CN103426792A - 一种密封的n2清洗装置 - Google Patents

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包中诚
陈超
华俊杰
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Abstract

一种密封的N2清洗装置，包含N2清洗管和N2清洗适配器，还包含设置在N2清洗管和N2清洗适配器接触面上的密封圈。本发明改善了密封条件，避免了晶片背面受到化学污染。

Description

一种密封的N2清洗装置
技术领域
本发明涉及一种密封的N2清洗装置。
背景技术
如图1所述，半导体制程中，在反应腔内对晶片的正面进行化学药品清洗时，晶片被指状物固定，化学药品喷嘴中喷出化学药品对晶片正面进行清洗，为了防止晶片的背面被化学药品喷溅，利用N2清洗装置来保护晶片背面，将N2清洗装置穿过反应腔头部，N2清洗流在晶片背面流动，防止晶片背面受到化学污染。如图2所示，N2清洗装置包含N2清洗管101和N2清洗适配器102，N2清洗管101和N2清洗适配器102直接接触，N2清洗适配器102很容易发生泄露，如果一旦N2清洗流的强度不够，就会使晶片背面受到污染。
发明内容
本发明提供的一种密封的N2清洗装置，改善了密封条件，避免了晶片背面受到化学污染。
为了达到上述目的，本发明提供一种密封的N2清洗装置，包含N2清洗管和N2清洗适配器，还包含设置在N2清洗管和N2清洗适配器接触面上的密封圈。
所述的密封圈为O形密封圈。
所述的O形密封圈为能够耐腐蚀提供气密功能的氟橡胶或硅氟橡胶。
本发明改善了密封条件，避免了晶片背面受到化学污染。
附图说明
图1是背景技术中利用N2清洗装置来保护晶片背面免受化学污染的示意图；
图2是背景技术中N2清洗装置的结构示意图；
图3是本发明提供的一种密封的N2清洗装置的结构示意图。
具体实施方式
以下根据图3具体说明本发明的较佳实施例。
如图3所示，本发明提供一种密封的N2清洗装置，包含N2清洗管101和N2清洗适配器102，还包含设置在N2清洗管101和N2清洗适配器102接触面上的密封圈103；
所述的密封圈103为O形密封圈；
所述的O形密封圈为能够耐腐蚀提供气密功能的氟橡胶或硅氟橡胶。
尽管本发明的内容已经通过上述优选实施例作了详细介绍，但应当认识到上述的描述不应被认为是对本发明的限制。在本领域技术人员阅读了上述内容后，对于本发明的多种修改和替代都将是显而易见的。因此，本发明的保护范围应由所附的权利要求来限定。

Claims (3)

1.一种密封的N2清洗装置，包含N2清洗管（101）和N2清洗适配器（102），其特征在于，还包含设置在N2清洗管（101）和N2清洗适配器（102）接触面上的密封圈（103）。
2.如权利要求1所述的密封的N2清洗装置，其特征在于，所述的密封圈（103）为O形密封圈。
3.如权利要求2所述的密封的N2清洗装置，其特征在于，所述的O形密封圈为能够耐腐蚀提供气密功能的氟橡胶或硅氟橡胶。
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