JP2001053477A

JP2001053477A - ケース開閉装置

Info

Publication number: JP2001053477A
Application number: JP11224305A
Authority: JP
Inventors: Yoshihisa Shitani; 佳久志谷; Koichi Sugano; 菅野　　孝一; Akira Narizumi; 顕成住
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1999-08-06
Filing date: 1999-08-06
Publication date: 2001-02-23
Anticipated expiration: 2019-08-06
Also published as: JP4372901B2

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】蓋部と底部とを合わせ、密閉した状態で、ガ
ラス基板、ウエハ等の薄板状の製品を搬送、保管するた
めのケースに対し、窒素等の清浄な不活性ガスを導入で
きる、ケース開閉装置。【解決手段】ケースをその上に載置し、ケースの蓋部
と底部とのロック部１２０を有するステージ部１１０
と、ステージ部に一体的に、ケースの底部の吸気口部１
３１から窒素等の清浄な不活性ガスを供給するガス供給
部１３０、ケースの底部の排気口部から排気を行うガス
排出口部１２０を配設したガス供給部を備え、ガス供給
部はガス供給源１３７、排気ガスの酸素濃度センサ１３
５、不活性ガスの流れを制御する制御部とを備えてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、蓋部と底部とを合
わせ、密閉した状態で、半導体素子を作製する際に用い
られる、フォトマスク、マスクブランクス、ガラス基
板、ウエハ等の薄板状の製品を、搬送、保管するための
ケースで、底部には、窒素等の清浄な不活性なガスを供
給するための吸気口部、排気を行うための排気口部を備
えたケースを、開閉する開閉装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、半導体素子（チップ）の高密度化
は激しく、０．３５μｍ設計ルールの６４ＭＤＲＡＭの
量産もすでに始められ、０．２５μｍ設計ルールの２５
６ＭＤＲＡＭの時代へと移ろうとしている。更に、最近
では、コスト低減を目指したチップ縮小が著しく、６４
ＭＤＲＡＭを０．２５設計ルールまで微細化して、ある
いは、２５６ＭＤＲＡＭを０．１８設計ルールまで微細
化してチップ縮小化を行っている。仮に、６４ＭＤＲＡ
Ｍを０．２μｍ設計ルールとすると、約１６ＭＤＲＡＭ
と同じチップ寸法となり、ビットコストは１６Ｍの約１
／４になる。ウエハサイズの大サイズ化をせず、現装置
でコスト低減が達成されることとなる。０．１８μｍ設
計ルールは開発完了し、２０００年には０．１５μｍ設
計ルールが開発完了予定とされている。このような中、
ウエハへ直接縮小投影するためのレチクルについても、
ますます高精度、高品質のものが求められるようになっ
てきた。

【０００３】このため、半導体素子を形成するためのレ
チクル、およびこれらを作製するためのマスク（以降、
これらを総称してフォトマスク呼ぶ）や、これに用いら
れるマスクブランクス、ガラス基板については、その保
管、搬送についても、品質的に悪影響がでない方法が求
められるようになってきた。一般に、フォトマスク、マ
スクブランクス、ガラス基板は、所定のケース（ボック
スとも言う）に収納された状態で保管、搬送されて、各
工程で処理されるが、その際、その表面部に、振動、摩
擦などによりゴミが付着したり、周囲雰囲気の影響によ
る経時変化が起こることが知られている。更に、レジス
トが塗布された状態のマスクブランクスを保管、搬送す
る場合、周囲雰囲気の空気中の酸素と有機物等により、
その感度は経時変化を起こすことが知られている。しか
し、近年の半導体素子の高い集積化に伴い、これらの保
管、搬送に起因する品質低下が無視できなくなってき
た。

【０００４】このような中、半導体素子の製造は、一般
に、内部雰囲気を清浄化したクリーンルーム内において
行われるが、クリーンルーム内での工程間、装置間の搬
送形態として、半導体ウエハへの塵埃の付着を防ぐため
に、半導体ウエハを収納したウエハカセットを可搬式
の、蓋部と底部からなる密閉コンテナ（ケースないしボ
ックスとも言う）に収納して行う方式も採られている。
そして、レジストが塗布された状態のウエハを保管、搬
送する間に、周囲雰囲気の空気中の酸素と有機物等によ
り、その感度は経時変化を起こすことが無いように、例
えば、特公開平６−６９３１３号公報に記載のように、
この密閉コンテナに対し、パージユニットにて、蓋部と
底部とを開けた状態で、窒素等の不活性ガスを導入する
方法が採られている。しかし、この方法の場合、蓋部と
底部とを開けた状態で行うため、装置全体が大掛かりな
ものとなってしまう。また、処理に手間がかかり過ぎる
と言う問題がある。最近では、このような密閉コンテナ
の、フォトマスクや、これに用いられるマスクブランク
ス、ガラス基板の保管、搬送への適用も次第に進められ
てきているが、できるだけ、簡単に、窒素等の清浄な不
活性なガスを導入できる方法が求められている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このように、近年の半
導体素子の高集積化に伴い、蓋部と底部とを合わせ、密
閉した状態で、フォトマスク、マスクブランクス、ガラ
ス基板、ウエハ等の薄板状の製品を、搬送、保管するた
めのケース（ボックスないしコンテナとも言う）に、比
較的簡単に、窒素等の清浄な不活性なガスを導入でき
る、ケース開閉装置が求められていた。本発明は、これ
に対応するもので、具体的には、蓋部と底部とを合わ
せ、密閉した状態で、フォトマスク、マスクブランク
ス、ガラス基板、ウエハ等の薄板状の製品を、搬送、保
管するためのケースで、且つ、底部には、窒素等の清浄
な不活性なガスを供給するための吸気口部、排気を行う
ための排気口部を備えたケースに対し、簡単に、窒素等
の清浄な不活性なガスを導入できる、ケース開閉装置を
提供しようとするものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明のケース開閉装置
は、蓋部と底部とを合わせ、密閉した状態で、フォトマ
スク、マスクブランクス、ガラス基板、ウエハ等の薄板
状の製品を、搬送、保管するためのケースで、底部に、
窒素等の清浄な不活性なガスを供給するための吸気口
部、排気を行うための排気口部を備えたケースを、開閉
する開閉装置であって、ケースをその上に載置し、ケー
スの蓋部と底部との開閉のロック、あるいはロックの解
除を行う、ロック部を有するステージ部と、前記ステー
ジ部に一体的に、ケースの底部の吸気口部から窒素等の
清浄な不活性なガスを供給するガス供給口部、ケースの
底部の排気口部から排気を行うガス排気口部を配設し
た、窒素等の清浄な不活性なガスを供給するガス供給部
とを備えていることを特徴とするものである。そして、
上記において、ガス供給部は、ガス供給口部に窒素等の
清浄な不活性なガスを供給するためのガス供給源と、ガ
ス排気口部からの排気ガスの酸素濃度を感知するため
の、酸素濃度センサと、酸素濃度センサからの情報に基
づき、ガス供給源からガス供給口部への窒素等の清浄な
不活性なガスの流れを制御する制御部とを備えているこ
とを特徴とするものである。そしてまた、上記におい
て、ケースの蓋部、底部、およびステージ部のロック部
には、標準機械的インターフエースＳＭＩＦ（Ｓｔａｎ
ｄａｒｄＭｅｃｈａｎｉｃａｌＩｎｔｅｒｆａｃ
ｅ）機構が組み込まれていることを特徴とするものであ
る。また、上記において、ステージ部は、所定の位置
で、ケースの蓋部と底部との開閉のロック、あるいはロ
ックの解除を行い、且つ、ケース内に窒素等の清浄な不
活性なガスを充填するもので、且つ、ステージ部は、前
記所定の位置から、ガイドに沿い、上およびまたは下に
移動するものであることを特徴とするものである。

【０００７】尚、ここでは、不活性なガスとは、経時変
化を起こしづらいガスのことで、窒素ガスや不活性ガス
（Ｎｅ、Ｘｅ等）を言うが、一般には安価な、清浄な窒
素ガスが用いられる。また、ここで言う製品とは、最終
製品および中間製品を含むもので、レジストを塗布した
状態のマスクブランクスも含む。また、標準機械的イン
ターフエースＳＭＩＦ機構とは、標準機械的インターフ
エースＳＭＩＦシステムに適合した、底部、蓋部のロッ
ク、取外し機構を備えていることを意味する。

【０００８】

【作用】本発明のケース開閉装置は、このような構成に
することにより、蓋部と底部とを合わせ、密閉した状態
で、フォトマスク、マスクブランクス、ガラス基板、ウ
エハ等の薄板状の製品を、搬送、保管するためのケース
で、且つ、底部には、窒素等の清浄な不活性なガスを供
給するための吸気口部、排気を行うための排気口部を備
えたケースに対し、簡単に、窒素等の清浄な不活性なガ
スを導入できる、ケース開閉装置の提供を可能としてい
る。これにより、近年の半導体素子の高集積化に対応で
きる品質を確保でき、量産にも対応できるものとしてい
る。具体的には、蓋部と底部とを合わせ、密閉した状態
で、フォトマスク、マスクブランクス、ガラス基板、ウ
エハ等の薄板状の製品を、搬送、保管するためのケース
で、底部には、窒素等の清浄な不活性なガスを供給する
ための吸気口部、排気を行うための排気口部を備えたケ
ースを、開閉する開閉装置であって、ケースをその上に
載置し、ケースの蓋部と底部との開閉のロック、あるい
はロックの解除を行う、ロック部を有するステージ部
と、前記ステージ部に一体的に、ケースの底部の吸気口
部から窒素等の清浄な不活性なガスを供給するガス供給
口部、ケースの底部の排気口部から排気を行うガス排気
口部を配設した、窒素等の清浄な不活性なガスを供給す
るガス供給部とを備えていることにより、これを達成し
ている。即ち、ステージ部に一体的に、ガス供給口部、
ガス排気口部を配設した、ガス供給部とを備えているこ
とにより、ステージ部上に、底部には、窒素等の清浄な
不活性なガスを供給するための吸気口部、排気を行うた
めの排気口部を備えたケースを載置した状態で、且
つ、蓋部と底部とを合わせ、密閉した状態で、窒素等の
清浄な不活性なガスを、ケース内へ充填することを可能
としている。特に、レジストが塗布された状態のマスク
ブランクスを保管、搬送する場合には有効で、レジスト
の感度の経時変化を抑えることを可能としている。

【０００９】また、ガス供給部は、ガス供給口部に窒素
等の清浄な不活性なガスを供給するためのガス供給源
と、ガス充填部のガス排気口部から排気ガスの酸素濃度
を感知するための、酸素濃度センサと、酸素濃度センサ
からの情報に基づき、ガス供給源からガス供給口部への
窒素等の清浄な不活性なガスの流れを制御する制御部と
を備えていることにより、ケース内のガスを所定のＯ₂
濃度以下、Ｈ₂Ｏ濃度以下に制御することを可能として
いる。尚、ケース内雰囲気として、Ｏ₂濃度が１００ｐ
ｐｍ以下、Ｈ₂Ｏ濃度が１００ｐｐｍ以下であることが
好ましい。

【００１０】また、ケースの蓋部、底部、およびステー
ジ部のロック部には、標準機械的インターフエースＳＭ
ＩＦ（ＳｔａｎｄａｒｄＭｅｃｈａｎｉｃａｌＩｎ
ｔｅｒｆａｃｅ）機構が組み込まれていることにより、
処理全体の自動化をし易いものとしている。

【００１１】また、ステージ部は、所定の位置で、ケー
スの蓋部と底部との開閉のロック、あるいはロックの解
除を行い、且つ、ケース内に清浄な窒素等の不活性なガ
スを充填するもので、且つ、ステージ部は、前記所定の
位置から、ガイドに沿い、上およびまたは下に移動する
ものであることにより、更に、処理全体の自動化をし易
いものとしている。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明のケース開閉装置の実施の
形態例を、図に基づいて説明する。図１は、本発明のケ
ース開閉装置の実施の形態の１例の概略斜視図で、図２
は、ステージ部にケース載置した状態の一部断面と、概
略構成を示した概略構成図で、図３はケースの一部断面
図である。尚、図１においては、酸素濃度制御部を省略
して示してある。図１、図２、図３中、１００はケース
開閉装置、１１０はステージ部、１１５は台座、１２０
はロック部、１３０はガス供給部、１３１はガス供給口
部、１３２はガス排気口部、１３３は配管、１３５は酸
素濃度センサ、１３７はガス供給源、１３８は酸素濃度
制制御部、１３９は配線、１５０は固定部、１５５はス
ライド軸、２００はケース（ボックスないしコンテナと
も言う）、２２０は蓋部、２３０は底部、２３１は吸気
口部、２３２は排気口部、２４０は（製品固定用）支持
部、２４１は通気路（貫通孔）、２４５は貫通孔、２４
７は保持治具、２５０はレジスト塗布済のマスクブラン
クス、２６１は通気路、２７１は窒素ガス（不活性なガ
ス）、２７２は排気ガスである。

【００１３】本例は、蓋部と底部とを合わせ、密閉した
状態で、レジスト塗布済のマスクブランクスを、搬送、
保管するためのケースで、底部には、清浄な窒素を供給
するための吸気口部、排気を行うための排気口部を備え
たケースを、開閉する開閉装置である。図２に示すよう
に、ケース２００をその上に載置し、ケースの蓋部２２
０と底部２３０との開閉のロック、あるいはロックの解
除を行う、ロック部１２０を有するステージ部１１０
と、ケースの底部の吸気口部２３１から清浄な窒素を供
給するガス供給口部１３１、ケースの底部の排気口部か
ら排気を行うガス排気口部１３２を、ステージ部１１０
に一体的に、配設した、清浄な窒素を供給するガス供給
部１３０とを備えている。本例では、ステージ部１１０
は固定部に支持され、スライド軸に沿い上下に移動で
き、図１に示す台座１１５位置にて、ロック動作、清浄
な窒素のケース内への充填動作を行うものである。

【００１４】ガス供給部１３０は、図２に示すように、
ガス供給口部に清浄な窒素を供給するためのガス供給源
１３７と、ガス排気口部１３２からの排気ガスの酸素濃
度を感知するための、酸素濃度センサ１３５と、酸素濃
度センサ１３５からの情報に基づき、ガス供給源１３７
からガス供給口部１３１への清浄な窒素の流れを制御す
る、酸素濃度制御部１３８とを備えている。尚、酸素濃
度制御部１３８（図２）は、ステージ部１１０、ロック
部１２０ガス供給部１３０とは、離れた位置に置き、遠
隔操作にて制御することも可能である。

【００１５】本例のケース開閉装置１００には、清浄な
窒素ガスをケースに充填するための、ガス供給口部１３
１、ガス排気口部１３２とを備えており、図２に示すよ
うに、それらが、それぞれ、ケース２００の底部２３０
の吸気口部２３１、排気口部２３２と嵌合するようにな
っている。そして、ケース２００をステージ部１１０上
に載置した後、密閉した状態で、ガス供給口部１３１、
ガス排気口部１３２を、それぞれ、ケース２００の底部
２３０の吸気口部２３１、排気口部２３２に嵌合した
後、ガス排気口部１３２から排気しながら、ガス供給口
部１３１から清浄な窒素を供給する。ケース２００の吸
気口部２３１は、所定の圧で、閉じている弁が開くよう
になっており、また、排気口部２３２は、所定の負圧
で、閉じている弁が開くようになっている。尚、吸気口
部２３１、排気口部２３２には、それぞれ、所定のフィ
ルターが配設されている。

【００１６】ガス供給口部１３１への清浄な窒素の供給
は、酸素濃度制御部１３８に制御され、ガス供給源１３
７からなされる。酸素濃度制御部１３８は、ガス排気口
部１３２からの排気ガスの酸素濃度を酸素濃度センサ１
３５で検知し、この情報に基づいて、ガス供給源１３７
からガス供給口部１３１への窒素の供給、およびガス排
気口部１３２からの排気を制御する。具体的には、供給
する窒素のガス圧、流量、排気のための減圧、各処理時
間等を制御する。このようにして、ケース２００内への
清浄な窒素の充填は行われるが、ケース内の窒素雰囲気
として、Ｏ₂濃度が１００ｐｐｍ以下、Ｈ₂Ｏ濃度が１
００ｐｐｍ以下であることが好ましく、これらの濃度以
下の清浄な窒素ガスをガス供給源１３７から供給する。
尚、一般に、レジスト塗布済のマスクブランクスを空気
中に保管した場合には、空気中の、酸素、有機物等によ
り、レジスト感度の経時変化が起こるとされており、水
分等により、汚れの発生も起こるとされているが、確実
に所定の、Ｏ₂濃度以下、Ｈ₂Ｏ濃度以下に制御されて
いることが、管理上、要求される。本例のケース開閉装
置では、上記のように、ケース２００内に清浄な窒素を
充填することにより、確実にＯ₂濃度、Ｈ₂Ｏ濃度を所
定の値以下に制御することができる。これにより、レジ
スト感度の経時変化等を抑えることができる。

【００１７】本例の装置では、蓋部２２０、底部２３０
に、標準機械的インターフエースＳＭＩＦ機構が組み込
まれた、図２に示すようなケース２００を、開閉するた
めのロック部１２０を、図１に示すように、ステージ部
１１０に設けている。ロック部は、モータにより制御さ
れるカムで、ケースの底部２３０のこれと嵌合する嵌合
部（図示していない）と嵌合した状態で、前記嵌合部を
回転し、ロック動作を行なうもので、これにより、ケー
ス２００の開閉がなされる。即ち、本例の装置のロック
部にも標準機械的インターフエースＳＭＩＦ機構が組み
込まれている。

【００１８】次に、本例のケース開閉装置の使用動作の
１例を挙げておく。まず、ケースの底部２３０と、これ
に固定され、且つ、レジスト塗布済のマスクブランクス
をその端部で保持している製品固定部（図３に示す支持
部２４０他）を、図１の点線にて記載の位置の、ステー
ジ部１１０の所定の位置にＡ１側から載置し、上側に移
動し、台座１１５とステージ部１１０が嵌合する位置ま
で移動する。この状態で、既に、ガス供給口部１３１、
ガス排気口部１３２は、それぞれ、底部２３０の吸気口
部２３１、排気口部２３２と嵌合している。次いで、こ
の状態で、図示していないが、蓋部２２０を所定の保管
場所から運び、図１の上側側から、ケースの底部２３０
に合わせた後、ロック部１２０を動作させ、ケース２０
０を密封した状態で、蓋部２２０と底部２３０とがはず
れないようにロックする。次いで、ガス排気口部１３２
から排気しながら、ガス供給口部１３１から清浄な窒素
をケース内へ充填する。底部２３０の吸気口部２３１、
排気口部２３２には、それぞれ、所定の正圧、負圧が掛
けられる。清浄な窒素が充填された後、密封されたケー
スは、Ａ２側へと移動され、所望の箇所に搬送され、次
の処理が行われるまで、そこで保管される。このように
して、本例のケースの開閉装置は使用されるが、これは
１例で、使用方法はこれに限定されない。

【００１９】ここで、本例の装置に適用する、蓋部と底
部とを合わせ、密閉した状態で、レジスト塗布済のマス
クブランクスを、搬送、保管するためのケースで、且
つ、底部には、清浄な窒素を供給するための吸気口部、
排気を行うための排気口部を備えたケースについて、図
３に基づいて、簡単に説明しておく。製品固定部は、レ
ジスト塗布済のマスクブランクス２５０をその端部で保
持する保持治具２４７を支持する支持部２４０を有する
もので、支持部２４０自体は、ケースの底部２３０に固
定されている。保持治具２４７は、複数個設けられ、マ
スクブランクス２５０を、その端部で、保持する。図示
していないが、蓋部２２０と底部２３０を合わせ密封し
た際には、蓋部２２０からの外力を、保持治具間の間隔
が狭まる方向の力へ変え、マスクブランクス２５０を確
実に保持できるようになっている。図３に示すケースの
場合、吸気口部２３１から導入される清浄な窒素がケー
ス内で拡散し易いように、支持部２４０は、底部２２０
から浮いた構造で、支持部２４０には、多数の貫通孔２
４５を所定のピッチで二次元的に配列してあり、且つ、
吸気口部２３１から、通気路２６１、通気路（貫通孔）
２４１を通り、清浄な窒素が、マスクブランクス２５０
の蓋部２２０側へ入り込み、支持部２４０の下側から、
各貫通孔２４５を通ったガスが排気口部２３２に導か
れ、排気されるようになっている。図３に示すケースは
１例で、これに限定はされない。尚、蓋部２２０と底部
２３０との開閉を制御するロック機構については、標準
機械的インターフエースＳＭＩＦ機構を適用したもの
で、図３では省略して示してある。また、説明も省略す
る。

【００２０】

【発明の効果】本発明は、上記のように、蓋部と底部と
を合わせ、密閉した状態で、フォトマスク、マスクブラ
ンクス、ガラス基板、ウエハ等の薄板状の製品を、搬
送、保管するためのケース（ボックスないしコンテナと
も言う）で、且つ、底部には、窒素等の清浄な不活性な
ガスを供給するための吸気口部、排気を行うための排気
口部を備えたケースに対し、簡単に、窒素等の清浄な不
活性なガスを導入できる、ケース開閉装置の提供を可能
とした。特に、標準機械的インターフエースＳＭＩＦ機
構を備えた蓋部、底部からなるケース（ボックスあるい
はコンテナとも言う）にも簡単に適用でき、各処理の自
動化がし易い。これにより、製品の大型化、高品質化、
量産化に対応できるものとした。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のケース開閉装置の実施の形態の１例の
概略斜視図

【図２】ステージ部にケース載置した状態の一部断面
と、概略構成を示した概略構成を示した図

【図３】ケースの一部断面図

【符号の説明】

１００ケース開閉装置１１０ステージ部１１５台座１２０ロック部１３０ガス供給部１３１ガス供給口部１３２ガス排気口部１３３配管１３５酸素濃度センサ１３７ガス供給源１３８酸素濃度制御部１３９配線１５０固定部１５５スライド軸２００ケース（ボックスないしコンテ
ナとも言う）２２０蓋部２３０底部２３１吸気口部２３２排気口部２４０（製品固定用）支持部２４１通気路（貫通孔）２４５貫通孔２４７保持治具２５０（レジスト塗布済の）マスクブラ
ンクス２６１通気路２７１窒素ガス（不活性なガス）２７２排気ガス

フロントページの続き (72)発明者成住顕東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内Ｆターム(参考） 5E348 BB10

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】蓋部と底部とを合わせ、密閉した状態
で、フォトマスク、マスクブランクス、ガラス基板、ウ
エハ等の薄板状の製品を、搬送、保管するためのケース
で、底部に、窒素等の清浄な不活性なガスを供給するた
めの吸気口部、排気を行うための排気口部を備えたケー
スを、開閉する開閉装置であって、ケースをその上に載
置し、ケースの蓋部と底部との開閉のロック、あるいは
ロックの解除を行う、ロック部を有するステージ部と、
前記ステージ部に一体的に、ケースの底部の吸気口部か
ら窒素等の清浄な不活性なガスを供給するガス供給口
部、ケースの底部の排気口部から排気を行うガス排気口
部を配設した、窒素等の清浄な不活性なガスを供給する
ガス供給部とを備えていることを特徴とするケース開閉
装置。
【請求項２】請求項１において、ガス供給部は、ガス
供給口部に窒素等の清浄な不活性なガスを供給するため
のガス供給源と、ガス排気口部からの排気ガスの酸素濃
度を感知するための、酸素濃度センサと、酸素濃度セン
サからの情報に基づき、ガス供給源からガス供給口部へ
の窒素等の清浄な不活性なガスの流れを制御する制御部
とを備えていることを特徴とするケース開閉装置。
【請求項３】請求項１ないし２において、ケースの蓋
部、底部、およびステージ部のロック部には、標準機械
的インターフエースＳＭＩＦ（ＳｔａｎｄａｒｄＭｅ
ｃｈａｎｉｃａｌＩｎｔｅｒｆａｃｅ）機構が組み込
まれていることを特徴とするケース開閉装置。
【請求項４】請求項１ないし３において、ステージ部
は、所定の位置で、ケースの蓋部と底部との開閉のロッ
ク、あるいはロックの解除を行い、且つ、ケース内に窒
素等の清浄な不活性なガスを充填するもので、且つ、ス
テージ部は、前記所定の位置から、ガイドに沿い、上お
よびまたは下に移動するものであることを特徴とするケ
ース開閉装置。