JP2005115033A - フォトマスク収納容器 - Google Patents
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- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 25
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 37
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010410 dusting Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 230000000452 restraining effect Effects 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Packages (AREA)
- Packaging Frangible Articles (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
【解決手段】収納容器は、本体と蓋体よりなり、本体上に固定した状態で、蓋体を合わせて容器内を密封し、収納するもので、本体の底部には、容器の内部にガスを充填するためのガス供給口と、容器の内部から大気及び充填されたガスを容器の外部に排出するためのガス排気口を具備し、該排気口には、ガス充填時にのみ開き、それ以外のときには閉じている逆止弁が装着されてをり、ガス供給口には、ケミカルフィルタが装着されていることを特徴とするフォトマスク収納容器。
【選択図】図1
Description
制できる効果がある(図1(b)参照)。
2…ガス供給口
3…ケミカルフィルタ
4…除塵フィルタ
5…通気孔
6…ガス排出口
7…逆止弁
8…載置台
9…パッキング材
10…蓋体
18…ピン状の抑え冶具
20…フォトマスク
Claims (2)
- 半導体装置の製造に用いるフォトマスク用ブランクス及びフォトマスク等の薄板状の製品を、1枚ずつ、製品の端部にて保持して、搬送、又は保管をするためのフォトマスク収納容器において、フォトマスク収納容器は、本体と蓋体よりなり、製品を容器の本体上に固定した状態で、蓋体を合わせて容器内を密封することにより、製品を容器内に収納するものであり、本体の底部には、容器の内部にガスを充填するためのガス供給口と、容器の内部から大気及び充填されたガスを容器の外部に排出するためのガス排気口を具備し、該排気口には、ガス充填時にのみ開き、それ以外のときには閉じている逆止弁が装着されており、ガス供給口には、ケミカルフィルタが装着されていることを特徴とするフォトマスク収納容器。
- 前記ケミカルフィルタが、常時開放状態であるガス供給口より容器の内部へ流入する大気中のケミカル成分を吸着される構造であることを特徴とする請求項1記載のフォトマスク収納容器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003349125A JP4539068B2 (ja) | 2003-10-08 | 2003-10-08 | フォトマスク収納容器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003349125A JP4539068B2 (ja) | 2003-10-08 | 2003-10-08 | フォトマスク収納容器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005115033A true JP2005115033A (ja) | 2005-04-28 |
JP4539068B2 JP4539068B2 (ja) | 2010-09-08 |
Family
ID=34541075
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003349125A Expired - Lifetime JP4539068B2 (ja) | 2003-10-08 | 2003-10-08 | フォトマスク収納容器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4539068B2 (ja) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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