JPS6315048U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6315048U JPS6315048U JP10892586U JP10892586U JPS6315048U JP S6315048 U JPS6315048 U JP S6315048U JP 10892586 U JP10892586 U JP 10892586U JP 10892586 U JP10892586 U JP 10892586U JP S6315048 U JPS6315048 U JP S6315048U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- semiconductor
- liquid tank
- processing liquid
- storage section
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
第1図は本考案の一実施例を示す概略構成断面
図、第2図乃至第4図は第1図の装置の動作状態
を示す説明図である。第5図及び第6図は従来の
半導体製造装置を示す概略構成断面図である。 1…半導体ウエーハ、12…ウエーハ搬送機構
、14…ガイド板、15…ウエーハ収納溝、16
…処理液槽(洗浄槽)、17…薬液(純水)、2
0…ウエーハ収納部、25…移替部材。
図、第2図乃至第4図は第1図の装置の動作状態
を示す説明図である。第5図及び第6図は従来の
半導体製造装置を示す概略構成断面図である。 1…半導体ウエーハ、12…ウエーハ搬送機構
、14…ガイド板、15…ウエーハ収納溝、16
…処理液槽(洗浄槽)、17…薬液(純水)、2
0…ウエーハ収納部、25…移替部材。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 内面にウエーハ収納溝が定ピツチで形成された
回動自在な1対のガイド板を対向配置し、このガ
イド板間に複数の半導体ウエーハを整列保持する
ウエーハ搬送機構と、 上記半導体ウエーハを液処理する薬液が収容さ
れた処理液槽と、 該処理液槽内の薬液中に配設され、半導体ウエ
ーハを定ピツチで整列収納するウエーハ収納部と
、 上記処理液槽の薬液中及び液上方で昇降動可能
に配置され、ウエーハ搬送機構にて移送された半
導体ウエーハを薬液中のウエーハ収納部に移し替
える移替部材とからなることを特徴とする半導体
製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10892586U JPS6315048U (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10892586U JPS6315048U (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6315048U true JPS6315048U (ja) | 1988-02-01 |
Family
ID=30986564
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10892586U Pending JPS6315048U (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6315048U (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02291128A (ja) * | 1989-02-27 | 1990-11-30 | Philips Gloeilampenfab:Nv | 液体での処理後基板を乾燥する方法及びその装置 |
KR100359228B1 (ko) * | 2000-03-15 | 2002-11-04 | 네오세미테크 주식회사 | 반도체 웨이퍼의 표면 평탄화용 에칭장치 및 이를 이용한표면 평탄화 에칭방법 |
-
1986
- 1986-07-16 JP JP10892586U patent/JPS6315048U/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02291128A (ja) * | 1989-02-27 | 1990-11-30 | Philips Gloeilampenfab:Nv | 液体での処理後基板を乾燥する方法及びその装置 |
KR100359228B1 (ko) * | 2000-03-15 | 2002-11-04 | 네오세미테크 주식회사 | 반도체 웨이퍼의 표면 평탄화용 에칭장치 및 이를 이용한표면 평탄화 에칭방법 |
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