JPS63163360A - 電子写真感光体 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子写真感光体に関し、特に有機光導電性電子
写真感光体の改良に関する。
写真感光体の改良に関する。
カールソン方法の電子写真複写機においては、感光体表
面に帯電させた後、露光によって静電潜像を形成し、そ
の静電潜像をトナーによって現像し、次いでその可視像
を紙等に転写、定着させる。
面に帯電させた後、露光によって静電潜像を形成し、そ
の静電潜像をトナーによって現像し、次いでその可視像
を紙等に転写、定着させる。
一方、感光体には付着トナーの除去や除電、表面の清浄
化が施され、長期に亘って反復使用される。
化が施され、長期に亘って反復使用される。
従って、電子写真感光体としては、帯電特性および感度
が良好で更に暗減貸が小さい等の電子写真特性は勿論、
加えて繰返し使用での耐刷性、耐摩耗性、耐湿性等の物
理的性質や、コロナ放電時に発生するオゾン、露光時の
紫外線等への耐性(耐環境性)においても良好であるこ
とが要求される。
が良好で更に暗減貸が小さい等の電子写真特性は勿論、
加えて繰返し使用での耐刷性、耐摩耗性、耐湿性等の物
理的性質や、コロナ放電時に発生するオゾン、露光時の
紫外線等への耐性(耐環境性)においても良好であるこ
とが要求される。
従来、電子写真感光体としては、セレン、酸化亜鉛、硫
化カドミウム等の黒磯光導電性物質を主成分とする感光
体層を有する無機感光体が広く用いられている。
化カドミウム等の黒磯光導電性物質を主成分とする感光
体層を有する無機感光体が広く用いられている。
一方、種々の有機光導電性物質を電子写真感光体の感光
体層の材料として利用することが近年活発に研究、開発
されている。
体層の材料として利用することが近年活発に研究、開発
されている。
例えば特公昭50−10496号には、ポリ−N−ビニ
ルカルバゾールと2.4.7−)リートロー9−フルオ
レノンを含有した感光体層を有する有機感光体について
記載されている。しかしこの感光体は、感度及び耐久性
において必ずしも満足できるものではない。このような
欠点を改善するために、感光体層において、電荷発生機
能と電荷輸送機能とを異なる物質に個別に分担させるこ
とにより、感度が高くて耐久性の大きい有機感光体を開
発する試みがなされている。このようないわば機能分離
型の電子写真感光体においては、各機能を発揮する物質
を広い範囲のものから選択することかで・きるので、任
意の特性を有する電子写真感光体を比較的容易に作製す
ることが可能である。
ルカルバゾールと2.4.7−)リートロー9−フルオ
レノンを含有した感光体層を有する有機感光体について
記載されている。しかしこの感光体は、感度及び耐久性
において必ずしも満足できるものではない。このような
欠点を改善するために、感光体層において、電荷発生機
能と電荷輸送機能とを異なる物質に個別に分担させるこ
とにより、感度が高くて耐久性の大きい有機感光体を開
発する試みがなされている。このようないわば機能分離
型の電子写真感光体においては、各機能を発揮する物質
を広い範囲のものから選択することかで・きるので、任
意の特性を有する電子写真感光体を比較的容易に作製す
ることが可能である。
こうした機能分離型の電子写真感光体に有効な電荷発生
物質として、従来数多くの物質が提案されている。無機
物質を用いる例としては、例えば特公昭43−1619
8号に記載されているように、無定形セレンがある。こ
れは有機電荷輸送物質と組合される。
物質として、従来数多くの物質が提案されている。無機
物質を用いる例としては、例えば特公昭43−1619
8号に記載されているように、無定形セレンがある。こ
れは有機電荷輸送物質と組合される。
また、有機染料や有機顔料を電荷発生物質として用いた
電子写真感光体も多数提案されており、例えば、ビスア
ゾ化合物を含有する感光体層を有するものは、特開昭4
7−37543号、同55−22834号、同54−7
9632号、同56−118040号等により既に知ら
れている。
電子写真感光体も多数提案されており、例えば、ビスア
ゾ化合物を含有する感光体層を有するものは、特開昭4
7−37543号、同55−22834号、同54−7
9632号、同56−118040号等により既に知ら
れている。
ところで、有機光導電性物質を用いる公知の感光体は通
常、負帯電用として使用されている。この理由は、負帯
電使用の場合には、電荷のうちホールの移動度が大きい
ことから、光感度等の面で有利なためである。
常、負帯電用として使用されている。この理由は、負帯
電使用の場合には、電荷のうちホールの移動度が大きい
ことから、光感度等の面で有利なためである。
しかしながら、このような負帯電使用の場合の問題は、
帯電器による負帯電時に雰囲気中にオゾンが発生し易く
なり、環境条件を悪くしてしまう。
帯電器による負帯電時に雰囲気中にオゾンが発生し易く
なり、環境条件を悪くしてしまう。
また、負帯電用感光体の現像には正極性のトナーが必要
となるが、正極性のトナーは強磁性体電荷粒子に対する
摩41!帯電系列からみて製造が困難であることである
。
となるが、正極性のトナーは強磁性体電荷粒子に対する
摩41!帯電系列からみて製造が困難であることである
。
そこで、有機光導電性物質を用いる感光体を正帯電で使
用する、例えば、電荷発生層上に電荷輸送層を積層し、
電荷輸送層を電子輸送能の大きい物質で形成する正帯’
!感光体等が提案されている。
用する、例えば、電荷発生層上に電荷輸送層を積層し、
電荷輸送層を電子輸送能の大きい物質で形成する正帯’
!感光体等が提案されている。
しかしながら電荷輸送層に例えばトリニトロフルオレノ
ン等を含有せしめると、該物質が発癌性である等の問題
を提起する。ことがある。他方、ホール輸送能の大きい
電荷輸送層上に電荷発生層を積層した正帯電感光体が考
えられるが、この機構では表面側に存在させる電荷発生
層を非常に薄くする必要があり、耐剛性等が悪くなり、
実用的な層構成ではない。
ン等を含有せしめると、該物質が発癌性である等の問題
を提起する。ことがある。他方、ホール輸送能の大きい
電荷輸送層上に電荷発生層を積層した正帯電感光体が考
えられるが、この機構では表面側に存在させる電荷発生
層を非常に薄くする必要があり、耐剛性等が悪くなり、
実用的な層構成ではない。
また、正帯電感光体として、米国特許L615+414
号には、チアピリリウム塩(電荷発生物質)をポリカー
ボネート(バインダ樹脂)と錯体を形成するように含有
させたものが示されている。しかしこの感光体では、メ
モリ現象が大きく、ゴーストも発生し易いという欠点が
ある。また米国特許3,35光体が示されているが、7
タロシアニンは結晶型によって特性が変化する上に、結
晶型を厳密に制御する必要があり、更に短波長感度が不
足しかつメモリ現象も大きく、可視光波長域の光源を用
いる複写機には不適当である。
号には、チアピリリウム塩(電荷発生物質)をポリカー
ボネート(バインダ樹脂)と錯体を形成するように含有
させたものが示されている。しかしこの感光体では、メ
モリ現象が大きく、ゴーストも発生し易いという欠点が
ある。また米国特許3,35光体が示されているが、7
タロシアニンは結晶型によって特性が変化する上に、結
晶型を厳密に制御する必要があり、更に短波長感度が不
足しかつメモリ現象も大きく、可視光波長域の光源を用
いる複写機には不適当である。
このように正帯′IL感光体を得るための試みが種々行
なわれでいるが、いずれも光感度、メモリ現象又は労働
衛生等、また紫外線耐性、耐オゾン酸化性等の耐用性の
点で改善すべき多くの問題点がある。
なわれでいるが、いずれも光感度、メモリ現象又は労働
衛生等、また紫外線耐性、耐オゾン酸化性等の耐用性の
点で改善すべき多くの問題点がある。
そこで機能上から光照射時ホール及び電子を発生する電
荷発生物質を含有する電荷発生層を上層(表面層)とし
、ホール輸送機能を有する電荷輸送物質を含む電荷輸送
層を下層とする82N構成の感光体を正、負両用帯電感
光体の基本形とし、足らざるを補完することが考えられ
る。
荷発生物質を含有する電荷発生層を上層(表面層)とし
、ホール輸送機能を有する電荷輸送物質を含む電荷輸送
層を下層とする82N構成の感光体を正、負両用帯電感
光体の基本形とし、足らざるを補完することが考えられ
る。
なおかかる感光体においては、構造中に例えば電子吸引
性基を有する電荷発生物質を用いるようにすれば、感光
体表面の正電荷を打消すための電子の移動が早くなり、
高感度特性が得られることが考えられる。
性基を有する電荷発生物質を用いるようにすれば、感光
体表面の正電荷を打消すための電子の移動が早くなり、
高感度特性が得られることが考えられる。
しかしながら、前記正帯電感光体は電荷発生物質を含む
層が表面層として形成されるため、光照射、特に紫外線
等の短波光照射、コロナ放電、湿度、オゾン酸化、機械
的摩擦等外部作用に脆弱な電荷発生物質が直接に曝され
ることとなり、感光体の保存中及び像形成の過程で電子
写真性能が劣化し、画質が低下するようになる。
層が表面層として形成されるため、光照射、特に紫外線
等の短波光照射、コロナ放電、湿度、オゾン酸化、機械
的摩擦等外部作用に脆弱な電荷発生物質が直接に曝され
ることとなり、感光体の保存中及び像形成の過程で電子
写真性能が劣化し、画質が低下するようになる。
従来の電荷輸送層を表面層とする負帯電感光体において
は、前記各種の外部作用の影響は極めて少なく、むしろ
前記電荷輸送層が下層の電荷発生層を保護する作用を有
している。
は、前記各種の外部作用の影響は極めて少なく、むしろ
前記電荷輸送層が下層の電荷発生層を保護する作用を有
している。
そこで、例えば絶縁性かつ透明な樹脂から成る薄い保護
層を設け、防犯電荷発生物質を含む層を外部作用から保
護することが考えられるが、光照射時発生する電荷が該
保護層でブロッキングされて光照射効果が失なわれてく
るし、また表面層となる保護層が厚い場合には感度低下
を招き、剰え紫外線遮断効果も少いので、外部作用から
の遮蔽、待に紫外線からの保護を単なる保護層だけに姿
ねることはできない。
層を設け、防犯電荷発生物質を含む層を外部作用から保
護することが考えられるが、光照射時発生する電荷が該
保護層でブロッキングされて光照射効果が失なわれてく
るし、また表面層となる保護層が厚い場合には感度低下
を招き、剰え紫外線遮断効果も少いので、外部作用から
の遮蔽、待に紫外線からの保護を単なる保護層だけに姿
ねることはできない。
本発明の目的は、正、負帯電に適用することができ、良
好な感度を有し、M環境性に優れ、待に紫外線耐性、耐
酸化性がよく、耐用物性のよい有機光導電性電子写真感
光体の提供にある。
好な感度を有し、M環境性に優れ、待に紫外線耐性、耐
酸化性がよく、耐用物性のよい有機光導電性電子写真感
光体の提供にある。
前記本発明の目的は、導電性支持体上に電荷発生物質(
CG Mと標記)及び電荷輸送物質(CTMと標記)を
含んでなる層を有する電子写真感光体に於て、下記一般
式で表わされる化合物を含有することを特徴とする電子
写真感光体によって達成される。
CG Mと標記)及び電荷輸送物質(CTMと標記)を
含んでなる層を有する電子写真感光体に於て、下記一般
式で表わされる化合物を含有することを特徴とする電子
写真感光体によって達成される。
一般式
式中、Rは水素置換するハロゲン原子またはOH,アル
キル、アルコキシの各基を表し、R′は水素置換する前
記R及びカルボキシの各基を表す。論及び鰺′は0〜4
、n及びn′はOまたは1の整数を表す。諺、曽′が2
以上の場合Rは同じでも異なっていてもよい。
キル、アルコキシの各基を表し、R′は水素置換する前
記R及びカルボキシの各基を表す。論及び鰺′は0〜4
、n及びn′はOまたは1の整数を表す。諺、曽′が2
以上の場合Rは同じでも異なっていてもよい。
本発明に係る導電性支持体上に設ける感光体層は、CT
M及(/CGMを混和した単層構成でもよいし、CTM
f:含む層を下層としCGMを含む層を上層とする複j
l構成でもよし或はその逆の構成でもよい。また必要に
応じて保護層 (OCLと標記)を設けてもよい。
M及(/CGMを混和した単層構成でもよいし、CTM
f:含む層を下層としCGMを含む層を上層とする複j
l構成でもよし或はその逆の構成でもよい。また必要に
応じて保護層 (OCLと標記)を設けてもよい。
本発明に係る化合物は前記の少(とも一層に添加される
が感光体層表層に添加されることが好ましい。尚表層に
最も濃密に、内部にゆ(に従って逓減させる形態であっ
てもよい。
が感光体層表層に添加されることが好ましい。尚表層に
最も濃密に、内部にゆ(に従って逓減させる形態であっ
てもよい。
以下に本発明の詳細な説明する。
カールソンプロセスに基く電子写真プロセスには、一般
に像露光、消去露光、転写前露光、クリーニング露光等
に紫外線を発生する光源が用いられており、該光源から
の光に含まれ、可視光に比べ大きなエネルギを有する紫
外線の繰返し照射は、感光体に用いられでいる有機化合
物分子を解裂させるに充分である。即ち感光体をなすq
GM、CTM或はバインダ等はラジカル解難を起し本末
の分子構造を失って劣化し、従って感光体の劣化を招来
し、具体的には感度低下、残電位上昇等を惹起し、かぶ
りの発生、画質の低下に陥る。
に像露光、消去露光、転写前露光、クリーニング露光等
に紫外線を発生する光源が用いられており、該光源から
の光に含まれ、可視光に比べ大きなエネルギを有する紫
外線の繰返し照射は、感光体に用いられでいる有機化合
物分子を解裂させるに充分である。即ち感光体をなすq
GM、CTM或はバインダ等はラジカル解難を起し本末
の分子構造を失って劣化し、従って感光体の劣化を招来
し、具体的には感度低下、残電位上昇等を惹起し、かぶ
りの発生、画質の低下に陥る。
感光体の紫外線或は紫外線及びオゾンによって誘発、派
生する複合劣化は反復して付加される各種露光処理、ら
ロナ放電によって生ずるが、露光によって発生する一重
項酸素によっても強められると考えられる。また、感光
体の層構成、CGMやCTMの種類等によっても紫外線
等による複合劣化を受ける程度は変化するが、CTMの
方が劣化を受は易く、特に有機光導電性物質を使用する
場合、その影響は極めて大きい。
生する複合劣化は反復して付加される各種露光処理、ら
ロナ放電によって生ずるが、露光によって発生する一重
項酸素によっても強められると考えられる。また、感光
体の層構成、CGMやCTMの種類等によっても紫外線
等による複合劣化を受ける程度は変化するが、CTMの
方が劣化を受は易く、特に有機光導電性物質を使用する
場合、その影響は極めて大きい。
本発明者らは、感光体の複合劣化(特に電位低下)の改
良に関し鋭意検討の結果、感光体層中に前記一般式で示
される特定のチアゾロチア7−ル類化合物が複合劣化を
者しく防止するだけでなく、その他の電子写真特性や物
理的性質の向上にも寄与することを見い出した。
良に関し鋭意検討の結果、感光体層中に前記一般式で示
される特定のチアゾロチア7−ル類化合物が複合劣化を
者しく防止するだけでなく、その他の電子写真特性や物
理的性質の向上にも寄与することを見い出した。
前記の本発明に係る化合物即ち一般に紫外線吸収剤と目
される化合物の有機物質に対する安定化機構としては、
紫外線(UVと標記することがある)の保有する分解エ
ネルギがUV吸収剤内で振動のエネルギに変貌すること
によると思われる。
される化合物の有機物質に対する安定化機構としては、
紫外線(UVと標記することがある)の保有する分解エ
ネルギがUV吸収剤内で振動のエネルギに変貌すること
によると思われる。
この振動のエネルギは該UV吸収剤から熱エネルギとし
て放出されるが、熱エネルギでは既に有機物質を劣化さ
せるには不充分であって、感光体は紫外線の繰返し照射
による害から保Rされるものと思われる。
て放出されるが、熱エネルギでは既に有機物質を劣化さ
せるには不充分であって、感光体は紫外線の繰返し照射
による害から保Rされるものと思われる。
以下に本発明の化合物の代表的具体例を示すが、これに
よって本発明に用いられる化合物がこれらに限定される
ものではない。
よって本発明に用いられる化合物がこれらに限定される
ものではない。
以下余白
本発明において用いられる前記一般式で示される化合物
(以下、本発明の化合物と称する)の添加量は、感光体
の層構成、CTMの種類などによって一定ではないが、
CTMに対して、0.1〜100重量%、好ましくは1
〜50重1%、特に好ましくは5〜25重量%の範囲で
用いられる。
(以下、本発明の化合物と称する)の添加量は、感光体
の層構成、CTMの種類などによって一定ではないが、
CTMに対して、0.1〜100重量%、好ましくは1
〜50重1%、特に好ましくは5〜25重量%の範囲で
用いられる。
次に本発明の感光体の構成を図面によって説明する。
本発明の感光体は例えば第1図に示すように支持体1
(導電性支持体またはシート上に導電層を設けたもの)
上にCGMSと必要に応じてバインダ樹脂を含有する電
荷発生層 (以下、CGLと標記する)2を下層とし、
C7M6と必要に応じてバインダ樹脂を含有する電荷輸
送層(以下、CTLと標記する)3を上層とする積層構
成の感光体層4を設けたもの、第2図に示すように支持
体1上にCTL3を下層とし、CGL2を上層とするf
12層構成の感光体層4を設けたもの、お上びPt53
図に示すように支持体1上にCGM、CTMおよび必要
に応じてバインダ樹脂を含有する単層構成の感光体層4
を設けたもの等が挙げられる。
(導電性支持体またはシート上に導電層を設けたもの)
上にCGMSと必要に応じてバインダ樹脂を含有する電
荷発生層 (以下、CGLと標記する)2を下層とし、
C7M6と必要に応じてバインダ樹脂を含有する電荷輸
送層(以下、CTLと標記する)3を上層とする積層構
成の感光体層4を設けたもの、第2図に示すように支持
体1上にCTL3を下層とし、CGL2を上層とするf
12層構成の感光体層4を設けたもの、お上びPt53
図に示すように支持体1上にCGM、CTMおよび必要
に応じてバインダ樹脂を含有する単層構成の感光体層4
を設けたもの等が挙げられる。
また、第2図と同様のN構成で上層のCGLにCGMと
CTMの両方が含有されてもよく、該層の上に保護層(
OCL )を設けてもよく、支持体と感光体層の間に中
間層を設けてもよい。第4図にその1例を示しである。
CTMの両方が含有されてもよく、該層の上に保護層(
OCL )を設けてもよく、支持体と感光体層の間に中
間層を設けてもよい。第4図にその1例を示しである。
すなわち、支持体1上に中間層7を設け、その上にCT
M 6 aとバインダ樹脂を含有するCTL3および
CGMS、07M6bおよびバインダ樹脂を含有するC
GL 2を積層した感光体層4を有し、更にパイングを
主成分とする0CL8を設けた感光体である。
M 6 aとバインダ樹脂を含有するCTL3および
CGMS、07M6bおよびバインダ樹脂を含有するC
GL 2を積層した感光体層4を有し、更にパイングを
主成分とする0CL8を設けた感光体である。
本発明の化合物は、感光体を構成するCGL。
CTL、単層構成感光体層またはOCLのいずれに含有
されてもよく、複数層に含有されてもよい。
されてもよく、複数層に含有されてもよい。
本発明の効果がより顕看に発揮されるのは、CGLを上
層としCTLを下層とする積層構成の感光体においてで
ある。
層としCTLを下層とする積層構成の感光体においてで
ある。
次に本発明に適するCGMとしては、可視光を吸収して
フリー電荷を発生するものであれば、無機顔料及び有機
顔料の何れをも用いることができる。無定形セレン、三
方晶系セレン、セレン−砒素合金、セレン−テルル合金
、硫化カドミウム、セレン化カドミウム、硫セレン化カ
ドミウム、硫化水銀、酸化鉛、硫化鉛等の無機顔料′の
外、次の代表例で示されるような有機顔料が用いられる
。
フリー電荷を発生するものであれば、無機顔料及び有機
顔料の何れをも用いることができる。無定形セレン、三
方晶系セレン、セレン−砒素合金、セレン−テルル合金
、硫化カドミウム、セレン化カドミウム、硫セレン化カ
ドミウム、硫化水銀、酸化鉛、硫化鉛等の無機顔料′の
外、次の代表例で示されるような有機顔料が用いられる
。
(1)モノ7ゾ顔料、ポリアゾ顔料、金属錯塩アゾ顔料
、ピラゾロンアゾ顔料、スチルベンアゾ及びチアゾール
アゾ顔料等のアゾ系顔料(2)ペリレン酸無水物及びペ
リレン酸イミド等のペリレン系顔料 (3)アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体
、ジベンズビンンキノン誘導体、ピラントロン溝導体、
ビオラントロン誘導体及びインビオラントロン誘導体等
のアントラキノン系又は多環キノン系顔料 (4) インノボ誘導体及びチオインジゴ誘導体等のイ
ンノボイド系顔料 (5)金属7タロシアニン及び無金属7タロシアニン等
の7タロシアニン系顔料 (6) ノフェニルメタン系顔料、トリフェニルメタン
顔料、キサンチン顔料及び7クリノン顔料等のカルボニ
ウム系顔料 (7)アノン顔料、オキサノン顔料及びチアノン顔料等
のキノン系顔料系顔料 (8) シアニン顔料及びアゾメチン顔料等のメチン系
顔料 (9) キノリ系顔料料 (10) ニトロ系顔料 (11)ニトロン系顔料 (12)ベンゾキノン及1す7トキ/ン系顔料(13)
す7タルイミド系顔料 (14)ビスベンズイミグゾール誘導体等のペリノン系
顔料 前記本発明に用いられるアゾ系顔料としては、例えば次
の例示構造化合物群[1)〜〔■〕で示されるものがあ
り、該例示vIt造化合物群の中の個々の好ましい具体
的化合物の数例を併せ掲げる。
、ピラゾロンアゾ顔料、スチルベンアゾ及びチアゾール
アゾ顔料等のアゾ系顔料(2)ペリレン酸無水物及びペ
リレン酸イミド等のペリレン系顔料 (3)アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体
、ジベンズビンンキノン誘導体、ピラントロン溝導体、
ビオラントロン誘導体及びインビオラントロン誘導体等
のアントラキノン系又は多環キノン系顔料 (4) インノボ誘導体及びチオインジゴ誘導体等のイ
ンノボイド系顔料 (5)金属7タロシアニン及び無金属7タロシアニン等
の7タロシアニン系顔料 (6) ノフェニルメタン系顔料、トリフェニルメタン
顔料、キサンチン顔料及び7クリノン顔料等のカルボニ
ウム系顔料 (7)アノン顔料、オキサノン顔料及びチアノン顔料等
のキノン系顔料系顔料 (8) シアニン顔料及びアゾメチン顔料等のメチン系
顔料 (9) キノリ系顔料料 (10) ニトロ系顔料 (11)ニトロン系顔料 (12)ベンゾキノン及1す7トキ/ン系顔料(13)
す7タルイミド系顔料 (14)ビスベンズイミグゾール誘導体等のペリノン系
顔料 前記本発明に用いられるアゾ系顔料としては、例えば次
の例示構造化合物群[1)〜〔■〕で示されるものがあ
り、該例示vIt造化合物群の中の個々の好ましい具体
的化合物の数例を併せ掲げる。
その好ましい具体的化合物の全容については特願昭61
−195881号が参照される。
−195881号が参照される。
以下余白
例示構造化合物群〔■〕:
例示構造化合物群〔■〕:
例示構造化合物in CIII ) :例示m造化合物
rt′11〔lv〕: 例示構造化合物群〔■〕: また、以下の多環キノン顔料から成る例示構造化合物群
〔■1〕〜〔■〕はに G Mとして最も好ま以下余白
。
rt′11〔lv〕: 例示構造化合物群〔■〕: また、以下の多環キノン顔料から成る例示構造化合物群
〔■1〕〜〔■〕はに G Mとして最も好ま以下余白
。
次に本発明で使用可能なCTMとしては、特に制限はな
いが、例えばオキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘
導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリ
アゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダシロン誘
導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導
体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン誘
導体、オキサシロン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、
ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾ
フラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、
アミノスチルベン誘導体、ポリ−N−ビニルカルバゾー
ル、ポリ−1−ビニルピレン、ポリ−9−ビニルアント
ラセン等であってよい。
いが、例えばオキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘
導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリ
アゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダシロン誘
導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導
体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン誘
導体、オキサシロン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、
ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾ
フラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、
アミノスチルベン誘導体、ポリ−N−ビニルカルバゾー
ル、ポリ−1−ビニルピレン、ポリ−9−ビニルアント
ラセン等であってよい。
しかしながら光照射時発生する71;−ルの支持体側へ
の輸送能力が優れている外、前記CGMとの組合せに好
適なものが好ましく用いられ、かかるC ’I’ Mと
しては、例えば下記例示構造化合物群(IX)又は〔X
〕で示されるスチル化合物が使用される。該例示構造化
合物群中の個々の具体的化合物の数例を併U・掲げるが
、その全貌については特願昭61−195881号が参
照されろ。
の輸送能力が優れている外、前記CGMとの組合せに好
適なものが好ましく用いられ、かかるC ’I’ Mと
しては、例えば下記例示構造化合物群(IX)又は〔X
〕で示されるスチル化合物が使用される。該例示構造化
合物群中の個々の具体的化合物の数例を併U・掲げるが
、その全貌については特願昭61−195881号が参
照されろ。
例示構造化合物群CIX ) :
また、CT Mとして下記例示構造化合物群〔刈〕〜(
XV)で示されるヒドラゾン化合物も使用可能である。
XV)で示されるヒドラゾン化合物も使用可能である。
内側々の具体的化合物の全容については特願昭61−1
95881号が参照される。
95881号が参照される。
ρb云堪讐告什倫4勿鮮rXV11:
また、C’I’ Mとして下、尼例示tilt a化合
物Iff、 (X■〕で示されるアミン誘導体ら使用可
能である。
物Iff、 (X■〕で示されるアミン誘導体ら使用可
能である。
尚詳しくは特願昭61−195881号が参照される。
本発明の感光体の層構成は前記のように積層構成と単層
構成とがあるが、表面層となるCTL、CGL、OCL
、単層感光体層またはOCLのいずれか、もしくは複数
層には感度の向上、残留電位ないし反復使用時の疲労低
減等を目的として、1種または2種以上の電子受容性物
質を含有せしめることができる。
構成とがあるが、表面層となるCTL、CGL、OCL
、単層感光体層またはOCLのいずれか、もしくは複数
層には感度の向上、残留電位ないし反復使用時の疲労低
減等を目的として、1種または2種以上の電子受容性物
質を含有せしめることができる。
本発明の感光体に使用可能な電子受容性物質としては、
例えば無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレ
イン酸、無水7タル酸、テトラクロル無水7タル酸、テ
トラブロム無水7タル酸、3−ニトロ無水7タル酸、4
−ニトロ無水7タル酸、無水ビロメリ7ト酸、無水メリ
ット酸、テトラシアノエチレン、テトラシア/キ7ノメ
タン、0−ノ二トロベンゼン、1a−ノ二トロベンゼン
、LL5+−トリニトロベンゼン、バラニトロベンゾニ
トリル、ピクリルクロライド、キ7ンクロルイ′ミド、
クロラニル、ブルマニル、2−メチルナ7)+/ン、ノ
クロロノン7ノバラベンゾキノン、アントラキノン、ノ
ニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、9−
フルオレノンデン〔ジシアノメチレンマロ7ジニトリル
〕、ポリニトロ−9−フルオレノンデンー〔ジシアノメ
チレンマロ7ジニトリル〕、ピクリン酸、7タル酸等が
挙げられる。
例えば無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレ
イン酸、無水7タル酸、テトラクロル無水7タル酸、テ
トラブロム無水7タル酸、3−ニトロ無水7タル酸、4
−ニトロ無水7タル酸、無水ビロメリ7ト酸、無水メリ
ット酸、テトラシアノエチレン、テトラシア/キ7ノメ
タン、0−ノ二トロベンゼン、1a−ノ二トロベンゼン
、LL5+−トリニトロベンゼン、バラニトロベンゾニ
トリル、ピクリルクロライド、キ7ンクロルイ′ミド、
クロラニル、ブルマニル、2−メチルナ7)+/ン、ノ
クロロノン7ノバラベンゾキノン、アントラキノン、ノ
ニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、9−
フルオレノンデン〔ジシアノメチレンマロ7ジニトリル
〕、ポリニトロ−9−フルオレノンデンー〔ジシアノメ
チレンマロ7ジニトリル〕、ピクリン酸、7タル酸等が
挙げられる。
本発明において感光体層に使用可能なパイングI!脂と
しては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリ
ル樹層、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル
樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、7エ/−ルム
(脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボ
ネート!(脂、シリコンU(脂、メラミンリ(脂等の付
加重合型樹脂、重付加型樹脂、重縮合型樹脂並びにこれ
らの樹脂の繰返、し単位のうちの2つ以上を含む共重合
体樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、
塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂
等の絶縁性樹脂の他、ポリ−,1−ビニルカルバゾール
等の高分子有機半導体が挙げられる。
しては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリ
ル樹層、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル
樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、7エ/−ルム
(脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボ
ネート!(脂、シリコンU(脂、メラミンリ(脂等の付
加重合型樹脂、重付加型樹脂、重縮合型樹脂並びにこれ
らの樹脂の繰返、し単位のうちの2つ以上を含む共重合
体樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、
塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂
等の絶縁性樹脂の他、ポリ−,1−ビニルカルバゾール
等の高分子有機半導体が挙げられる。
また、前記中間層は接着層又はバリヤ層等としてP!i
能するもので、上記バインダ樹脂の外に、例エバポリビ
ニルアルコール、エチルセルロース、カルボキンメチル
セルロース、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、カゼイン
、N−アルフキジメチル化ナイロン、澱粉等が用いられ
る。
能するもので、上記バインダ樹脂の外に、例エバポリビ
ニルアルコール、エチルセルロース、カルボキンメチル
セルロース、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、カゼイン
、N−アルフキジメチル化ナイロン、澱粉等が用いられ
る。
次に前記感光体層を支持する導電性支持体としては、ア
ルミニウム、ニッケルなどの金属板、金属ドラム又は金
!j4箔、アルミニウム、酸化錫、酸化インジウムなど
を蒸着したプラスチックフィルムあるいは導電性物質を
塗布した紙、プラスチックなどのフィルム又はドラムを
使用することができる。
ルミニウム、ニッケルなどの金属板、金属ドラム又は金
!j4箔、アルミニウム、酸化錫、酸化インジウムなど
を蒸着したプラスチックフィルムあるいは導電性物質を
塗布した紙、プラスチックなどのフィルム又はドラムを
使用することができる。
CGLは既述のCGMを上記支持体上に真空蒸着させる
方法、CGMを適当な溶剤に単独もしくは適当なバイン
ダ樹脂と共に溶解もしくは分散せしめたものを塗布して
乾燥させる方法により設けることがでさる。
方法、CGMを適当な溶剤に単独もしくは適当なバイン
ダ樹脂と共に溶解もしくは分散せしめたものを塗布して
乾燥させる方法により設けることがでさる。
上記CGMを分散せしめてCGLを形成する場合、当該
CGMは2μm以下、好ましくは1μ論以下の平均粒径
の粉粒体とするのが好ましい。即ち、粒径があまり大き
いと86中への分散が悪くなると共に、粒子が表面に一
部突出して表面の平滑性が悪くなり、場合によっては粒
子の突出部分で放電が生じたり或はそこ1ニ一トナー粒
子が付着してトナーフィルミング現象が生じ易い。
CGMは2μm以下、好ましくは1μ論以下の平均粒径
の粉粒体とするのが好ましい。即ち、粒径があまり大き
いと86中への分散が悪くなると共に、粒子が表面に一
部突出して表面の平滑性が悪くなり、場合によっては粒
子の突出部分で放電が生じたり或はそこ1ニ一トナー粒
子が付着してトナーフィルミング現象が生じ易い。
ただし、上記粒径があまり小さいと却って凝集し易く、
層の抵抗が上昇したり、結晶欠陥が増えて感度及び繰返
し特性が低下したり、或いは微細化する上で限界がある
から、平均粒径の下限を0.01μmとするのが望まし
い。
層の抵抗が上昇したり、結晶欠陥が増えて感度及び繰返
し特性が低下したり、或いは微細化する上で限界がある
から、平均粒径の下限を0.01μmとするのが望まし
い。
CGLは、次の如き方法によって設けることができる。
即ち、記述のCGLをボールミル、ホモミキサ等によっ
て分散媒中で全綱粒子とし、バインダ樹脂を加えて混合
分散して得られる分散液を塗布する方法である。この方
法において超音波の作用下に粒子を分散させると、均一
分散が可能である。
て分散媒中で全綱粒子とし、バインダ樹脂を加えて混合
分散して得られる分散液を塗布する方法である。この方
法において超音波の作用下に粒子を分散させると、均一
分散が可能である。
CTLの形成に用いられる溶媒としては、例えばN、N
−ツメチルホルムアミド、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、モノクロルベンゼン、1,2−ノクロロエタン、シ
クロ・ロメタン、1,1.2−トリクロロエタン、テト
フヒドロ7フン、メチルエチルケトン酢酸エチル、酢酸
ブチル等を挙げることができる。
−ツメチルホルムアミド、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、モノクロルベンゼン、1,2−ノクロロエタン、シ
クロ・ロメタン、1,1.2−トリクロロエタン、テト
フヒドロ7フン、メチルエチルケトン酢酸エチル、酢酸
ブチル等を挙げることができる。
前記第1.2図及び第4図の様な機能分離層構成では、
CGL中CGMバイング樹脂100重量当り20〜20
0重量部、好ましくは25〜100重量部である.CG
Mがこれより少ないと光感度が低く、残留電位の増加を
招き、又これより多いと暗滅貸が増大し、かつ受容電位
が低下する。
CGL中CGMバイング樹脂100重量当り20〜20
0重量部、好ましくは25〜100重量部である.CG
Mがこれより少ないと光感度が低く、残留電位の増加を
招き、又これより多いと暗滅貸が増大し、かつ受容電位
が低下する。
以上のようにして形成されるCGLの膜厚は、正帯電用
構成の場合は好ましくは、1〜10μm1特に好ましく
は3〜7μ−であり、負帯電用構成の場合は好ましくは
0.01〜10μ鎗、特に好ましくは0.1〜3μ論で
ある。
構成の場合は好ましくは、1〜10μm1特に好ましく
は3〜7μ−であり、負帯電用構成の場合は好ましくは
0.01〜10μ鎗、特に好ましくは0.1〜3μ論で
ある。
前記正帯電用構成においてはCGLが表面層となるので
耐悟性に欠け、耐用性向上のためにはCGLffl厚を
厚くする必要があるが、感度低下を引き起こす.これを
抑制する手段としてCGL中へCTMが添加される。こ
の場合のCGMとCTMの比はCGM100重量部に対
してCTM30重量部から400重量部である。
耐悟性に欠け、耐用性向上のためにはCGLffl厚を
厚くする必要があるが、感度低下を引き起こす.これを
抑制する手段としてCGL中へCTMが添加される。こ
の場合のCGMとCTMの比はCGM100重量部に対
してCTM30重量部から400重量部である。
しかしながら、このC T MはCGMに比べ複合劣化
を受は易い構造を有するので、紫外線等により容易に劣
化を受は感光体の耐久性が損なわれる。
を受は易い構造を有するので、紫外線等により容易に劣
化を受は感光体の耐久性が損なわれる。
本発明は、この悪循環を本発明の化合物の添加により解
消したものである。
消したものである。
次に、CTLは、既述のCTMを上述のCGLと同様に
して(即ち、単独であるいは上述のバインダ樹脂と共に
溶解、分散せしめたものを塗布、乾燥して)形成するこ
とができる。
して(即ち、単独であるいは上述のバインダ樹脂と共に
溶解、分散せしめたものを塗布、乾燥して)形成するこ
とができる。
CTL中の07M量はバインダ樹脂100重量部当り2
0〜200重量部、好ましくは30〜150重j11部
である。
0〜200重量部、好ましくは30〜150重j11部
である。
CTMの含有割合がこれより少ないと光感度が悪く残留
電位が高くなり易く、又これより多いと溶媒溶解性が悪
くなる。
電位が高くなり易く、又これより多いと溶媒溶解性が悪
くなる。
形成されるCTLの膜厚ぼ、好ましくは5〜50μ伯、
特に好ましくは5〜30μmである。また、CGLとC
TLの膜厚比は1:(1〜30)であるのが好ましい。
特に好ましくは5〜30μmである。また、CGLとC
TLの膜厚比は1:(1〜30)であるのが好ましい。
前記第3図に示した単層構成の場合、CGMがバインダ
樹脂に含有される割合は、バインダ樹脂100重量部に
対して20〜200重1部、好ましくは25〜ioo重
量部である。
樹脂に含有される割合は、バインダ樹脂100重量部に
対して20〜200重1部、好ましくは25〜ioo重
量部である。
CGMめ含有割合がこれより少ないと光感度が低く、残
留電位の増加を招き、又これより多いと暗減衰及び受容
電位が低下する。
留電位の増加を招き、又これより多いと暗減衰及び受容
電位が低下する。
またCTMがバインダ引脂に対して含有される割合は、
バインダ樹脂100重量部に対して20〜200重量部
、好ましくは30〜150重量部である。
バインダ樹脂100重量部に対して20〜200重量部
、好ましくは30〜150重量部である。
CTMの含有割合がこれより少ないと光感度が悪く残留
電位が高(なり易く、又これより多いと溶媒溶解性が悪
くなる。
電位が高(なり易く、又これより多いと溶媒溶解性が悪
くなる。
単層構成の場合感光体層中のCGMに対するCTMの量
比は重量比で1:3〜1:2とするのが好ましい.また
、この場合の感光体層のi厚は7〜50μ論、好ましく
は10〜30μ曽である。
比は重量比で1:3〜1:2とするのが好ましい.また
、この場合の感光体層のi厚は7〜50μ論、好ましく
は10〜30μ曽である。
本発明おいて必要に応じて設けられるOCLのバインダ
として体積抵抗108Ωc16以上、好ましくは10”
Ωcm以上、より好ましくは101コΩcII1以上の
透明樹脂が用いられる。又前記バインダは光又は熱によ
り硬化する樹脂を少なくとも50重量%以上含有するも
のとされる。
として体積抵抗108Ωc16以上、好ましくは10”
Ωcm以上、より好ましくは101コΩcII1以上の
透明樹脂が用いられる。又前記バインダは光又は熱によ
り硬化する樹脂を少なくとも50重量%以上含有するも
のとされる。
かかる光又は熱により硬化する樹脂としては、例えば熱
硬化性アクリル樹脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、ウ
レタン樹脂、尿素樹脂、フェノール84m、ポリエステ
ル樹上、アルキッド樹脂、メラミン樹脂、光硬化性の桂
皮酸樹脂等又はこれらの共重合もしくは共縮合樹脂があ
り、その外電子写真材料に供される光又は熱硬化性樹脂
の全てが利用される。又前記CGL中には加工性及び物
性の改良(亀裂防止、柔軟性付与等)を目的として必要
により熱可塑性樹脂を50重量%未満含有せしめること
ができる。かかる熱可塑性樹脂としては、例えばポリプ
ロピレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル
樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂
、ポリカーボネート樹脂、シリコンム(脂、又はこれら
の共重合樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合
体樹脂、ボl) −N−ビニルカルバゾール等の高分子
有機半導体、その他電子写真材料に供される熱可塑性樹
脂の全てが利用される。
硬化性アクリル樹脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、ウ
レタン樹脂、尿素樹脂、フェノール84m、ポリエステ
ル樹上、アルキッド樹脂、メラミン樹脂、光硬化性の桂
皮酸樹脂等又はこれらの共重合もしくは共縮合樹脂があ
り、その外電子写真材料に供される光又は熱硬化性樹脂
の全てが利用される。又前記CGL中には加工性及び物
性の改良(亀裂防止、柔軟性付与等)を目的として必要
により熱可塑性樹脂を50重量%未満含有せしめること
ができる。かかる熱可塑性樹脂としては、例えばポリプ
ロピレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル
樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂
、ポリカーボネート樹脂、シリコンム(脂、又はこれら
の共重合樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合
体樹脂、ボl) −N−ビニルカルバゾール等の高分子
有機半導体、その他電子写真材料に供される熱可塑性樹
脂の全てが利用される。
また前記OCLは、電子受容性物質を含有してもよく、
その他、必要によりCGLを保護する目的で酸化防止剤
等を含有してもよく、前記バインダと共に溶剤に溶解さ
れ、例えばディップ塗布、スプレー塗布、ブレード塗布
、ロール塗布等により塗布・乾燥されて2μm以下、好
ましくは1μm以下の層厚に形成される。
その他、必要によりCGLを保護する目的で酸化防止剤
等を含有してもよく、前記バインダと共に溶剤に溶解さ
れ、例えばディップ塗布、スプレー塗布、ブレード塗布
、ロール塗布等により塗布・乾燥されて2μm以下、好
ましくは1μm以下の層厚に形成される。
以下、本発明を実施例により説明するが、これにより本
発明の実施の態様が限定されるものではない。
発明の実施の態様が限定されるものではない。
実施例 1
アルミニウム箔をラミネートしたポリエステルフィルム
、及びアルミニウムドラムより成る導電性支持体上に、
塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体(エ
スレックMF−10、積木化学工業社製)よりなる厚さ
0.1μmの中間層を形成した。
、及びアルミニウムドラムより成る導電性支持体上に、
塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体(エ
スレックMF−10、積木化学工業社製)よりなる厚さ
0.1μmの中間層を形成した。
次いでCT M (ff−75)/ポリカーボネート樹
脂(パンライトL−1250、音大化成社製)= 75
/ 100(重量比)を16.5重量%含有する1、2
−ジクロルエタン溶液を前記中間層上にディップ塗布、
乾燥して15μm厚のCTLを得た。
脂(パンライトL−1250、音大化成社製)= 75
/ 100(重量比)を16.5重量%含有する1、2
−ジクロルエタン溶液を前記中間層上にディップ塗布、
乾燥して15μm厚のCTLを得た。
次いで、CGMとして昇華した4、10−ノブロモアン
スアンスロン(VI−3)/パンライ)L−1250=
507100(重量比)をボールミルで24時間粉砕
し、9重量%になるよう1,2−ジクロルエタンを加え
て更にボールミルで24時間分散した液にCTM(IX
−75)をパンライ)L−1250に対して75重量%
および本発明の化合物(1)をCTMに対して10重量
%加えた。この分散液にモノクロロベンゼンを加エテモ
ノクロロベンゼン/ 1.2−ジクロルエタン=3/7
(体積比)になるよう調製したものをCTL上にスプレ
ー塗布方法により厚さ5μmのCGLを形成し、積層v
t成の感光体層を有する本発明の感光体試料1を得た。
スアンスロン(VI−3)/パンライ)L−1250=
507100(重量比)をボールミルで24時間粉砕
し、9重量%になるよう1,2−ジクロルエタンを加え
て更にボールミルで24時間分散した液にCTM(IX
−75)をパンライ)L−1250に対して75重量%
および本発明の化合物(1)をCTMに対して10重量
%加えた。この分散液にモノクロロベンゼンを加エテモ
ノクロロベンゼン/ 1.2−ジクロルエタン=3/7
(体積比)になるよう調製したものをCTL上にスプレ
ー塗布方法により厚さ5μmのCGLを形成し、積層v
t成の感光体層を有する本発明の感光体試料1を得た。
比較例(1)
CGL中の化合物(1)を除いた以外は実施例1と同様
にして比較用の感光体試料(1)を得た。
にして比較用の感光体試料(1)を得た。
実施例 2
実施例1における化合物(1)に代えて、化合物(2)
を添加した以外は実施例1と同様にして感光体2を得た
。
を添加した以外は実施例1と同様にして感光体2を得た
。
実施例 3
実施例1のCGLから化合物(1)を除いた感光体(比
較例1の感光体に同じ)上に、熱硬化性アクリル−メラ
ミン−エポキシ(1:1 :1 )樹脂1.55重量部
および本発明の化合物(1) 0.155重量部をモノ
クロロベンゼン/1,1.2−)リクロロエタン(1/
1体積比)混合溶媒100重量部中に溶解して得られた
塗布液をスプレー塗布、乾燥して1μm厚のOCLを形
成し、本発明の感光体3を得た。
較例1の感光体に同じ)上に、熱硬化性アクリル−メラ
ミン−エポキシ(1:1 :1 )樹脂1.55重量部
および本発明の化合物(1) 0.155重量部をモノ
クロロベンゼン/1,1.2−)リクロロエタン(1/
1体積比)混合溶媒100重量部中に溶解して得られた
塗布液をスプレー塗布、乾燥して1μm厚のOCLを形
成し、本発明の感光体3を得た。
実施例 4
実施例1のCGLから化合物(1)を除いた感光体上に
、シリコンハードコート用プライマPI+91(東芝シ
リコン社m!りを0.1μm厚にスプレー塗布し、更に
その上にシリコンハードコートトスガード510(東芝
シリコン社!!りおよび化合物(1)を樹脂100重量
部に対して10重量部となるよう添加した溶液をスプレ
ー塗布、乾燥して1μm0cLを形成し、本発明の感光
体4を得た。
、シリコンハードコート用プライマPI+91(東芝シ
リコン社m!りを0.1μm厚にスプレー塗布し、更に
その上にシリコンハードコートトスガード510(東芝
シリコン社!!りおよび化合物(1)を樹脂100重量
部に対して10重量部となるよう添加した溶液をスプレ
ー塗布、乾燥して1μm0cLを形成し、本発明の感光
体4を得た。
実施例 5
アルミニウム箔をラミネートしたポリエステルフィルム
、及びアルミニウムドラムより成る導電性支持体上に実
施例1と全(同様の中間層を形成した。
、及びアルミニウムドラムより成る導電性支持体上に実
施例1と全(同様の中間層を形成した。
次いでCTL用塗布液としてブチラール御脂(エスレッ
クBX−1、積木化学社製)8重量%、CT M (I
X −73) 6重量%となるようメチルエチルケトン
に溶解して得られる溶液を前記中間層上に塗布、乾燥し
て10μ輸厚のCTLを形成した。
クBX−1、積木化学社製)8重量%、CT M (I
X −73) 6重量%となるようメチルエチルケトン
に溶解して得られる溶液を前記中間層上に塗布、乾燥し
て10μ輸厚のCTLを形成した。
次いでCG M (■−7)0.2gをペイントコンデ
シ1す(Paint Conditioner、 Re
d Devi1社製)で30分粉砕し、これにポリカー
ボネート樹脂(パンライトL−1250.前出)を1,
2−ジクロロエタン/1,1.2−)ジクロロエタン混
合溶媒に0.5重量%となるよう溶解させた溶液を8.
3g加えて3分間分散した後、これにポリカーボネート
樹脂、CTM (IX−75)および化合物(1)を、
それぞれ3.3重量%、2.6重量%および0.26重
1%となるよう1,2−ジクロロエタン/1,1.2−
)ジクロロエタン混合溶媒に溶解して得られる溶液19
,1@を加えて更に300分間分散た。
シ1す(Paint Conditioner、 Re
d Devi1社製)で30分粉砕し、これにポリカー
ボネート樹脂(パンライトL−1250.前出)を1,
2−ジクロロエタン/1,1.2−)ジクロロエタン混
合溶媒に0.5重量%となるよう溶解させた溶液を8.
3g加えて3分間分散した後、これにポリカーボネート
樹脂、CTM (IX−75)および化合物(1)を、
それぞれ3.3重量%、2.6重量%および0.26重
1%となるよう1,2−ジクロロエタン/1,1.2−
)ジクロロエタン混合溶媒に溶解して得られる溶液19
,1@を加えて更に300分間分散た。
かくして得られた分散液を前記CTL上にスプレー塗布
し、かつ乾燥して5μ−厚のCGLを形成し、積層構成
の感光体層を有する本発明の態様の感光体5を得た。
し、かつ乾燥して5μ−厚のCGLを形成し、積層構成
の感光体層を有する本発明の態様の感光体5を得た。
比較例 (2)
CGL中の化合物(1)を除いた以外は実施例5と同様
にして比較用の感光体(2)を得た。
にして比較用の感光体(2)を得た。
実施例 6
実施例5における化合物(1)に代えて、化合物(2)
を添加した以外は実施例5と同様にして本発明の感光体
6を得た。
を添加した以外は実施例5と同様にして本発明の感光体
6を得た。
実施例 7
実施例5のCGLから化合物(1)を除いた感光体(比
較例2の感光体に同じ)上に、実施例3に用いた化合物
(1)を含有するOCLを設け、本発明の感光体7を得
た。
較例2の感光体に同じ)上に、実施例3に用いた化合物
(1)を含有するOCLを設け、本発明の感光体7を得
た。
実施例 8
実施例5のCGLから化合物(1)を除−1た感光体上
に、実施例4に用いた化合物(1)を含有するOCLを
設け、本発明の感光体8を得た。
に、実施例4に用いた化合物(1)を含有するOCLを
設け、本発明の感光体8を得た。
実施例 9
アルミニウム箔をラミネートしたポリエステルフィルム
、及びアルミニウムドラム上に、実施例1と全く同様の
中間層を形成した。
、及びアルミニウムドラム上に、実施例1と全く同様の
中間層を形成した。
次いで昇華した4、10−ノプロモアンスアンスロン(
Vl−3)40gを磁製ボールミルにて40rpmで2
4時間粉砕し、パンライトL−1250、(前出)20
.と1,2−ジクロロエタン1300IIlfを加え、
更に24時間分散してCGL用塗布液とした。これを前
記中間層上に塗布し膜厚1μ「0のCGLを設けた。
Vl−3)40gを磁製ボールミルにて40rpmで2
4時間粉砕し、パンライトL−1250、(前出)20
.と1,2−ジクロロエタン1300IIlfを加え、
更に24時間分散してCGL用塗布液とした。これを前
記中間層上に塗布し膜厚1μ「0のCGLを設けた。
次いでCT M (IX −61)7.5fI、パンラ
イトL−125010gおよび化合物(1)0.75g
を、1.2−ジクロロエタン80+m1に溶解した溶液
を前記CGLに塗布して膜厚15μmのCTLを形成し
、本発明の感光体9を作成した。
イトL−125010gおよび化合物(1)0.75g
を、1.2−ジクロロエタン80+m1に溶解した溶液
を前記CGLに塗布して膜厚15μmのCTLを形成し
、本発明の感光体9を作成した。
H/鯵仔n (3)
CTL中の化合物(1)を除いた以外は実施例9と同様
にして比較用の感光体(3)を得た。
にして比較用の感光体(3)を得た。
実施例10
アルミニウム箔をラミネートしたポリエステルフィルム
、及びアルミニウムドラムから成る導電性支持体上に、
実施例1と全く同様の中間層を形成した。
、及びアルミニウムドラムから成る導電性支持体上に、
実施例1と全く同様の中間層を形成した。
次いでCGLとしてビスアゾ化合物(IV −7)l、
5gヲ1.2−ノクロロエタン/モノエタノールアミン
(1000/1体積比)混合溶媒1001111中にボ
ールミルで8時間分散させた分散液を上記中間層上に塗
布し、充分乾燥して0.3g厚のCGLを設けた。
5gヲ1.2−ノクロロエタン/モノエタノールアミン
(1000/1体積比)混合溶媒1001111中にボ
ールミルで8時間分散させた分散液を上記中間層上に塗
布し、充分乾燥して0.3g厚のCGLを設けた。
次いでCTMとしてスチリル化合物(IX−43)11
.25f、パンライトL−1250(前出)15gおよ
び化合物(1)1,125.を1,2−ジクロロエタン
100II11に溶解した溶液を前記CGL上に塗布し
、充分乾燥して15μl厚のCTLを形成し、本発明の
感光体10を作成した。
.25f、パンライトL−1250(前出)15gおよ
び化合物(1)1,125.を1,2−ジクロロエタン
100II11に溶解した溶液を前記CGL上に塗布し
、充分乾燥して15μl厚のCTLを形成し、本発明の
感光体10を作成した。
比較例 (4)
CTL中の化合物(1)を除いた以外は、実施例10と
同様にし、て比較用の感光体(4)を作成した。
同様にし、て比較用の感光体(4)を作成した。
前記実施例試料1〜10及び比較例試料(1)〜(4)
についてUVN性について、帯電性に対する2万回の実
写テスト及びUV曝射による感度変化の定量的測定を行
った。
についてUVN性について、帯電性に対する2万回の実
写テスト及びUV曝射による感度変化の定量的測定を行
った。
帯電性実写テストは、U −B ix 2812 M
R(小西六写真工業(株)製)の改造実験機に試料感光
体ドラムを装着し、正または負帯電させ、前記感光体に
対する像露光をはじめとする各工程及び定着からなる単
位サイクルを2万回繰返し、実写テスト初期の正、負帯
電電位を±Vo、2万回終了後回終了後帯電電位を士■
Iとする。
R(小西六写真工業(株)製)の改造実験機に試料感光
体ドラムを装着し、正または負帯電させ、前記感光体に
対する像露光をはじめとする各工程及び定着からなる単
位サイクルを2万回繰返し、実写テスト初期の正、負帯
電電位を±Vo、2万回終了後回終了後帯電電位を士■
Iとする。
またUV曝射による感度変化は、既知強度の紫外線を試
料フィルムを断裁した感光体シートに照射し、その照射
前後に於て、十または−600Vに帯電させた該感光体
の電位を夫々±100■にまで↑す露光量E600を用
いて求めた。
料フィルムを断裁した感光体シートに照射し、その照射
前後に於て、十または−600Vに帯電させた該感光体
の電位を夫々±100■にまで↑す露光量E600を用
いて求めた。
感光体の感度SはE”’ocl/Sの関係として定義さ
れ、E600が小さいほど感度Sは大きく硬調な画像が
えられる。
れ、E600が小さいほど感度Sは大きく硬調な画像が
えられる。
UV曝射前後の感度を夫々S、、S、とすれば、その逆
数比Rs:(1/ S 、)/ (1/ S o)=
S 0/ S +はUV耐性を表し、Rsが大きいはど
UV耐性があることになる。
数比Rs:(1/ S 、)/ (1/ S o)=
S 0/ S +はUV耐性を表し、Rsが大きいはど
UV耐性があることになる。
UV照射は理化学用水銀ランプS HL −1O0U
V−2((株)東芝製)を用い試料の感光体シートを3
OCTI+の距離に置き他の電磁波を遮断しUV強度1
500cd/m2で1.00分間照射を行い、感度測定
は静電試験機(川口電機製作所;5P−428型)によ
った。
V−2((株)東芝製)を用い試料の感光体シートを3
OCTI+の距離に置き他の電磁波を遮断しUV強度1
500cd/m2で1.00分間照射を行い、感度測定
は静電試験機(川口電機製作所;5P−428型)によ
った。
これらの結果を11表に示す。
以下余白
第1表
第1表からも明らかなように、本発明の化合物を添加す
ることにより、紫外線照射下におけるコロナ帯電での電
位低下が著しく改善される。しかも、本発明の化合物の
添加により、感度低下も殆どないことがfIIる。
ることにより、紫外線照射下におけるコロナ帯電での電
位低下が著しく改善される。しかも、本発明の化合物の
添加により、感度低下も殆どないことがfIIる。
第1図〜第4図は本発明の感光体の断面図である。
1・・・支持体
2・・・電荷発生層(CG L )
3・・・電荷輸送層(CTL)
4・・・感光層
5・・・電荷発生物!(CGM)
6・・・電荷輸送物質(CTM)
7・・・中間層
8・・・保護層(OCL )
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 導電性支持体上に電荷発生物質及び電荷輸送物質を含ん
でなる層を有する電子写真感光体に於て、下記一般式で
表される化合物を含有することを特徴とする電子写真感
光体。 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは水素置換するハロゲン原子またはOH、ア
ルキル、アルコキシの各基を表し、R′は水素置換する
前記R及びカルボキシの各基を表す。m及びm′は0〜
4、n及びn′は0または1の整数を表す。m、m′が
2以上の場合Rは同じでも異なっていてもよい。〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31577486A JPS63163360A (ja) | 1986-12-25 | 1986-12-25 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31577486A JPS63163360A (ja) | 1986-12-25 | 1986-12-25 | 電子写真感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63163360A true JPS63163360A (ja) | 1988-07-06 |
JPH0549225B2 JPH0549225B2 (ja) | 1993-07-23 |
Family
ID=18069385
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31577486A Granted JPS63163360A (ja) | 1986-12-25 | 1986-12-25 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63163360A (ja) |
-
1986
- 1986-12-25 JP JP31577486A patent/JPS63163360A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0549225B2 (ja) | 1993-07-23 |
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