JP2003007813A - 半導体ウエハの保管ボックス、運搬装置、運搬方法及び保管倉庫 - Google Patents
半導体ウエハの保管ボックス、運搬装置、運搬方法及び保管倉庫Info
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- JP2003007813A JP2003007813A JP2001185943A JP2001185943A JP2003007813A JP 2003007813 A JP2003007813 A JP 2003007813A JP 2001185943 A JP2001185943 A JP 2001185943A JP 2001185943 A JP2001185943 A JP 2001185943A JP 2003007813 A JP2003007813 A JP 2003007813A
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D46/00—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
- B01D46/0039—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours with flow guiding by feed or discharge devices
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 保管ボックス内で発生する有機ガスによって
半導体ウエハが汚染されない、半導体ウエハの保管ボッ
クスを提供する。 【解決手段】 半導体ウエハの保管ボックス１０は、ポ
リカーボネート樹脂で形成され、半導体ウエハ１４を水
平状態で収容し、前面に扉１１を有する。保管ボックス
１０の上部には、清浄空気又は清浄ガスを供給する配管
に接続するための配管継手とフィルタとを有するエア供
給口１２が形成される。保管ボックス１０の底部には、
フィルタを有する排気口１３が形成される。上方から下
方に向かう空気流を強制的に形成することにより、水平
に収容される半導体ウエハ１４の表面に付着する塵埃及
び有機ガスを減らす。
半導体ウエハが汚染されない、半導体ウエハの保管ボッ
クスを提供する。 【解決手段】 半導体ウエハの保管ボックス１０は、ポ
リカーボネート樹脂で形成され、半導体ウエハ１４を水
平状態で収容し、前面に扉１１を有する。保管ボックス
１０の上部には、清浄空気又は清浄ガスを供給する配管
に接続するための配管継手とフィルタとを有するエア供
給口１２が形成される。保管ボックス１０の底部には、
フィルタを有する排気口１３が形成される。上方から下
方に向かう空気流を強制的に形成することにより、水平
に収容される半導体ウエハ１４の表面に付着する塵埃及
び有機ガスを減らす。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハの保
管ボックス、運搬装置、運搬方法及び保管倉庫に関し、
特に、保管中や運搬中に半導体ウエハを有機物等の分
子、ガス成分やパーティクルから保護する技術に関す
る。
管ボックス、運搬装置、運搬方法及び保管倉庫に関し、
特に、保管中や運搬中に半導体ウエハを有機物等の分
子、ガス成分やパーティクルから保護する技術に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の微細化や高密度化に伴い、
雰囲気中の分子、ガス成分やパーティクルによる汚染か
ら半導体ウエハを保護する必要性が高まっている。この
観点から、半導体装置の製造に使用されるエッチング装
置やＣＶＤ装置では、半導体ウエハを処理する空間の清
浄度が格段に向上している。
雰囲気中の分子、ガス成分やパーティクルによる汚染か
ら半導体ウエハを保護する必要性が高まっている。この
観点から、半導体装置の製造に使用されるエッチング装
置やＣＶＤ装置では、半導体ウエハを処理する空間の清
浄度が格段に向上している。
【０００３】半導体ウエハを処理する各プロセス間の半
導体ウエハの搬送に際しては、従来から半導体ウエハ保
管ボックス（搬送ボックス）が使用されている。図４
は、半導体ウエハ１４を収容した状態で示す、従来の半
導体ウエハ保管ボックス１０Ａの断面図である。同図に
示すように、３００ｍｍサイズのウエハ保管ボックス１
０Ａでは、複数の半導体ウエハ１４が相互に間隙を隔て
て水平に配置されている。保管ボックス１０Ａには前面
に半導体ウエハ収容／取出しのための扉１１が配置さ
れ、また、底部付近にはフィルタ（ブリージングフィル
タ）を有する吸／排気口１３Ａが形成される。半導体ウ
エハ１４を収容する際には、保管ボックス１０Ａ内にク
リーンルーム雰囲気又は窒素ガスを充填し、半導体ウエ
ハ１４を外部のパーティクルから保護する。保管ボック
ス１０Ａは、一般的にポリカーボネート等の樹脂材料か
ら形成される。
導体ウエハの搬送に際しては、従来から半導体ウエハ保
管ボックス（搬送ボックス）が使用されている。図４
は、半導体ウエハ１４を収容した状態で示す、従来の半
導体ウエハ保管ボックス１０Ａの断面図である。同図に
示すように、３００ｍｍサイズのウエハ保管ボックス１
０Ａでは、複数の半導体ウエハ１４が相互に間隙を隔て
て水平に配置されている。保管ボックス１０Ａには前面
に半導体ウエハ収容／取出しのための扉１１が配置さ
れ、また、底部付近にはフィルタ（ブリージングフィル
タ）を有する吸／排気口１３Ａが形成される。半導体ウ
エハ１４を収容する際には、保管ボックス１０Ａ内にク
リーンルーム雰囲気又は窒素ガスを充填し、半導体ウエ
ハ１４を外部のパーティクルから保護する。保管ボック
ス１０Ａは、一般的にポリカーボネート等の樹脂材料か
ら形成される。
【０００４】図５は、上記半導体ウエハ保管ボックス１
０Ａから半導体ウエハ１４を取り出す際の様子を模式的
断面図で示している。半導体ウエハ１４の取出しには、
ロードポート３０が使用され、半導体ウエハ１４が一枚
づつ取り出される。保管ボックス１０Ａの扉を開放する
のに先立って、ロードポート３０上部から送風ユニット
３１によって清浄空気３５が供給され、その清浄空気３
５は、ロードポート３０の搬入用開口と保管ボックス１
０Ａの扉の開口部分との間をエアーフローによってシー
ルする。また、このエアの一部は保管ボックス１０Ａの
吸／排気口１３Ａを通って流出する。保管ボックス１０
Ａ内は、このエアフローによって外部からのパーティク
ルの侵入を防止している。
０Ａから半導体ウエハ１４を取り出す際の様子を模式的
断面図で示している。半導体ウエハ１４の取出しには、
ロードポート３０が使用され、半導体ウエハ１４が一枚
づつ取り出される。保管ボックス１０Ａの扉を開放する
のに先立って、ロードポート３０上部から送風ユニット
３１によって清浄空気３５が供給され、その清浄空気３
５は、ロードポート３０の搬入用開口と保管ボックス１
０Ａの扉の開口部分との間をエアーフローによってシー
ルする。また、このエアの一部は保管ボックス１０Ａの
吸／排気口１３Ａを通って流出する。保管ボックス１０
Ａ内は、このエアフローによって外部からのパーティク
ルの侵入を防止している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】「第１８回空気清浄と
コンタミネーションコントロール研究大会（平成１２年
４月２０日―２１日）」で発表された論文、「３００ｍ
ｍウエハ搬送ボックスのクリーン化−光触媒とＵＶ／光
電子法によるガスと粒子の同時除去」には、ウエハ表面
には空気中の浮遊物である高分子量の炭化水素が選択的
に付着すること、また、密閉式３００ｍｍウエハ保管ボ
ックス内でも、微量のガスが発生してフタル酸エステル
等の炭化水素がウエハ表面に付着することが示されてい
る。同論文では、光触媒を用いたＵＶ／光電子法を利用
したクリーン化ユニットによって、保管ボックス内での
汚染が防止される例が示されている。
コンタミネーションコントロール研究大会（平成１２年
４月２０日―２１日）」で発表された論文、「３００ｍ
ｍウエハ搬送ボックスのクリーン化−光触媒とＵＶ／光
電子法によるガスと粒子の同時除去」には、ウエハ表面
には空気中の浮遊物である高分子量の炭化水素が選択的
に付着すること、また、密閉式３００ｍｍウエハ保管ボ
ックス内でも、微量のガスが発生してフタル酸エステル
等の炭化水素がウエハ表面に付着することが示されてい
る。同論文では、光触媒を用いたＵＶ／光電子法を利用
したクリーン化ユニットによって、保管ボックス内での
汚染が防止される例が示されている。
【０００６】同論文で示された技術では、半導体ウエハ
の保管ボックスに、光電子を発生するための電極やＵＶ
ランプ等を設備すると共に、光触媒を利用する。これに
よって、保管ボックスから発生する有機ガスの半導体ウ
エハへの付着を防止する。しかし、個々の保管ボックス
にこれらの装置や光触媒を使用することによって、ウエ
ハの保管及び運搬のコストが大幅に上昇するおそれがあ
る。
の保管ボックスに、光電子を発生するための電極やＵＶ
ランプ等を設備すると共に、光触媒を利用する。これに
よって、保管ボックスから発生する有機ガスの半導体ウ
エハへの付着を防止する。しかし、個々の保管ボックス
にこれらの装置や光触媒を使用することによって、ウエ
ハの保管及び運搬のコストが大幅に上昇するおそれがあ
る。
【０００７】上記に鑑み、本発明は、上記論文による方
法とは別に、空気中の炭化水素や保管ボックスから発生
するフタル酸エステル等の炭化水素によって半導体ウエ
ハが汚染されることなく、半導体ウエハの搬送や保管が
可能な、半導体ウエハの保管ボックス、運搬装置、運搬
方法及び保管倉庫を提供することを目的とする。
法とは別に、空気中の炭化水素や保管ボックスから発生
するフタル酸エステル等の炭化水素によって半導体ウエ
ハが汚染されることなく、半導体ウエハの搬送や保管が
可能な、半導体ウエハの保管ボックス、運搬装置、運搬
方法及び保管倉庫を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の半導体ウエハの保管ボックスは、複数枚の
半導体ウエハを相互に間隙を隔てて収容する半導体ウエ
ハの保管ボックスにおいて、配管継手及びフィルタを有
し外部からエアが強制的に供給されるエア供給口と、少
なくともフィルタを有し内部のエアを排気する排気口と
を備えることを特徴とする。
に、本発明の半導体ウエハの保管ボックスは、複数枚の
半導体ウエハを相互に間隙を隔てて収容する半導体ウエ
ハの保管ボックスにおいて、配管継手及びフィルタを有
し外部からエアが強制的に供給されるエア供給口と、少
なくともフィルタを有し内部のエアを排気する排気口と
を備えることを特徴とする。
【０００９】本発明の半導体ウエハの保管ボックスによ
ると、半導体ウエハを保管ボックスに収容する際には、
単にエア供給口の配管継手に清浄空気又は清浄ガスを導
入する配管を接続することにより、清浄空気又は清浄ガ
スを供給口から強制的に供給し、且つ、その清浄空気又
は清浄ガスを排気口から排気することが出来るので、外
気からの塵埃及び保管ボックスから発生するフタル酸エ
ステル等の有機物による汚染から半導体ウエハを保護す
ることが可能になる。特に、保管ボックス内に常時又は
間欠的に流れる空気流を作る構成により、保管ボックス
から発生する有機ガスが半導体ウエハ表面に付着するこ
とはなく、また、一旦半導体ウエハの表面に付着しても
空気流によって排除されるので、半導体ウエハ表面への
パーティクルや有機ガス等による汚染が効果的に防止で
きる。
ると、半導体ウエハを保管ボックスに収容する際には、
単にエア供給口の配管継手に清浄空気又は清浄ガスを導
入する配管を接続することにより、清浄空気又は清浄ガ
スを供給口から強制的に供給し、且つ、その清浄空気又
は清浄ガスを排気口から排気することが出来るので、外
気からの塵埃及び保管ボックスから発生するフタル酸エ
ステル等の有機物による汚染から半導体ウエハを保護す
ることが可能になる。特に、保管ボックス内に常時又は
間欠的に流れる空気流を作る構成により、保管ボックス
から発生する有機ガスが半導体ウエハ表面に付着するこ
とはなく、また、一旦半導体ウエハの表面に付着しても
空気流によって排除されるので、半導体ウエハ表面への
パーティクルや有機ガス等による汚染が効果的に防止で
きる。
【００１０】なお、本発明の半導体ウエハの保管ボック
スは、一般的な半導体ウエハに限らず、清浄に保管した
い材料であれば、材料自身、製造工程中の半導体材料、
或いは、液晶等の製品や半製品等、あらゆる材料、製品
及び半製品の保管に利用できる。
スは、一般的な半導体ウエハに限らず、清浄に保管した
い材料であれば、材料自身、製造工程中の半導体材料、
或いは、液晶等の製品や半製品等、あらゆる材料、製品
及び半製品の保管に利用できる。
【００１１】本発明の半導体ウエハの保管ボックス本体
は、如何なる材料で製作してもよいが、有機物を含む材
料、例えば、ポリカーボネート系の材料で製作する場合
に、本発明の効果が特に良好に発揮される。本発明で使
用するフィルタには、特に限定はないが、ＵＬＰＡフィ
ルタがその性能上から特に好ましい。配管継手は、清浄
空気又は清浄ガスを供給する配管やチューブ等に接続で
きればよく、特定の形状や材質に限定されない。
は、如何なる材料で製作してもよいが、有機物を含む材
料、例えば、ポリカーボネート系の材料で製作する場合
に、本発明の効果が特に良好に発揮される。本発明で使
用するフィルタには、特に限定はないが、ＵＬＰＡフィ
ルタがその性能上から特に好ましい。配管継手は、清浄
空気又は清浄ガスを供給する配管やチューブ等に接続で
きればよく、特定の形状や材質に限定されない。
【００１２】本発明に係る半導体ウエハの保管ボックス
の好ましい例では、前記エア供給口は保管ボックスの上
部付近に配置され、前記排気口は保管ボックスの底部付
近であって前記エア供給口が配置される面と対向する面
に配置される。このような構成を採用することによっ
て、空気流が常に上方から下方に且つ対向面に向かうの
で、パーティクルや有機ガスもこれに追従する。つま
り、何らかの理由によってフィルタを通過したパーティ
クルや、保管ボックス内部で発生した有機ガス等が、よ
り有効に半導体ウエハの表面から排除される。
の好ましい例では、前記エア供給口は保管ボックスの上
部付近に配置され、前記排気口は保管ボックスの底部付
近であって前記エア供給口が配置される面と対向する面
に配置される。このような構成を採用することによっ
て、空気流が常に上方から下方に且つ対向面に向かうの
で、パーティクルや有機ガスもこれに追従する。つま
り、何らかの理由によってフィルタを通過したパーティ
クルや、保管ボックス内部で発生した有機ガス等が、よ
り有効に半導体ウエハの表面から排除される。
【００１３】また、本発明の好ましい例では、前記エア
供給口の配管継手がワンタッチ継手で構成される。この
場合、清浄空気又は清浄ガスを供給するための配管接続
が特に容易に行われる。
供給口の配管継手がワンタッチ継手で構成される。この
場合、清浄空気又は清浄ガスを供給するための配管接続
が特に容易に行われる。
【００１４】更に、前記配管継手からは、常時空気流を
流してもよく、或いは、間欠的に空気流を流してもよ
い。何れも、有効に半導体ウエハの表面から分子、ガス
成分、パーティクルを除去することが出来る。このよう
な空気流は、外部の清浄空気供給装置または清浄ガス供
給装置によって作り出してもよく、或いは、電気的な制
御によって配管継手が作り出してもよい。
流してもよく、或いは、間欠的に空気流を流してもよ
い。何れも、有効に半導体ウエハの表面から分子、ガス
成分、パーティクルを除去することが出来る。このよう
な空気流は、外部の清浄空気供給装置または清浄ガス供
給装置によって作り出してもよく、或いは、電気的な制
御によって配管継手が作り出してもよい。
【００１５】更に、保管ボックスには、半導体ウエハが
水平に配置されることが好ましい。半導体ウエハが水平
に配置される保管ボックスにおいて、本発明の効果が特
に有効に発揮される。
水平に配置されることが好ましい。半導体ウエハが水平
に配置される保管ボックスにおいて、本発明の効果が特
に有効に発揮される。
【００１６】本発明の半導体ウエハの運搬装置は、上記
に記載の半導体ウエハ保管ボックスに半導体ウエハを収
容して運搬する、半導体ウエハの運搬装置であって、前
記エア供給口の配管継手に接続可能なエア供給継手を有
し、該エア供給継手から清浄空気又は清浄ガスを供給す
るボンベを備えることを特徴とする。
に記載の半導体ウエハ保管ボックスに半導体ウエハを収
容して運搬する、半導体ウエハの運搬装置であって、前
記エア供給口の配管継手に接続可能なエア供給継手を有
し、該エア供給継手から清浄空気又は清浄ガスを供給す
るボンベを備えることを特徴とする。
【００１７】本発明の運搬装置を採用することによっ
て、運搬中にあっても常に保管ボックス内部に空気流を
作り出すことが出来るので、運搬中においても半導体ウ
エハ表面へのパーティクルや有機物の付着が有効に防止
できる。
て、運搬中にあっても常に保管ボックス内部に空気流を
作り出すことが出来るので、運搬中においても半導体ウ
エハ表面へのパーティクルや有機物の付着が有効に防止
できる。
【００１８】また、本発明の半導体ウエハの運搬方法
は、上記に記載の保管ボックスに半導体ウエハを収容し
て半導体ウエハを運搬する方法であって、前記保管ボッ
クスの扉を開ける際に、該扉の前面から清浄空気又は清
浄ガスを供給し、前記排気口から内部エアを自然排気す
ることを特徴とする。掛かる構成を採用することによ
り、扉を開けた際にも、半導体ウエハの表面に付着す
る、外気からのパーティクルが有効に防止できる。
は、上記に記載の保管ボックスに半導体ウエハを収容し
て半導体ウエハを運搬する方法であって、前記保管ボッ
クスの扉を開ける際に、該扉の前面から清浄空気又は清
浄ガスを供給し、前記排気口から内部エアを自然排気す
ることを特徴とする。掛かる構成を採用することによ
り、扉を開けた際にも、半導体ウエハの表面に付着す
る、外気からのパーティクルが有効に防止できる。
【００１９】本発明の半導体ウエハの保管倉庫は、上記
本発明の保管ボックスに半導体ウエハを収容して半導体
ウエハを保管する、半導体ウエハの保管倉庫であって、
清浄空気又は清浄ガスを供給する配管と、該配管に接続
され前記エア供給口の継手に夫々接続可能な複数のエア
供給継手とを備えることを特徴とする。本発明の保管倉
庫では、保管ボックスを比較的に長期に保管倉庫に保管
しても、保管ボックス内に常時又は間欠的な空気流が作
られるので、外気からのパーティクルや、保管ボックス
内で発生する有機物等の半導体ウエハ表面への付着が有
効に防止できる。なお、保管倉庫は、特定の倉庫に限ら
ず、半導体ウエハを収容した保管ボックスが一時的に保
管される場所であればよい。
本発明の保管ボックスに半導体ウエハを収容して半導体
ウエハを保管する、半導体ウエハの保管倉庫であって、
清浄空気又は清浄ガスを供給する配管と、該配管に接続
され前記エア供給口の継手に夫々接続可能な複数のエア
供給継手とを備えることを特徴とする。本発明の保管倉
庫では、保管ボックスを比較的に長期に保管倉庫に保管
しても、保管ボックス内に常時又は間欠的な空気流が作
られるので、外気からのパーティクルや、保管ボックス
内で発生する有機物等の半導体ウエハ表面への付着が有
効に防止できる。なお、保管倉庫は、特定の倉庫に限ら
ず、半導体ウエハを収容した保管ボックスが一時的に保
管される場所であればよい。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照し、本発明の好
適な実施形態例に基づいて本発明を更に詳細に説明す
る。図１は、本発明の一実施形態例に係る半導体ウエハ
の保管ボックスの側断面図である。保管ボックス１０
は、ポリカーボネート樹脂材料から製作され、全体とし
て４００ｍｍ立法程度の大きさの直方体形状を有し、前
面には半導体ウエハ収容／取出しのための扉１１を有す
る。保管ボックス１０上面の背面近傍には、清浄空気又
は清浄ガス（以下、双方を含めて清浄ガスと呼ぶ）を供
給するための配管と接続するための配管継手１２が形成
され、配管継手１２の内側にＵＬＰＡフィルタが付属し
ている。配管継手１２にバルブを付属させてもよい。
適な実施形態例に基づいて本発明を更に詳細に説明す
る。図１は、本発明の一実施形態例に係る半導体ウエハ
の保管ボックスの側断面図である。保管ボックス１０
は、ポリカーボネート樹脂材料から製作され、全体とし
て４００ｍｍ立法程度の大きさの直方体形状を有し、前
面には半導体ウエハ収容／取出しのための扉１１を有す
る。保管ボックス１０上面の背面近傍には、清浄空気又
は清浄ガス（以下、双方を含めて清浄ガスと呼ぶ）を供
給するための配管と接続するための配管継手１２が形成
され、配管継手１２の内側にＵＬＰＡフィルタが付属し
ている。配管継手１２にバルブを付属させてもよい。
【００２１】保管ボックス１０底面の前面扉１１の近傍
には、自然排気のための排気口１３が形成される。排気
口１３のボックス内部には、ＵＬＰＡフィルタが付属し
ている。半導体ウエハ１４は、保管ボックス１０の内部
両サイドから突出し、保管ボックス１０の前後方向に延
び、且つ、垂直方向に整列して形成された棚の上に搭載
される。１つの保管ボックス１０には一度に、例えば、
２５枚の半導体ウエハ１４が水平に収容される。
には、自然排気のための排気口１３が形成される。排気
口１３のボックス内部には、ＵＬＰＡフィルタが付属し
ている。半導体ウエハ１４は、保管ボックス１０の内部
両サイドから突出し、保管ボックス１０の前後方向に延
び、且つ、垂直方向に整列して形成された棚の上に搭載
される。１つの保管ボックス１０には一度に、例えば、
２５枚の半導体ウエハ１４が水平に収容される。
【００２２】上記実施形態例の保管ボックス１０は、半
導体ウエハの製造プロセスにおいて、或るプロセスステ
ップとこれに後続するプロセスステップとの間で半導体
ウエハ１４を搬送する際に、特に好適に使用できる。複
数の保管ボックス１０を搭載する搬送装置には、清浄ガ
スを充填したボンベを用意し、そのボンベの吐出栓に複
数のホースを接続する。ホースの先端を、各保管ボック
ス１０のエア供給口１２の配管継手に接続する。ボンベ
からの清浄ガスは、常時供給してもよく、或いは、間欠
的に供給してもよい。排気口１３は、自然排気によって
清浄ガスを排出する。
導体ウエハの製造プロセスにおいて、或るプロセスステ
ップとこれに後続するプロセスステップとの間で半導体
ウエハ１４を搬送する際に、特に好適に使用できる。複
数の保管ボックス１０を搭載する搬送装置には、清浄ガ
スを充填したボンベを用意し、そのボンベの吐出栓に複
数のホースを接続する。ホースの先端を、各保管ボック
ス１０のエア供給口１２の配管継手に接続する。ボンベ
からの清浄ガスは、常時供給してもよく、或いは、間欠
的に供給してもよい。排気口１３は、自然排気によって
清浄ガスを排出する。
【００２３】保管ボックス１０のポリカーボネート樹脂
製の内部壁から剥がれ落ちたパーティクル、又は、内部
壁から脱ガスし保管ボックス１０内部を浮遊する有機物
又は有機ガスは、ボックス上部から下方に且つ前方に向
かう空気流によって導かれ、半導体ウエハ１４の表面に
付着することがない。また、一旦は半導体ウエハ１４の
表面に落下した軽い有機物も空気流によってウエハ表面
上を移動し、ウエハ縁部において落下して排気口１３に
導かれる。
製の内部壁から剥がれ落ちたパーティクル、又は、内部
壁から脱ガスし保管ボックス１０内部を浮遊する有機物
又は有機ガスは、ボックス上部から下方に且つ前方に向
かう空気流によって導かれ、半導体ウエハ１４の表面に
付着することがない。また、一旦は半導体ウエハ１４の
表面に落下した軽い有機物も空気流によってウエハ表面
上を移動し、ウエハ縁部において落下して排気口１３に
導かれる。
【００２４】図２は、上記実施形態例の保管ボックス１
０を保管倉庫２０に収容する際の様子を倉庫断面図によ
って示している。倉庫２０内部には、保管ボックス１０
を配置するための床２１が複数段に配置されており、各
保管ボックス１０は、対応する床２１上に保管される。
保管倉庫２０内には、各床２１に沿って、保管ボックス
１０の配置方向に延びる清浄ガス配管２２が取り付けら
れる。各保管ボックス１０の位置に対応してコック２３
及びホース２４が配置され、保管ボックス１０が配置さ
れるとその供給口１２の配管継手にホース２４が接続さ
れる。清浄ガス配管２２には、図示しない清浄ガス供給
装置から清浄ガス２５が供給される。各保管ボックス１
０の排気口１３から排出される清浄ガスは、倉庫２０に
形成された排気口２６を経由して排出される。
０を保管倉庫２０に収容する際の様子を倉庫断面図によ
って示している。倉庫２０内部には、保管ボックス１０
を配置するための床２１が複数段に配置されており、各
保管ボックス１０は、対応する床２１上に保管される。
保管倉庫２０内には、各床２１に沿って、保管ボックス
１０の配置方向に延びる清浄ガス配管２２が取り付けら
れる。各保管ボックス１０の位置に対応してコック２３
及びホース２４が配置され、保管ボックス１０が配置さ
れるとその供給口１２の配管継手にホース２４が接続さ
れる。清浄ガス配管２２には、図示しない清浄ガス供給
装置から清浄ガス２５が供給される。各保管ボックス１
０の排気口１３から排出される清浄ガスは、倉庫２０に
形成された排気口２６を経由して排出される。
【００２５】図３は、搬送装置を構成するロードポート
によって保管ボックスから半導体ウエハを取り出す際の
様子を示している。保管ボックス１０は、搬送台車２７
によってロードポート３０の近傍に搬入される。ロード
ポート３０は、頂部にファン及びＨＥＰＡフィルタを有
する送風ユニット３１を有し、ファンによってロードポ
ート３０内部に清浄ガスを導入しつつ、ウエハローダ３
２を作動させて半導体ウエハ１４を一枚づつ保管ボック
ス１０から搬入開口３３を通して取り出す。ウエハロー
ダ３２によって取り出された半導体ウエハ１４は、ロー
ドポート３０の搬出開口３４を通して一枚づつ図面上で
右方の次工程に送られる。ロードポート３０は、保管ボ
ックス１０の扉を開けるに先立って送風ユニット３１を
作動させて清浄ガス３５を導入し、また、保管ボックス
１０には、同様に扉を開けるに先立ってエア供給口１２
から清浄ガス２５が導入される。清浄ガス２５、３５
は、ロードポート３０の搬入開口３３と保管ボックス１
０の前面との間にエアーシールを形成し、正圧によって
外部からのパーティクルの侵入を防止する。また、清浄
空気２５、３５の一部は、保管ボックス１０下部の排気
口１３から排出される。保管ボックス１０からの半導体
ウエハ１４の取出しが終了し、扉が閉められた後に清浄
ガスの導入が停止される。
によって保管ボックスから半導体ウエハを取り出す際の
様子を示している。保管ボックス１０は、搬送台車２７
によってロードポート３０の近傍に搬入される。ロード
ポート３０は、頂部にファン及びＨＥＰＡフィルタを有
する送風ユニット３１を有し、ファンによってロードポ
ート３０内部に清浄ガスを導入しつつ、ウエハローダ３
２を作動させて半導体ウエハ１４を一枚づつ保管ボック
ス１０から搬入開口３３を通して取り出す。ウエハロー
ダ３２によって取り出された半導体ウエハ１４は、ロー
ドポート３０の搬出開口３４を通して一枚づつ図面上で
右方の次工程に送られる。ロードポート３０は、保管ボ
ックス１０の扉を開けるに先立って送風ユニット３１を
作動させて清浄ガス３５を導入し、また、保管ボックス
１０には、同様に扉を開けるに先立ってエア供給口１２
から清浄ガス２５が導入される。清浄ガス２５、３５
は、ロードポート３０の搬入開口３３と保管ボックス１
０の前面との間にエアーシールを形成し、正圧によって
外部からのパーティクルの侵入を防止する。また、清浄
空気２５、３５の一部は、保管ボックス１０下部の排気
口１３から排出される。保管ボックス１０からの半導体
ウエハ１４の取出しが終了し、扉が閉められた後に清浄
ガスの導入が停止される。
【００２６】上記実施形態例に係る半導体ウエハの保管
ボックス１０、保管倉庫２０、及び、ロードポート（搬
送装置）３０によると、保管中及び運搬中の半導体ウエ
ハの雰囲気が清浄に維持される。特に、保管ボックス１
０から有機物がアウトガスとして排出されても、このア
ウトガスは、清浄ガス流によって排気口から排出され
る。これによって、アウトガスの滞留時間が短縮され、
半導体ウエハ１４表面のアウトガスによる汚染が防止で
きる。また、外部からのパーティクルの侵入も有効に防
止できる。
ボックス１０、保管倉庫２０、及び、ロードポート（搬
送装置）３０によると、保管中及び運搬中の半導体ウエ
ハの雰囲気が清浄に維持される。特に、保管ボックス１
０から有機物がアウトガスとして排出されても、このア
ウトガスは、清浄ガス流によって排気口から排出され
る。これによって、アウトガスの滞留時間が短縮され、
半導体ウエハ１４表面のアウトガスによる汚染が防止で
きる。また、外部からのパーティクルの侵入も有効に防
止できる。
【００２７】以上、本発明をその好適な実施形態例に基
づいて説明したが、本発明の半導体ウエハの保管ボック
ス、運搬装置、運搬方法及び保管倉庫は、上記実施形態
例の構成に限定されるものではなく、上記実施形態例か
ら種々の変更を施したものも本発明の範囲に含まれる。
例えば、本発明の保管ボックスは、前面扉の例に限定さ
れるものではなく、例えば底面がが扉の保管ボックスに
も適用できる。また、本発明の保管ボックスは、半導体
ウエハに限らず、半導体ウエハと同程度の清浄度が要求
される各種材料、半製品及び完成品の保管が可能であ
る。
づいて説明したが、本発明の半導体ウエハの保管ボック
ス、運搬装置、運搬方法及び保管倉庫は、上記実施形態
例の構成に限定されるものではなく、上記実施形態例か
ら種々の変更を施したものも本発明の範囲に含まれる。
例えば、本発明の保管ボックスは、前面扉の例に限定さ
れるものではなく、例えば底面がが扉の保管ボックスに
も適用できる。また、本発明の保管ボックスは、半導体
ウエハに限らず、半導体ウエハと同程度の清浄度が要求
される各種材料、半製品及び完成品の保管が可能であ
る。
【００２８】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明の半導体
ウエハの保管ボックスによると、保管ボックス内に常時
又は間欠的に空気流を強制的に作ることが出来るので、
半導体ウエハ表面へのパーティクルや有機物の付着が有
効に防止できる。
ウエハの保管ボックスによると、保管ボックス内に常時
又は間欠的に空気流を強制的に作ることが出来るので、
半導体ウエハ表面へのパーティクルや有機物の付着が有
効に防止できる。
【００２９】また、本発明の半導体ウエハの運搬装置、
運搬方法及び保管倉庫を使用すると、上記保管ボックス
の作用をより有効に発揮させることが出来る。
運搬方法及び保管倉庫を使用すると、上記保管ボックス
の作用をより有効に発揮させることが出来る。
【図１】本発明の一実施形態例に係る半導体ウエハの保
管ボックスの側断面図。
管ボックスの側断面図。
【図２】本発明の一実施形態例に係る保管倉庫の側断面
図。
図。
【図３】本発明の一実施形態例に係る運搬装置の一部を
構成するロードポートにおける半導体ウエハの取出しの
様子を示す断面図。
構成するロードポートにおける半導体ウエハの取出しの
様子を示す断面図。
【図４】従来の半導体ウエハの保管ボックスの側断面
図。
図。
【図５】従来の半導体ウエハの運搬装置の一部を構成す
るロードポートにおける半導体ウエハの取出しの様子を
示す断面図。
るロードポートにおける半導体ウエハの取出しの様子を
示す断面図。
１０：保管ボックス
１１：扉
１２：エア供給口
１３：排気口
１４：半導体ウエハ
２０：保管倉庫
２１：床
２２：清浄ガス配管
２３：コック
２４：ホース
２５：清浄ガス
２６：排気口
２７：搬送台車
３０：ロードポート
３１：送風ユニット
３２：ローダ
３３：搬入開口
３４：搬出開口
３５：清浄ガス
Claims (7)
- 【請求項１】 複数枚の半導体ウエハを相互に間隙を隔
てて収容する半導体ウエハの保管ボックスにおいて、 配管継手及びフィルタを有し外部からエアが強制的に供
給されるエア供給口と、フィルタを有し内部のエアを排
気する排気口とを備えることを特徴とする半導体ウエハ
の保管ボックス。 - 【請求項２】 前記エア供給口は保管ボックスの上部付
近に配置され、前記排気口は保管ボックスの底部付近で
あって前記エア供給口が配置される面と対向する面に配
置される、請求項１に記載の半導体ウエハ保管ボック
ス。 - 【請求項３】 前記エア供給口の配管継手がワンタッチ
継手である、請求項１又は２に記載の半導体ウエハ保管
ボックス。 - 【請求項４】 前記保管ボックスには、半導体ウエハが
水平に配置される、請求項１〜３の何れかに記載の半導
体ウエハ保管ボックス。 - 【請求項５】 請求項１〜４の何れかに記載の半導体ウ
エハ保管ボックスに半導体ウエハを収容して運搬する、
半導体ウエハの運搬装置であって、 前記エア供給口の配管継手に接続可能なエア供給継手を
有し、該エア供給継手から清浄空気又は清浄ガスを供給
するボンベを備えることを特徴とする半導体ウエハの運
搬装置。 - 【請求項６】 請求項１〜４の何れかに記載の保管ボッ
クスに半導体ウエハを収容して半導体ウエハを運搬する
方法であって、前記保管ボックスの扉を開ける際に、該
扉の前面から清浄空気又は清浄ガスを供給し、前記排気
口から内部エアを自然排気することを特徴とする半導体
ウエハの運搬方法。 - 【請求項７】 請求項１〜４の何れかに記載の保管ボッ
クスに半導体ウエハを収容して半導体ウエハを保管す
る、半導体ウエハの保管倉庫であって、 清浄空気又は清浄ガスを供給する配管と、該配管に接続
され前記エア供給口の継手に夫々接続可能な複数のエア
供給継手とを備えることを特徴とする半導体ウエハの保
管倉庫。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001185943A JP2003007813A (ja) | 2001-06-20 | 2001-06-20 | 半導体ウエハの保管ボックス、運搬装置、運搬方法及び保管倉庫 |
| US10/167,481 US20020194995A1 (en) | 2001-06-20 | 2002-06-13 | Retaining box, and a feeding apparatus of a semiconductor wafer, which can feed or retain a semiconductor wafer without any contamination of the semiconductor wafer caused by a hydrocarbon in air and a hydrocarbon generated from a retaining box |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001185943A JP2003007813A (ja) | 2001-06-20 | 2001-06-20 | 半導体ウエハの保管ボックス、運搬装置、運搬方法及び保管倉庫 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003007813A true JP2003007813A (ja) | 2003-01-10 |
Family
ID=19025446
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001185943A Pending JP2003007813A (ja) | 2001-06-20 | 2001-06-20 | 半導体ウエハの保管ボックス、運搬装置、運搬方法及び保管倉庫 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20020194995A1 (ja) |
| JP (1) | JP2003007813A (ja) |
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| JP2004260172A (ja) * | 2003-02-25 | 2004-09-16 | Samsung Electronics Co Ltd | ウェーハ処理装置及び方法 |
| WO2005124853A1 (ja) * | 2004-06-21 | 2005-12-29 | Right Mfg,Co.,Ltd. | ロードポート |
| JP2006049683A (ja) * | 2004-08-06 | 2006-02-16 | Renesas Technology Corp | 半導体集積回路装置の製造方法 |
| JP2010016199A (ja) * | 2008-07-03 | 2010-01-21 | Murata Mach Ltd | パージ装置 |
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| US9010384B2 (en) | 2004-06-21 | 2015-04-21 | Right Mfg. Co. Ltd. | Load port |
| JP2016219620A (ja) * | 2015-05-21 | 2016-12-22 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法およびそれに用いられるｆｏｕｐ |
| JP2019102617A (ja) * | 2017-11-30 | 2019-06-24 | Tdk株式会社 | 仮置きストッカ |
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| US5843196A (en) * | 1997-01-21 | 1998-12-01 | International Business Machines Corporation | Ultra-clean transport carrier |
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-
2001
- 2001-06-20 JP JP2001185943A patent/JP2003007813A/ja active Pending
-
2002
- 2002-06-13 US US10/167,481 patent/US20020194995A1/en not_active Abandoned
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| US20020194995A1 (en) | 2002-12-26 |
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