JPS63124545A - 板体ロ−デイング装置 - Google Patents

板体ロ−デイング装置

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Publication number
JPS63124545A
JPS63124545A JP61270979A JP27097986A JPS63124545A JP S63124545 A JPS63124545 A JP S63124545A JP 61270979 A JP61270979 A JP 61270979A JP 27097986 A JP27097986 A JP 27097986A JP S63124545 A JPS63124545 A JP S63124545A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plate
mask substrate
holding
opening
mask
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61270979A
Other languages
English (en)
Inventor
Nobuyuki Iizuka
飯塚 信行
Tsunemi Fukushima
福島 常美
Tsutomu Hongo
本郷 勉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Electronics Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Priority to JP61270979A priority Critical patent/JPS63124545A/ja
Publication of JPS63124545A publication Critical patent/JPS63124545A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Library & Information Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Warehouses Or Storage Devices (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野] この発明は、板体を所定位置に搬入し位置決め保持する
ための板体ローディング装置に関する。
[従来の技術] この発明に関連するものとして、゛11導体集積回路の
ホトリソグラフィ工程などに用いられるホトマスクの基
板(マスクブランクス)のピンホール、付着異物などの
欠陥検査を行うマスク基板表面検査機がある。
従来のマスク基板表面検査機においてマスク基板を検査
位置ヘローディングするための装置について説明すれば
、検査すべきマスク基板は、基板搬送機構の水平の爪部
材によって挟持されつつ検査ステージへ搬送され、検査
ステージの基板保持台に設けられたエレベータに−E[
位置決めされて載置される。次に、このエレベータが基
板保持台の基板保持面より下側にド降し、マスク基板は
その縁部において基板保持面に受けられ保持され地。
[解決しようとする問題点コ このように、従来の基板ローディング装置においては、
基板保持台にマスク基板を中継するためのエレベータを
備えている。このエレベータが必要となった理由は、基
板搬送機構の爪部材が基板保持台に当たるため、マスク
基板を直接的に基板保持台に渡すことが不可能であった
からである。
このようなエレベータの存在は、基板保持台の構造の複
雑化を招いている。また、エレベータは昇降中に発塵す
るため、検査ステージ内の雰囲気の汚染源となっている
さらに、エレベータに位置決めされたマスク基板が、エ
レベータの下降中に移動しやすく、マスク基板の最終位
置決め精度が低下しやすい。
[発明の目的] したがって、この発明の[1的は、前記のような従来の
問題点を解消し、マスク基板表面検査装置におけるマス
ク基板のローディングなどの用途に好適な板体ローディ
ング装置を提供することにある。
[問題点を解決するための手段コ この[1的を達成するためになされた、この発明による
板体ローディング装置は、板体を保持するための板体保
持台および板体を保持しつつ搬送して前記保持台に位置
決めして載置するための板体搬送機構を具備するが、前
記板体搬送機構は、開閉可能な少なくとも一対の開閉部
材に下向きに突設した保合部材により板体のエツジを挟
持する構成とされ、また、前記板体保持台は、板体の端
部を受けるための面部に板体保持用の負圧吸着孔を有し
かつ前記係合部材に対する逃げ部を有する構成とされる
[作用] この発明による板体ローディング装置は前記のような構
成であるから、次のようなローディング動作が可能であ
る。
まず、開閉部材を開状態にすることにより、係合部材に
よって板体のエツジを挟持させる。その状態で開閉部材
を板体保持台のに方に移動させて水平位置の位置決めを
行い、降下させることにより、板体を板体保持台の板体
端部受は面部に直接的に位置決めして載置する。そして
、板体を挟持したまま負圧吸着孔によって板体を負圧吸
着させたのち、開閉部材を開状態として係合部材による
板体の挟持を解除し、その後、開閉部材を上昇して板体
保持台から退避させる。
このように、この発明によれば、従来のような中継用エ
レベータをυト除できるため、板体保持台の構造を簡略
化することができ、また板体保持台の雰囲気の汚染を防
止できる。
さらに、板体は係合部材によって挟持された状態で板体
保持台に位置決め載置されて、負圧吸着により保持され
、その後に板体の挟持が解除される。したがって、中継
エレベータを介在させる従来装置に比べ、板体の位置決
め精度を向上できる。
[実施例] 以下、図面を参照し、この発明の一実施例について説明
する。
第1図は、この発明による板体ローディング装置の一実
施例を簡略化して示す平面図である。なお、この実施例
はマスク基板表面検査機におけるマスク基板の検査ステ
ージへのローディングを行うものであるが、これは飽く
まで一例である。
10は検査ステージのマスク基板保持台(板体保持台)
である。12はマスク基板搬送機構(板体搬送機構)で
あり、これはマスク基板をマスク基板供給台14から受
は取って検査ステージへ搬送し、そのマスク基板をマス
ク基板保持台10に位置決めして渡すものである。
まず、マスク基板搬送機構12について説明する。18
.18は開閉アーム(開閉部材)であり、それぞれの先
端部下側に、一対のローラ(係合部材)20が回転可能
に取り付けられている。
第2図は、そのローラ20の形状と取り付は構造を示す
部分側面図である。図示のように、ローラ20は、長さ
方向の中央部から両端部へ向かって直径が徐々に増大す
るような形状ものであり、その周面にマスク基板のエツ
ジが係合させられる。
このようなローラ形状は、様々な厚さのマスク基板を水
平に挟持できる利点がある。
また、各ローラ20は、軸22によって開閉アーム18
(18)に回転可能かつ上ド移動可能に取り付けられて
おり、スプリング24によって−ド向きに付勢されてい
る。
「拝び第1図に戻り、26は開閉アーム16,18の駆
動機構である。この駆動機構26により、開閉アームt
e、tsを矢線17の方向に開閉させることができ、ま
た5C−降させることができる。
駆動機構26は移動台28に固定されている。
この移動台28は上下一対のガイド軸30に沿って矢線
32の方向に水平移動可能である。
34は移動台28を駆動するためのモータである。この
モータ34によって回転駆動されるプーリ36と図示し
ないプーリとの間にワイヤ40が掛けられており、この
ワイヤ36の途中に前記移動台28が固定されている。
次に、マスク基板保持台10について説明する。
50はマスク基板保持板であり、移動ステージ52に固
定されている。
このマスク基板保持板50の内縁部58はマスク基板の
厚さにほぼ等しい高さだけ低い而となっており、そのコ
ーナ部にマスク基板を受けるための面部58が設けられ
ている。この面部58に、負圧吸着孔60が開口されて
いる。
なお、この負圧吸着孔60を通じてエアーを吸引するた
めのエアー通路が存在するが、これは図中ボされていな
い。
また、マスク基板保持板50には、前記マスク基板搬送
機構12のローラ20に対する逃げ部として、マスク基
板保持板50の内縁に開放した切欠き部62が設けられ
ている。
次に、マスク基板のローラ動作を説明する。マスク基板
搬送機構12は図示の位置において、その開閉アーム1
8.18が開状態にて降下させられ、マスク基板供給台
14上のマスク基板(鎖線70)とローラ20の中心と
の高さが合わせられる。
開閉アーム16.18が閉駆動され、最終的に開閉アー
ム16.18のローラ20が図示のようにマスク基板(
70)の対向した二つのコーナ部のエツジに係合し、マ
スク基板はX、Y両方向について位置決めされて挟持さ
れる。
なお、従来のマスク基板搬送機構においては、マスク基
板の対向する2辺のほぼ中央部を矢線32の方向に移動
する水平の爪部材で挟持しているため、挟持されたマス
ク基板の矢線54の方向の位置ずれが起こりやすいとい
う問題があった。
さて、そのようにしてマスク基板を挟持したマスク基板
搬送機構12は図中右側へ移動し、挟持されているマス
ク基板が検査ステージ内に鎖線72に示すように位置決
めされる。
次に開閉アーム16.18が下降させられ、保持中のマ
スク基板の各コーナ部がマスク基板保持板50の面部6
0に載置される。この時、ローラ20の逃げ部として切
欠き部62が設けられており、ローラ20はマスク基板
保持板50に当たらない。
この状態で、負圧吸着孔60から面部58とマスク基板
との間のエアーが抜かれてマスク基板はマスク基板保持
板50に保持される。
マスク基板が保持された状態で、マスク基板搬送機構1
2の開閉アーム16.18が開駆動されてローラ20が
マスク基板から離れ、その挟持が解かれる。
このように、マスク基板は挟持された状態でマスク基板
保持板50に負圧吸着されるため、マスク基板の位置ず
れが起こらず、高精度な位置決め保持が可能である。
なお、開閉アームte、isの開駆動中にローラ20は
外側に移動するが、その移動中にローラ20がマスク基
板保持板50に当たらないように切欠き部62の形状が
決められている。
マスク基板をマスク基板保持台10に渡したマスク基板
搬送機構12は図中左側へ移動し、図示の位置に停止す
る。
なお、この実施例に関連したマスク基板表面検査機にお
いては、マスク基板搬送機構12と同様のマスク基板搬
送機構が別にあり、このマスク基板搬送機構によって@
査を完了したマスク基板がマスク基板保持台lOから取
り1−げられて、図示しないマスク基板受は台に搬出さ
れる。
以−L1一実施例について説明したが、この発明はそれ
だけに限定されるものではな(、その認旨を逸脱しない
範囲内で様々に変形して実施し得るものである。
また、この発明は、マスク基板以外の板体の同様なロー
ディングを行うための板体ローディング装置にも同様に
適用できるものである。
[発明の効果] 以上説明したように、この発明によれば、板体搬送機構
は、開閉可能な少なくとも一対の開閉部材に下向きに突
設した保合部材により板体のエツジを挟持する構成とさ
れ、また、板体保持台は、板体の端部を受けるための面
部に板体保持用の負圧吸着孔を有しかつ前記係合部材に
対する逃げ部を有する構成とされるものであるから、従
来のような中継用エレベータを排除し、板体保持台の構
造簡略化および板体保持台の雰囲気の汚染防ILを達成
でき、さらに、板体を高精度に位置決めして保持できる
などの効果を得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明の一実施例を示す概略斜視図、第2
図はローラの形状および取り付は構造を示す部分側面図
である。 10・・・マスク基板保持台、12・・・マスク基板搬
送機構、16.18・・・開閉アーム、20・・・ロー
ラ(係合部)、50・・・マスク基板保持板、58・・
・面部、60・・・負圧吸着孔、62・・・逃げ用切欠
き部。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)板体を保持するための板体保持台および板体を保
    持しつつ搬送して前記保持台に位置決めして載置するた
    めの板体搬送機構を具備し、前記板体搬送機構は、開閉
    可能な少なくとも一対の開閉部材に下向きに突設した係
    合部材により板体のエッジを挟持するようにしてなり、
    前記板体保持台は、板体の端部を受けるための面部に板
    体保持用の負圧吸着孔を有しかつ前記係合部材に対する
    逃げ部を有することを特徴とする板体ローディング装置
  2. (2)板体搬送機構は、係合部材を板体の対向する二つ
    のコーナ部のそれぞれの二つの辺のエッジに係合させる
    ことにより当該板体を挟持するようにしてなる特許請求
    の範囲第1項に記載の板体ローディング装置。
JP61270979A 1986-11-14 1986-11-14 板体ロ−デイング装置 Pending JPS63124545A (ja)

Priority Applications (1)

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JP61270979A JPS63124545A (ja) 1986-11-14 1986-11-14 板体ロ−デイング装置

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JP61270979A JPS63124545A (ja) 1986-11-14 1986-11-14 板体ロ−デイング装置

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JPS63124545A true JPS63124545A (ja) 1988-05-28

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JP61270979A Pending JPS63124545A (ja) 1986-11-14 1986-11-14 板体ロ−デイング装置

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1114957A (ja) * 1997-06-23 1999-01-22 Micronics Japan Co Ltd 液晶パネルの検査装置
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