JPH0748004A - 基板保持容器およびこの容器を用いる基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板の汚染を確実に防止する。 【構成】 基板保持容器２０は、ベース２２の上面に基
板Ｗを平行に並べて並列に保持するための一対の基板ホ
ルダ２４を固定して備える。この基板ホルダ２４には２
５個の基板整列収納溝２６が平行に形成されており、各
溝に基板Ｗが起立整列状態で並列に保持される。ベース
２２に装着されるカバー２８は、カバー固定腕３６によ
り下方に押し付けられ、シール材２７とシール舌片３０
によりベース２２に対して気密に固定される。ベース２
２には貫通穴５２，５４があけられており、貫通穴５２
には不活性ガス導入用ブロック５６が、貫通穴５４には
エアー排出用ブロック５８がそれぞれ取り付けられてい
る。そして、この不活性ガス導入用ブロック５６から加
圧された不活性ガスが導入されて空気と置換される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板，ガラス基
板等の基板（以下、単に「基板」という）を複数枚保持
する基板保持容器とこの基板保持容器に保持された複数
の基板を処理する基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の基板処理装置では、基板
の保管効率を向上させるために、例えば２５枚程度の枚
数の基板をカセットに収納することが行なわれている。
また、一方で、高集積化に伴い基板に形成する酸化膜の
薄膜化が進み、当該酸化膜の形成のために基板表面に高
い清浄性（汚染防止）が求められている。具体的には、
基板表面への微細粒子や水蒸気等の付着は勿論、当該表
面における自然酸化膜の成長を防止することが不可欠と
なっている。このため、カセット自体をボックスに収納
して外気と基板との接触機会を減らし、汚染防止が図ら
れている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
基板処理装置では、外気と基板との接触機会を減らして
いるとはいえ、ボックス内の空気と基板との接触は避け
られない。このため、ボックス内の空気中の微細粒子や
水蒸気が基板表面に付着したり、空気中の酸素により基
板表面に自然酸化膜が成長することがあった。つまり、
単にカセット自体をボックスに収納しても基板表面が僅
かに汚染され、基板の汚染を十分に防止することができ
ないことがあった。

【０００４】本発明は、上記問題点を解決するためにな
され、基板の汚染を確実に防止することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めになされた請求項１記載の基板保持容器は、複数の基
板を保持する基板保持容器であって、ベースと、該ベー
スに設けられ、前記複数の基板を平行に並べて並列に保
持する基板保持部材と、前記ベースに装着されて前記並
列保持された複数の基板を覆い、前記ベースから取り外
されたときには前記並列保持された複数の基板の一括し
た取り出し方向を開放するカバーと、該カバーが前記ベ
ースに装着されたとき、前記カバーと前記ベースとを気
密にシールして係合するカバー係合手段と、該係合した
前記カバーと前記ベースとで形成された空間と容器外部
とを連通するよう前記ベース又は前記カバーに設けられ
た二つの連通路と、該二つの連通路の各々に当該連通路
を開閉するよう設けられた第１、第２の連通路開閉手段
とを備えることをその要旨とする。

【０００６】また、請求項２記載の基板処理装置は、請
求項１記載の基板保持容器の保持する複数の基板を処理
する基板処理装置であって、前記基板保持容器がセット
される容器セットステーションと、該容器セットステー
ションに設けられ、該セットされた基板保持容器の前記
第１の連通路開閉手段に気密に係合する連通路係合ポー
トと、該連通路係合ポートから不活性ガスを圧送する不
活性ガス圧送手段とを備えることをその要旨とする。

【０００７】更に、請求項３記載の基板処理装置は、請
求項１記載の基板保持容器を用いて基板を処理する基板
処理装置であって、前記基板保持容器がセットされる容
器セットステーションと、前記基板保持容器内の複数の
基板を一括して処理する基板処理ステーションとを備
え、前記容器セットステーションに設けられ、前記セッ
トされた基板保持容器の前記カバー係合手段を、前記カ
バーと前記ベースとの係合を解除するように作動する係
合解除手段と、該係合が解除されたカバーを前記ベース
に対して着脱するカバー着脱手段と、該カバー着脱手段
により前記カバーが離脱されたベースにおける前記複数
の基板を前記取り出し方向から一括して把持して前記基
板保持部材から取り出し、該取り出した複数の基板を前
記基板処理ステーションに搬送する搬送手段とを備える
ことをその要旨とする。

【０００８】

【作用】請求項１記載の基板処理容器では、ベースに設
けられた基板保持部材により、複数の基板を平行に並べ
て並列に保持する。こうして並列保持された複数の基板
は、この基板保持部材から一括して取り出し可能であ
る。ベースには、基板保持部材に並列保持された複数の
基板を覆うカバーが装着され、このカバーがベースから
取り外されると、基板の一括した取り出し方向が開放さ
れこの方向から複数の基板が一括して取り出されること
になる。

【０００９】一方、カバーがベースに装着されると、カ
バー係合手段によりカバーとベースとは気密にシールし
て係合され、カバーとベースとで複数の基板が収納され
ている空間が形成される。この空間は、ベース又はカバ
ーに設けられた二つの連通路を介して容器外部と連通し
ている。そして、一方の連通路には当該連通路を開閉す
る第１の連通路開閉手段が、他方の連通路には当該連通
路を開閉する第２の連通路開閉手段がそれぞれ設けられ
ている。

【００１０】このため、容器外部から窒素ガス等の不活
性ガスの加圧気体が一方の連通路に導入されると、第１
の連通路開閉手段を経てこの不活性ガスがカバーとベー
スとで形成された空間内に充満し、当該空間内に存在し
ていた空気は第２の連通路開閉手段を経て容器外部に流
出する。よって、カバーとベースとで形成され空間は窒
素ガス等の不活性ガスで置換され、複数の基板は不活性
ガスの環境下で当該空間に収納されることになる。な
お、第２の連通路開閉手段は、第１の連通路開閉手段に
連動して連通路を開閉したり、所定圧力になると連通路
を開放したりすればよい。

【００１１】請求項２記載の基板処理装置では、容器セ
ットステーションに上記した基板保持容器がセットされ
ると、容器セットステーションの連通路係合ポートが基
板保持容器の第１の連通路開閉手段に気密に係合する。
そして、この連通路係合ポートからは、不活性ガス圧送
手段により不活性ガスが圧送されるので、基板保持容器
内の空気は圧送された不活性ガスに置換される。

【００１２】請求項３記載の基板処理装置では、容器セ
ットステーションに上記した基板保持容器がセットされ
ると、容器セットステーションの係合解除手段が基板保
持容器のカバー係合手段を作動させ、カバーとベースと
の係合を解除する。よって、カバーはベースから取り外
し可能となり、カバー着脱手段によりカバーはベースか
ら離脱される。このため、基板保持部材に並列保持され
た複数の基板の一括した取り出し方向が開放される。そ
して、搬送手段により、複数の基板はこの開放された取
り出し方向から一括して把持されて基板保持部材から取
り出され、基板処理ステーションに搬送される。その
後、基板処理ステーションにて複数の基板が一括して処
理される。

【００１３】

【実施例】次に、本発明に係る基板保持容器およびこの
容器を用いる基板処理装置の好適な実施例について、図
面に基づき説明する。まず、実施例の基板保持容器につ
いて説明する。

【００１４】図１の平面図およびその２−２線断面図で
ある図２，３−３線断面図である図３に示すように、実
施例の基板保持容器２０は、後述の基板処理装置に載置
されるベース２２の上面に、複数の基板Ｗを平行に並べ
て並列に保持するための一対の基板ホルダ２４を固定し
て備える。基板ホルダ２４は、基板Ｗの径に合わせて形
成された２５個の基板整列収納溝２６を平行に備え、こ
の各基板整列収納溝２６により、２５枚の基板Ｗを起立
整列状態で並列に保持する。そして、この基板整列収納
溝２６に並列保持された２５枚の基板Ｗは、上方に持ち
上げられることで一括して取り出し可能である。また、
ベース２２の上面には、その周囲に亘ってゴム製のシー
ル材２７が下半分を埋設して備え付けられている。

【００１５】このベース２２には、並列保持された複数
の基板Ｗを覆うカバー２８が装着される。カバー２８
は、透光性の樹脂、例えばアクリル樹脂を用いて成形さ
れており、その内部にはシール舌片３０を内部全周に亘
り備える。よって、カバー２８がベース２２に装着され
ると、図２，図３に示すように、シール舌片３０の下面
がシール材２７に当接する。そして、このカバー２８が
ベース２２から取り外されると、ベース２２の上方は開
放され、上記したように２５枚の基板Ｗの一括した取り
出しが可能となる。

【００１６】ベース２２は図示するように中空体であ
り、その中空部には、ベース２２に装着されたカバー２
８を下方に押し付けて、両者を気密にシールするととも
にカバー２８を固定するカバー係合機構３２が組み込ま
れている。このカバー係合機構３２は、ベース２２の上
板および下板に回動自在に支持された回転体３４に、一
対のカバー固定腕３６をピン３８により回転自在に組み
付けて構成される。カバー固定腕３６の先端はテーパと
なっており、当該テーパ部は、カバー固定腕３６が外側
に押し出されると、カバー２８の押し付け窓４０および
ベース２２の窓４２を貫通し、カバー２８の押し付け窓
４０の下縁に当接する。

【００１７】図２に示すように、ベース２２の窓４２の
上縁にはピン４４が下向きに突出して固定されており、
カバー固定腕３６には、図２の４−４線拡大断面図であ
る図４に示すように、このピン４４が入り込むキー溝４
６が形成されている。このため、図２に示すように、回
転体３４下端の回転伝達片４８に基板処理装置の回転チ
ャック５０が係合して図４中に矢印Ａで示す方向に回転
体３４が回転すると、各カバー固定腕３６は、図中二点
鎖線で示すように、ピン４４とキー溝４６にズレが規制
されつつ内側に引き込まれる。一方、回転体３４が矢印
Ａと反対方向に回転すると、各カバー固定腕３６は、図
中二点鎖線で示す位置から実線で示す位置まで外側に押
し出される。このように各カバー固定腕３６が外側に押
し出されると、カバー固定腕３６はその先端のテーパ部
を押し付け窓４０の下縁に当てながら前進するので、カ
バー２８は下方に押し付けられる。よって、カバー２８
のシール舌片３０とベース２２のシール材２７とが気密
にシールされるので、基板Ｗは気密な空間（基板収納空
間３１）に基板ホルダ２４を介して収納保持されること
になる。また、各カバー固定腕３６が内側に引き込まれ
ると、カバー固定腕３６はカバー２８の押し付け窓４０
から退避するので、カバー２８はフリーとなりベース２
２から離脱可能の状態となる。

【００１８】ベース２２の上板には、図１，図３に示す
ように、貫通穴５２，５４があけられており、貫通穴５
２には不活性ガス導入用ブロック５６が、貫通穴５４に
はエアー排出用ブロック５８がそれぞれ取り付けられて
いる。不活性ガス導入用ブロック５６には、加圧された
不活性ガスが導入されると貫通穴５２を開放する逆止弁
６０が組み込まれている。一方、エアー排出用ブロック
５８には、基板収納空間３１内の圧力が所定圧力となる
と貫通穴５４を開放する逆止弁６２が組み込まれてい
る。このため、図３に示すように、不活性ガス導入用ブ
ロック５６に基板処理装置の不活性ガス（窒素ガス）導
入ポート６４が気密に係合し、基板処理装置の窒素ガス
タンクから当該ポートを経て窒素ガスが圧送されると、
基板収納空間３１には窒素ガスが導入される。そして、
窒素ガスが導入されて基板収納空間３１内の圧力が所定
圧力となると、貫通穴５４および逆止弁６２を経て空気
が外部に排出され基板収納空間３１は窒素ガスに置換さ
れる。なお、この際エアー排出用ブロック５８には基板
処理装置のエアー排出ポート６６が気密に係合してお
り、このエアー排出ポート６６を経て空気が容器外部に
排出される。

【００１９】この他、基板保持容器２０のベース２２の
各コーナー下面には、基板処理装置への位置決めおよび
固定のための脚６８が、ベース２２の各コーナー側面に
は、基板保持容器２０の搬送のためのハンガ７０が、そ
れぞれ設けられている。

【００２０】次に、上記した基板保持容器２０を用いる
実施例の基板処理装置について説明する。実施例の基板
処理装置１００は、その概略平面図である図５に示すよ
うに、装置の入り口側および出口側に基板保持容器２０
の載置ステーション１０２を有し、両載置ステーション
１０２間に基板Ｗが取り出された基板保持容器２０を洗
浄したりするための容器処理ステーション１０４を備え
る。また、基板処理装置１００は、載置ステーション１
０２，容器処理ステーション１０４の並びに沿って基板
Ｗを一括処理する基板処理ステーション１０６，１０
８，１１０を有する。この各基板処理ステーションは、
基板の洗浄，乾燥等を行なうようそれぞれ構成されてい
る。

【００２１】また、基板処理装置１００は、装置の左右
に次のような搬送機器を備える。装置左側には、基板保
持容器２０のカバー２８をその両側から挟持し持ち上げ
るカバー搬送機器１１２と、基板保持容器２０のベース
２２をハンガ７０に係合して持ち上げるベース搬送機器
１１４が設置されている。一方、装置右側には、基板保
持容器２０に収納保持されている２５枚の基板Ｗを一括
して把持しこれを持ち上げる基板搬送機器２００が設置
されている。これら各搬送機器は、上記の両載置ステー
ション１０２の間に亘り移動できるよう、また、両載置
ステーション１０２間の各ステーションに停止できるよ
う構成されている。

【００２２】カバー搬送機器１１２は、基板処理装置１
００の概略側面図である図６およびカバー２８等の持ち
上げの様子を説明するための図７に示すように、カバー
２８の側面に吸着する吸着具１１６を備え、カバー２８
の側面に対して進退可能に、且つ、カバー２８に吸着し
たまま上下動可能に構成されている。このため、載置ス
テーション１０２に基板保持容器２０が載置されると、
このカバー搬送機器１１２により、カバー２８はベース
２２から着脱される。また、カバー２８はカバー搬送機
器１１２により容器処理ステーション１０４や他方の載
置ステーション１０２に搬送される。なお、このカバー
搬送機器１１２は、基板搬送機器２００による基板Ｗの
持ち上げに支障のない高さまで、カバー２８を吸着した
まま上昇できるよう構成されている。

【００２３】ベース搬送機器１１４は、図５に示すよう
に、通常は基板保持容器２０の載置ステーション１０２
への載置に支障のないよう退避しており、この位置から
基板保持容器２０に対して進退可能に、且つ、上下動可
能に構成されている。また、カバー搬送機器１１２は、
基板保持容器２０側に前進すると、図７に示すように基
板保持容器２０のハンガ７０に係合する。よって、載置
ステーション１０２に載置された基板保持容器２０のベ
ース２２は、このベース搬送機器１１４により持ち上げ
られ容器処理ステーション１０４や他方の載置ステーシ
ョン１０２に搬送される。なお、このベース搬送機器１
１４は、ベース２２の脚６８が載置ステーション１０２
から外れる高さまで上昇できるよう構成されている。ま
た、ベース搬送機器１１４は、載置ステーション１０２
まで搬送したベース２２を載置ステーション１０２に載
置する。

【００２４】基板搬送機器２００は、図５に示すよう
に、通常は基板処理ステーション１０６側に位置してお
り、この位置から基板保持容器２０に対して進退可能
に、且つ、上下動可能に構成されている。また、基板搬
送機器２００は、図８に示すように、走行部本体２０２
と、この走行部本体２０２からほぼ水平に突出した左右
１対のアーム回転軸２０４と、このアーム回転軸２０４
を回転させる軸回転手段２０６と、上記各アーム回転軸
２０４に固定されかつ基板Ｗを起立整列状態で一括保持
する基板チャック２１０と、を備えている。１対の基板
チャック２１０は、１対の対向面２１２と、その裏面２
１４同士とに、それぞれ基板保持容器２０の基板ホルダ
２４が有する基板整列収納溝２６と同一ピッチの基板整
列保持溝２１６，２１８を備えている。なお、基板搬送
機器２００は、基板Ｗを保持する際には図中二点鎖線で
示すように左右の基板チャック２１０が垂直な姿勢で基
板保持容器２０に対して前進する。

【００２５】上記した基板搬送機器２００による基板Ｗ
の一括保持は、次のようにして行なわれる。つまり、左
右の基板チャック２１０が垂直な姿勢で基板保持容器２
０に対して前進すると、軸回転手段２０６が駆動してア
ーム回転軸２０４を介して基板チャック２１０が回転す
る。この基板チャック２１０の回転により基板整列保持
溝２１６により２５枚の基板Ｗが一括して保持される。
その後、この状態で基板搬送機器２００が上昇するの
で、２５枚の基板Ｗは、基板ホルダ２４から持ち上げら
れ、基板搬送機器２００が基板処理ステーション１０６
側に退避することで基板保持容器２０から取り出され
る。そして、２５枚の基板Ｗは、基板搬送機器２００に
より各処理ステーションに搬送され、一括して処理され
る。なお、基板搬送機器２００は、基板チャック２１０
の１対の対向面２１２同士を対向する姿勢で、又は、裏
面２１４同士を対向する姿勢でそれぞれ基板Ｗを一括し
て保持することができる。

【００２６】基板処理装置１００の両載置ステーション
１０２には、基板保持容器２０が当該ステーションに載
置されると、この基板保持容器２０のカバー係合機構３
２における回転伝達片４８に係合する回転チャック５０
が設けられている。そして、基板保持容器２０が載置ス
テーション１０２にセットされると、図示しない電子制
御装置からの制御信号に基づいて回転チャック５０が作
動して、カバー係合機構３２のカバー固定腕３６はカバ
ー２８の解除方向に駆動する。これにより、カバー搬送
機器１１２によるカバー２８の離脱および搬送が可能と
なる。また、回転チャック５０が反対方向に作動する
と、カバー固定腕３６によりカバー２８がベース２２に
係合・固定される。

【００２７】更に、両載置ステーション１０２には、当
該ステーションに載置された基板保持容器２０の不活性
ガス導入用ブロック５６，エアー排出用ブロック５８に
それぞれ係合する不活性ガス導入ポート６４とエアー排
出ポート６６が設けられている。この不活性ガス導入ポ
ート６４およびエアー排出ポート６６は、図３に示すよ
うに、上下に進退駆動できるよう構成されており、基板
保持容器２０が当該ステーションに載置されると前進し
て各ブロックに気密に係合する。そして、不活性ガス導
入ポート６４からは窒素ガスが圧送される。

【００２８】この他、両載置ステーション１０２には、
図２に示すように、このステーションに載置された基板
保持容器２０のベース２２における脚６８を横方向から
押圧し、ベース２２を介して基板保持容器２０を固定す
る容器固定機構１２０が設けられている。

【００２９】以上説明したように本実施例の基板保持容
器２０では、カバー２８とベース２２とで形成された基
板収納空間３１に複数（２５枚）の基板Ｗを平行に起立
状態で保持し、この基板収納空間３１内の空気を、貫通
穴５２，逆止弁６０および５４，逆止弁６２を介して不
活性ガス（窒素ガス）に置換することができる。よっ
て、この基板保持容器２０によれば、基板表面への微細
粒子や水蒸気等の付着は勿論、当該表面における自然酸
化膜の成長を確実に防止して基板Ｗの汚染を確実に回避
することができる。

【００３０】しかも、基板保持容器２０によれば、カバ
ー係合機構３２における回転体３４を回動するだけで容
易にカバー２８をベース２２に対して着脱できる。ま
た、カバー２８の着脱に関与するカバー固定腕３６の移
動軌跡をピン４４およびキー溝４６により規制したの
で、確実にカバー固定腕３６を押し付け窓４０に入れ込
み係合不良等を回避することができる。

【００３１】一方、この基板保持容器２０が載置される
基板処理装置１００では、載置ステーション１０２に基
板保持容器２０が載置されると、この基板保持容器２０
の基板収納空間３１内の空気を不活性ガス（窒素ガス）
に容易に置換することできる。このため、実施例の基板
処理装置１００によれば、この処理装置における基板処
理の前後において、簡単且つ確実に基板の汚染を防止す
ることができる。

【００３２】更に、基板収納空間３１へ不活性ガス（窒
素ガス）を導入する際に、エアー排出用ブロック５８に
エアー排出ポート６６を係合し当該ポートを介して基板
収納空間３１内の空気を外部に排出する。このため、当
該空気を回収することができるので、実施例の基板処理
装置１００によれば、空気と一緒に不用意に不活性ガス
（窒素ガス）を基板保持容器２０周辺に排出せずに作業
環境を好適に維持することができる。

【００３３】また、実施例の基板処理装置１００では、
載置ステーション１０２に基板保持容器２０が載置され
ると、回転チャック５０によりカバー固定腕３６を駆動
してカバー２８とベース２２との係合を解除し、カバー
搬送機器１１２によりカバー２８をベース２２から取り
外す。その後、複数（２５枚）の基板Ｗを基板搬送機器
２００により一括して把持して基板ホルダ２４から取り
出して基板処理ステーション１０６等に搬送し、一括し
て処理する。このため、この基板処理装置１００によれ
ば、基板保持容器２０において不活性ガス環境下にあっ
た２５枚の基板Ｗを速やかに取り出して一括処理するこ
とができるので、外気中の酸素に基板Ｗが晒される時間
を短くして処理前に基板Ｗを不用意に酸化させてしまう
ことを回避することができる。

【００３４】以上本発明の一実施例について説明した
が、本発明はこの様な実施例になんら限定されるもので
はなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々な
る態様で実施し得ることは勿論である。

【００３５】例えば、本実施例では、基板収納空間３１
内の空気を不活性ガスに置換するために不活性ガス導入
用ブロック５６とエアー排出用ブロック５８とを別々に
設けたが、単一のブロックに不活性ガス置換用の機構を
設けることもできる。具体的には、図９に示すように、
分岐した二つの連通路を有し一方の連通路には不活性ガ
ス導入用の逆止弁を他方の連通路には排気用の逆止弁を
組み込んだ吸排気ブロック８０をベース２２に設け、基
板処理装置１００には、この吸排気ブロック８０に気密
に係合する吸排気ポート８２を設ける。更に、この吸排
気ポート８２を電磁弁８４を介して窒素ガス圧送ポンプ
８６，真空吸引ポンプ８８および大気開放管９０と接続
し、電磁弁８４により吸排気ポート８２との連通を切り
換えるよう構成する。そして、吸排気ブロック８０に吸
排気ポート８２を気密に係合し、まず真空吸引ポンプ８
８により基板収納空間３１内の空気を吸引する。その
後、電磁弁８４により吸排気ポート８２を窒素ガス圧送
ポンプ８６に切り換えて連通し、当該ポンプから窒素ガ
スを圧送する。このようにしても、基板収納空間３１内
の空気を窒素ガスに置換することができる。

【００３６】

【発明の効果】以上詳述したように請求項１記載の基板
処理容器では、カバーとベースとで形成された空間に複
数の基板を平行に並べて並列に保持し、この空間内の空
気を不活性ガスに置換することができる。よって、請求
項１記載の基板処理容器によれば、基板表面への微細粒
子や水蒸気等の付着は勿論、当該表面における自然酸化
膜の成長を確実に防止して基板の汚染を確実に回避する
ことができる。

【００３７】また、請求項２記載の基板処理装置では、
容器セットステーションに基板保持容器がセットされる
と、この基板保持容器内の空気を不活性ガスに容易に置
換することができる。よって、請求項２記載の基板処理
装置によれば、当該処理装置における基板処理の前後に
おいて、簡単且つ確実に基板の汚染を防止することがで
きる。

【００３８】更に、請求項３記載の基板処理装置では、
容器セットステーションに基板保持容器がセットされる
と、カバーとベースとの係合を解除してカバーをベース
から取り外す。その後、複数の基板を一括して把持して
取り出して基板処理ステーションに搬送し、一括して処
理する。よって、請求項３記載の基板処理装置によれ
ば、基板保持容器内において不活性ガス環境下にある複
数の基板を速やかに一括処理することができるので、外
気中の酸素に基板が晒される時間を短くして処理前に基
板を不用意に酸化させてしまうことを回避することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例の基板保持容器の平面図。

【図２】図１の２−２線断面図。

【図３】図１の３−３線断面図。

【図４】図２の４−４線拡大断面図。

【図５】実施例の基板処理装置１００の概略平面図。

【図６】基板処理装置１００の概略側面図。

【図７】カバー２８等の持ち上げの様子を説明するため
の説明図。

【図８】基板搬送機器２００の構成を説明するための説
明図。

【図９】基板保持容器２０の変形例を説明するための説
明図。

【符号の説明】

２０…基板保持容器 ２２…ベース ２４…基板ホルダ ２６…基板整列収納溝 ２７…シール材 ２８…カバー ３０…シール舌片 ３１…基板収納空間 ３２…カバー係合機構 ３４…回転体 ３６…カバー固定腕 ３８…ピン ４０…押し付け窓 ４２…窓 ４４…ピン ４６…キー溝 ４８…回転伝達片 ５０…回転チャック ５２…貫通穴 ５４…貫通穴 ５６…不活性ガス導入用ブロック ５８…エアー排出用ブロック ６０…逆止弁 ６２…逆止弁 ６４…不活性ガス導入ポート ６６…エアー排出ポート ６８…脚 ７０…ハンガ ８０…吸排気ブロック ８２…吸排気ポート ８４…電磁弁 ８６…窒素ガス圧送ポンプ ８８…真空吸引ポンプ ９０…大気開放管 １００…基板処理装置 １０２…載置ステーション １０４…容器処理ステーション １０６…基板処理ステーション １０８…基板処理ステーション １１０…基板処理ステーション １１２…カバー搬送機器 １１４…ベース搬送機器 １１６…吸着具 １２０…容器固定機構 ２００…基板搬送機器 ２０２…走行部本体 ２０４…アーム回転軸 ２０６…軸回転手段 ２１０…基板チャック ２１２…対向面 ２１４…裏面 ２１６…基板整列保持溝 ２１８…基板整列保持溝 Ｗ…基板

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の基板を保持する基板保持容器であ
   って、 ベースと、 該ベースに設けられ、前記複数の基板を平行に並べて並
   列に保持する基板保持部材と、 前記ベースに装着されて前記並列保持された複数の基板
   を覆い、前記ベースから取り外されたときには前記並列
   保持された複数の基板の一括した取り出し方向を開放す
   るカバーと、 該カバーが前記ベースに装着されたとき、前記カバーと
   前記ベースとを気密にシールして係合するカバー係合手
   段と、 該係合した前記カバーと前記ベースとで形成された空間
   と容器外部とを連通するよう前記ベース又は前記カバー
   に設けられた二つの連通路と、 該二つの連通路の各々に当該連通路を開閉するよう設け
   られた第１、第２の連通路開閉手段と、 を備えることを特徴とする基板保持容器。
2. 【請求項２】 請求項１記載の基板保持容器の保持する
   複数の基板を処理する基板処理装置であって、 前記基板保持容器がセットされる容器セットステーショ
   ンと、 該容器セットステーションに設けられ、該セットされた
   基板保持容器の前記第１の連通路開閉手段に気密に係合
   する連通路係合ポートと、 該連通路係合ポートから不活性ガスを圧送する不活性ガ
   ス圧送手段とを備えることを特徴とする基板処理装置。
3. 【請求項３】 請求項１記載の基板保持容器を用いて基
   板を処理する基板処理装置であって、 前記基板保持容器がセットされる容器セットステーショ
   ンと、 前記基板保持容器内の複数の基板を一括して処理する基
   板処理ステーションとを備え、 前記容器セットステーションに設けられ、前記セットさ
   れた基板保持容器の前記カバー係合手段を、前記カバー
   と前記ベースとの係合を解除するように作動する係合解
   除手段と、 該係合が解除されたカバーを前記ベースに対して着脱す
   るカバー着脱手段と、 該カバー着脱手段により前記カバーが離脱されたベース
   における前記複数の基板を前記取り出し方向から一括し
   て把持して前記基板保持部材から取り出し、該取り出し
   た複数の基板を前記基板処理ステーションに搬送する搬
   送手段とを備えることを特徴とする基板処理装置。