JPH0738077B2

JPH0738077B2 - 電子写真正帯電感光体及びその像形成プロセス

Info

Publication number: JPH0738077B2
Application number: JP30969086A
Authority: JP
Inventors: 喜代志玉城; 浩一工藤; 嘉彦江藤; 良明武居
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1986-12-24
Filing date: 1986-12-24
Publication date: 1995-04-26
Anticipated expiration: 2010-04-26
Also published as: JPS63159856A

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は電子写真感光体に関し、特に正帯電用感光体に
関する。

〔従来の技術〕

従来、例えば電子写真感光体としては、セレン、酸化亜
鉛、硫化カドミウム等の無機光導電性物質を含有する感
光層を有する感光体が広く用いられている。

一方、種々の有機光導電性物質を電子写真感光体の感光
体層の材料として利用することが近年活発に研究、開発
されている。

例えば特公昭50−10496号には、ポリ−Ｎ−ビニルカル
バゾールと2,4,7−トリニトロ−９−フルオレノンを含
有した感光体層を有する有機感光体について記載されて
いる。しかしこの感光体は、感度及び耐久性において必
ずしも満足できるものではない。このような欠点を改善
するために、感光体層において、電荷発生機能と電荷輸
送機能を異なる物質に個別に分担させることにより、感
度が高くて耐久性の大きい有機感光体を開発する試みが
なされている。このような、いわば機能分離型の電子写
真感光体においては、各機能を発揮する物質を広い範囲
のものから選択することができるので、任意の特性を有
する電子写真感光体を比較的容易に作製することが可能
である。

こうした機能分離型の電子写真感光体に有効な電荷発生
物質として、従来数多くの物質が提案されている。無機
物質を用いる例としては、例えば特公昭43−16198号に
記載されているように、無定形セレンがあり、これは有
機電荷輸送物質と組合される。

また、有機染料や有機顔料を電荷発生物質として用いた
電子写真感光体も多数提案されており、例えば、ビスア
ゾ化合物を含有する感光体層を有するものは、特開昭47
−37543号、同55−22834号、同54−79632号、同56−116
040号等により既に知られている。尚これらの有機光導
電性物質は通常負帯電感光体に使用されていて、その理
由は、負帯電使用の場合には、電荷のうちホールの移動
度が大きいことから、光感度等の面で有利なためであ
る。しかしながら、このよな負帯電使用では、帯電器に
よる負帯電時に雰囲気中にオゾンが発生し易くなり、環
境条件を悪くするという問題がある。さらに他の問題
は、負帯電用感光体の現像には正極性のトナーが必要と
なるが、正極性のトナーは強磁性体電荷粒子に対する摩
擦帯電系列からみて製造が困難であることである。

そこで、有機光導電性物質を用いる感光体を正帯電で使
用することが提案されている。例えば、電荷発生層上に
電荷輸送層を積層して感光体を形成する際、感光体表面
の正電荷を能率よく打消すため前記電荷輸送層に電子輸
送能の大きい、例えばトリニトロフルオレノン等が使用
される。しかし該物質は発癌性があり、労働衛生上極め
て不適当である等の問題を生ずる。

さらに正帯電感光体として、米国特許3,615,414号に
は、チアピリリウム塩（電荷発生物質）をポリカーボネ
ート（バインダ樹脂）と共晶錯体を形成するように含有
させたものが示されている。しかしこの公知の感光体で
は、メモリ現像が大きく、ゴーストも発生し易いという
欠点がある。又米国特許3,357,989号にも、フタロシア
ニンを含有せしめた感光体が示されているが、フタロシ
アニンは結晶型によって特性が変化する上に、結晶型を
厳密に制御しなければならないという離点があり、かつ
メモリ現象が大きく、短波長感度が低いため前記短波長
を含む可視光を光源とする複写機には不適当である。

このように正帯電用感光体を得るための試みが種々行な
われているが、いずれも光感度、メモリ現象又は労働衛
生等の点で改善すべき多くの問題点がある。

そこで光照射時ホール及び電子を発生する電荷発生物質
を含有する電荷発生層を上層（表面層）とし、ホール輸
送機能を有する電荷輸送物質を含む電荷輸送層を下層と
する積層構成の感光体層を有する感光体を正帯電用とし
て使用することが考えられる。まらに又、前記電荷発生
物質と前記電荷輸送物質を含む単層構成の感光体層を有
する感光体も正帯電用として使用可能と考えられる。

なおかかる正帯電用とされる感光体においては、構造中
に例えば電子吸引性基を有する電荷発生物質を用いるよ
うにすれば、感光体表面の正電荷を打消すための電子の
移動が早くなり、高感度特性が得られることが考えられ
る。

しかしながら、前記正帯電用感光体はいずれも電荷発生
物質を含む層が表面層として形成されるため、光照射特
に紫外線等の短波光照射、コロナ放電、湿度、機械的摩
擦等の外部作用に脆弱な電荷発生物質が前記表面層近傍
に存在することとなり、感光体の保存中及び像形成の過
程で電子写真性能が劣化し、画質が低下するようにな
る。

従来の電荷輸送層を表面層とする負帯電用感光体におい
ては、前記各種の各部作用の影響は極めて少なく、むし
ろ前記電荷輸送層が下層の電荷発生層を保護する作用を
有している。

そこで、例えば絶縁性かつ透明な樹脂から成る薄い保護
層を設け、前記電荷発生物質を含む層を外部作用から保
護することが考えられるが、光照射時発生する電荷が該
保護層でブロッキングされて光照射効果が失なわれてく
るし、また表面層となる保護層の膜厚が厚い場合には感
度低下を招き、剰え紫外線遮断効果も少いので、外部作
用からの遮蔽、特に紫外線からの保護を単なる保護層だ
けに委ねることはできない。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、電荷発生物質（CGMと標記）及び電荷
輸送物質（CTMと標記）を含んでなり正帯電性感光体層
を有し、紫外線耐性のよい高感度で耐久性の大きい電子
写真正帯電感光体を提供することにある。

〔発明の構成および作用効果〕

前記した本発明の目的は、導電性支持体上にCTM及びCGM
を含んでなる層を有する電子写真感光体に於て、下記一
般式で表される化合物を含有することを特徴とする電子
写真正帯電感光体によって達成される。

一般式式中、R₁及びR₂は水素原子またはアルキル、アリール基
を表す。Ｒは水素原子、ハロゲン原子またはニトロ、ア
ミノ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキルの
各置換基を表し、ｎは0,1または２である。ｎ＝２の時
Ｒは同じでも異なっていてもよい。

本発明に係る導電性支持体上に設ける感光体層は、CTM
及びCGMを混和した単層機械でもよいし、CTMを含む層を
下層としCGMを含む層を上層とする複層構成でもよい。
また必要に応じて保護層（OCLと標記）を設けてもよ
い。

本発明に係る化合物は前記の少くとも一層に添加される
が感光体層表層に添加されることが好ましい。尚表層に
最も濃密に、内部にゆくに従って逓減させる形態であっ
てもよい。

以下に本発明を詳しく説明する。

カールソンプロセスに基く電子写真プロセスには、一般
に像露光、消去露光、転写前露光、クリーニング露光等
に紫外線を発生する光源が用いられており、該光源から
の光に含まれ、可視光に比べ大きなエネルギを有する紫
外線の繰返し照射は、感光体に用いられている有機化合
物分子を解裂させるに充分である。即ち感光体をなすCG
M,CTM或はバインダ等はラジカル解離を起し本来の分子
構造を失って劣化し、従って感光体の劣化を招来し、具
体的には感度低下、残電位上昇等を惹起し、かぶりの発
生、画質の低下に陥る。

従来の技術でも記述したように有機光導電性物質を用い
た正帯電用感光体においては、電荷発生層（以下、CGL
と標記）が表面層となるので耐傷性に欠け、耐久性向上
のためにはCGL膜厚を厚くする必要がある。しかしなが
ら、膜厚を厚くすると感度低下を引起す。この感度低下
を抑制する手段としてCGL中への電荷輸送物質（CTM）の
添加が効果的であるが、このCTMは電荷発生物質（CGM）
に比べ紫外線酸化を受け易い構造を有するので、紫外線
により容易に劣化され感光体の耐久性が損われてしま
う。

本発明者らは、紫外線劣化防止に関し鋭意検討の結果、
正帯電感光体の表面層であるCGL中にイミダゾリン類化
合物を含有させることにより、上記劣化を著しく軽減で
きることを見い出した。前記した化合物即ち紫外線吸収
剤の有機化合物安定化機構としては、紫外線（UVと標記
することがある）の保有する分解エネルギがUV吸収剤内
で振動のエネルギに変化することによると思われる。こ
の振動のエネルギは熱エネルギとして該UV吸収剤から放
出されるが、熱エネルギは既に有機化合物を劣化させる
には不充分であって、感光体が紫外線繰返し照射の害か
ら保護されるものと思われる。

次に具体的化合物を例示する。

尚表中の接頭数字は置換位置を示す。

本発明の化合物の添加量は、CGL中に用いられる場合、C
GL中のCTMに対して0.1〜100重量％、好ましくは１〜50
重量％、特に好ましくは５〜25重量％である。また、OC
L中に用いられる場合、OCL中のバインダ樹脂に対して0.
1〜100重量％、好ましくは１〜50重量％である。

次に本発明の感光体の構成を図面によって説明する。感
光体としては例えば第１図に示すように支持体１（導電
性支持体またはシート上に導電層を設けたもの）上にCT
Mと必要に応じてバインダ樹脂を含有する電荷輸送層（C
TLと標記）２を下層とし、CGM、CTMと必要に応じてバイ
ンダ樹脂を含有するCGL3と上層とする積層構成の感光体
層４を設けたもの、第２図に示すように第１図の感光体
層の上に保護層（OCL）４を設けたもの及び第３図に示
すように支持体上にCGMとCTMと必要に応じてバインダ樹
脂を含有する単層構成の感光体層４を設けたもの、等が
挙げられるが、第３図の単層構成の感光体層上にOCLが
設けられてもよく、また支持体と感光体層の間に中間層
が設けられてもよい。

次に本発明に適するCGMとしては、可視光を吸収してフ
リー電荷を発生するものであれば、無機顔料及び有機顔
料の何れをも用いることができる。無定形セレン、三方
晶系セレン、セレン−砒素合金、セレン−テルル合金、
硫化カドミウム、セレン化カドミウム、硫セレン化カド
ミウム、硫化水銀、酸化鉛、硫化鉛等の無機顔料の外、
次の代表例で示されるような有機顔料が用いてもよい。

（１）モノアゾ顔料、ポリアゾ顔料、金属錯塩アゾ顔
料、ピラゾロンアゾ顔料、スチルベンアゾ及びチアゾー
ルアゾ顔料等のアゾ系顔料（２）ペリレン酸無水物及びペリレン酸イミド等のペリ
レン系顔料（３）アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導
体、ジベンズピレンイノン誘導体、ピラントロン誘導
体、ビオラントロン誘導体及びイソビオラントロン誘導
体等のアントラキノン系又は多環キノン系顔料（４）インジゴ誘導体及びチオインジゴ誘導体等のイン
ジゴイド系顔料（５）金属フタロシアニン及び無金属フタロシアニン等
のフタロシアニン系顔料（６）ジフェニルメタン系顔料、トリフェニルメタン顔
料、キサンテン顔料及びアクリジン顔料等のカルボニウ
ム系顔料（７）アジン顔料、オキサジン顔料及びチアジン顔料等
のキノンイミン系顔料（８）シアニン顔料及びアゾメチン顔料等のメチン系顔
料（９）キノリン系顔料（10）ニトロ系顔料（11）ニトロソ系顔料（12）ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料（13）ナフタルイミド系顔料（14）ビスベンズイミダゾール誘導体等のペリノン系顔
料前記本発明に用いられるアゾ系顔料としては、例えば次
の例示構造化合物群〔Ｉ〕〜〔Ｖ〕で示されるものがあ
り、該例示構造化合物群の中の個々の好ましい具体的化
合物の数例を併せ掲げる。

その好ましい具体的化合物の全容については特願昭61−
195881号が参照される。

また、以下の多環キノン顔料から成る例示構造化合物群
〔VI〕〜〔VIII〕はCGMとして最も好ましく使用でき
る。

次に本発明で使用可能なCTMとしては、特に制限はない
が、例えばオキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導
体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリア
ゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導
体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導
体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン誘
導体、オキサゾロン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、
ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾ
フラン誘導体、アクリジン誘導体、フエナジン誘導体、
アミノスチルベン誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、ポリ−１−ビニルピレン、ポリ−９−ビニルアント
ラセン等であってよい。

しかしながら光照射時発生するホールの支持体側への輸
送能力が優れている外、前記CGMとの組合せに好適なも
のが好ましく用いられ、かかるCTMとしては、例えば下
記例示構造化合物群〔IX〕又は〔Ｘ〕で示されるスチル
化合物が使用される。該例示構造化合物群中の個々の具
体的化合物の数例を併せ掲げるが、その全貌については
特願昭61−195881号が参照される。

また、CTMとして下記例示構造化合物群〔XI〕〜〔XV〕
で示されるヒドラゾン化合物も使用可能である。尚個々
の具体的化合物の全容については特願昭61−195881号が
参照される。

また、CTMとして下記例示構造化合物群〔XVII〕で示さ
れるアミン誘導体も使用可能である。

尚詳しくは特願昭61−195881号が参照される。

次に本発明のOCLに用いられてよいバインダは、体積抵
抗10⁸Ωcm以上、好ましくは10¹⁰Ωcm以上、より好まし
くは10¹³Ωcm以上の透明樹脂が用いられる。又前記バイ
ンダは光又は熱により硬化する樹脂を少なくとも50重量
％以上含有するものとされる。

かかる光又は熱により硬化する樹脂としては、例えば熱
硬化性アクリル樹脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、ウ
レタン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル
樹脂、アルキッド樹脂、メラミン樹脂、光硬化性の桂皮
酸樹脂等又はこれらの共重合もしくは共縮合樹脂があ
り、その外電子写真材料に供される光又は熱硬化性樹脂
の全てが利用される。又前記OCL中には加工性及び物性
の改良（亀裂防止、柔軟性付与等）を目的として必要に
より熱可塑性樹脂を50重量％未満含有せしめることがで
きる。かかる熱可塑性樹脂としては、例えばポリプロピ
レン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、
ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、又はこれらの共
重合樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹
脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体
樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール等の高分子有機半
導体、その他電子写真材料に供される熱可塑性樹脂の全
てが利用される。

また前記OCLは、電子受容性物質を含有してもよく、そ
の他、必要によりCGMを保護する目的でオゾン酸化防止
剤等を含有してもよく、前記バインダと共に溶剤に溶解
され、例えばディップ塗布、スプレー塗布ブレード塗
布、ロール塗布等により塗布・乾燥されて２μｍ以下、
好ましくは１μｍ以下の層厚に形成される。

本発明の感光体層の層構成は前記のように積層構成と単
層構成とがあるが、CTL、CGMまたはOCLには感度の向
上、残留電位ないし反復使用時の疲労低減等を目的とし
て、１種または２種以上の電子受容性物質を含有せしめ
ることができる。

本発明に使用可能な電子受容性物質としては、例えば無
水こはく酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン
酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、テトラ
ブロム無水フタル酸、３−ニトロ無水フタル酸、４−ニ
トロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メリット
酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタ
ン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、1,
3,5,−トリニトロベンゼン、パラニトロベンゾニトリ
ル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、クロラ
ニル、ブルマニル、２−メチルナフトキノン、ジクロロ
ジシアノパラベンゾキノン、アントラキノン、ジニトロ
アントラキノン、トリニトロフルオレノン、９−フルオ
レニリデン〔ジシアノメチレンマロノジニトリル〕、ポ
リニトロ−９−フルオレニリデン−〔ジシアノメチレン
マロノジニトリル〕、ピクリン酸、フタル酸等が挙げら
れる。

本発明において感光体層に使用可能なバインダ樹脂とし
ては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル
樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹
脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、シリコン樹脂、メラミン樹脂等の付加重合型
樹脂、重付加型樹脂、重縮合樹脂、並びにこれらの樹脂
の繰返し単位のうちの２つ以上を含む共重合体樹脂、例
えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル
−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂等の絶縁性
樹脂の他、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール等の高分子有
機半導体が挙げられる。

次に前記感光体層を支持する導電性支持体としては、ア
ルミニウム、ニッケルなどの金属板、金属ドラム又は金
属箔、アルミニウム、酸化錫、酸化イソジウムなどを蒸
着したプラスチックフイルムあるいは導電性物質を塗布
した紙、プラスチックなどのフイルム又はドラムを使用
することができる。

CTLは既述のCTMを適当な溶媒に単独もしくは適当なバイ
ンダ樹脂と共に溶解もしくは分散せしめたものを塗布し
て乾燥させる方法により設ける。

CTLの形成に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメ
チルホルムアミド、ベンゼン、トルエン、キシレン、モ
ノクロルベンゼン、1,2−ジクロロエタン、ジクロロメ
タン、1,1,2−トリクロロエタン、テトラヒドロフラ
ン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等を
挙げることができる。

本発明に係る感光体層をCTLとCGLの複層構成で形成する
場合は、CTLの膜厚は、好ましくは５〜50μｍ、特に好
ましくは５〜30μｍである。

CTL中のバインダ樹脂100重量部当りCTMが20〜200重量
部、好ましくは30〜150重量部とされる。

CTMの含有割合がこれより少ないと光感度が悪く、残留
電位が高くなり易く、これより多いと溶媒溶解性が悪く
なる。

CGLは、既述のCGMとCTMを別々に、あるいは一緒に適当
な溶剤に単独もしくは適当なバインダ樹脂と共に溶解も
しくは分散せしめたものを塗布、乾燥してCTLの場合と
同様に形成することができる。

上記CGMを分散せしめてCGLを形成する場合、当該CGMは
２μｍ以下、好ましくは１μｍ以下の平均粒径の粉粒体
とされるのが好ましい。即ち、粒径があまり大きいと層
中への分散が悪くなると共に、粒子が表面に一部突出し
て表面の平滑性が悪くなり、場合によっては粒子の突出
部分で放電が生じたり或いはそこにトナー粒子が付着し
てトナーフィルミング現象が生じ易い。

ただし、上記粒径があまり小さいと却って凝集し易く、
層の抵抗が上昇したり、結晶欠陥が増えて感度及び繰返
し特性が低下したり、或いは微細化する上で限界がある
から、平均粒径の下限を0.01μｍとするのが望ましい。

CGLは、次の如き方法によって設けることができる。即
ち、記述のCGMをボールミル、ホモミキサ等によって分
散媒中で微細粒子とし、バインダ樹脂およびCTMを加え
て混合分散して得られる分散液を塗布する方法である。
この方法において超音波の作用下に粒子を分散させる
と、均一分散が可能である。

CGL中のバインダ樹脂100重量当りCGMが20〜200重量部、
好ましくは25〜100重量部とされ、CTMが20〜200重量
部、好ましくは30〜150重量部とされる。

CGMがこれより少ないと光感度が低く、残留電位の増加
を招き、又これより多いと暗減衰が増大し、かつ受容電
位が低下する。

以上のようにして形成されるCGLの膜厚は、好ましくは
１〜10μｍ、特に好ましくは２〜７μｍである。

積層構成の場合、CGLとCTLの膜厚比は1:（１〜30）であ
るのが好ましい。

次に本発明の感光体を単層で構成する場合、CGMがバイ
ンダ樹脂に含有される割合は、バインダ樹脂100重量部
に対して20〜200重量部、好ましくは25〜100重量部とさ
れる。

CGMの含有割合がこれより少ないと光感度が低く、残留
電位の増加を招き、又これより多いと暗減衰及び受容電
位が低下する。

次にCTMがバインダ樹脂に対して含有される割合は、バ
インダ樹脂100重量部に対して20〜200重量部、好ましく
は30〜150重量部とされる。

CTMの含有割合がこれより少ないと光感度が悪く残留電
位が高くなり易く、又これより多いと溶媒溶解性が悪く
なる。

前記単層構成の感光体層中のCGMに対するCTMの量比は重
量比で1:3〜1:2とするのが好ましい。

また単層構成の感光体層の膜厚は７〜50μｍ、更に好ま
しくは10〜30μｍである。

また、前記中間層は接着層又はバリヤ層等として機能す
るもので、上記バインダ樹脂の外に、例えばポリビニル
アルコール、エチルセルロース、カルボキシメチルセル
ロース、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル
−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、カゼイン、Ｎ
−アルコキシメチル化ナイロン、澱粉等が用いられる。

次に本発明の正帯電感光体を用いる像形成プロセスを第
４図を用いて説明する。

第４図は静電潜像につづいてトナー像を担持する本発明
の感光体ドラムを取囲む、本発明の像形成プロセスに関
与する諸機能部材の配置の１例を示す。

本発明の正帯電感光体20は、導電性支持体によりアース
されており、正に整流されて正電荷を与えるコロナ放電
極等の帯電器21（例えばスコロトロン等）によって、予
め正帯電され時計方向（図に於てＡの方向）に回転す
る。

また原稿載置台上の原稿からの反射光Ｅは、ミラー、レ
ンズ等からなる光学系を経て感光体20（ドラム）上へス
リットＳを介して入射される。

感光体ドラム20は予め帯電器21により電荷を与えられて
いるので、前記光学系から対応した静電潜像が順次形成
され、回転する感光体ドラム20上の前記静電潜像は、現
像器22によって可視のトナー像となる。

一方、転写紙は給紙装置より繰出されて、ガイド板によ
り案内されて給紙ローラ32に到り、感光体ドラム20上の
前記トナー像の先端と転写紙との先端が一致するように
タイミング信号に基づいて給紙される。

その後、転写極23の作用により感光体ドラム20上のトナ
ー像は転写紙上に転写される。そして分離極24により、
感光体ドラム20上から分離された転写紙は転写紙搬送手
段35を経て定着装置へ送られ、熱定着ローラおよび圧着
ローラによって熔融定着されたのち、排紙ローラにより
排紙皿上へ排出される。

一方、転写工程終了後、前記感光体ドラム20は、ドラム
上に残留するトナーのクリーニング装置26による除去を
容易にするため、交流のコロナ放電を行なうクリーニン
グ除電極25によって、ドラム表面が電気的に中和され
る。次いで転写しきれずにドラム上に残ったトナーはブ
レード等のクリーニング装置26により掻き落される。

これによりドラムは次のコピーへの準備ができる。

以上が転写を行なう基本のプロセスであるが、画質を高
めるため、複写機には前露光といわれる工程が用いられ
る。第１の前露光装置27は前記クリーニング装置26と帯
電器21との間に配設され、蛍光燈等の光源等から成る。
クリーニング装置26で表面のトナーを除去された感光体
ドラム20は、この前露光装置27によるクリーニング露光
によって、ドラム表面の残留電荷は除かれ電位はゼロに
なる。

第２の前露光装置28は、現像器22と転写極23、分離極24
との間、第３の前露光装置29は分離極その他の分離部の
後にあってクリーニング除電極25の上流をなす位置に配
設され、蛍光燈等の光源等から成る。この第２及び第３
の前露光装置による光照射、即ち転写前露光及び消去露
光によって、感光体ドラム20の表面電荷が低減・均一化
され、これによって転写・分離時の効率が向上し、更に
は感光体ドラム20上の残像のクリーニングを容易にす
る。

〔実施例〕

以下本発明を実施例により説明するが、これにより本発
明の実施の態様が限定されるものではない。

実施例１アルミニウム箔をラミネートしたポリエステルフィルム
及びアルミニウムドラムより成る導電性支持体上に、塩
化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体（エス
レックスMF−10、積水化学工業社製）よりなる厚さ0.1
μｍの中間層を形成した。

次いでポリカーボネート樹脂（パンライトＬ−1250、帝
人化成社製）/CTM（IX−75）＝100/75（重量比）を16.5
重量％含有する1,2−ジクロルエタン溶液を中間層上に
ディップ塗布し、15μｍ厚のCTLを形成した。次に、CGM
として昇華した4,10−ジブロムアンスアンスロン（VI−
３）／パンライトＬ−1250＝1/2（重量比）が９重量％
になるように1,2−ジクロルエタン中ボールミルで24時
間粉砕し、更に24時間分散した液にCTM（IX−75）をパ
ンライトＬ−1250に対して75重量％およびCTMに対して1
0重量％の例示化合物（３）を加えた。

この溶液にモノクロルベンゼンを加えて1,2−ジクロル
ベンゼン／モノクロルベンゼン＝7/3（体積比）になる
よう調製した分散液を前記CTL上にスプレー塗布し、乾
燥して５μｍのCGLを形成し、積層構成の感光体層を有
する本発明の感光体試料１を得た。

比較例（１）実施例１において、例示化合物（３）を除いた以外は実
施例１と全く同様にして比較の感光体試料（１）を得
た。

実施例２実施例１において、例示化合物（３）に代えて例示化合
物（１）を用いた以外は全く同様にして感光体試料２を
得た。

実施例３実施例１の例示化合物（３）を除いた感光体層（比較例
１の感光体に同じ）上に、熱硬化性アクリル−メラミン
−エポキシ（1:1:1）樹脂1.55重量部および例示化合物
（３）0.155重量部をモノクロルベンゼン/1,1,2−トリ
クロルエタン混合溶媒に溶解させた塗布液をスプレー塗
布し、乾燥して１μｍ厚のOCLを有する感光体試料３を
得た。

実施例４実施例１の例示化合物（３）を除いた感光体層上に、シ
リコンハードコート用プライマPH91（東芝シリコン社
製）を0.1μｍとなるようにスプレー塗布し、更にその
上にシリコンハードコートトスガード510（東芝シリコ
ン社製）及び例示化合物（３）を樹脂100重量部に対し
て10重量部となるよう添加した溶液をスプレー塗布し、
乾燥して１μｍ厚のOCLを形成し感光体試料４を得た。

実施例５アルミニウム箔をラミネートしたポリエステルフィル
ム、及びアルミニウムドラムより成る導電性支持体上
に、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体
（エスレックMF−10、前出）よりなる厚さ約0.1μｍの
中間層を形成した。

次いでCTL用塗布液としてブチラール樹脂（エスレックB
X−１、積水化学社製）８重量％とCTM（IX−75）６重量
％をメチルエチルケトンに溶解して得られる塗布液を前
記中間層上に塗布・乾燥して10μｍ厚のCTLを形成し
た。

次いでCGM（IV−７）0.2gをペイントコンデショナ（Pai
nt Conditioner,Red Devil社製）で30分粉砕し、これに
ポリカーボネート樹脂（パンライトＬ−1250、前出）を
1,2−ジクロルエタン/1,1,2−トリクロルエタン混合溶
媒に0.5重量％となるよう溶解させた溶液を8.3g加えて
３分間分散し、次いでこれにポリカーボネート樹脂、CT
M（IX−75）および例示化合物（３）をそれぞれ3.3重量
％、2.6重量％および0.26重量％となるよう1,2−ジクロ
ルエタン/1,1,2−トリクロルエタン混合溶媒に溶解して
得られる溶液19.1gを加えてさらに30分間分散した。か
くして得られた分散液を前記CTL上にスプレー塗布し、
かつ乾燥して５μｍ厚のCGLを形成し、積層構成の感光
体層を有する感光体試料５を得た。

比較例（２）実施例５において例示化合物（３）を除いた以外は実施
例５と全く同様にして比較の感光体試料（２）を得た。

実施例６実施例５において、例示化合物（３）に代えて例示化合
物（１）を用いた以外は全く同様にして感光体試料６を
得た。

実施例７実施例５の例示化合物（３）を除いた感光体層（比較例
２の感光体に同じ）上に、実施例３と同様の例示化合物
（３）を含有する保護層を設置し、感光体試料７を得
た。実施例８実施例５の例示化合物（３）を除いた感光体層上に、実
施例４と同様の例示化合物（３）を含有する保護層を設
置し、感光体試料８を得た。

前記実施例試料１〜８及び比較例試料（１），（２）に
ついてUV耐性について、帯電性に対する２万回の実写テ
スト及びUV曝射による感度変化の定量的測定を行った。

帯電性実写テストは、本発明の像形成プロセスを行うＵ
−Bix2812MR（小西六写真工業（株）製）の改造実験機
に試料感光体ドラムを装着し、正帯電させ、前記感光体
に対する像露光をはじめとする各工程及び定着からなる
単位サイクルを２万回繰返し、実写テスト初期の正帯電
電位を＋Vo,2万回終了後の正帯電電位を＋Ｖ₁とする。

またUV曝射による感度変化は、既知強度の紫外線を試料
フィルムを裁断した感光体シートに照射し、その照射前
後に於て、＋600Vに帯電させた該感光体の電位を＋100V
まで齎す露光量▲E⁶⁰⁰ ₁₀₀▼を用いて求めた。

感光体の感度Ｓは▲E⁶⁰⁰ ₁₀₀▼∝1/Sの関係として定義さ
れ、▲E⁶⁰⁰ ₁₀₀▼が小さいほど感度Ｓは大きく硬調な画
像がえられる。

UV曝射前後の感度を夫々S₀，S₁とすれば、その逆数比R
s;（1/S₁）／（1/S₀）＝S₀／S₁はUV耐性を表し、Rsが大
きいほどUV耐性があることになる。

UV照射は理化学用水銀ランプSHL−100UV−２（（株）東
芝製）を用い試料フィルムを断裁した感光体シートを30
cmの距離に置き他の電磁波を遮断し、UV強度1500cd/cm²
で100分間照射を行い、感度測定は静電試験機（川口電
機製作所;SP−428型）によった。

これらの結果を第１表に示す。

第１表から本発明の感光体はいずれも紫外線耐性および
電子写真特性共にすぐれているのに対し、比較用感光体
は紫外線劣化が著しく電子写真特性も良くないことが判
る。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第３図は本発明の正帯電感光体の断面図で
ある。第４図は像形成プロセスの説明図である。１…支持体２…電荷輸送層（CTL）３…電荷発生層（CGL）４…感光体層５…電荷輸送物質（CTM）６…電荷発生物質（CGM）７…保護層（OCL） 20…感光体 21…帯電器 22…現像器 26…クリーニング装置 27,28及び29…前露光装置

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】導電性支持体上に電荷輸送物質及び電荷発
生物質を含んでなる層を有する電子写真感光体に於い
て、下記一般式で表される化合物を含有することを特徴
とする電子写真正帯電感光体。一般式〔式中、R₁及びR₂は水素原子またはアルキル、アリール
基を表す。Ｒは水素原子、ハロゲン原子またはニトロ、
アミノ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル
の各置換基を表し、ｎは0,1または２である。ｎ＝２の
時Ｒは同じでも異なっていてもよい。〕
【請求項２】前記電子写真正帯電感光体に於いて、導電
性支持体上に電荷輸送層、電荷発生層の順に少くとも積
層し、電荷発生層中に電荷輸送物質を含有し、且つ最表
面層に前記一般式で示される化合物を含有することを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の電子写真正帯電感
光体。
【請求項３】導電性支持体上に電荷輸送物質及び電荷発
生物質を含んでなる層を有する電子写真感光体に於い
て、下記一般式で表される化合物を含有することを特徴
とする電子写真正電感光体を用いて、該感光体上に正電
荷を付与し、像露光を行って正の静電潜像を形成し、ト
ナー現像を施すことを特徴とする像形成プロセス。一般式〔式中、R₁及びR₂は水素原子またはアルキル、アリール
基を表す。Ｒは水素原子、ハロゲン原子またはニトロ、
アミノ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル
の各置換基を表し、ｎは0,1または２である。ｎ＝２の
時Ｒは同じでも異なっていてもよい。〕