JPS63144022A - ポリエステル成形物の製造法 - Google Patents

ポリエステル成形物の製造法

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JPS63144022A
JPS63144022A JP29172786A JP29172786A JPS63144022A JP S63144022 A JPS63144022 A JP S63144022A JP 29172786 A JP29172786 A JP 29172786A JP 29172786 A JP29172786 A JP 29172786A JP S63144022 A JPS63144022 A JP S63144022A
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copolyester
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井村 文平
Tetsuo Matsumoto
哲夫 松本
Hirotoshi Makita
牧田 博俊
Kumiko Sakai
久美子 酒井
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、リン原子を含有した芳香族コポリエステルを
射出成形して耐熱性1機械的特性及び難燃性に優れたポ
リエステル成形物を製造する方法に関するものである。
(従来の技術) 耐熱性高分子として、芳香族ポリエステルが知られてい
るが、芳香族ポリエステルの大部分は溶融成形が困難な
物質であり、用途が限られている。
近年、溶融成形性に優れたサーモトロピック液晶性ポリ
エステルが注目されており、これを用いた成形物につい
て盛んに研究されている。
しかし、芳香族ポリエステルは難燃性に優れているとさ
れているが、限界酸素指数では高々40程度であって、
十分な難燃性を有しているとは言い難く、また非常に融
点が高く、かつ溶融粘度が高いため、高温、高圧で成形
しなければならない。
そして、高温、高圧での成形は、経済的に不利であるば
かりでなく、高温に長時間暴露するとポリエステルが分
解してガスを発生し、得られる成形物の表面に気泡やシ
ルバーストリークを発生させるという問題があった。
本発明者らは、特定のリン原子を含有した芳香族コポリ
エステルが、良好な溶融成形性とともに高度な難燃性を
有することを見出し、先に提案した(特願昭61−51
691号)。
しかしながら、このコポリエステルを射出成形すると、
成形時にガスが発生して成形物の表面形態を悪くすると
いう問題があった。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明は、リン原子を含有した芳香族コポリエステルを
射出成形して耐熱性1機械的特性及び難燃性に優れたポ
リエステル成形物を製造する方法において、溶融成形時
にガスの発生が少な(1表面形態の良好な成形物を得る
ことのできるポリエステル成形物の製造法を提供しよう
とするものである。
(問題点を解決するための手段) 本発明者らは、上記の目的を達成するために鋭意研究の
結果、末端アセチル基濃度の低いコポリエステルを射出
成形することが有効であることを見出し1本発明に到達
した。
すなわち2本発明の要旨は1次の通りである。
下記構造式(1)で表される単位をポリエステルの主鎖
を構成する全繰り返し単位の5〜95モル%有し、末端
アセチル基濃度が10当ft/106g以下であるコポ
リエステルを射出成形することを特徴とするポリエステ
ル成形物の製造法。
−0−Ar’−0− (Ar’は3価の芳香族基を示す。ただし、芳香環は置
換基を存していてもよい。〕 本発明におけるコポリエステルは、結晶性、非晶性、サ
ーモドロピンク液晶性コポリエステルのいずれでもよい
。透明性を重視するときには、非品性のものがよく、耐
熱性を重視するときには。
融点は高くなるが、結晶性のものがよく、耐熱性と溶融
成形性とを両立させるためには、サーモトロピック液晶
性のものがよい。特に好ましいものは、融点又は流動開
始温度が330℃以下、好ましくは300℃以下のサー
モトロピック液晶性コポリエステルである。
本発明におけるコポリエステルは、ポリエステルの繰り
返し単位に対して、前記構造式(1)で表される単位を
5〜95モル%有するものであり、特に構造式N)で表
される単位を5〜95モル%と下記構造式(n)で表さ
れる単位をポリエステルの主鎖を構成する全繰り返し単
位の95〜5モル%有するものが好ましい。
−0−Ar”−Co −(II) 〔Ar2は2価の芳香族基を示す。〕 上記コポリエステルにおいて、構造式(1)の単位の量
は、ポリエステルの繰り返し単位に対し、5〜95モル
%、好ましくは25〜80モル%、より好ましくは40
〜50モル%が好適である。この単位が多すぎると9強
度が低下し、少なすぎると融点又は流動開始温度が高く
なりすぎる。
構造式(1)におけるAr’としては、ベンゼン環及び
ナフタリン環が最も好ましい。また、構造式(1)にお
いて芳香環の水素原子は炭素原子数1〜20のアルキル
基、アルコキシ基、炭素原子数6〜20のアリール基、
アリロキシ基もしくはハロゲン原子で置換されていても
よい。
構造式(I)の単位は、含リン芳香族ジオール成分から
誘導されるものである。
含リン芳香族ジオールの具体例としては1次の式(a)
〜(d)で表されるものが挙げられるが、特に好ましい
ものは1式(a)及び式(b)で表されるものである。
構造式(1)の単位と実質的に等モルの芳香族ジカルボ
ン酸残基が必要であり、芳香族ジカルボン酸としては、
テレフタル酸(TP^)及びイソフタル酸(IPA)が
好適であり、 TPAとIPAとをモル比で100:0
〜0:100.好ましくはtoo:o〜50 : 50
.最適にはtoo:o〜70 : 30の割合で用いる
のが適当である。
構造式(I)の単位及び芳香族ジカルボン酸残基の単位
とともにコポリエステルを形成する単位は。
構造式(II)の単位が好ましく、具体的には、4−ヒ
ドロキシ安息香酸残基、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ
酸残基のようなオキシカルボン酸残基であり、芳香環は
前述のような置換基を有していてもよい。
構造式(1)の単位と構造式(II)の単位とのモル比
は、95:5〜5:95.好ましくは80 : 20〜
10:90であり、サーモトロピック液晶性とするため
には、50:50〜10 : 90とするのがよい。構
造式(1)の単位が多すぎると強度や耐熱性が低下し、
構造式(n)の単位が多すぎると融点又は流動開始温度
が高(なりすぎるとともに難燃性が低下する。
また、良好な溶融成形性と難燃性を示すコポリエステル
を形成する範囲で、上記以外の成分を共重合してもよく
、そのような共重合成分としては。
レゾルシン、ハイドロキノン、4.4’−ジヒドロキシ
ジフェニル、ナフタル酸、ビス(4−カルボキシフェニ
ル)メタン、ビス(4−カルボキシフェニル)エーテル
、トリメリット酸、エチレングリコール、1,4−ブタ
ンジオール、l、6−ヘキサンジオール、2−ブテン−
1,4−ジオール、シクロヘキサンジメタツール、ペン
タエリスリトール等が挙げられる。
本発明におけるコポリエステルは、極限粘度〔η〕が0
.5以上であることが望ましく、好ましくは0.6〜1
0.0.最適には0.7〜3.0である。 〔η〕がこ
の範囲より小さいと耐熱性を始めとする各種の物理的9
機械的特性値が劣り、一方、 〔η〕がこの範囲より大
きいと溶融粘度が高くなりすぎて流動性が損なわれ、成
形性が悪くなったりする。
また1本発明におけるコポリエステルは、末端アセチル
基濃度が10当!/10’g以下で−なければならない
。末端アセチル基濃度がこれより多いと溶融成形時に揮
発性のガスを発生しやすく、成形物の表面に気泡やシル
バーストリークを発生する。
末端アセチル基濃度が10当ffi/106g以下のコ
ポリエステルを得るには1次に説明するような方法でコ
ポリエステルを製造する際に、無水酢酸が全ヒドロキシ
ル基に対して大過剰とならならないようにし、かつ重縮
合反応時間を比較的長くするとよい。
次に9本発明における特に好ましいコポリエステルの一
例として、前記式(alで示される9、10−ジヒドロ
−9−オキサ−10−(2’、5’−ジヒドロキシフェ
ニル)ホスファフェナントレン−10−オキシド(PH
Q)、 TPA/IPA及び4−ヒドロキシ安息香酸(
48BA)からのコポリエステルについて、その製造法
を説明する。
(イ) TP八へIPAとPHQのジアセテート体(P
HQ−A)と4HBAのアセテート体(4118A−八
)とをヒドロキシル基とカルボキシル基とが当量ないし
カルボキシル基が若干過剰となる量(及び好ましくは同
時に全ヒドロキシル残基の量のO〜0.1倍当量の無水
酢酸)1あるいは(ロ) TP八へIPAとPHQと4
118 Aとをヒドロキシル基とカルボキシル基とが当
量ないしカルボキシル基が若干過剰となる量となる量及
び全ヒドロキシル基量に対して大過剰とならない量の無
水酢酸(好ましくは0.01〜0.10倍当量の無水酢
酸)を反応器に仕込み、不活性雰囲気中で、常圧下。
150℃程度の温度で、約2時間酸交換反応又はエステ
ル化反応させる。その後順次昇温し、酢酸を漏出させた
後、280℃程度に昇温する。次いで、徐々に減圧し、
減圧開始と同時又はフルバキュームに到達後、必要なら
ば昇温し、最終的に通常、280〜330℃の温度で、
1トル未満の高減圧下に数時間〜数十時間、好ましくは
10時間以上溶融相又は固相で重縮合反応させることに
よって2本発明で使用することのできるコポリエステル
を製造することができる。
通常9重縮合反応には触媒が用いられるが9本発明にお
けるコポリエステルの製造には、各種金属化合物及び有
機スルホン酸化合物の中から選ばれた1種以上の化合物
が用いられる。
金属化合物としては、アンチモン、チタン、ゲルマニウ
ム、スズ、亜鉛、アルミニウム、マグネシウム、カルシ
ウム、マンガン、ナトリウム、カリウムあるいはコバル
ト等の化合物が用いられ。
一方、有機スルホン酸化合物としては、スルホサリチル
酸、0−スルホ安息香酸無水物等の化合物が用いられる
。特に好ましいものは、ジメチルスズマレエートや0−
スルホ安息香酸無水物である。
触媒の添加量は、ポリエステルの繰り返し単位1モルに
対し通常0.I X 10−’〜100 X 10−’
モル。
好ましくは0.5X10−’〜50X10−’モル、最
適にはlXl0−’〜l0XIO−’モルカく通光であ
る。
なお、成形に供するコポリエステルは、水分率を110
0pp程度以下とすることが望ましく1通常。
減圧下、150〜200℃の温度で、8〜48時間程度
乾燥して用いられる。
(実施例) 次に、実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明する。
例中の測定法等は1次のとおりである。
極】尤」:いり一 フェノールと四塩化エタンとの等重量混合溶媒中20°
Cで測定した溶液粘度から求めた。
光文久転柊嘉旦拉 示差走査熱量計(パーキンエルマー社製DSC−2型)
を用い、昇温速度20℃/minで測定した。
諺11υ偵」襄旦Ω− フローテスター(島津製作所製CFT −500型)を
用い、直径0,5n+、長さ2.0鶴のダイで、荷重を
100kg / catとし、200℃から、昇温速度
10℃/minで昇温して行き、ポリマーがダイから流
出し始める温度を求めた。
ガ尤む1 JIS K 7201によろ限界酸素指数(LOI)を
求めた。
末端ヱ鬼±酉恭]笈(CH,C0−) 質量分析計(日本電子社製D −300型)を用い、試
料6mgをダイレクトキャピラリー中に挿入し、ダイレ
クトマススペクトルを測定し、アセチル基に由来するm
/e=60のマスフラグメントの強度をマスクロマトグ
ラフィーによって求めた。
アイソ゛ット′−52弓・r#′(■Z)ASTM 0
790規格により、厚さ1/8!ンのノツチ付試験片で
測定した。
典」強度 ASTM 0790規格により、厚さ1 / 8 >’
の試験片で測定した。
■久欠度 457M 0638規格により、厚さ1 / 8 :ン
のダンベル1号型試験片で測定した。
戒爪腹■表皿彰旭 直径100mn、厚さ1 / 8 iンの円板状試験片
を成形し、目視観察により評価した。
G:良好 Sニジルバーストリーク発生 B:気泡発生 なお、各試験片の成形は1日本製鋼社製J−100−3
型射出成形機を用いて、成形温度320℃、金型温度4
0℃、射出圧625 kg / ctAの条件で行った
実施例1〜4 反応装置に、第1表に示したモル比のPIIQ−A。
4HBA−A、AczO(無水酢酸)TPA及びIPA
を仕込み、触媒としてジメチルスズマレエートをポリエ
ステルの繰り返し単位1モルに対し4X10−’モル加
え。
窒素雰囲気中、常圧下、150℃で、2時間攪拌しなが
ら反応させた。その後、窒素雰囲気中、常圧下。
200℃で、2時間さらに280℃で2時間反応させた
その後、フルバキュームまで120分となるような減圧
スケジュールで減圧を開始し、同時に昇温速度20℃/
時間で昇温し、最終的に320℃で、1トル以下の減圧
下で合計15時間、溶融相で重縮合反応させ、サーモト
ロピック液晶性コポリエステルを得た。
得られたコポリエステル及びそれを射出成形した成形物
の特性値を第1表に示す。
比較例1〜4 Ac、Oの仕込み量を多くシ、フルバキュームまで86
分となるような減圧スケジュールで減圧を開始し1合計
8時間、溶融相で重縮合反応させた以外は、実施例1と
同様にしてコポリエステルを製造し、試験した結果を第
1表に示す。
比較例5〜6 PHQ−Aと4HBA−Aの仕込みモル比を第1表のよ
うに変えた以外は実施例1と同様にしてコポリエステル
を製造した。
比較例5のコポリエステルは、融点402℃の結晶性ポ
リエステルで9強度的に極めて脆いものであり、実用に
供することができなかった。
また、比較例6のコポリエステルは、融点が極めて高<
、450°Cから分解し始め、射出成形が困難であった
実施例5〜7 pH旧Aの代わりに第2表に示したリン化合物を用い、
実施例1とほぼ同様にして得たコポリエステルおよびそ
の成形物の特性値を第2表に示す。
なお、第2表における(b)、 (C)及び(dlは、
それぞれ前述の構造式(b)、 (C)及び(d)を有
する有機リン化合物のジアセテート体を示す。
第2表 実施例8〜11 反応装置に、第3表に示したモル比のPHQ、411B
A。
Ac、O,TPA及びIPAを仕込み、触媒としてジメ
チルスズマレエートをポリエステルの繰り返し単位1モ
ルに対し4X10−’モル加え、窒素雰囲気中、常圧下
、150℃で、2時間攪拌しながら反応させた。
その後、窒素雰囲気中、常圧下、200℃で、2時間さ
らに280℃で2時間反応させた。その後、フルバキュ
ームまで120分となるような減圧スケジュールで減圧
を開始し、同時に昇温速度20℃/時間で昇温し、最終
的に320℃で、1)ル以下の減圧下で合計16時間、
溶融相で重縮合反応させ、サーモトロピック液晶性コポ
リエステルを得た。
得られたコポリエステル及びそれを射出成形した成形物
の特性値を第3表に示す。
(発明の効果) 本発明によれば、末端アセチル基濃度の低い特定のリン
原子を含有した芳香族コポリエステルを射出成形するの
で、溶融成形時にガスの発生が少なく1表面形態の良好
な成形物を得ることができる。
そして1本発明で得られる成形物は、側鎖に特定の含リ
ン構造単位を有し、主鎖が主として芳香族基で構成され
たコポリエステルからなるので。
耐熱性1機械的特性及び難燃性に優れており、耐熱性及
び高度の難燃性を要求される用途に使用される成形物と
して好適なものである。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)下記構造式( I )で表される単位をポリエステ
    ルの主鎖を構成する全繰り返し単位の5〜95モル%有
    し、末端アセチル基濃度が10当量/10^6g以下で
    あるコポリエステルを射出成形することを特徴とするポ
    リエステル成形物の製造法。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔Ar^1は3価の芳香族基を示す。ただし、芳香環は
    置換基を有していてもよい。〕
  2. (2)コポリエステルがサーモトロピック液晶性コポリ
    エステルである特許請求の範囲第1項記載の方法。
  3. (3)コポリエステルが下記構造式(II)で表される単
    位をポリエステルの主鎖を構成する全繰り返し単単の9
    5〜5モル%有するものである特許請求の範囲第1項記
    載の方法。 −O−Ar^2−CO−(II) 〔Ar^2は2価の芳香族基を示す。〕
  4. (4)構造式( I )で表される単位が下記構造式で表
    されるものである特許請求の範囲第1項記載の方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼
  5. (5)構造式( I )で表される単位が下記構造式で表
    されるものである特許請求の範囲第1項記載の方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼
  6. (6)構造式(II)で表される単位が4−ヒドロキシ安
    息香酸残基である特許請求の範囲第3項記載の方法。
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