａすることを特徴と
する電子写真正帯電感光体によって達成される。

一般式 式中、Ｒ１はハロゲン原子、０１１．Ｓｌｌ、アルキル
、アリール、ｏｒｔ、’　、５ｒｔｉ’　（ここにＩ’
ｔｔ’　はアルキル基）、アミノアルキルの各置換基を
表し、巾は１〜５の整数であって、Ｒ１は同じでも異っ
ていてもよい。

芳香環基を表す。Ｒ３はハロゲン原子、ＯＨ，アルキル
、アリール、アラルキル、ＯＲ１′の各置換基を表し、
ｎは１〜５の整数であって、Ｒ２は同じでも異っていて
もよい。

本発明に係る導電性支持体上に設ける感光体層は、ＣＴ
Ｍ及びＣＧＭを混和した単層構成でもよいし、ＣＴ　Ｍ
を含む層を下層としＣＧＭを含む層を上層とする複層構
成でもよい。また必要に応じて保護層（ＯＣＬと標記）
を設けてもよい。

本発明に係る化合物は前記の少くとら一層に添加される
が感光体層表層に添加されることが好ましい。尚表層に
最も濃密に、内部にゆくに従ってａ減させる形態であっ
てもよい。

以下に本発明の詳細な説明する。

ナーＬ’）ゝノプロセーｘＩ−搭？雷工π育ブ百セプ？
−は、一般に像露光、消去露光、転写前露光、クリーニ
ング露光等に紫外線を発生ずる光源が用いられており、
該光源からの光に含まれ、可視光に比べ大きなエネルギ
を存する紫外線の繰返し照射は、感光体に用いられてい
る有機化合物分子を解裂させるに充分である。即ち感光
体をなずｃｃＭ、ｃ’ＩＩ’　Ｍ或はバインダ等はラジ
カル解離を起し本来の分子構造を失って劣化し、従って
感光体の劣化を招来し、具体的には感度低下、残電位」
二昇等をハ：起し、かぶりの発生、画質の低下に陥る。

従来の技術でも記述したように有機光導電性物質を用い
た正帯電用感光体においては、電荷発生層（以下、ＣＧ
　Ｌと標記）が表面層となるので耐傷性に欠け、耐久性
向」二のためにはＣＧ　Ｌ膜厚を厚くする必要がある。

しかしながら、膜厚を厚くすると感度低下を引起こす。

この感度低Ｆを抑制する手段としてＣＧ　Ｉ、中への電
荷輸送物質（Ｃ’ｒＭ）の添加が効果的であるが、この
Ｃ１”　Ｍは電荷発生物質（ＣＧＭ）に比べ紫外線酸化
を受は易い構造をａするので、紫外線により容易に劣化
され感光体の耐久性が損われてしまう。

本発明者らは、感光体の紫外線劣化防止に関し鋭意検討
の結果、正帯電感光体の表面層であるＣＧ　Ｌ中にベン
ゾフェノン類化合物を含（ｆさせることにより、７１−
足労化を著しく軽鎖できることを見い出した。

前記した化合物即ち紫外線吸収剤の有機化合物安定化機
構としては、紫外線（ＵＶと標記することがある）の保
ｒＴする分解エネルギがＵＶ吸収剤内で振動のエネルギ
に変化するごとによると思われる。この振動のエネルギ
は熱エネルギとして該ＵＶ吸収剤から放出されるが、熱
エネルギは既に有機化合物を劣化させるには不充分であ
って、感光体が紫外線繰εし照射の害から保護されるも
のと思われる。

本発明に係る代表的なＵＶ吸収剤としては、ベンゾフェ
ノン分子中に、カルボニル基に対してオルト位に１つ以
−１−のオキシ基の存在が特徴である。

この系統をオキシ基の数によって４つのグループ式に分
けて示すことができる。

モノオキシ系グループ式（ｉ） 凸１１ Ｒ：　［（、Ｃ（１，Ｃ１１３，ＣａＬｔ、　（Ｃ！ｈ
）ｔｃ　　ＣＨ（ＣＨｓ）ｔ　　ＣＨａ、等Ｘ：　ｉｌ
、　Ｃ１２，Ｃａｌ。

ジオキシ系グループ式（１１） トリオキシ系グループ式（ｉｉｉ） テトラオキシ系グループ式（１ｖ） 前記一般式で表した化合物のＲとして、フェニル基以外
の芳香族環としては、例えば次のグループ式ｖ）、ｖｉ
）が挙げられる。

グループ（ｖ） グループ（ｖｉ） 形成してもよい。

次に具体的化合物を例示する。

（２）　　　Ｉｔ　　　　　ＩＩ　　　　　０１１　　
　　０ＣＩ＋。

（３）　　　ＩＩ　　　　０１１　　　　０１１　　　
　　（ｌｃ１１３（４）　　　Ｏｆｆ　　　　０１１　
　　　０ｉｌ　　　　　０１ｉ（５）　　　０ＣＩＩ３
　　０ｉｌ　　　　　０１１　　　　０ＣＩＩ。

（６）　　　０Ｃ１１，０１１０１１０Ｈ（７）　　　
Ｏｌｌ　　　　０１＋　　　　　１１　　　　１＋（８
）　　　ＯＩｆ　　　　０１１　　　　　ＣＩＩ　３Ｉ
ｆ（＋１）　　　０１１　　　０ｉｌ　　　　　ＣＯＯ
Ｃ１＋３　　１１（１０）　　　０１１　　　　＋１１
１　　　　　Ｃ００Ｃ，ＩＩ、　　ＩＩ（Ｉｆ）　　　
０Ｃ１１，０１１ＣＩＩ、　　　　１（＋２）　　　Ｏ
ＣＩ＋３　　０ｉｌ　　　　　Ｃ００ＣＲ，Ｈ（１３）
　　　ＯＣ１＋＋　　　０１１　　　　　Ｃ００Ｃ，＋
！、　　＋１（目）　　　　　０ＣｐＨｓ　　　　　０
１！　　　　　　　　　　ＣＩＩ　Ｊ　　　　　　　　
Ｉｆ（１５）　　　ｆ）Ｃ、１１、０１１，ＩＩ　　　
　　ＩＩ（１６）　　　（Ｉｃ、１１．　　　（ＩＩＩ
　　　　　ＣＵＯｆ、：Ｉｔｓ　　　ＩＩ（１７）　　
　（Ｉｃ、Ｉｌ、、　　　ＯＨＣ００Ｃ＊ｌＩｂ　　Ｉ
ＩＮｏ、　　　　　　Ｚ　　　　　　　　　　　　　Ｒ
（１９）　　　　　Ｓ　　　　　　　　　　　ＩＩ（２
０）　　　　　ＯＣ１１３ （２１）　　　　　ＯＣ，Ｈ。

（２２）　　　　　Ｓ　　　　　　　　　　　Ｃ１＋。

（２３）　　　　　Ｓ　　　　　　　　　　　Ｃｔｌｌ
ｓＮ　Ｏ，ｎ　ｌ　　　　　Ｒｔ　　　　　　ｎ　３　
　　　　　　　Ｒ４（２４）　　　ＣＩｌ、　　　　　
　ｌ（１１Ｈ（２５）　　　Ｃ１１，０ＣＩ１．　　　
　　ＨＩＩ（２６）　　　０１１　　　　　　＋１　　
　　　　　Ｈ１１（２７）　　　ＯｌＩ　　　　　　　
ＯＣｌ、　　　　　Ｉｔ　　　　　　　　　１１（２８
）　　　０Ｃ１１３Ｂ　　　　　　　＋１　　　　　　
　　　Ｈ（２９）　　　ＯＣ１＋、　　　　　０Ｃ１１
，１１ＩＩ（３０）　　　ＯＣ＊Ｈｓ　　　　ｉｉ　　
　　　　　ｉｌ　　　　　　　　　Ｈ本発明の化合物の
添加量は、ＯＣＬ中に用いられる場合、ＣＧＬ中ノＣＴ
　Ｍ　ｌ：対しテ０．１〜１００重量％、好ましくは１
〜５０重量％、特に好ましくは５〜２５重量％である。

また、ＯＣｌ中に用いられる場合、ＯＣｔ、中のバイン
ダ樹脂に対して０．１〜１００重肴％、好ましくは１〜
５０重量％である。

次に本発明の感光体の構成を図面によって説明する。感
光体としては例えば第１図に示すように支持体Ｉ　（導
電性支持体またはシート上に導電層を設けたもの）上に
ＣＴＭと必要に応じてバインダ樹脂を含有する電荷輸送
層（Ｃ’ｒＬと標記）２を下層とし、ＣＧＭ％ＣＴＭと
必要に応じてバインダ樹脂を含有するＣＧＩ、３を上層
とする積層構成の感光体層４を設けたもの、第２図に示
すように第１図の感光体層の」二に保護層（ＯＣＬ）４
を設けたもの及び第３図に示すように支持体上にＣＧＭ
とＣＴＭと必要に応じてバインダ樹脂を含有する単層構
成の感光体層４を設けたもの、等が挙げられるが、第３
図の単層構成の感光体層上にＯＣＬが設けられてもよく
、また支持体と感光体層の間に中間層が設けられてもよ
い。

次に本発明に適するＣＧＭとしては、可視光を吸収して
フリー電荷を発生するものであれば、無機顔料及び有機
顔料の何れをも用いることができる。無定形セレン、三
方晶系セレン、セレン−砒、！金、セレン−テルル合金
、硫化カドミウム、セレン化カドミウム、硫セレン化カ
ドミウム、硫化水銀、酸化鉛、硫化鉛等の無機顔料の外
、次の代表例で示されるような４１機顔料が用いられる
。

（＋）　　モノアゾ顔料、ポリアゾ顔料、金属錯塩アゾ
顔料、ピラゾロンアゾ顔料、スチルベンアゾ及びチアゾ
ールアゾ顔料等のアゾ系顔料。

（２）ペリレン酸無水物及びペリレン酸イミド等のペリ
レン系顔料。

（３）アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体
、ジベンズピレンキノン誘導体、ビラントロン誘導体、
ビオラントロン誘導体及びイソビオラントロン誘導体等
のアントラキノン系又は多環キノン系顔料 （４）インジゴ誘導体及びチオインジゴ誘導体等のイン
ジゴイド系顔料 （５）金属フタロシアニン及び無金属フタロシアニン等
のフタロシアニン系顔料 （６）ジフェニルメタン系顔料、トリフェニルメタン顔
料、キサンチン顔料及びアクリジン顔料等のカルボニウ
ム系顔料 （７）アジン顔料、オキサジン顔料及びチアジン顔料等
のキノンイミン系顔料 （８）　シアニン顔料及びアゾメチン顔料等のメチン系
顔料 （９）キノリン系顔料 （１０）　　ニトロ系顔料 （１１）ニトロソ系顔料 （Ｉ２）ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料（１３）
ナフタルイミド系顔料 （１４）　　ビスベンズイミダゾール誘導体等のペリノ
ン系顔料 前記本発明に用いられるアゾ系顔料としては、例えば次
の例示構造化合物群（１）〜（Ｖ）で示されるものがあ
り、該例示構造化合物群の中の個々の好ましい具体的化
合物の数例を併せ掲げる。

その好ましい具体的化合物の全容については特願昭６１
．−１９５８８１号が参照される。

例示構造化合物群〔Ｉ〕： 例示構造化合物群〔■〕： 例示構造化合物群〔■〕： また、以下の多環キノン顔料から成る例示構造化合物群
（Ｖｌ）〜〔■〕はＣＧＭとして最も好ま例示構造化合
物群〔■〕： 例示構造化合物群〔■〕： ＼、′ン 例示構造化合物群〔■〕： 次に本発明で使用可能なＣＴＭとしては、特に制限はな
いが、例えばオキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘
導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリ
アゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダシロン誘
導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導
体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン誘
導体、オキサシロン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、
ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾ
フラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、
アミノスチルベン誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、ポリ−１−ビニルピレン、ポリ−９−ビニルアント
ラセン等であってよい。

しかしながら光照射時発生するポールの支持体側への輸
送能力が優れている外、前記ＣＧ　Ｍとの組合せに好適
なものが好ましく用いられ、かかるＣＴＭとしては、例
えば下記例示構造化合物群（ＩＸ）又は（Ｘ）で示され
るスチル化合物が使用される。該例示構造化合物群中の
個々の具体的化合物の数例を併せ掲げるが、その全貌に
ついては特願昭６１−１９５８８１号が参照される。

例示構造化合物群（ＩＸ　）　： 例示構造化合物群（Ｘ） また、Ｃ’Ｉ’　Ｍとして下記例示構造化合物群（ＸＩ
）〜（ＸＶ）で示されるヒドラゾン化合物も使用可能で
ある。向側々の具体的化合物の全容については特願昭６
１−１９５８８１号が参照される。

例示構造化合物群〔■〕 例示構造化合物群（ＸＩ　）　： 例示構造化合物群（ＸＩＶ　）　： 例示構造化合物群ｃ　ＸＶ　）　： 例示構造化合物群（ＸＶＩ）： また、ＣＴＭとして下記例示構造化合物群〔Ｘ■〕で示
されるアミン誘導体も使用可能である。

尚詳しくは特願昭６１−１９５８８１号が参照される。

次に本発明のＯＣＬに用いられてよいバインダは、体積
抵抗１０＠Ωぐ一以上、好ましくは１０１０ΩＣ１以上
、より好ましくは１０１３ΩＣ１Ｉ以上の透明樹脂が用
いられる。又面記バインダは光又は熱により硬化する樹
脂を少なくとも５０重量％以上含有するものとされる。

かかる光又は熱により硬化する樹脂としては、例えば熱
硬化性アクリル樹脂、シリコン樹脂、工弔キシ樹脂、ウ
レタン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル
樹脂、アルキッド樹脂、メラミン樹脂、光硬化性の桂皮
酸樹脂等又はこれらの共重合もしくは共縮合樹脂があり
、その外電子写真材料に供される光又は熱硬化性樹脂の
全てが利用される。又前記ＯＣＩ、中には加工性及び物
性の改良（亀裂防止、柔軟性付与等）を［］的として必
要により熱可塑性樹脂を５０重量％未満含有せしめるこ
とができる。かかる熱可塑性樹脂としては、例えばポリ
プロピレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニ
ル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ブチラール樹
脂、ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、又はこれら
の共重合樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合
体樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール等の高分子有機
半導体、その他電子写真材料に供される熱可塑性樹脂の
全てが利用される。

また１ｒｊ記ＯＣＬは、電子受容性物質を含有してもよ
く、その他、必要によりＣＧＭを保護する目的でオゾン
酸化防＋１−剤等を含有してもよく、前記バインダと共
に溶剤に溶解され、例えばディップ塗布、スプレー塗布
、ブレード塗布、ロール塗布等により塗布・乾燥されて
２μ−以下、好ましくは１μｍ以下の層厚に形成される
。

本発明の感光体層の層構成は前記のように積層構成と単
層構成とがあるが、Ｃ’ｒ　Ｌ％ＣＧ　ＬまたはＯＣＬ
には感度の向上、残留電位ないし反復使用時の疲労低減
等を目的として、１？；Ｉｔまたは２種以」二の電子受
容性物質を含有せしめることができる。

本発明に使用可能な電子受容性物質としては、例えば無
水こはく酸、無水マレイン酸、ジブロＪＮ無水マレイン
酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、テトラ
ブロム無水フタル酸、３−ニトロ無水フタル酸、４−ニ
トロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メリット
酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン
、０−ジニトロベンゼン、１−ジニトロベンゼン、１，
９，５．−トリニトロベンゼン、パラニトロベンゾニト
リル、ビクリルクロライド、キノンクロルイミド、クロ
ラニル、ブルマニル、２−メチルナフトキノン、ジクロ
ロジシアノバラベンゾキノン、アントラキノン、ジニト
ロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、９−フル
オレノンデン〔ジシアノメチレンマロノジニトリル〕、
ポリニトロ−９−フルオレノンデンー〔ジシアノメチレ
ンマロノジニトリル〕、ピクリン酸、フタル酸等が挙げ
られる。

本発明において感光体層に使用可能なバインダ樹脂とし
ては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル
樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂
、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、シリコン樹脂、メラミン樹脂等の付加重合型樹
脂、重付加型樹脂、重縮合型樹脂、並びにこれらの樹脂
の繰返し単位のうちの２つ以上を含む共重合体樹脂、例
えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル
−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂等の絶縁性
樹脂の他、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール等の高分子有
機半導体が挙げられる。

次に前記感光体層を支持する導電性支持体としては、ア
ルミニウム、ニッケルなどの金属板、金属ドラム又は金
属箔、アルミニウム、酸化錫、酸化インジウムなどを蒸
着したプラスチックフィルムあるいは導電性物質を塗布
した紙、プラスチックなどのフィルム又はドラムを使用
することができる。

ｃ　’Ｉ”　Ｌは既述のＣ’ｒ　Ｍを適当な溶媒に単独
もしくは適当なバインダ樹脂と共に溶解もしくは分散せ
しめたしのを塗布して乾燥させる方法により設ｒし　１ ＣＴＬの形成に用いられる溶媒としては、例えばＮ、Ｎ
−ジメチルホルムアミド、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、モノクロルベンゼン、１．２−ジクロ「１エタン、
ジクロロメタン、１，１．２〜トリクロロエタン、テト
ラヒドロフラン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢
酸ブヂル等を挙げることができる。

本発明に係る感光体層をＣＴ　ＬとＣＣｔ、の複層構成
で形成する場合は、ＣＴＬの膜厚は、好ましくは５〜５
０μ転特に好ましくは５〜３０μｍである。

ｃ　’Ｉ’　Ｌ中のバインダ樹ｆｌｉｉ１００重量部当
りＣＴ　Ｍが２０〜２００重ｎｔ部、好ましくは３０〜
１５０重ｊＩｔ部とされる。

ＣＴＭの含有割合がこれより少ないと光感度が悪く、残
留電位が高くなり易く、これより多いと溶媒溶解性が悪
くなる。

ＣＧ　Ｌは、既述のＣＧＭとＣＴＭを別々に、あるいは
−緒に適当な溶剤に単独もしくは適当なバインダ樹脂と
共に溶解もしくは分散せしめたものを塗布、乾燥してＣ
１”　Ｌの場合と同様に形成することができる。

」−記ＣＧＭを分散せしめてＣＧ　Ｌを形成する場合、
当該ＣＧＭは２μｍ以下、好ましくは１μ亀以下の平均
粒径の粉粒体とされるのが好ましい。即ち、粒径があま
り大きいと層中への分散が悪くなると共に、粒子が表面
に一１’ｌ＜突出して表面の平滑性が悪くなり、場合に
よっては粒子の突出部分で放電が生じたり或いはそこに
トナー粒子が付着してトナーフィルミング現象が生じ易
い。

ただし、−１部記粒径があまり小さいと却って凝集し易
く、層の抵抗が上昇したり、結晶欠陥が増えて感度及び
繰返し特性が低下したり、或いは微細化する」二で限界
があるから、平均粒径の下限を０．０１μ情とするのが
望ましい。

ＣＧ　Ｌ、は、次の如き方法によって設けることができ
る。即ち、記述のＣＧＭをボールミル、ホモミキサ等に
よって分散媒中で微細粒子とし、バインダ樹脂およびＣ
’Ｉ’　Ｍを加えて混合分散して得られる分散液を塗布
する方法である。この方法において超音波の作用下に粒
子を分散させると、均一分散が可能である。

ＣＧ　Ｌ中のバインダ横１１ｆ１００重量当りＣＧＭが
２０〜２０Ｇ重量部、好ましくは２５〜ＩＱＱ重（４部
とされ、Ｃ’１’　Ｍが２０〜２００重量部、好ましく
は３０−１５０重量部とされる。

ＣＧＭがこれより少ないと光感度が低く、残留電位の増
加を招き、又これより多いと暗減衰が増大し、かつ受容
電位が低下する。

以上のようにして形成されるＣＧＬの膜厚は、好ましく
はｌ−１０μ醜、特に好ましくは２〜７μｍである。

積層構成の場合、ＣＧ　Ｌ、とＣＴＬの膜厚比はｌ：（
１〜３０）であるのが好ましい。

次に本発明の感光体を単層で構成する場合、ＣＧＭがバ
インダ樹脂に含有される割合は、バインダ樹脂１００重
量部に対して２０〜２００重ｔｉｔ部、好ましくは２５
〜１００重ＦＡ部とされる。

ＣＧＭの含有割合がこれより少ないと光感度が低く、残
留電位の増加を招き、又これより多いと暗減衰及び受容
電位が低下する。

次にＣＴＭがバインダ樹脂に対して含有される割合は、
バインダ樹脂１００重量部に対して２０〜２００重Ｉｊ
ｔ部、好ましくは３０〜１５０重量部とされる。

ＣＴ　Ｍの含イ丁割合がこれより少ないと光感度が悪く
残留電位が高くなり易く、又これより多いと溶媒溶解性
が悪くなる。

１）１ｊ記中層構成の感光体層中のＣＧＭに対するＣ′
１゛ＭのｒＩｌ比は重量比で１：３〜１：２とするのが
好ましい。

また中層構成の感光体層の膜厚は７〜５０μ鴎、更に好
ましくは１０〜３０μｍである。

また、前記中間層は接着層又はバリヤ層等として機能す
るもので、」−記バインダ樹脂の外に、例えばポリビニ
ルアルコール、エチルセルロース、カルボキシメチルセ
ルロース、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、カゼイン、
Ｎ−アルコキシメチル化ナイ【ｌン、澱粉等が用いられ
る。

次に本発明の正帯電感光体を用いる像形成プロセスを第
４図を用いて説明する。

第４図は静電潜像につづいてト→・−像を担持する本発
明の感光体ドラムを取囲む、本発明の像形成プロセスに
関与する諸機能部材の配置の１例を示す。

本発明の正帯電感光体２０は、導電性支持体によりアー
スされており、正に整流されて正電荷を与えるコロナ放
電極等の帯１ａ器２１（例えばスコ〔Ｊトロン等）によ
って、予め正帯電され時計方向（図に於てＡの方向）に
回転する。

また原稿載置台上の原稿からの反射光Ｅは、ミラー、レ
ンズ等からなる光学系を経て感光体２０（ドラム）」−
へスリットＳを介して入射される。

感光体ドラム２０は予め帯電器２１により電荷を与えら
れているので、前記光学系からの光入射に従って該感光
体ドラム２０上には原稿に対応した静電潜像が順次形成
され、回転する感光体ドラム２０上の前記静電潜像は、
現像器２２によって可視のトナー像となる。

一方、転写紙は給紙装置より繰出されて、ガイド板によ
り案内されて給紙ローラ３２に到り、感光体ドラム２０
−Ｌの前記トナー像の先端と転写紙との先端が一致する
ようにタイミング信号に基づいて給紙される。

その後、転写極２３の作用により感光体ドラム２０上の
トナー像は転写紙」―に転写される。そして分離極２４
により、感光体ドラム２Ｇ上から分離された転写紙は転
写紙搬送手段３５を経て定着装置へ送られ、熱定着ロー
ラおよび圧着ローラによって熔融定着されたのち、排紙
ローラにより排紙皿上へ排出される。

、一方、転写工程終了後、前記感光体ドラム２０は、ド
ラム」二に残留するトナーのクリーニング装置２６によ
る除去を容易にするため、交流のコロナ放電を行なうク
リーニング除電極２５によって、ドラ１２表面が電気的
に中和される。次いで転写しきれずにドラム」−に残っ
たトナーはブレード等のクリーニング装置２６により掻
き落される。

これによりドラムは次のコピーへの準備ができる。

以上が複写を行なう基本のプロセスであるが、画質を高
めるため、複写機には前露光といわれる工程が用いられ
る。第１の前露光装置２７は前記クリーニング装置２６
と帯電５２１との間に配設され、蛍光燈等の光源等から
成る。クリーニング装置２６で表面のトナーを除去され
た感光体ドラム２０は、この前露光装置２７によるクリ
ーニング露光によって、ドラム表面の残留電荷は除かれ
電位はゼロになる。

第２の前露光装置２８は、現像器２２と転写極２３、分
離極２４との間、第３の前露光装置２９は分＃極その他
の分１部の後にあってクリーニング除電極２５の上流を
なす位置に配設され、蛍光燈等の光源等から成る。この
第２及び第３の前露光装置による光照射、即ち転写前露
光及び消去露光によって、感光体ドラム２０の表面電荷
が低減・均一化され、これによって転写・分離時の効率
が向上し、更には感光体ドラム２０上の残像のクリーニ
ングを容易にする。

〔実施例〕

以下本発明を実施例により説明するが、これにより本発
明の実施の態様が限定されるものではない。

実施例　１ アルミニウム箔をラミネートしたポリエステルフィルム
、及びアルミニウムドラムより成る導電性支持体上に、
塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体（ニ
スレックスＭ　Ｐ　−１［１，積木化学工業社製）より
なる厚さ０．１μｍの中間層を形成した。

次いでポリカーボネート樹脂（パンライトＬ−１２５０
、音大化成社製’Ｊ／　Ｃ’１’　Ｍ　（ＩＸ−７５）
−１００／７５（Ｉｔ＋ｉｔ比）を１６．５重量％含有
する１、２−ジク℃１ルエタン溶液を中間層」−にディ
ップ塗布し、１５μｌ厚のＣＴ　Ｌを形成した。次に、
ＣＧＭとして昇窄した４、１０−ジブロムアンスアンス
ロン（■−３）／パンライｌ−Ｌ　−１２５０＝　１／
２（重量比）が９重量％になるように１，２−ジクロル
エタン中ボールミルで２４時間粉砕し、更ニ２４時間分
散した液にＣ’１１’　Ｍ　（！Ｘ　−７５）をパンラ
イト１、−１２５０に対して７５屯量％およびＣ’Ｉ”
　Ｍに対して１０重＋１１％の例示化合物（２）を加え
た。

この溶液にモノクロルベンゼンを加えて１．２−ジクｒ
＋　　＋Ｌ　−ｒ−；゛　−ノ　ＪＪ　　−ノ　／　　
ｚ　　　ノ　）２　　＋−１＋１．　＾−’＋　　」Ｊ
　＋、　　　　　Ｑ　　Ｉｎ　　　／Ｈ−１４比）にな
るよう調製した分散液を前記ＣＴ　Ｌ上にスプレー塗布
し、乾燥して５μｍのＣＧＬを形成し、積層構成の感光
体層を有する本発明の感光体試料ｌを得た。

比較例（１） 実施例１において、例示化合物（２）を除いた以外は実
施例１と全く同様にして比較の感光体試料（１）を得た
。

実施例　２ 実施例１において、例示化合物（２）に代えて例示化合
物（３）を用いた以外は全く同様にして感光体試料２を
１−メた。

実施例　３ 実施例１の例示化合物（２）を除いた感光体層（比較例
１の感光体に同じ）上に、熱硬化性アクリル−メラミン
−エポキシ（１：Ｉ　：１）樹脂１．５５重量部および
例示化合物（２）　Ｉ）、１５５重量部をモノクロルベ
ンゼン／１，１．２−トリクロルエタン混合溶媒に溶解
させた塗布液をスプレー塗布し、乾燥して１７ｚｍ厚の
ＯＣＬを有する感光体試料３を占た、実施例　４ 実施例１の例示化合物（２）を除いた感光体層上に、ノ
リコンバートコート用プライマＩ）［９１（東芝シリコ
ン社製）を０．１μ段となるようにスプレー塗布し、更
にその」−にシリコンハードコートトスガード５１Ｏ（
東芝シリコン社製）及び例示化合物（２）を樹脂１００
重量部に対して１０重Ｆ＋ｋ　：ｙ＜となるよう添加し
た溶液をスプレー塗布し、乾燥して１μ鋼厚のＯＣＩ、
を形成し感光体試料４を得た。

実施例　５ アルミニウム箔をラミネートしたポリエステルフィルム
、及びアルミニウムドラムより成る導電性支持体」；に
、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸ノいＲ合体
（エスレックＭＰ−１０，前出）よりなる厚さ約０．１
μｍの中間層を形成した。

次いでＣ’ｒ　Ｌ用塗布液としてブヂラール樹脂（エス
レック１３　Ｘ　−１、積木化学社製）８重量％とＣＴ
Ｍ　（ＩＸ　−７５）　６重ｈｔ％をメチルエチルヶト
ンに溶解して得られる塗布液を前記中間層上に塗布・乾
燥して１０μｍ厚のＣＴＬを形成した。

次いでＣＧＭ（ＩＶ−７）Ｑ、２９をペイントコンデシ
ョナー　（Ｐａｉｎｔ　Ｃｏｎｄｉｔｉｏｎｅｒ、　　
Ｒｅｄ　Ｄｅｖｉ１社製）で３０分粉砕し、これにポリ
カーボネート樹脂（パンライトＬ−１２５０．前出）を
１．２−ジクロルエタン／１，１゜２−トリクロルエタ
ン混合溶媒に０．５重量％となるよう溶解させた溶液を
８．３９加えて３分間分散し、次いでこれにポリカーボ
ネート樹脂、ＣＴＭ（ＩＸ−７５）および例示化合物（
２）をそれぞれ３．３重＝ｒｌｔ％、２．６重Ｌｔ％お
よび０．２６重量％となるよう１．２−ジクロルエタン
／１，１．２−）ジクロルエタン混合溶媒に溶解して得
られる溶液１９．１９を加えてさらに３００分間分散た
。かくして得られた分散液を前記ＣＴＬ２上にスプレー
塗布し、かつ乾燥して５μｍ厚のＣＧ　Ｌを形成し、積
層構成の感光体層を有する感光体試料５を得た。

比較例　（２） 実施例５において例示化合物（２）を除いた以外は実施
例５と全く同様にして比較の感光体試料（２）を得た。

実施例　６ 実施例５において、例示化合物（２）に代えて例示化合
物（３）を用いた以外は全く同様にして感光体試料６を
得た。

実施例　７ 実施例５の例示化合物（２）を除いた感光体層（比較例
２の感光体に同じ）上に、実施例３と同様の例示化合物
（２）を含有する保護層を設置し、感光体試料７を得た
。

実施例　８ 実施例５の例示化合物（２）を除いた感光体層上に、実
施例４と同様の例示化合物（２）を含有する保護層を設
置し、感光体試料８を得た。

１？ｒｊ記実施例試料１〜８及び比較例試料（１）、（
２）についてＵＶ耐性について、帯電性に対する２万回
の実写テスト及びｔＪ　Ｖ曝射による感度変化の定”ｉ
ｔ的測測定行った。

帯電性実写テストは、本発明の像形成プロセスを行うｔ
Ｊ　−［３ｉｘ　２８１２　Ｍ　ＩＬ　（小西六写真工
業（株）製）の改造実験機に試料感光体ドラムを装着し
、正帯電させ、６７ｉ記感光体に対する像露光をはじめ
とする各工程及び定着からなる単位サイクルを２万回繰
返し、実写テスト初期の正帯電電位を＋Ｖｏ、２万回終
了後回終了後電位を）　Ｖ　Ｉ　１する。

またＵＶ曝射による感度変化は、既知強度の紫外線を試
料フィルムを裁断した感光体シートに照射し、その照射
前後に於て、＋６００Ｖに帯電させた該感光体の電位を
→−１００Ｖまで立す露光量Ｅ　”’を用いて求めた。

感光体の感度ＳはＥ？：：　ＱＣ１７ｓの関係として定
義され、Ｅｌｌ：（１が小さいほど感度Ｓは大きくＷ！
調な画像がえられる。

ＵＶ曝射前後の感度を夫々Ｓｏ、Ｓ＋とすれば、その逆
数比Ｒｓ；（１／　Ｓ　＋）／　（１／　Ｓ　ｏ）−５
ａ／　Ｓ　＋ハＵ■耐性を表し、Ｒｓが大きいほどＵＶ
耐性があることになる。

ｕｖ照射は理化学用水銀ランプＳ　１１　Ｌ　−１０Ｏ
ＬＩ　Ｖ−２（（株）東芝製）を用い試料フィルムを断
裁した感光体シートを３０ｃｍの距離に置き他の電磁波
を遮断し、ＵＶ強度１５００ｃｄ／　ａｍ”　’Ｔ！　
１００分間照射を行い、感度測定は静電試験機（川口電
機製作所、５Ｐ−４２８型）によった。

これらの結果を第１表に示す。

第１表 註：拮弧を付した試料Ｎｏ、は比較試料。

第１表から本発明の感光体はいずれも紫外線耐性および
電子写真特性共にすぐれているのに対し、比較用感光体
は紫外線劣化が品しく電子写真特性も良くないことが判
る。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第３図は本発明の正帯電感光体の断面図で
ある。 第４図は像形成プロセスの説明図である。 ｌ・・・支持体 ２・・・電荷輸送層（ｃ　′ｒ　Ｌ、　）３・・・電荷
発生層（ＣＧＩ、） ４・・・感光体層 ５・・・電荷輸送物質（ＣＴＭ） ６・・・電荷発生物質（ＣＧＭ） ７・・・保護層（ＯＣＬ） ２０・・・感光体 ２１・・・帯電器 ２２・・・現像器 ２６・・・クリーニング装置 ２７．２８及び２９・・・前露光装置 出願人　　　　小西六写真工業株式会社第３図 第４図

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）導電性支持体上に電荷輸送物質及び電荷発生物質
   を含んでなる層を有する電子写真感光体に於て、下記一
   般式で表される化合物を含有することを特徴とする電子
   写真正帯電感光体。 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿１はハロゲン原子、ＯＨ、ＳＨ、アルキル
   、アリール、ＯＲ＿１′、ＳＲ＿１′（ここにＲ＿１′
   はアルキル基）、アミノアルキルの各置換基を表し、ｍ
   は１〜５の整数であって、Ｒ＿１は同じでも異っていて
   もよい。 Ｒは▲数式、化学式、表等があります▼またはフェニル
   基以外の 芳香環基を表す。Ｒ＿１はハロゲン原子、ＯＨ、アルキ
   ル、アリール、アラルキル、ＯＲ＿１′の各置換基を表
   し、ｎは１〜５の整数であって、Ｒ＿２は同じでも異っ
   ていてもよい。〕
2. （２）前記電子写真正帯電感光体に於て、導電性支持体
   上に電荷輸送層、電荷発生層及び必要に応じ設けられる
   保護層の順に積層し、電荷発生層中に電荷輸送物質を含
   有し、且つ電荷発生層及び／または必要に応じ設けられ
   る保護層に前記一般式で示される化合物を含有すること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の電子写真正帯
   電感光体。
3. （３）前記電子写真正帯電感光体を用いて、該感光体上
   に正電荷を付与し、像露光を行って正の静電潜像を形成
   し、トナー現像を施すことを特徴とする像形成プロセス
   。