JPS63113450A - 感光性組成物 - Google Patents
感光性組成物Info
- Publication number
- JPS63113450A JPS63113450A JP62121666A JP12166687A JPS63113450A JP S63113450 A JPS63113450 A JP S63113450A JP 62121666 A JP62121666 A JP 62121666A JP 12166687 A JP12166687 A JP 12166687A JP S63113450 A JPS63113450 A JP S63113450A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyurethane resin
- acid
- compound
- compounds
- present
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 claims abstract description 52
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 12
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 claims description 13
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 claims description 11
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 9
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 abstract description 29
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 20
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 18
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 18
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 3
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 abstract description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 abstract 1
- VIKNJXKGJWUCNN-XGXHKTLJSA-N norethisterone Chemical compound O=C1CC[C@@H]2[C@H]3CC[C@](C)([C@](CC4)(O)C#C)[C@@H]4[C@@H]3CCC2=C1 VIKNJXKGJWUCNN-XGXHKTLJSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract 1
- -1 cyclic acid anhydride Chemical class 0.000 description 49
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 38
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 30
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 27
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 20
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 18
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 16
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 12
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 12
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 11
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 11
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 9
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 8
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 8
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 7
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 7
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 7
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 6
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 6
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 5
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 5
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 5
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 4
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 description 4
- GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N diethylaniline Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC=C1 GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 3
- WRJWRGBVPUUDLA-UHFFFAOYSA-N chlorosulfonyl isocyanate Chemical compound ClS(=O)(=O)N=C=O WRJWRGBVPUUDLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 3
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 3
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- FZQLEXXZAVVCCA-XCVCLJGOSA-N (e)-1,3-bis(4-hydroxyphenyl)prop-2-en-1-one Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1\C=C\C(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FZQLEXXZAVVCCA-XCVCLJGOSA-N 0.000 description 2
- RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC(CN=C=O)=C1 RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LDLCZOVUSADOIV-UHFFFAOYSA-N 2-bromoethanol Chemical compound OCCBr LDLCZOVUSADOIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UYEMGAFJOZZIFP-UHFFFAOYSA-N 3,5-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=CC(O)=C1 UYEMGAFJOZZIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XQXPVVBIMDBYFF-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxyphenylacetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=C(O)C=C1 XQXPVVBIMDBYFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001241 acetals Chemical group 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 2
- DLDJFQGPPSQZKI-UHFFFAOYSA-N but-2-yne-1,4-diol Chemical compound OCC#CCO DLDJFQGPPSQZKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 2
- WJJMNDUMQPNECX-UHFFFAOYSA-N dipicolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=N1 WJJMNDUMQPNECX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- AOCYHPQXGJBAQQ-UHFFFAOYSA-N ethyl n-sulfonylcarbamate Chemical group CCOC(=O)N=S(=O)=O AOCYHPQXGJBAQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- LHGVFZTZFXWLCP-UHFFFAOYSA-N guaiacol Chemical compound COC1=CC=CC=C1O LHGVFZTZFXWLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N para-benzoquinone Natural products O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002988 phenazines Chemical class 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 2
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- FZQLEXXZAVVCCA-UHFFFAOYSA-N (E)-1,3-bis(4-hydroxyphenyl)prop-2-en-1-one Natural products C1=CC(O)=CC=C1C=CC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FZQLEXXZAVVCCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- YOTAKXIZZOMDJH-OWOJBTEDSA-N (e)-4-(2,2-dihydroxyethoxy)-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound OC(O)COC(=O)\C=C\C(O)=O YOTAKXIZZOMDJH-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- YOTAKXIZZOMDJH-UPHRSURJSA-N (z)-4-(2,2-dihydroxyethoxy)-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound OC(O)COC(=O)\C=C/C(O)=O YOTAKXIZZOMDJH-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- ORTVZLZNOYNASJ-UPHRSURJSA-N (z)-but-2-ene-1,4-diol Chemical compound OC\C=C/CO ORTVZLZNOYNASJ-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLKMGYGBHFODF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=C(CN=C=O)C=C1 OHLKMGYGBHFODF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-5,6-dimethylheptane Chemical compound O=C=NC(C)(C)C(C)CCCCN=C=O VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVMHMVJVHYGDOO-UHFFFAOYSA-N 1-bromobut-2-ene Chemical compound CC=CCBr AVMHMVJVHYGDOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNNXOEHOXSYWLD-UHFFFAOYSA-N 1-bromobut-2-yne Chemical compound CC#CCBr LNNXOEHOXSYWLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 2,2-Bis(hydroxymethyl)propionic acid Chemical compound OCC(C)(CO)C(O)=O PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEUMBMHMMCOFAG-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrooxadiazole Chemical compound N1NC=CO1 VEUMBMHMMCOFAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-M 2,4,6-trimethylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC(C)=C(S([O-])(=O)=O)C(C)=C1 LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical class OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSPWPPZLZADCAG-UHFFFAOYSA-N 2-(1-phenylprop-1-enoxymethyl)oxirane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=CC)OCC1CO1 JSPWPPZLZADCAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNZJWOOLGPPUKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylethenyl)-5-(trichloromethyl)-1,3,4-oxadiazole Chemical compound O1C(C(Cl)(Cl)Cl)=NN=C1C=CC1=CC=CC=C1 NNZJWOOLGPPUKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISMOJWRJYOWCQW-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-(trichloromethyl)-1,3,4-oxadiazole Chemical compound C1=C(OC)C(OC)=CC=C1C1=NN=C(C(Cl)(Cl)Cl)O1 ISMOJWRJYOWCQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTNICFBTUIFPOE-UHFFFAOYSA-N 2-(4-hydroxyphenoxy)ethane-1,1-diol Chemical compound OC(O)COC1=CC=C(O)C=C1 CTNICFBTUIFPOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICTNASDKKZRWNT-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-5-(trichloromethyl)-1,3,4-oxadiazole Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C1=NN=C(C(Cl)(Cl)Cl)O1 ICTNASDKKZRWNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLRSFKOXUMHAFS-UHFFFAOYSA-N 2-(but-2-enoxymethyl)oxirane Chemical compound CC=CCOCC1CO1 WLRSFKOXUMHAFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYFZCLMMUNCHNH-UHFFFAOYSA-N 2-(prop-2-ynoxymethyl)oxirane Chemical compound C#CCOCC1CO1 SYFZCLMMUNCHNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJXPXNZUSXLSTF-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(4-butoxyphenyl)ethenyl]-5-(trichloromethyl)-1,3,4-oxadiazole Chemical compound C1=CC(OCCCC)=CC=C1C=CC1=NN=C(C(Cl)(Cl)Cl)O1 IJXPXNZUSXLSTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIKJXWFVPDDJNU-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(4-methoxyphenyl)ethenyl]-5-(trichloromethyl)-1,3,4-oxadiazole Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C=CC1=NN=C(C(Cl)(Cl)Cl)O1 JIKJXWFVPDDJNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOUNVIODQAWDAN-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(4-methylphenyl)ethenyl]-5-(trichloromethyl)-1,3,4-oxadiazole Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C=CC1=NN=C(C(Cl)(Cl)Cl)O1 YOUNVIODQAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNIBOEDSTLUPQG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[4-(2-phenylethenyl)phenyl]ethenyl]-5-(trichloromethyl)-1,3,4-oxadiazole Chemical compound O1C(C(Cl)(Cl)Cl)=NN=C1C=CC(C=C1)=CC=C1C=CC1=CC=CC=C1 WNIBOEDSTLUPQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKRVDCXVFKKHOK-UHFFFAOYSA-N 2-bromoethyl 3-phenylprop-2-enoate Chemical compound BrCCOC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 VKRVDCXVFKKHOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMRVLXHIZWDOOK-UHFFFAOYSA-N 2-butylnaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(CCCC)=CC=C21 BMRVLXHIZWDOOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- RUROFEVDCUGKHD-UHFFFAOYSA-N 3-bromoprop-1-enylbenzene Chemical compound BrCC=CC1=CC=CC=C1 RUROFEVDCUGKHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULMZOZMSDIOZAF-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-2-(hydroxymethyl)propanoic acid Chemical compound OCC(CO)C(O)=O ULMZOZMSDIOZAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHIIENSHBMGNJE-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butyl-4-(2-tert-butyl-4-hydroxy-6-methylphenyl)sulfanyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=CC(C(C)(C)C)=C1SC1=C(C)C=C(O)C=C1C(C)(C)C MHIIENSHBMGNJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMLFTCYAQPPZER-UHFFFAOYSA-N 4-(bromomethyl)benzonitrile Chemical compound BrCC1=CC=C(C#N)C=C1 UMLFTCYAQPPZER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQPGDDAKTTWVDD-UHFFFAOYSA-N 4-bromobutanenitrile Chemical compound BrCCCC#N CQPGDDAKTTWVDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEPBITJSIHRMRT-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzenesulfonic acid Chemical compound OC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 FEPBITJSIHRMRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUARLQDWYSRQDF-UHFFFAOYSA-N 5-Nitroacenaphthene Chemical compound C1CC2=CC=CC3=C2C1=CC=C3[N+](=O)[O-] CUARLQDWYSRQDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWWWGAKVHCSAEU-UHFFFAOYSA-N 5-bromopentanenitrile Chemical compound BrCCCCC#N NWWWGAKVHCSAEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 9-phenylacridine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- DKJOHIMWQYGXFU-UHFFFAOYSA-N C(N)(OCC1=CC(=C(C=C1CCO)CCO)COC(N)=O)=O Chemical compound C(N)(OCC1=CC(=C(C=C1CCO)CCO)COC(N)=O)=O DKJOHIMWQYGXFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 1
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- 206010012442 Dermatitis contact Diseases 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- VKOUCJUTMGHNOR-UHFFFAOYSA-N Diphenolic acid Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(CCC(O)=O)(C)C1=CC=C(O)C=C1 VKOUCJUTMGHNOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical group C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N N-phenylglycine Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=CC=C1 NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QECVIPBZOPUTRD-UHFFFAOYSA-N N=S(=O)=O Chemical group N=S(=O)=O QECVIPBZOPUTRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical group [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000165990 Picoa Species 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol, Natural products OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N allyl bromide Chemical compound BrCC=C BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Chemical group C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical class C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- ULCGAWLDXLEIIR-UHFFFAOYSA-N bis(2-hydroxyethyl) benzene-1,3-dicarboxylate Chemical compound OCCOC(=O)C1=CC=CC(C(=O)OCCO)=C1 ULCGAWLDXLEIIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N bisoctrizole Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N2N=C3C=CC=CC3=N2)O)=C1O FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000001734 carboxylic acid salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920001727 cellulose butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- KQWGXHWJMSMDJJ-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl isocyanate Chemical compound O=C=NC1CCCCC1 KQWGXHWJMSMDJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical compound [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H dipotassium;hexafluorozirconium(2-) Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[K+].[Zr+4] BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001867 guaiacol Drugs 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000852 hydrogen donor Substances 0.000 description 1
- 230000000640 hydroxylating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N n-hydroxy-n-phenylnitrous amide Chemical compound O=NN(O)C1=CC=CC=C1 DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010680 novolac-type phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- JUVGLPRIQOJMIR-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl 3-phenylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC(=O)OCC1CO1 JUVGLPRIQOJMIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRNFFDZCBYOZJY-UHFFFAOYSA-N p-quinodimethane Chemical group C=C1C=CC(=C)C=C1 NRNFFDZCBYOZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M phosphinate Chemical compound [O-][PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- YORCIIVHUBAYBQ-UHFFFAOYSA-N propargyl bromide Chemical compound BrCC#C YORCIIVHUBAYBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940080818 propionamide Drugs 0.000 description 1
- 239000008262 pumice Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 102200014657 rs121434437 Human genes 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- NVBFHJWHLNUMCV-UHFFFAOYSA-N sulfamide Chemical group NS(N)(=O)=O NVBFHJWHLNUMCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLQWHDODQVOVKU-UHFFFAOYSA-N tetrapotassium;silicate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] RLQWHDODQVOVKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-ONEGZZNKSA-N trans-but-2-ene Chemical compound C\C=C\C IAQRGUVFOMOMEM-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/08—Processes
- C08G18/0804—Manufacture of polymers containing ionic or ionogenic groups
- C08G18/0819—Manufacture of polymers containing ionic or ionogenic groups containing anionic or anionogenic groups
- C08G18/0823—Manufacture of polymers containing ionic or ionogenic groups containing anionic or anionogenic groups containing carboxylate salt groups or groups forming them
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
- C08G18/30—Low-molecular-weight compounds
- C08G18/34—Carboxylic acids; Esters thereof with monohydroxyl compounds
- C08G18/348—Hydroxycarboxylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
- C08G18/67—Unsaturated compounds having active hydrogen
- C08G18/675—Low-molecular-weight compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
- C08G18/67—Unsaturated compounds having active hydrogen
- C08G18/675—Low-molecular-weight compounds
- C08G18/679—Acetylenic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/83—Chemically modified polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
- G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0212—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
- G03F7/0217—Polyurethanes; Epoxy resins
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
- Y10S430/107—Polyamide or polyurethane
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はネガ作用の感光性組成物に関するものであり、
特に水性アルカリ現像液で現像することができ、光架橋
性が良く、高耐刷力の平版印刷版に得られる感光性平版
印刷版に好適に使用される感光性組成物に関する。
特に水性アルカリ現像液で現像することができ、光架橋
性が良く、高耐刷力の平版印刷版に得られる感光性平版
印刷版に好適に使用される感光性組成物に関する。
〔従来の技術つ
予め感光性を与えられたネガ作用の印刷材料の感光性物
質として使用されているものの大多数はジアゾニウム化
合物であり、その最も常用されているものにp−ジアゾ
ジフェニルアミンのホルムアルデヒド縮合物に代表され
るジアゾ樹脂がある。
質として使用されているものの大多数はジアゾニウム化
合物であり、その最も常用されているものにp−ジアゾ
ジフェニルアミンのホルムアルデヒド縮合物に代表され
るジアゾ樹脂がある。
ジアゾ樹脂を用いた感光性平版印刷版の感光性層の組成
物は、例えば米国特許第2.714.066号明細書に
記載されているようにジアゾ樹脂単独のもの、つまり結
合剤を1吏用しないものと、例えば特開昭50−306
04号公報に記載されているように結合剤とジアゾ樹脂
が混合されているものに分類することができるが、近年
ジアゾニウム化合物を用いた感光性平版印刷版の多くの
ものは高耐刷性を持たせるためにジアゾニウム化合物と
結合剤となるポリマーよりなっている。
物は、例えば米国特許第2.714.066号明細書に
記載されているようにジアゾ樹脂単独のもの、つまり結
合剤を1吏用しないものと、例えば特開昭50−306
04号公報に記載されているように結合剤とジアゾ樹脂
が混合されているものに分類することができるが、近年
ジアゾニウム化合物を用いた感光性平版印刷版の多くの
ものは高耐刷性を持たせるためにジアゾニウム化合物と
結合剤となるポリマーよりなっている。
このような感光層としては特開昭50−30604号公
報に記載されているように、未露光部が水性アルカリ現
像液によって除去(現像)される所謂アルカリ現像型と
、有機溶剤系現像液によって除去される所謂溶剤現像型
が知られているが、労働安全衛生上、アルカリ現像型が
注目されている。このようなアルカリ現像型感光層に有
用な結合剤としては前記特開昭50−30604号公報
に記載されているように2−ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレートとメタクリル酸のようなカルボン酸含有の
モノマーとを共重合させたポリマー、米国特許第2.8
61.058号明細書に記載されているようにポリビニ
ルアルコールのヒドロキシル基と無水フタル酸のような
環状酸無水物を反応させることによりポリマー中にカル
ボン酸を導入したものがあるが、得られたポリマーは構
造上、耐摩耗性が悪く、このような結合剤を感光層に含
む感光性平版印刷版からは耐剛力の低い平版印刷版しか
得られなかった。一方ポリビニルアセタールは強じんな
皮膜を形成し、耐摩耗性もあるが有機溶剤現像型の感光
性平版印刷版しか得られないという欠点があった。
報に記載されているように、未露光部が水性アルカリ現
像液によって除去(現像)される所謂アルカリ現像型と
、有機溶剤系現像液によって除去される所謂溶剤現像型
が知られているが、労働安全衛生上、アルカリ現像型が
注目されている。このようなアルカリ現像型感光層に有
用な結合剤としては前記特開昭50−30604号公報
に記載されているように2−ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレートとメタクリル酸のようなカルボン酸含有の
モノマーとを共重合させたポリマー、米国特許第2.8
61.058号明細書に記載されているようにポリビニ
ルアルコールのヒドロキシル基と無水フタル酸のような
環状酸無水物を反応させることによりポリマー中にカル
ボン酸を導入したものがあるが、得られたポリマーは構
造上、耐摩耗性が悪く、このような結合剤を感光層に含
む感光性平版印刷版からは耐剛力の低い平版印刷版しか
得られなかった。一方ポリビニルアセタールは強じんな
皮膜を形成し、耐摩耗性もあるが有機溶剤現像型の感光
性平版印刷版しか得られないという欠点があった。
また、耐摩耗性が優れた公知のポリマーとしてポリウレ
タン樹脂があり、特公昭49−36961号公報、およ
び特開昭56−94346号公報において、ジアゾニウ
ム化合物と実質上線状のポリウレタン樹脂とを組合わせ
た組成物、およびジアゾニウム塩重縮合物と分岐状のポ
リウレタン樹脂とを組合わせた組成物が、それぞれ開示
されている。
タン樹脂があり、特公昭49−36961号公報、およ
び特開昭56−94346号公報において、ジアゾニウ
ム化合物と実質上線状のポリウレタン樹脂とを組合わせ
た組成物、およびジアゾニウム塩重縮合物と分岐状のポ
リウレタン樹脂とを組合わせた組成物が、それぞれ開示
されている。
しかし、これらのポリウレタン樹脂はいずれもアルカリ
可溶性基を有しておらず、本質的に水性アルカリ現像液
に対する溶解性が不充分であり、このポリウレタン樹脂
をバインダーとする感光性組成物を感光層とする感光性
平版印刷版は非露光域に残膜を生じることなく現像を行
なうことは非常に困難であった。更にこのポリウレタン
樹脂は、組合わせたジアゾニウム化合物と露光時に光反
応を起こして、効率よく架橋する部位を有していない為
、充分な強度を有する画像を形成しないという欠点を有
していた。
可溶性基を有しておらず、本質的に水性アルカリ現像液
に対する溶解性が不充分であり、このポリウレタン樹脂
をバインダーとする感光性組成物を感光層とする感光性
平版印刷版は非露光域に残膜を生じることなく現像を行
なうことは非常に困難であった。更にこのポリウレタン
樹脂は、組合わせたジアゾニウム化合物と露光時に光反
応を起こして、効率よく架橋する部位を有していない為
、充分な強度を有する画像を形成しないという欠点を有
していた。
一方、光重合性組成物をネガ作用の感光性平版印刷版の
感光性画像形成層として用いる試みは多く、特公昭4’
6−32714号公報に開示されているようなバインダ
ーとしてのポリマー、モノマーおよび光重合開始剤から
成る基本組成、特公昭49−34041号公報に開示さ
れているようなバインダーとしてのポリマーに不飽和二
重結合を導入し、硬化効率を改善した組成、特公昭48
−38403号及び特公昭53−27605号の各公報
、及び英国特許第1.388.492号明細書等に開示
されている・ような新規な光重合開始剤を用いた組成等
が知られており、一部で実用に供されているが、いずれ
の感光性組成物も、画像露光時の感光性平版印刷版の表
面温度により、感度が大きく左右され、また画像露光時
に酸素による重合阻害を強く受けるという欠点があった
。
感光性画像形成層として用いる試みは多く、特公昭4’
6−32714号公報に開示されているようなバインダ
ーとしてのポリマー、モノマーおよび光重合開始剤から
成る基本組成、特公昭49−34041号公報に開示さ
れているようなバインダーとしてのポリマーに不飽和二
重結合を導入し、硬化効率を改善した組成、特公昭48
−38403号及び特公昭53−27605号の各公報
、及び英国特許第1.388.492号明細書等に開示
されている・ような新規な光重合開始剤を用いた組成等
が知られており、一部で実用に供されているが、いずれ
の感光性組成物も、画像露光時の感光性平版印刷版の表
面温度により、感度が大きく左右され、また画像露光時
に酸素による重合阻害を強く受けるという欠点があった
。
本発明の目的は上記欠点を克服し、水性アルカリ現像液
に対する現像性が優れ、光架橋性が良く、高耐刷性を有
する新規な感光性組成物を提供することである。
に対する現像性が優れ、光架橋性が良く、高耐刷性を有
する新規な感光性組成物を提供することである。
本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、
新規な感光性組成物を使用することで、これらの目的が
達成されることを見い出し、本発明に到達した。
新規な感光性組成物を使用することで、これらの目的が
達成されることを見い出し、本発明に到達した。
すなわち本発明は、酸性水素原子を持つ置換基を有する
ポリウレタン樹脂、を含有することを特徴とする感光性
組成物を提供するものである。
ポリウレタン樹脂、を含有することを特徴とする感光性
組成物を提供するものである。
なお本発明における酸性水素原子を持つ置換基とは、そ
の水中での酸解離定数(。Ka)が7以下のものをさし
、たとえば−COOH,−3O7NflCOO−1−(
”0N)1s[1□−1−(’0N)1sO□N)l−
1−NHCON)IS[]□−などが含まれる。樹脂の
1g当りの酸含量は、0.05〜6ミリ当量が好ましい
。0.05ミリ当量より少ないとアルカリ現像液での現
像性が不十分となり、6ミリ当量より多いと耐摩耗性が
劣化してくる。
の水中での酸解離定数(。Ka)が7以下のものをさし
、たとえば−COOH,−3O7NflCOO−1−(
”0N)1s[1□−1−(’0N)1sO□N)l−
1−NHCON)IS[]□−などが含まれる。樹脂の
1g当りの酸含量は、0.05〜6ミリ当量が好ましい
。0.05ミリ当量より少ないとアルカリ現像液での現
像性が不十分となり、6ミリ当量より多いと耐摩耗性が
劣化してくる。
好ましくは0.2〜4ミリ当量である。
本発明のポリウレタン樹脂には、炭素−炭素不飽和結合
を含有させることが好ましい。本発明における炭素−炭
素不飽和結合とは、エチレン及びアセチレン結合の両者
を意味し包含するが、好ましくはエチレン結合である。
を含有させることが好ましい。本発明における炭素−炭
素不飽和結合とは、エチレン及びアセチレン結合の両者
を意味し包含するが、好ましくはエチレン結合である。
本発明の感光性組成物の基本組成としては、該ポリウレ
タン樹脂単独で使用することもできるが、好ましくは以
下に示す組成を組み合せた系で使用される。即ち、 (1)本発明のポリウレタン樹脂と光重合開始剤及び/
又は増感剤との組み合せ系、 (2)本発明のポリウレタン樹脂とジアゾニウム化合物
との組み合せ系、 (3)本発明のポリウレタン樹脂と重合可能なエチレン
性不飽和基を少なくとも2個有するモノマー又はオリゴ
マーと光重合開始剤及び/又は増感剤との組み合せ系、 (4)本発明のポリウレタン樹脂と光重合開始剤及び/
又は増感剤とジアゾニウム化合物との組み合せ系、 (5)本発明のポリウレタン樹脂と重合可能なエチレン
性不飽和基を少なくとも2個有するモノマー又はオリゴ
マーと光重合開始剤及び/又は増感剤とジアゾニウム化
合物との組み合せ系、において使用される。
タン樹脂単独で使用することもできるが、好ましくは以
下に示す組成を組み合せた系で使用される。即ち、 (1)本発明のポリウレタン樹脂と光重合開始剤及び/
又は増感剤との組み合せ系、 (2)本発明のポリウレタン樹脂とジアゾニウム化合物
との組み合せ系、 (3)本発明のポリウレタン樹脂と重合可能なエチレン
性不飽和基を少なくとも2個有するモノマー又はオリゴ
マーと光重合開始剤及び/又は増感剤との組み合せ系、 (4)本発明のポリウレタン樹脂と光重合開始剤及び/
又は増感剤とジアゾニウム化合物との組み合せ系、 (5)本発明のポリウレタン樹脂と重合可能なエチレン
性不飽和基を少なくとも2個有するモノマー又はオリゴ
マーと光重合開始剤及び/又は増感剤とジアゾニウム化
合物との組み合せ系、において使用される。
ここで該ポリウレタン樹脂が炭素−炭素不飽和結合を含
有する場合は、上記のいずれの系においても使用される
が、炭素−炭素不飽和結合を含有しない場合は、(2)
、(3)、(4)、(5)の系のみにおいて使用される
。
有する場合は、上記のいずれの系においても使用される
が、炭素−炭素不飽和結合を含有しない場合は、(2)
、(3)、(4)、(5)の系のみにおいて使用される
。
イ)カルボキシル基を含有するポリウレタン樹脂本発明
に好適に使用されるポリウレタン樹脂としては下記一般
式(1)で表わされるジイソシアネート化合物と、一般
式(II)、(III)又は(rV)で表わされるカル
ボキシル基を有するジオール化合物との反応生成物を基
本骨格とするポリウレタン樹脂が含まれる。
に好適に使用されるポリウレタン樹脂としては下記一般
式(1)で表わされるジイソシアネート化合物と、一般
式(II)、(III)又は(rV)で表わされるカル
ボキシル基を有するジオール化合物との反応生成物を基
本骨格とするポリウレタン樹脂が含まれる。
0[1:N−R,−NCO([)
1 (■)
R6
?
0OH
HOL Ar Rじ−DH
Rs (III)0Dl1
110−R3−N−R,−0H
1(■)
Rs
UDH
式中、R1は置換基(例えば、アルキノベアルケニノベ
アラルキノベアリール、アルコキシ、ハロゲノの各基が
好ましい。)を有していてもよい二価の脂肪族又は芳香
族炭化水素を示す。必要に応じ、R1中にインシアネー
ト基と反応しない他の官能基例えばエステノペウレタン
、アミド、ウレイド基、炭素−炭素不飽和結合を有して
いてもよい。
アラルキノベアリール、アルコキシ、ハロゲノの各基が
好ましい。)を有していてもよい二価の脂肪族又は芳香
族炭化水素を示す。必要に応じ、R1中にインシアネー
ト基と反応しない他の官能基例えばエステノペウレタン
、アミド、ウレイド基、炭素−炭素不飽和結合を有して
いてもよい。
R2は水素原子、置換基(例えば、アルキル、アリーノ
ペアルコキシ、エステル、ウレタン、アミド、ウレイド
、ハロゲンの各基が好ましい。)を有していてもよいア
ルキノベアルケニル、アラルキノペアリール、アルコキ
シ、アリーロキシ基を示し、好ましくは水素原子、炭素
数1〜8個のアルキルもしくはアルケニル、炭素数6〜
15個の了り−ル基を示す。R3、R4、Rs はそれ
ぞれ同一でもt目異していてもよく、単結合、置換基(
例えば、アルキノベアルケニル、アラルキノベアリール
、アルコキシ及びハロゲノの各基が好ましい。)を有し
ていてもよい二価の脂肪族又;ま芳香族炭化水素を示す
。好ましくは炭素数1〜20個のアルキレン、炭素数6
〜15個のアリーレン基、更に好ましくは炭素数1〜8
個のアルキレン基を示す。また必要に応じ、R3、R,
、R,中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、
例えばエステル、ウレタン、アミド、ウレイド基、炭素
−炭素不飽和結合を有していてもよい。なおR2、Rt
、R4、Rsのうちの2又は3個で環を形成してもよ
い。
ペアルコキシ、エステル、ウレタン、アミド、ウレイド
、ハロゲンの各基が好ましい。)を有していてもよいア
ルキノベアルケニル、アラルキノペアリール、アルコキ
シ、アリーロキシ基を示し、好ましくは水素原子、炭素
数1〜8個のアルキルもしくはアルケニル、炭素数6〜
15個の了り−ル基を示す。R3、R4、Rs はそれ
ぞれ同一でもt目異していてもよく、単結合、置換基(
例えば、アルキノベアルケニル、アラルキノベアリール
、アルコキシ及びハロゲノの各基が好ましい。)を有し
ていてもよい二価の脂肪族又;ま芳香族炭化水素を示す
。好ましくは炭素数1〜20個のアルキレン、炭素数6
〜15個のアリーレン基、更に好ましくは炭素数1〜8
個のアルキレン基を示す。また必要に応じ、R3、R,
、R,中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、
例えばエステル、ウレタン、アミド、ウレイド基、炭素
−炭素不飽和結合を有していてもよい。なおR2、Rt
、R4、Rsのうちの2又は3個で環を形成してもよ
い。
Arは置換基を有していてもよい三価の芳香族炭化水素
を示し、好ましくは炭−素数6〜15個の芳香族基を示
す。
を示し、好ましくは炭−素数6〜15個の芳香族基を示
す。
一般式(I)で示されるジイソシアネート化合物として
、具体的には以下に示すものが含まれる。
、具体的には以下に示すものが含まれる。
即ち、2. 4−)リレンジイソシアネート、2゜4−
トリレンジイソシアネートの二量体、2.6−トリレン
ジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、
m−キシリレンジイソシアネート、4.4’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネー)、1. 5−ナフチレンジイ
ソシアネート、3゜3′−ジメチルビフェニル−4,4
′−ジイソシアネート等の如き芳香族ジイソシアネート
化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチル
へキサメチレンジイソシアネート、す°ジンジイソシア
ネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の始き脂肪族ジ
イソシアネート化合物;イソホロンジイソシアネート、
4.4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネー
ト)、メチルシクロヘキサン−2,4(又は2,6)ジ
イソシアネート、1゜3−(インシアネートメチル)シ
クロヘキサン等の如き指環族ジイソシアネート化合物;
1.3−ブチレングリコール1モルとトリレンジイソシ
アネート2モルとの付加体等の如きジオールとジイソシ
アネートとの反応物であるジイソシアネート化合物等が
挙げられる。
トリレンジイソシアネートの二量体、2.6−トリレン
ジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、
m−キシリレンジイソシアネート、4.4’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネー)、1. 5−ナフチレンジイ
ソシアネート、3゜3′−ジメチルビフェニル−4,4
′−ジイソシアネート等の如き芳香族ジイソシアネート
化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチル
へキサメチレンジイソシアネート、す°ジンジイソシア
ネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の始き脂肪族ジ
イソシアネート化合物;イソホロンジイソシアネート、
4.4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネー
ト)、メチルシクロヘキサン−2,4(又は2,6)ジ
イソシアネート、1゜3−(インシアネートメチル)シ
クロヘキサン等の如き指環族ジイソシアネート化合物;
1.3−ブチレングリコール1モルとトリレンジイソシ
アネート2モルとの付加体等の如きジオールとジイソシ
アネートとの反応物であるジイソシアネート化合物等が
挙げられる。
また一般式([)、(I[[)又は(rV)で示される
カルボキシル基を有するジオール化合物としては具体的
には以下に示すものが含まれる。
カルボキシル基を有するジオール化合物としては具体的
には以下に示すものが含まれる。
即ち、3.5−ジヒドロキシ安息香酸、2,2−ビス(
ヒドロキシメチル)プロピオン12゜2−ビス(2−ヒ
ドロキシエチル)プロピオン酸、2.2−ビス(3−ヒ
ドロキシプロピル)プロピオン酸、ビス(ヒドロキシメ
チル)酢酸、ヒス(4−ヒドロキシフェニル)酢酸、4
,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン酸、酒
石R1N、N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−カ
ルボキシ−プロピオンアミド等が挙げられる。
ヒドロキシメチル)プロピオン12゜2−ビス(2−ヒ
ドロキシエチル)プロピオン酸、2.2−ビス(3−ヒ
ドロキシプロピル)プロピオン酸、ビス(ヒドロキシメ
チル)酢酸、ヒス(4−ヒドロキシフェニル)酢酸、4
,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン酸、酒
石R1N、N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−カ
ルボキシ−プロピオンアミド等が挙げられる。
口)カルボキシル基以外の酸性水素原子を有するポリウ
レタン樹脂 また、カルボキシル基以外の酸性水素原子を有する本発
明のポリウレタン樹脂としては、一般式(I)のジイソ
シアネート化合物と、下記一般式(V)、(VI)、(
■)又は(■)のジオール化合物との反応生成物で表わ
される構造を基本骨格とするポリウレタン樹脂が含まれ
る。
レタン樹脂 また、カルボキシル基以外の酸性水素原子を有する本発
明のポリウレタン樹脂としては、一般式(I)のジイソ
シアネート化合物と、下記一般式(V)、(VI)、(
■)又は(■)のジオール化合物との反応生成物で表わ
される構造を基本骨格とするポリウレタン樹脂が含まれ
る。
Qう
R2
■
HD−R3−八r R40H
R、(■)
HO−R3−Y−R4−OH(■)
式中、R2、R3、R1、RS及びArは前記と同義で
ある。R6は置換基(例えば、アルキノペアルコキシ、
ハロゲノの各基が好ましい。)を有していてもよい一価
の脂肪族又は芳香族炭化水素を示す。好ましくは炭素数
1〜20個のアルキル又はアルケニル、炭素数6〜15
個のアリール、炭素数7〜15個のアラルキル基を示す
。更に好ましくは炭素数1〜8個のアルキル、又はアル
ケニル、炭素数6〜10個のアリール基を示す。
ある。R6は置換基(例えば、アルキノペアルコキシ、
ハロゲノの各基が好ましい。)を有していてもよい一価
の脂肪族又は芳香族炭化水素を示す。好ましくは炭素数
1〜20個のアルキル又はアルケニル、炭素数6〜15
個のアリール、炭素数7〜15個のアラルキル基を示す
。更に好ましくは炭素数1〜8個のアルキル、又はアル
ケニル、炭素数6〜10個のアリール基を示す。
YはN−スルホニルアミド基(−Co NHSO2)
、N−スルホニルウレイド基(−NH−CO−NH−3
o□−)、N−アミノスルホニルアミド基(−CO−N
H−3O2−NH−)又はスルホニルウレタン基(−〇
−CO−NH−8O□−)を示す。
、N−スルホニルウレイド基(−NH−CO−NH−3
o□−)、N−アミノスルホニルアミド基(−CO−N
H−3O2−NH−)又はスルホニルウレタン基(−〇
−CO−NH−8O□−)を示す。
また一般式(V)、(VI)、(■)、又は(■)で示
されるジオール化合物は、例えば一般式(I[)、(I
II)、(rV)で示されるカルボキシル基を有するジ
オール化合物のヒドロキシ基を保護した後、塩基存在下
、一般式(IX)、(X)、(XI)又は(X [)の
化合物との反応により合成される。更にクロロスルホニ
ルイソシアネートと反応させた後、一般式(X III
)のアミン化合物と反応させることにより合成される
。
されるジオール化合物は、例えば一般式(I[)、(I
II)、(rV)で示されるカルボキシル基を有するジ
オール化合物のヒドロキシ基を保護した後、塩基存在下
、一般式(IX)、(X)、(XI)又は(X [)の
化合物との反応により合成される。更にクロロスルホニ
ルイソシアネートと反応させた後、一般式(X III
)のアミン化合物と反応させることにより合成される
。
R,S[12NC[l (IX)X
R3CONHSO2Re (X)X L
NHCD NHSO2R6(XI)X R3CON
)I SO2−NHRe (XI[)Rs N
)12 (XIII)式中、
Xは塩素原子又は臭素原子を示す。
R3CONHSO2Re (X)X L
NHCD NHSO2R6(XI)X R3CON
)I SO2−NHRe (XI[)Rs N
)12 (XIII)式中、
Xは塩素原子又は臭素原子を示す。
またスルホニルウレタン基の場合、トリヒドロキシ化合
物の1つのヒドロキシ基を一般式(IX)の化合物と反
応させることにより合成できる。
物の1つのヒドロキシ基を一般式(IX)の化合物と反
応させることにより合成できる。
また、一般式(X)の化合物は、例えば、下記一般式(
×■)と(XV)の化合物の反応、一般式(XI) (
7)化合物は、下記一般式(XVT) と(XV)の
化合物の反応、一般式(XII)の化合物は、下記一般
式(X■)トクロロスルホニルイソシアネートの反応の
後、一般式(X I )のアミン化合物との反応により
、各々合成される。
×■)と(XV)の化合物の反応、一般式(XI) (
7)化合物は、下記一般式(XVT) と(XV)の
化合物の反応、一般式(XII)の化合物は、下記一般
式(X■)トクロロスルホニルイソシアネートの反応の
後、一般式(X I )のアミン化合物との反応により
、各々合成される。
X−R3−C0CA (XIV)R
6SO2NH2(XV) X−R3−NCO(XVI) X −R,−COOH(X■) また更に一般式(■)で示されるジオール化合物は、例
えば、一般式(XrV) と下記一般式(X■)の化合
物の反応、一般式(XVI)と下記一般式(X■)の化
合物の反応、一般式(X■)とクロロスルホニルイソシ
アネートの反応の後、下記−般式(XIX)の化合物と
の反応により、各々得られた化合物をヒドロキシル化す
ることにより合成される。
6SO2NH2(XV) X−R3−NCO(XVI) X −R,−COOH(X■) また更に一般式(■)で示されるジオール化合物は、例
えば、一般式(XrV) と下記一般式(X■)の化合
物の反応、一般式(XVI)と下記一般式(X■)の化
合物の反応、一般式(X■)とクロロスルホニルイソシ
アネートの反応の後、下記−般式(XIX)の化合物と
の反応により、各々得られた化合物をヒドロキシル化す
ることにより合成される。
X−R,−5D2−NH2(XVIII)X−R4NH
2(XIX) 具体的には一般式(I[)、([[)、(IV)及び(
V)で示されるジオール化合物としては、以下に示すも
のが含まれる。
2(XIX) 具体的には一般式(I[)、([[)、(IV)及び(
V)で示されるジオール化合物としては、以下に示すも
のが含まれる。
(No、1)
CH3
(No、2)
C11゜
■
(No、3)
CH。
嘱
HO−CH,−C−CH,−OH
CD−NH−3O2C,Il。
(No、4)
(No、5)
C1l。
CD−N)I−5O7−C4H9
(No、8)
80 CH2CH2−N CH2CH2−OH(No
、lo) (No、11) (’0[1−C)12cO−NH−3O2−[’2H。
、lo) (No、11) (’0[1−C)12cO−NH−3O2−[’2H。
(Na12)
H[1−(”H,CH□−N−CI(2CH2−0)1
(!Jo、 14 ) CH3 (’J口15) CO−NH−5O□−Nil−C2H5(Vo、l6) (No、17) CH3 HO−CH2−C−CH2−OH CD0−[:It、CD−NH−3O7−NH−C,I
ts(No、18) CI(3 (No、19) 110(LCL−N CLCL−11)1C=0 CLCL−COD−CLC’D−NH−5[l□−NH
−CJs(Nα20) CH。
(!Jo、 14 ) CH3 (’J口15) CO−NH−5O□−Nil−C2H5(Vo、l6) (No、17) CH3 HO−CH2−C−CH2−OH CD0−[:It、CD−NH−3O7−NH−C,I
ts(No、18) CI(3 (No、19) 110(LCL−N CLCL−11)1C=0 CLCL−COD−CLC’D−NH−5[l□−NH
−CJs(Nα20) CH。
(No、21)
CH3
HO−C)12−C−C)!、−0)1C[10−C,
)llI−N)1−CD−N)I−502−[2H5D
:o、22) HO−(”H2[1’O−NH
−3O2−C3H6−OHG(o、23) H(
]−CH2C[1−I(−3[12−NH−C2H,−
DH(No、24) tiO−C*HaCO−N
ll−5o□−NH−C,HじOH本発明に用いるポリ
ウレタン樹脂は、一般式(I)のジイソシアネート化合
物と一般式(VI)、(■)、又は(■)のジオール化
合物との反応生成物であるカルボキシル基を有するポリ
ウレタン樹脂に、塩基存在下、一般式(IX)、(X)
、(XI)又は(X[[)の化合物を反応させること、
更に上記…脂とクロロスルホニルイソシアネートとの反
応の後に、一般式(XI[I)のアミン化合物を反応さ
せることにおいても合成できる。
)llI−N)1−CD−N)I−502−[2H5D
:o、22) HO−(”H2[1’O−NH
−3O2−C3H6−OHG(o、23) H(
]−CH2C[1−I(−3[12−NH−C2H,−
DH(No、24) tiO−C*HaCO−N
ll−5o□−NH−C,HじOH本発明に用いるポリ
ウレタン樹脂は、一般式(I)のジイソシアネート化合
物と一般式(VI)、(■)、又は(■)のジオール化
合物との反応生成物であるカルボキシル基を有するポリ
ウレタン樹脂に、塩基存在下、一般式(IX)、(X)
、(XI)又は(X[[)の化合物を反応させること、
更に上記…脂とクロロスルホニルイソシアネートとの反
応の後に、一般式(XI[I)のアミン化合物を反応さ
せることにおいても合成できる。
ハ)炭素−炭素不飽和結合
本発明のポリウレタン樹脂中に存在してもよい炭素−炭
素不飽和結合は一般式(II)、(III)又は(I’
V)の化合物から由来されるカルボキシル基の一部を炭
素−炭素不飽和結合を有するハロゲン化合物又はエポキ
シ化合物と、塩基存在下反応させることによりポリウレ
タン樹脂中に含有させることができる。上記ハロゲン化
合物およびエポキシ化合物の好ましい例としては例えば
アリルプロミド、2−ブテニルプロミド、l−フェニル
−1−プロペニル−3−プロミド、2−ブロモエチルシ
ンナメート、ブロモメチルスチレン、プロパルギルプロ
ミド、ブロモ−2−ブチン及び上記クロロ体等のハロゲ
ン化合物、アリルグリシジルエーテル、2−ブテニルグ
リシジルエーテノベ1−フェニルプロペニルグリシジル
エーテル、グリシジルアクリレート、グリシジルメタク
リレート、グリシジルシンナメート、プロパルギルグリ
シジルエーテル等のエポキシ化合物がある。
素不飽和結合は一般式(II)、(III)又は(I’
V)の化合物から由来されるカルボキシル基の一部を炭
素−炭素不飽和結合を有するハロゲン化合物又はエポキ
シ化合物と、塩基存在下反応させることによりポリウレ
タン樹脂中に含有させることができる。上記ハロゲン化
合物およびエポキシ化合物の好ましい例としては例えば
アリルプロミド、2−ブテニルプロミド、l−フェニル
−1−プロペニル−3−プロミド、2−ブロモエチルシ
ンナメート、ブロモメチルスチレン、プロパルギルプロ
ミド、ブロモ−2−ブチン及び上記クロロ体等のハロゲ
ン化合物、アリルグリシジルエーテル、2−ブテニルグ
リシジルエーテノベ1−フェニルプロペニルグリシジル
エーテル、グリシジルアクリレート、グリシジルメタク
リレート、グリシジルシンナメート、プロパルギルグリ
シジルエーテル等のエポキシ化合物がある。
また炭素−炭素不飽和結合を有するジオール化合物を一
般式(n)、(1)又は(rV)のジオール化合物と併
用することによってポリウレタン樹脂中に導入すること
ができる。好ましいジオール化合物としては、例えば2
−ブチンジオール、4゜4′−ジヒドロキシスチルベン
、ジヒドロキシエチルフマレート、ジヒドロキシエチル
マレート、ジヒドロキシエチルP−フェニレンジアクリ
レート、4.4′−ジヒドロキシカルコン、1.4−ジ
ヒドロキシ−2−ブチン、1.6−シヒドロキシー2.
4−へキサジイン等がある。
般式(n)、(1)又は(rV)のジオール化合物と併
用することによってポリウレタン樹脂中に導入すること
ができる。好ましいジオール化合物としては、例えば2
−ブチンジオール、4゜4′−ジヒドロキシスチルベン
、ジヒドロキシエチルフマレート、ジヒドロキシエチル
マレート、ジヒドロキシエチルP−フェニレンジアクリ
レート、4.4′−ジヒドロキシカルコン、1.4−ジ
ヒドロキシ−2−ブチン、1.6−シヒドロキシー2.
4−へキサジイン等がある。
二)ヒドロキシル基及び/又はニトリル基を含有するポ
リウレタン樹脂 また、本発明のポリウレタン樹脂中には必要に応じヒド
ロキシル基及び/又はニトリル基を導入することが好ま
しい。このようなヒドロキシル基及び/又は二) IJ
ル基は一般式(II>、([[)又は(■)から由来さ
れるカルボキシル基の一部をヒドロキシル基及び/又は
ニトリル基を有するハロゲン化合物と、塩基存在下反応
させることによりポリウレタン樹脂中に含有させること
ができる。
リウレタン樹脂 また、本発明のポリウレタン樹脂中には必要に応じヒド
ロキシル基及び/又はニトリル基を導入することが好ま
しい。このようなヒドロキシル基及び/又は二) IJ
ル基は一般式(II>、([[)又は(■)から由来さ
れるカルボキシル基の一部をヒドロキシル基及び/又は
ニトリル基を有するハロゲン化合物と、塩基存在下反応
させることによりポリウレタン樹脂中に含有させること
ができる。
上記ハロゲン化合物としては、例えばエチレンブロモヒ
ドリン、3−ブロモプロパツール、4−、’ロモブタノ
ール、1−ブロモ−2−プロパツール、4−ヒドロキシ
−α、3.5−トリブロモトルエン、シアノエチルプロ
ミド、3−シアノプロピルプロミド、4−シアノブチル
プロミド、4−シアノベンジルプロミド及び上記クロロ
体等が好ましい。
ドリン、3−ブロモプロパツール、4−、’ロモブタノ
ール、1−ブロモ−2−プロパツール、4−ヒドロキシ
−α、3.5−トリブロモトルエン、シアノエチルプロ
ミド、3−シアノプロピルプロミド、4−シアノブチル
プロミド、4−シアノベンジルプロミド及び上記クロロ
体等が好ましい。
またニトリル基の場合、二) IJル基を有するジオー
ル化合物を一般式(n)、(III)又は(rV)のジ
オール化合物と併用することによってもポリウレタン樹
脂中に導入することができる。
ル化合物を一般式(n)、(III)又は(rV)のジ
オール化合物と併用することによってもポリウレタン樹
脂中に導入することができる。
な右本発明のポリウレタン樹脂は一般式(1)で示され
るジイソシアネート化合物および一般式(n)、([[
)又は(rV)で示されるカルボキシル基を有するジオ
ール化合物2種以上から形成されてもよい。
るジイソシアネート化合物および一般式(n)、([[
)又は(rV)で示されるカルボキシル基を有するジオ
ール化合物2種以上から形成されてもよい。
また更に、カルボキシル基を有せず、イソシアネートと
反応しない他の置換基を有していてもよいジオール化合
物を、アルカリ現像性を低下させない程度に併用するこ
ともできる。
反応しない他の置換基を有していてもよいジオール化合
物を、アルカリ現像性を低下させない程度に併用するこ
ともできる。
このようなジオール化合物としては、具体的には以下に
示すものが含まれる。
示すものが含まれる。
即ち、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プ
ロピレングリコーノペジプロピレングrノコーノベポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコーノペネオ
ベンチルグリコール、1. 3−ブチレングリコール、
1.6−ヘキサンジオール、2−ブテン−1,4−ジオ
ール、2゜2.4−)ジメチル−1,3−ベンタンジオ
ール、1.4−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘ
キサン、シクロヘキサンジメタツール、トリシクロデカ
ンジメタツール、水添ビスフェノールA1水添ビスフエ
ノールF1ビスフエノールAのエチレンオキサイド付加
体、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体、
ビスフェノールFのエチレンオキサイド付加体、ビスフ
ェノールFのプロピレンオキサイド付加体、水添ビスフ
ェノールAのエチレンオキサイド付加体、水添ビスフェ
ノールAのプロピオンオキサイド付加体、ヒドロキノン
ジヒドロキシエチルエーテル、p−キシリレングリコー
ノベジヒドロキシエチルスルホン、ビス(2−ヒドロキ
シエチル)−2,4−)リレンジカルバメート、2.4
−)リレン−ビス(2−ヒドロキシエチルカルバミド)
、ビス(2−ヒドロキシエチル)−m−キシリレンジカ
ルバメート、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソフタレ
ート等が挙げられる。
リエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プ
ロピレングリコーノペジプロピレングrノコーノベポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコーノペネオ
ベンチルグリコール、1. 3−ブチレングリコール、
1.6−ヘキサンジオール、2−ブテン−1,4−ジオ
ール、2゜2.4−)ジメチル−1,3−ベンタンジオ
ール、1.4−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘ
キサン、シクロヘキサンジメタツール、トリシクロデカ
ンジメタツール、水添ビスフェノールA1水添ビスフエ
ノールF1ビスフエノールAのエチレンオキサイド付加
体、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体、
ビスフェノールFのエチレンオキサイド付加体、ビスフ
ェノールFのプロピレンオキサイド付加体、水添ビスフ
ェノールAのエチレンオキサイド付加体、水添ビスフェ
ノールAのプロピオンオキサイド付加体、ヒドロキノン
ジヒドロキシエチルエーテル、p−キシリレングリコー
ノベジヒドロキシエチルスルホン、ビス(2−ヒドロキ
シエチル)−2,4−)リレンジカルバメート、2.4
−)リレン−ビス(2−ヒドロキシエチルカルバミド)
、ビス(2−ヒドロキシエチル)−m−キシリレンジカ
ルバメート、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソフタレ
ート等が挙げられる。
また本発明のポリウレタン樹脂には、残存の一〇H基と
一般式(IX)の化合物とを反応させて、酸性水素原子
を含する置換基−8O□NHCOO−を導入することが
できる。
一般式(IX)の化合物とを反応させて、酸性水素原子
を含する置換基−8O□NHCOO−を導入することが
できる。
ホ)ポリウレタン樹脂の合成
本発明のポリウレタン樹脂は上記ジイソシアネート化合
物およびジオール化合物を非プロトン性溶媒中、それぞ
れの反応性に応じた活性の公知な触媒を添加し、加熱す
ることにより合成される。
物およびジオール化合物を非プロトン性溶媒中、それぞ
れの反応性に応じた活性の公知な触媒を添加し、加熱す
ることにより合成される。
使用するジイソシアネートおよびジオール化合物のモル
比は好ましくは0.8:1〜1.2:1であり、ポリマ
ー末端にインシアネート基が残存した場合、アルコール
類又はアミン類等で処理することにより、最終的にイン
シアネート基が残存しない形で合成される。
比は好ましくは0.8:1〜1.2:1であり、ポリマ
ー末端にインシアネート基が残存した場合、アルコール
類又はアミン類等で処理することにより、最終的にイン
シアネート基が残存しない形で合成される。
本発明のポリウレタン樹脂の分子量は、好ましくは重量
平均で1000以上であり、更に好ましくは5.000
〜15万の範囲である。
平均で1000以上であり、更に好ましくは5.000
〜15万の範囲である。
これらの高分子化合物は単独で用いても混合して用いて
もよい。感光性組成物中に含まれる、これらの高分子化
合物の含有量は約30〜95重量%、好ましくは約50
〜90重量%である。
もよい。感光性組成物中に含まれる、これらの高分子化
合物の含有量は約30〜95重量%、好ましくは約50
〜90重量%である。
vi)その他の樹脂
本発明の感光性組成物には前記重合体に対して50重量
%以下の量で他の樹脂をも混入することができる。混入
される樹脂としては例えばポリアミド樹脂、エポキシ樹
脂、ポリアセタール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹
脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹
脂を挙げることができる。
%以下の量で他の樹脂をも混入することができる。混入
される樹脂としては例えばポリアミド樹脂、エポキシ樹
脂、ポリアセタール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹
脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹
脂を挙げることができる。
へ)エチレン性不飽和基を少なくとも2個有するモノマ
ー又はオリゴマー 本発明の感光性組成物に添加することのできる重合可能
なエチレン性不飽和基を少なくとも2個有するモノマー
又はオリゴマーは、常圧で沸点100℃以上の、少なく
とも1分子中に2個以上の付加重合可能なエチレン性不
飽和基を有する分子110,000以下のモノマーまた
はオリゴマーである。このようなモノマー又はオリゴマ
ーとして;ま、ポリエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、トリメチロールエタントリ (メタ)アクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート
、ペンタエリスリトールトリ (メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ (メタ)アクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、
ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリ (ア
クリロイロキシエチル)インシアネート、グリセリンや
トリメチロールエタン等の多価アルコールにエチレンオ
キサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後(メタ
)アクリレート化したもの、特公昭48−41708号
、特公昭50−6034号、特開昭51−37193号
各公報明細載されているようなウレタンアクリレート類
、特開昭48−64183号、特公昭49−43191
号、特公昭52−30490号各公報明細載されている
ポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)
アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多
官能のアクリレートやメタクリレートをあげることがで
きる。さらに日本接着協会誌Vol。20、No、 7
.300〜308ページに光硬化性モノマー及びオリゴ
マーとして紹介されているものも使用することができる
。
ー又はオリゴマー 本発明の感光性組成物に添加することのできる重合可能
なエチレン性不飽和基を少なくとも2個有するモノマー
又はオリゴマーは、常圧で沸点100℃以上の、少なく
とも1分子中に2個以上の付加重合可能なエチレン性不
飽和基を有する分子110,000以下のモノマーまた
はオリゴマーである。このようなモノマー又はオリゴマ
ーとして;ま、ポリエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、トリメチロールエタントリ (メタ)アクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート
、ペンタエリスリトールトリ (メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ (メタ)アクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、
ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリ (ア
クリロイロキシエチル)インシアネート、グリセリンや
トリメチロールエタン等の多価アルコールにエチレンオ
キサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後(メタ
)アクリレート化したもの、特公昭48−41708号
、特公昭50−6034号、特開昭51−37193号
各公報明細載されているようなウレタンアクリレート類
、特開昭48−64183号、特公昭49−43191
号、特公昭52−30490号各公報明細載されている
ポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)
アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多
官能のアクリレートやメタクリレートをあげることがで
きる。さらに日本接着協会誌Vol。20、No、 7
.300〜308ページに光硬化性モノマー及びオリゴ
マーとして紹介されているものも使用することができる
。
これらのモノマーまたはオリゴマーと本発明のポリウレ
タン樹脂の組成比は重量で3:97〜7[1:30の範
囲が好ましく、更に好ましい範囲は5:95〜50:5
0である。
タン樹脂の組成比は重量で3:97〜7[1:30の範
囲が好ましく、更に好ましい範囲は5:95〜50:5
0である。
ト)光重合開始剤
本発明の化合物に添加することのできる光重合開始剤は
米国特許第2.367、660号明細書に開示されてい
るビシナールポリケタルドニル化合物、米国特許第2.
367、661号及び第2.367、670号明細書に
開示されているα−カルボニル化合物、米国特許第2.
448.828号明細書に開示されているアシロインエ
ーテル、米国特許第2.722.512号明細書に開示
されてシ)、るα−炭化水素で置換された芳香族アシロ
イン化合物、米国特許第3.046.127号及び第2
、951.758号明細書に開示されている多岐キノン
化合物、米国特許第3.549.367号明細書に開示
されているトリアリールイミダゾールダイマー/p−ア
ミノフェニルケトンの組合せ、米国特許第3、870.
524号明細書に開示されているベンゾチアソール系化
合物、米国特許第3.751.259号明細書に開示さ
れているアクリジン及びフェナジン化合物、米国特許第
4.212.970号明細書に開示されているオキサジ
アゾール化合物等が含まれる。
米国特許第2.367、660号明細書に開示されてい
るビシナールポリケタルドニル化合物、米国特許第2.
367、661号及び第2.367、670号明細書に
開示されているα−カルボニル化合物、米国特許第2.
448.828号明細書に開示されているアシロインエ
ーテル、米国特許第2.722.512号明細書に開示
されてシ)、るα−炭化水素で置換された芳香族アシロ
イン化合物、米国特許第3.046.127号及び第2
、951.758号明細書に開示されている多岐キノン
化合物、米国特許第3.549.367号明細書に開示
されているトリアリールイミダゾールダイマー/p−ア
ミノフェニルケトンの組合せ、米国特許第3、870.
524号明細書に開示されているベンゾチアソール系化
合物、米国特許第3.751.259号明細書に開示さ
れているアクリジン及びフェナジン化合物、米国特許第
4.212.970号明細書に開示されているオキサジ
アゾール化合物等が含まれる。
好ましくは下記一般式(XX)又は(XXI)で示され
るトリハロメチル−8−トリアジン化合物又はトリハロ
メチルオキサジアゾール化合物が挙げられる。
るトリハロメチル−8−トリアジン化合物又はトリハロ
メチルオキサジアゾール化合物が挙げられる。
ここで式中、R8は置換もしくは無置換のアリール、ア
ルケニル基、R1はRe 、−C20又は、置換もしく
は無置換のアルキル基を示す。Zは塩素原子又は臭素原
子を示す。
ルケニル基、R1はRe 、−C20又は、置換もしく
は無置換のアルキル基を示す。Zは塩素原子又は臭素原
子を示す。
一般式(XX)で示される化合物としては、例えば苦杯
ら著、Bull、(’hem、Soc、Japan 、
第42巻、第2924頁(1969年)に記載の化合物
、英国特許第1.388.492号、西独特許第2.7
18.259号、及び西独特許第3.337..024
号明細書記載の化合物が挙げられる。具体的には次に示
す化合物が含まれる。
ら著、Bull、(’hem、Soc、Japan 、
第42巻、第2924頁(1969年)に記載の化合物
、英国特許第1.388.492号、西独特許第2.7
18.259号、及び西独特許第3.337..024
号明細書記載の化合物が挙げられる。具体的には次に示
す化合物が含まれる。
ff1lチ、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロル
メチル)−3−)リアジン、2−(p−クロルフェニル
)−4,6−ビス(lクロルメチル)−8−トリアジン
、2− (p−トリル)−4,6−ビス(トリクロルメ
チル)−3−)リアジン、2−(p−メトキシフェニル
)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−3−1−リア
ジン、2−(2’、4’−ジクロルフェニル)−4,6
−ビス(トリクロルメチル)−3−)’Jアジン、2゜
4、 6−)リス(トリクロルメチル)−3−トリアジ
ン、2−メチル−4,6−ビス(トリ、クロルメチル)
−3−トリアジン、2−n−ノニル−4゜6−ビス(ト
リクロルメチル)−s−トリアジン、2−(α、α、β
−トリクロルエチル)−4,6−ビス(トリクロルメチ
ル)−3−)リアジン、2−スチリル−4,6−ビス(
トリクロルメチル)−8−トリアジン、2−(p−メチ
ルスチリル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−3
−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6
−ビス(トリクロルメチル)−3−トリアジン、2−(
4−メトキシ−ナフト−1−イル)−4゜6−ビス(ト
リクロルメチル)−5−ト’Jアジン、2−(4−エト
キシ−ナフト−1−イル)−4゜6−ビス(トリクロル
メチル)−8−トリアジン、2− C4−(2−エトキ
シエチル)−ナフト−1−イル〕−4,6−ビス(トリ
クロルメチル)−8−トリアジン、2−(4,7−ジメ
トキシ−ナフトー1−イル]−4,6−ビス(トリクロ
ルメチル)−3−)リアジン、2−(アセナフト−5−
イル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−5−トリ
アジン、2− (4−スチリルフェニル)−4,6−ビ
ス(トリクロロメチル)−3−)リアジン等が含まれる
。
メチル)−3−)リアジン、2−(p−クロルフェニル
)−4,6−ビス(lクロルメチル)−8−トリアジン
、2− (p−トリル)−4,6−ビス(トリクロルメ
チル)−3−)リアジン、2−(p−メトキシフェニル
)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−3−1−リア
ジン、2−(2’、4’−ジクロルフェニル)−4,6
−ビス(トリクロルメチル)−3−)’Jアジン、2゜
4、 6−)リス(トリクロルメチル)−3−トリアジ
ン、2−メチル−4,6−ビス(トリ、クロルメチル)
−3−トリアジン、2−n−ノニル−4゜6−ビス(ト
リクロルメチル)−s−トリアジン、2−(α、α、β
−トリクロルエチル)−4,6−ビス(トリクロルメチ
ル)−3−)リアジン、2−スチリル−4,6−ビス(
トリクロルメチル)−8−トリアジン、2−(p−メチ
ルスチリル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−3
−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6
−ビス(トリクロルメチル)−3−トリアジン、2−(
4−メトキシ−ナフト−1−イル)−4゜6−ビス(ト
リクロルメチル)−5−ト’Jアジン、2−(4−エト
キシ−ナフト−1−イル)−4゜6−ビス(トリクロル
メチル)−8−トリアジン、2− C4−(2−エトキ
シエチル)−ナフト−1−イル〕−4,6−ビス(トリ
クロルメチル)−8−トリアジン、2−(4,7−ジメ
トキシ−ナフトー1−イル]−4,6−ビス(トリクロ
ルメチル)−3−)リアジン、2−(アセナフト−5−
イル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−5−トリ
アジン、2− (4−スチリルフェニル)−4,6−ビ
ス(トリクロロメチル)−3−)リアジン等が含まれる
。
また一般式(XH)で示される化合物としては、例えば
特開昭54−74728号公報、特開昭55−7774
2号公報、及び特開昭59−148784号公報記載の
化合物が挙げられる。
特開昭54−74728号公報、特開昭55−7774
2号公報、及び特開昭59−148784号公報記載の
化合物が挙げられる。
具体的には次に示す化合物が含まれる。
即ち、2−スチリル−5−トリクロロメチル−1、3,
4−オキサジアゾール、2−(4−クロロスチリル)−
5−)リクロロメチル−1,3゜4−オキサジアゾール
、2−(4−メチルスチリル)−5−トリクロロメチル
−1,3,4−オキサジアゾール、2−(4−メトキシ
スチリル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキ
サジアゾール、2−(4−ブトキシスチリル)−5−ト
リクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−
(4−スチリルスチリル)−5−トリクロロメチル−
1,3,4−オキサジアゾール、2−フ二二ルー5−ト
リクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−
(4−メトキシフェニル)−5−トリクロロメチル−
1,3,4−オキサジアゾール、2−(3,4−ジメト
キシフェニル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−
オキサジアゾール、2−(4−スチリルフェニル)−5
−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾールペ
2−(1−ナフチル)−5−)リクロロメチル−1,3
,4−オキサジアゾール等が含まれる。
4−オキサジアゾール、2−(4−クロロスチリル)−
5−)リクロロメチル−1,3゜4−オキサジアゾール
、2−(4−メチルスチリル)−5−トリクロロメチル
−1,3,4−オキサジアゾール、2−(4−メトキシ
スチリル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキ
サジアゾール、2−(4−ブトキシスチリル)−5−ト
リクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−
(4−スチリルスチリル)−5−トリクロロメチル−
1,3,4−オキサジアゾール、2−フ二二ルー5−ト
リクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−
(4−メトキシフェニル)−5−トリクロロメチル−
1,3,4−オキサジアゾール、2−(3,4−ジメト
キシフェニル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−
オキサジアゾール、2−(4−スチリルフェニル)−5
−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾールペ
2−(1−ナフチル)−5−)リクロロメチル−1,3
,4−オキサジアゾール等が含まれる。
チ)増感剤
本発明の感光性組成物に添加することのできる増感剤は
、特公昭59−28328号公報に示される芳香族チア
ゾール化合物、特開昭54−151024号公報に示さ
れるメロシアニン色素、特開昭58−40302号公報
に示される芳香族チオピリリウム塩や芳香族ピリリウム
塩、その他9−フェニルアクリジン、5−ニトロアセナ
フテン、ケトクロリン類等の光吸収剤が挙げられる。更
にはこれらにN−フェニルグリシン、2−メルカブトベ
ンゾチナゾール、N、N’−ジメチルアミノ安息香酸エ
チル等の水素供与体等を組み合せた系も、本発明に有効
に使用される。
、特公昭59−28328号公報に示される芳香族チア
ゾール化合物、特開昭54−151024号公報に示さ
れるメロシアニン色素、特開昭58−40302号公報
に示される芳香族チオピリリウム塩や芳香族ピリリウム
塩、その他9−フェニルアクリジン、5−ニトロアセナ
フテン、ケトクロリン類等の光吸収剤が挙げられる。更
にはこれらにN−フェニルグリシン、2−メルカブトベ
ンゾチナゾール、N、N’−ジメチルアミノ安息香酸エ
チル等の水素供与体等を組み合せた系も、本発明に有効
に使用される。
本発明における光重合開始剤及び/又は増感剤の量は、
光重合可能なエチレン性不飽和化合物と本発明のポリウ
レタン樹脂との合計に対して0.01重量%から20重
量%の範囲で充分であり、更に好ましくは0.5重量%
から10重量%で良好なる結果を得る。
光重合可能なエチレン性不飽和化合物と本発明のポリウ
レタン樹脂との合計に対して0.01重量%から20重
量%の範囲で充分であり、更に好ましくは0.5重量%
から10重量%で良好なる結果を得る。
す)ジアゾニウム化合物
本発明に用いられるジアゾニウム化合物としては米国特
許第3.867、147号記載のジアゾニウム化合物、
米国特許第2.632.703号明細書記載のジアゾニ
ウム化合物などがあげられるが特に芳香族ジアゾニウム
塩と例えば活性なカルボニル含有化合物(例えばホルム
アルデヒド)との縮合物で代表されるジアゾ樹脂が有用
である。好ましいジアゾ樹脂には、例えばp−ジアゾジ
フェニルアミンとホルムアルデヒド又はアセトアルデヒ
ドの縮合物のへキサフルオロりん酸塩、テトラフルオロ
はう酸塩が含まれる。また、米国特許第3.300.3
09号に記載されているようなp−ジアゾジフェニルア
ミンとホルムアルデヒドとの縮合物のスルホン酸塩(例
えば、p−)ルエンスルホン酸塩、ドデシルベンゼンフ
ルホン酸塩、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベン
ゾイルベンゼンスルホン酸塩など)、ホスフィン酸塩(
例えばベンゼンホスフィン酸塩など)、ヒドロキシ基含
有化合物塩(例えば2.4−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン塩など)、有機カルボン酸塩なども好ましい。
許第3.867、147号記載のジアゾニウム化合物、
米国特許第2.632.703号明細書記載のジアゾニ
ウム化合物などがあげられるが特に芳香族ジアゾニウム
塩と例えば活性なカルボニル含有化合物(例えばホルム
アルデヒド)との縮合物で代表されるジアゾ樹脂が有用
である。好ましいジアゾ樹脂には、例えばp−ジアゾジ
フェニルアミンとホルムアルデヒド又はアセトアルデヒ
ドの縮合物のへキサフルオロりん酸塩、テトラフルオロ
はう酸塩が含まれる。また、米国特許第3.300.3
09号に記載されているようなp−ジアゾジフェニルア
ミンとホルムアルデヒドとの縮合物のスルホン酸塩(例
えば、p−)ルエンスルホン酸塩、ドデシルベンゼンフ
ルホン酸塩、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベン
ゾイルベンゼンスルホン酸塩など)、ホスフィン酸塩(
例えばベンゼンホスフィン酸塩など)、ヒドロキシ基含
有化合物塩(例えば2.4−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン塩など)、有機カルボン酸塩なども好ましい。
更には特開昭58−27141号に示されているような
3−メトキシ−4−ジアゾ−ジフェニルアミンを4.4
′−ビス−メトキシ−メチル−ジフェニルエーテルで縮
合させメシチレンスルホン酸塩としたものなども適当で
ある。
3−メトキシ−4−ジアゾ−ジフェニルアミンを4.4
′−ビス−メトキシ−メチル−ジフェニルエーテルで縮
合させメシチレンスルホン酸塩としたものなども適当で
ある。
これらジアゾニウム化合物の感光性組成物中の含有量は
、1〜50重量%、好ましくは3〜20重量%である。
、1〜50重量%、好ましくは3〜20重量%である。
また必要に応じ、ジアゾニウム化合物2種以上を併用し
てもよい。
てもよい。
ヌ)熱重合防止剤
さらに本発明においては感光性組成物の製造中あるいは
保存中において重合可能なエチレン性不飽和化合物の不
要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加
することが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイ
ドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル
−p−クレゾーノペビロガローノペ t−ブチルカテコ
ール、ベンゾキノン、4.4’ −チオビス(3−メチ
ル−5−t−ブチルフェノール)、2.2’−メチレン
ビス(4−メチル−6−t−、’チルフェノール)、2
−メルカプトベンゾイミダゾール、N−ニトロソフェニ
ルヒドロキシアミン第一セリウム塩等があげられる。
保存中において重合可能なエチレン性不飽和化合物の不
要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加
することが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイ
ドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル
−p−クレゾーノペビロガローノペ t−ブチルカテコ
ール、ベンゾキノン、4.4’ −チオビス(3−メチ
ル−5−t−ブチルフェノール)、2.2’−メチレン
ビス(4−メチル−6−t−、’チルフェノール)、2
−メルカプトベンゾイミダゾール、N−ニトロソフェニ
ルヒドロキシアミン第一セリウム塩等があげられる。
ル)その他の成分
本発明の感光性組成物には必要に応じて、染料、顔料、
安定剤、充てん剤、界面活性剤、可塑剤などの添加によ
り性能の改良を図ることもできる。
安定剤、充てん剤、界面活性剤、可塑剤などの添加によ
り性能の改良を図ることもできる。
好適な染料としては油溶性染料、例えばC,1,261
05(オイルレッドRR) 、CJ、21260(オイ
ルブルーレツト#308) 、C,1,74350(オ
イルブルー)、C,1,52015(メチレンルブルー
) 、C01,42555(クリスタルバイオレット)
、C,1,42595(ビクトリアピコアブルー)な
どが含まれる。
05(オイルレッドRR) 、CJ、21260(オイ
ルブルーレツト#308) 、C,1,74350(オ
イルブルー)、C,1,52015(メチレンルブルー
) 、C01,42555(クリスタルバイオレット)
、C,1,42595(ビクトリアピコアブルー)な
どが含まれる。
安定剤とては、リン酸、亜リン酸、シュウ酸、p−)ル
エンスルホン酸、ジピコリン酸、リンゴ酸、酒石酸、2
−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼ
ンスルホン酸、ブチルナフタレンスルホン酸、ベンゼン
スルホンL p−ヒドロキシベンゼンスルホン酸、等が
あげられる。
エンスルホン酸、ジピコリン酸、リンゴ酸、酒石酸、2
−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼ
ンスルホン酸、ブチルナフタレンスルホン酸、ベンゼン
スルホンL p−ヒドロキシベンゼンスルホン酸、等が
あげられる。
ヲ)感光性組成物の使用法
本発明の感光性組成物は通常、溶剤に溶解した後、適当
な支持体に塗布し、乾燥して使用される。
な支持体に塗布し、乾燥して使用される。
その塗布量は乾燥重量で約0.1〜5 g / m’、
好ましくは0.3〜3g/m゛である。
好ましくは0.3〜3g/m゛である。
かかる溶剤としては、例えばメタノール、エタノール、
インプロパツール、n−ブタノール、t−ブタノール、
2−メトキシフェノールベ 1−メトキシ−2−プロパ
ノーノペ 2−エトキシエタノール、2−メトキシエチ
ルアセテート、エチレングリコール、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメチルスルホキシド、N、N−ジメ
チルホルムアミド、アセトン、メチルエチルケトンなど
及びこれらの混合物が使用される。
インプロパツール、n−ブタノール、t−ブタノール、
2−メトキシフェノールベ 1−メトキシ−2−プロパ
ノーノペ 2−エトキシエタノール、2−メトキシエチ
ルアセテート、エチレングリコール、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメチルスルホキシド、N、N−ジメ
チルホルムアミド、アセトン、メチルエチルケトンなど
及びこれらの混合物が使用される。
また本発明の感光性組成物が塗布される支持体としては
、例えば、紙、プラスチックス(例えばポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリスチレンなど)がラミネートされ
た紙、例えばアルミニウム(アルミニウム合金も含む。
、例えば、紙、プラスチックス(例えばポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリスチレンなど)がラミネートされ
た紙、例えばアルミニウム(アルミニウム合金も含む。
)、亜鉛、銅などのような金属の板、例えば二酢酸セル
ロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、
酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース
、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリス
チレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニ
ルアセタールなどのようなプラスチックのフィルム、上
記の如き金属がラミネート、もしくは蒸着された紙もし
くはプラスチックフィルムなどが含まれる。これらの支
持体のうち、アルミニウム板は寸度的に著しく安定であ
り、しかも安価であるので特に好ましい。更に、特開昭
48−18327号公報に記されているようなポリエチ
レンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが
結合された複合体シートも好ましい。
ロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、
酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース
、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリス
チレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニ
ルアセタールなどのようなプラスチックのフィルム、上
記の如き金属がラミネート、もしくは蒸着された紙もし
くはプラスチックフィルムなどが含まれる。これらの支
持体のうち、アルミニウム板は寸度的に著しく安定であ
り、しかも安価であるので特に好ましい。更に、特開昭
48−18327号公報に記されているようなポリエチ
レンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが
結合された複合体シートも好ましい。
また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場
合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、珪酸カリ、弗化ジ
ルコニウム酸カリウム、リン酸塩等の水溶液への浸漬処
理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理がなされてい
ることが好ましい。
合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、珪酸カリ、弗化ジ
ルコニウム酸カリウム、リン酸塩等の水溶液への浸漬処
理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理がなされてい
ることが好ましい。
また、米国特許第2.714.066号明細書に記載さ
れている如く、珪酸す) IJウム水溶液に浸漬処理さ
れたアルミニウム板、特公昭47−5125号公報に記
載されているようにアルミニウム板を陽極酸化処理した
のちに、アルカリ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したも
の、米国特許第4.476、006号に記載されている
ような機械的粗面化と電解粗面化を組合せて処理された
アルミニウム支持体も好適に使用される。上記陽極酸化
処理は、例えば、リン酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無
機酸、若しくは、蓚酸、スルファミン酸等の有機酸また
はこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以上
を組み合せた電解液中でアルミニウム板を陽極として電
流を流すことにより実施される。特に本発明の感光性組
成物中にジアゾ化合物を含有させない場合は、リン酸を
含んだ電解液中で陽極酸化を行うことが望ましい。
れている如く、珪酸す) IJウム水溶液に浸漬処理さ
れたアルミニウム板、特公昭47−5125号公報に記
載されているようにアルミニウム板を陽極酸化処理した
のちに、アルカリ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したも
の、米国特許第4.476、006号に記載されている
ような機械的粗面化と電解粗面化を組合せて処理された
アルミニウム支持体も好適に使用される。上記陽極酸化
処理は、例えば、リン酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無
機酸、若しくは、蓚酸、スルファミン酸等の有機酸また
はこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以上
を組み合せた電解液中でアルミニウム板を陽極として電
流を流すことにより実施される。特に本発明の感光性組
成物中にジアゾ化合物を含有させない場合は、リン酸を
含んだ電解液中で陽極酸化を行うことが望ましい。
また砂目立て処理、陽極酸化後、封孔処理を施したもの
も好ましい。かかる封孔処理は珪酸ナトリウム水溶液、
珪酸カリウム水溶液、熱水及び無機塩又は有機塩を含む
熱水溶液への浸漬並びに水蒸気浴などによって行われる
。
も好ましい。かかる封孔処理は珪酸ナトリウム水溶液、
珪酸カリウム水溶液、熱水及び無機塩又は有機塩を含む
熱水溶液への浸漬並びに水蒸気浴などによって行われる
。
また、米国特許第3.658.662号明細書に記載さ
れているようなシリケート電着も有効である。
れているようなシリケート電着も有効である。
更に特公昭46−27481号公報、特開昭52−58
602号公報、特開昭52−30503号公報に開示さ
れているような電解ダレインを施した支持体と、上記陽
極酸化処理及び珪酸ソーダ処理を組み合せた表面処理も
有用である。
602号公報、特開昭52−30503号公報に開示さ
れているような電解ダレインを施した支持体と、上記陽
極酸化処理及び珪酸ソーダ処理を組み合せた表面処理も
有用である。
更には、特開昭56−28893号公報に開示されてい
るような、ブラシグレイン、電解ダレイン、陽極酸化処
理さらに珪酸ソーダ処理を行ったものも好適である。
るような、ブラシグレイン、電解ダレイン、陽極酸化処
理さらに珪酸ソーダ処理を行ったものも好適である。
更にこれらの処理を行った後に、水溶性の樹脂、たとえ
ばポリビニルフォスホン酸、スル串ン酸基を側鎖に有す
る重合体および共重合体、ポリアクリル酸等を下塗りし
たものも好適である。
ばポリビニルフォスホン酸、スル串ン酸基を側鎖に有す
る重合体および共重合体、ポリアクリル酸等を下塗りし
たものも好適である。
これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とするた
めに施される以外に、その上に設けられる感光性組成物
の有害な反応を防ぐため、更には感光層の密着性の向上
等のために施されるものである。
めに施される以外に、その上に設けられる感光性組成物
の有害な反応を防ぐため、更には感光層の密着性の向上
等のために施されるものである。
支持体上に設けられた感光性組成物の層の上には、空気
中の酸素による重合禁止作用を完全に防止するため、例
えばポリビニルアルコーノペ酸性セルロース類などのよ
うな酸素遮断性に優れたポリマーよりなる保護層を設け
てもよい。この髄な保護層の塗布方法については、例え
ば米国特許第3、458.311号、特公昭55−49
729号明細書に詳しく記載されている。
中の酸素による重合禁止作用を完全に防止するため、例
えばポリビニルアルコーノペ酸性セルロース類などのよ
うな酸素遮断性に優れたポリマーよりなる保護層を設け
てもよい。この髄な保護層の塗布方法については、例え
ば米国特許第3、458.311号、特公昭55−49
729号明細書に詳しく記載されている。
支持体上に塗布された本発明の感光性組成物は線画像、
網点画像等を有する透明原画を通して露光し、次いで水
性現像液で現像することにより、原画に対してネガのレ
リーフ像を与える。
網点画像等を有する透明原画を通して露光し、次いで水
性現像液で現像することにより、原画に対してネガのレ
リーフ像を与える。
露光に使用される光源としてはカーボンアーク灯、水銀
灯、キセノンランプ、タングステンランプ、メタルハラ
イドランプなどがある。
灯、キセノンランプ、タングステンランプ、メタルハラ
イドランプなどがある。
また、上記現像液として好ましいものは、ベンジルアル
コール、2−フェノキシエタノール、2−ブトキシェタ
ノールのような有機溶媒を少量含むアルカリ水溶液であ
り、例えば米国特許第3、475.171号および同3
.615.480号に記載されているものを挙げること
ができる。
コール、2−フェノキシエタノール、2−ブトキシェタ
ノールのような有機溶媒を少量含むアルカリ水溶液であ
り、例えば米国特許第3、475.171号および同3
.615.480号に記載されているものを挙げること
ができる。
更に、特開昭50−26601号、特公昭56−394
64号、同56−42860号の各公報に記載されてい
る現像液も上記感光性組成物の現(象液として優れてい
る。
64号、同56−42860号の各公報に記載されてい
る現像液も上記感光性組成物の現(象液として優れてい
る。
本発明の感光性組成物は支持体上に塗布する際の有機塗
布溶剤への溶解性に優れ、また塗布、乾燥、画像露光後
、未露光部をアルカリ性現像液で現1象する際の現像性
に優れる。得られたレリーフ像は耐摩耗性、感脂性及び
支持体への接着性が良く、印刷版として使用した場合、
良好な印刷物が多数枚得られる。
布溶剤への溶解性に優れ、また塗布、乾燥、画像露光後
、未露光部をアルカリ性現像液で現1象する際の現像性
に優れる。得られたレリーフ像は耐摩耗性、感脂性及び
支持体への接着性が良く、印刷版として使用した場合、
良好な印刷物が多数枚得られる。
以下、本発明を合成例、実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明の内容がこれにより限定されるものではな
い。
るが、本発明の内容がこれにより限定されるものではな
い。
合成例1゜
コンデンサー、撹拌機を備えた500m1の3つ口丸底
フラスコに4.4′−ジフェニルメタンジイソシアネー
ト125g(0,50モル)および2.2−ビ、ス (
ヒドロキシメチル)プロピオン酸67g(0,50モル
)を加え、ジオキサン290m1に溶解した。触媒とし
てN、N−ジエチルアニリン1gを添加し、撹拌下6時
間加熱還流させた。その後、反応溶液を水4β、酢酸4
0m1の溶液中に撹拌しながら投入し、白色のポリマー
を析出させた。このポリマーを濾別し、水にて洗浄後、
真空下乾燥させることにより185gのポリマーを得た
。
フラスコに4.4′−ジフェニルメタンジイソシアネー
ト125g(0,50モル)および2.2−ビ、ス (
ヒドロキシメチル)プロピオン酸67g(0,50モル
)を加え、ジオキサン290m1に溶解した。触媒とし
てN、N−ジエチルアニリン1gを添加し、撹拌下6時
間加熱還流させた。その後、反応溶液を水4β、酢酸4
0m1の溶液中に撹拌しながら投入し、白色のポリマー
を析出させた。このポリマーを濾別し、水にて洗浄後、
真空下乾燥させることにより185gのポリマーを得た
。
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー(GPC)に
て分子量を測定したところ重量平均(ポリスチレン標準
)で28,000であった。更に滴定によりカルボキシ
ル基含有量を測定したところ2.47meq/gであっ
た。
て分子量を測定したところ重量平均(ポリスチレン標準
)で28,000であった。更に滴定によりカルボキシ
ル基含有量を測定したところ2.47meq/gであっ
た。
更にこのポリマー40gをコンデンサー、撹拌機を備え
た300m1の3つ日丸底フラスコに入れ、DMF20
0mβにて溶解した。この溶液にトリエチルアミン6.
3g(0,062モル)を加え、80℃に加熱後アリル
プロミド7.5g(0,062モル)を撹拌下10分間
かけて滴下した。その後2時間撹拌を続けた。
た300m1の3つ日丸底フラスコに入れ、DMF20
0mβにて溶解した。この溶液にトリエチルアミン6.
3g(0,062モル)を加え、80℃に加熱後アリル
プロミド7.5g(0,062モル)を撹拌下10分間
かけて滴下した。その後2時間撹拌を続けた。
反応終了後、反応溶液を水41、酢酸200m1の溶液
中に撹拌しながら投入し、白色のポリマーを析出させた
。このポリマーを濾別し、水洗後、真空下乾燥させるこ
とにより41gのポリマーを得た。
中に撹拌しながら投入し、白色のポリマーを析出させた
。このポリマーを濾別し、水洗後、真空下乾燥させるこ
とにより41gのポリマーを得た。
NMR測定により、アリル基がカルボキシル基に導入さ
れていることを確認し、更に滴定により残存のカルボキ
シル基含有量を測定したところ、1.19meq/gで
あった(本発明のポリウレタン(a))。
れていることを確認し、更に滴定により残存のカルボキ
シル基含有量を測定したところ、1.19meq/gで
あった(本発明のポリウレタン(a))。
合成例2〜16
第1表に示したジイソシアネート、ジオール化合物を使
用し、合成例1と同様にして、まずカルボキシル基を有
するポリウレタン樹脂t脂を合成した。
用し、合成例1と同様にして、まずカルボキシル基を有
するポリウレタン樹脂t脂を合成した。
その後、第1表に示した化合物を使用し、ポリウレタン
樹脂中のカルボキシル基の一部と反応させることにより
、本発明のポリウレタン樹脂を合成した。N M R測
定により上記化合物がカルボキシル基に導入されている
ことをVfiglした。更に、GPCにより分子量を測
定し、滴定により残存のカルボキシル基含量を測定した
。測定したカルボキシル基含量は第1表に示す。
樹脂中のカルボキシル基の一部と反応させることにより
、本発明のポリウレタン樹脂を合成した。N M R測
定により上記化合物がカルボキシル基に導入されている
ことをVfiglした。更に、GPCにより分子量を測
定し、滴定により残存のカルボキシル基含量を測定した
。測定したカルボキシル基含量は第1表に示す。
分子量はいずれも重量平均(ポリスチレン標準)で、1
5.000〜55,000であった。
5.000〜55,000であった。
実施例1〜6
軍さ0.24 mmのアルミニウム板をナイロンブラシ
と400メツシユのバミストンの水性懸濁液を用いてそ
の表面を砂目立てした後よく水で洗浄した。これを10
%水酸化ナトリウム水溶液に70℃で60秒間浸漬して
エツチングした後、流水で水洗後20%硝酸で中和洗浄
し、特開昭53−67507号公報記載の電気化学的粗
面化法、即ちVa = 12.7 V SVc = 9
.1 V (D正弦波交番e形電流を用い、1%硝酸水
溶液中で160ク一ロン/dm’の陽極特電気量で電解
粗面化処理を行った。ひきつづき30%の硫酸水溶液中
に浸漬し、55℃で2分間デスマットした後7%硫酸水
溶液中で酸化アルミニウムの被ふく量m2.0g/m’
になるように陽極酸化処理を行った。その後70℃のケ
イ酸ナトリウムの3%水溶液に1分間浸漬処理し、水洗
乾燥した。以上のようにして得られたアルミニウム板に
次に示す感光液(1)〜(VT)をホイラーを用いて塗
布し、80℃で2分間乾燥した。乾燥重量は2.0g/
m’であった。
と400メツシユのバミストンの水性懸濁液を用いてそ
の表面を砂目立てした後よく水で洗浄した。これを10
%水酸化ナトリウム水溶液に70℃で60秒間浸漬して
エツチングした後、流水で水洗後20%硝酸で中和洗浄
し、特開昭53−67507号公報記載の電気化学的粗
面化法、即ちVa = 12.7 V SVc = 9
.1 V (D正弦波交番e形電流を用い、1%硝酸水
溶液中で160ク一ロン/dm’の陽極特電気量で電解
粗面化処理を行った。ひきつづき30%の硫酸水溶液中
に浸漬し、55℃で2分間デスマットした後7%硫酸水
溶液中で酸化アルミニウムの被ふく量m2.0g/m’
になるように陽極酸化処理を行った。その後70℃のケ
イ酸ナトリウムの3%水溶液に1分間浸漬処理し、水洗
乾燥した。以上のようにして得られたアルミニウム板に
次に示す感光液(1)〜(VT)をホイラーを用いて塗
布し、80℃で2分間乾燥した。乾燥重量は2.0g/
m’であった。
なお、感光液(I)〜(VI)に用いた本発明のポリウ
レタン樹脂は第2表に示す。
レタン樹脂は第2表に示す。
(感光液)
(現像液)
各印部す版を用いてハイデルベルグ社製KOR型印刷機
で市販のインキにて、上質紙に印刷した。
で市販のインキにて、上質紙に印刷した。
平版印刷版(I)〜(VI)の最終印刷枚数を調べたと
ころ、第2表に示すとおりであった。
ころ、第2表に示すとおりであった。
第2表
第2表かられかるように、本発明のポリウレタン樹脂を
用いた平版印刷版(I)〜(■)は、印刷枚数が多く、
耐刷性が非常に優れたものである。
用いた平版印刷版(I)〜(■)は、印刷枚数が多く、
耐刷性が非常に優れたものである。
合成例17
コンデンサー、撹拌機を備えた500m1の3つ口丸底
フラスコに4.4′−ジフニニルメタンジイソシアネー
)125g(0,50モル)および2.2−ビス(ヒド
ロキシメチル)プロピオン酸67g(0,50モル)を
加え、ジオキサン290m1に溶解した。触媒としてN
、N−ジエチルアニリン1gを添加し、撹拌下6時間加
熱還流させた。その後、反応溶液を水4L酢酸40m1
の溶液中に撹拌しながら投入し、白色のポリマーを析出
させた。このポリマーを濾別し、水にて洗浄後、真空下
乾燥させることにより185gのポリマーを得た。
フラスコに4.4′−ジフニニルメタンジイソシアネー
)125g(0,50モル)および2.2−ビス(ヒド
ロキシメチル)プロピオン酸67g(0,50モル)を
加え、ジオキサン290m1に溶解した。触媒としてN
、N−ジエチルアニリン1gを添加し、撹拌下6時間加
熱還流させた。その後、反応溶液を水4L酢酸40m1
の溶液中に撹拌しながら投入し、白色のポリマーを析出
させた。このポリマーを濾別し、水にて洗浄後、真空下
乾燥させることにより185gのポリマーを得た。
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー(GPC)に
て分子量を測定したところ重量平均(ポリスチレン標準
)で28.000であった。更に滴定によりカルボキシ
ル基含有量を測定したところ2.47meq/gであっ
た。
て分子量を測定したところ重量平均(ポリスチレン標準
)で28.000であった。更に滴定によりカルボキシ
ル基含有量を測定したところ2.47meq/gであっ
た。
更にこのポリマー40gをコンデンサー、撹拌機を備え
た300m1の3つ日丸底フラスコに入れ、0MF2(
]C1m1にて溶解した。この溶液にトリエチルアミン
6.3g(0,062モル)を加え、80℃に加熱後エ
チレンブロモヒドリン7.7g(0,062モル)を撹
拌下10分間かけて滴下したつその後2時間撹拌を続け
た。
た300m1の3つ日丸底フラスコに入れ、0MF2(
]C1m1にて溶解した。この溶液にトリエチルアミン
6.3g(0,062モル)を加え、80℃に加熱後エ
チレンブロモヒドリン7.7g(0,062モル)を撹
拌下10分間かけて滴下したつその後2時間撹拌を続け
た。
反応終了後、反応溶液を水4β、酢酸200m1の溶液
中に撹拌しながら投入し、白色のポリマーを析出させた
。このポリマーを濾別し、水洗後、真空下乾燥させるこ
とにより42gのポリマーを得た。
中に撹拌しながら投入し、白色のポリマーを析出させた
。このポリマーを濾別し、水洗後、真空下乾燥させるこ
とにより42gのポリマーを得た。
NMR測定により、ヒドロキシエチル基がカルボキシル
基に導入されていることを確認し、更に滴定により残存
のカルボキシル基含有量を測定したところ、1.21m
eq / gであった(本発明のポリウレタン(a”)
)。
基に導入されていることを確認し、更に滴定により残存
のカルボキシル基含有量を測定したところ、1.21m
eq / gであった(本発明のポリウレタン(a”)
)。
合成例18〜24
第1表に示したジイソシアネート、ジオール化合物を使
用し、合成例17と同様にして、まずカルボキシル基を
有するポリウレタン樹脂を合成した。その後、第1表に
示した化合物を使用し、ポリウレタン樹脂中のカルボキ
シル基の一部と反応させることにより、本発明のポリウ
レタン樹脂を合成した。NMR測定により上記化合物が
カルボキシル基に導入されていることを確認した。更に
、GPCにより分子量を測定し、滴定により残存のカル
ボキシル基含量を測定した。測定したカルボキシル含量
は第3表に示す。
用し、合成例17と同様にして、まずカルボキシル基を
有するポリウレタン樹脂を合成した。その後、第1表に
示した化合物を使用し、ポリウレタン樹脂中のカルボキ
シル基の一部と反応させることにより、本発明のポリウ
レタン樹脂を合成した。NMR測定により上記化合物が
カルボキシル基に導入されていることを確認した。更に
、GPCにより分子量を測定し、滴定により残存のカル
ボキシル基含量を測定した。測定したカルボキシル含量
は第3表に示す。
なお分子量はいずれも重量平均(ポリスチレン換算)で
15.000〜75.000であった。
15.000〜75.000であった。
合成例25
コンデンサー、撹拌機を備えた500mnの370丸底
フラスコにm−キシリレンジイソシアネ −−)94
g(0,50モル)および2.2−ビス(ヒドロキシメ
チル)−N−)ルエンスルホニル144g(0,50モ
ル)を加え、ジオキサン330m1lに溶解した。触媒
としてN、N−ジエチルアニリン1gを添加し、撹拌下
6時間加熱還流させた。その後、反応溶液を水4f、酢
酸40IT11の溶液中に撹拌しながら投入し、白色の
ポリマーを析出させた。このポリマーを濾別し、水で洗
浄後、真空下乾燥させることにより229gのポリマー
を得た。
フラスコにm−キシリレンジイソシアネ −−)94
g(0,50モル)および2.2−ビス(ヒドロキシメ
チル)−N−)ルエンスルホニル144g(0,50モ
ル)を加え、ジオキサン330m1lに溶解した。触媒
としてN、N−ジエチルアニリン1gを添加し、撹拌下
6時間加熱還流させた。その後、反応溶液を水4f、酢
酸40IT11の溶液中に撹拌しながら投入し、白色の
ポリマーを析出させた。このポリマーを濾別し、水で洗
浄後、真空下乾燥させることにより229gのポリマー
を得た。
GPCにて分子量を測定したところ重量平均(ポリスチ
レン標準)で19,000であうた。更に滴定により酸
価を測定したところ、2.05meq/gであった。(
本発明のポリウレタン(q))。
レン標準)で19,000であうた。更に滴定により酸
価を測定したところ、2.05meq/gであった。(
本発明のポリウレタン(q))。
実施例7〜23
厚さ0.24 mmのアルミニウム板をナイロンブラシ
と400メツシ二のパミストンの水性懸濁液を用いてそ
の表面を砂目立てしだ後よく水で洗浄した。これを10
%水酸化ナトリウム水溶液に70℃で60秒間浸漬して
エツチングした後、流水で水洗後20%硝酸で中和洗浄
し、特開昭53−67507号公報記載の電気化学的粗
面化法、即ちVA =12.7V、Vc =9.IVの
正弦波交番波形電流を用い、1%硝酸水溶液中で160
ク一ロン/dm2の陽極特電気量で電解粗面化処理を行
った。ひきつづき30%の硫酸水溶液中に浸漬し、55
℃で2分間デスマットした後7%硫酸水溶液中で酸化ア
ルミニウムの被ふく量が2.0g/m’になるように陽
極酸化処理を行った。その後70℃のケイ酸ナトリウム
の3%水溶液に1分間浸漬処理し、水洗乾燥した。以上
のようにして得られたアルミニウム板に次に示す感光液
■〜◎をホイラ−を用いて塗布し、80℃で2分間乾燥
した。乾燥重量は1.8g/m’であった。
と400メツシ二のパミストンの水性懸濁液を用いてそ
の表面を砂目立てしだ後よく水で洗浄した。これを10
%水酸化ナトリウム水溶液に70℃で60秒間浸漬して
エツチングした後、流水で水洗後20%硝酸で中和洗浄
し、特開昭53−67507号公報記載の電気化学的粗
面化法、即ちVA =12.7V、Vc =9.IVの
正弦波交番波形電流を用い、1%硝酸水溶液中で160
ク一ロン/dm2の陽極特電気量で電解粗面化処理を行
った。ひきつづき30%の硫酸水溶液中に浸漬し、55
℃で2分間デスマットした後7%硫酸水溶液中で酸化ア
ルミニウムの被ふく量が2.0g/m’になるように陽
極酸化処理を行った。その後70℃のケイ酸ナトリウム
の3%水溶液に1分間浸漬処理し、水洗乾燥した。以上
のようにして得られたアルミニウム板に次に示す感光液
■〜◎をホイラ−を用いて塗布し、80℃で2分間乾燥
した。乾燥重量は1.8g/m’であった。
なお、感光液■〜0に用いた本発明のポリウレタン樹脂
は第4表に示す。
は第4表に示す。
(感光液)
1本発明の1リウ′り′樹脂 5・Og(1,
ア□ 。、。5812−メト
キシエタノール 100 g感光液■〜0を
用いて得られた各感光性平版印刷版■〜■それぞれに富
士写真フィルム■製PSライトで1mの距離から1分間
画像露光し、次に示す現像液にて室温で1分間浸漬した
後、脱脂綿で表面を軽くこすり、未露光部を除去し、明
るい青色の画像の平版印刷版■〜0を得た。
ア□ 。、。5812−メト
キシエタノール 100 g感光液■〜0を
用いて得られた各感光性平版印刷版■〜■それぞれに富
士写真フィルム■製PSライトで1mの距離から1分間
画像露光し、次に示す現像液にて室温で1分間浸漬した
後、脱脂綿で表面を軽くこすり、未露光部を除去し、明
るい青色の画像の平版印刷版■〜0を得た。
(現像液)
「亜硫酸ナトリウム 5gベンジル
アルコール 30g炭酸ナトリウム
5g各印刷版を用いてハイデル
ベルグ社製KOR型印刷機で市販のインキにて、上質紙
に印刷した。
アルコール 30g炭酸ナトリウム
5g各印刷版を用いてハイデル
ベルグ社製KOR型印刷機で市販のインキにて、上質紙
に印刷した。
平版、印刷版■〜■の最終印刷枚数を調べたところ、第
4表に示すとおりであった。
4表に示すとおりであった。
第 4 表
実施例24〜26
実施例7〜23のアルミニウム板の作製において、7%
の硫酸水溶液中で陽極酸化処理する代りに、5%りん酸
水溶液中で厚さが1.5g/m’になるように陽極酸化
処理を行った後、3%のケイ酸ナトリウム水溶液で70
℃、10秒間処理し、水洗乾燥した。このようにして得
られたアルミニウム仮に次に示す感光液@〜■をボイラ
ーを用いて塗布し、80℃で2分間乾燥した。乾燥重畳
は1.5g/m″であった。
の硫酸水溶液中で陽極酸化処理する代りに、5%りん酸
水溶液中で厚さが1.5g/m’になるように陽極酸化
処理を行った後、3%のケイ酸ナトリウム水溶液で70
℃、10秒間処理し、水洗乾燥した。このようにして得
られたアルミニウム仮に次に示す感光液@〜■をボイラ
ーを用いて塗布し、80℃で2分間乾燥した。乾燥重畳
は1.5g/m″であった。
なお感光液■〜■:′−用いた本発明のポリウレタン樹
脂は第5表に示す。
脂は第5表に示す。
(感光液)
本発明のポリウレタン樹脂 5.0g銅フタロ
シアニン彦1aI) 0.1gメチル
エチルケトン 50 g2−メトキシエ
タノール 50 g感光液0〜■を用いて
得られた各感光性平版印刷版@〜■を実施例■〜■と同
様に処理し、平版印刷版■〜■を得た。各印刷版を用い
て実施例■〜■と同様なテストを行った結果を第5表に
示す。
シアニン彦1aI) 0.1gメチル
エチルケトン 50 g2−メトキシエ
タノール 50 g感光液0〜■を用いて
得られた各感光性平版印刷版@〜■を実施例■〜■と同
様に処理し、平版印刷版■〜■を得た。各印刷版を用い
て実施例■〜■と同様なテストを行った結果を第5表に
示す。
第 5 表
これらの結果かられかるように、本発明の感光性組成物
を用いた平版印刷版はアルカリ現像可能でかつ耐刷力が
非常に優れたものである。
を用いた平版印刷版はアルカリ現像可能でかつ耐刷力が
非常に優れたものである。
なお、感光液■〜■の本発明の樹脂の代わりに、酸性水
素原子を持つ置換基を有さない市販のポリウレタン樹脂
としてニスタン# 5715 (Estane$57
15 、B、 F、 グツドリッヂ社製)を用い、同
様に塗布、露光、現像を行なった場合、現像不良となり
、明確な画像が得られなかった。このことから、本発明
の樹脂は、酸性水素原子を持つ置換基を有さないポリウ
レタン樹脂と比較して水性アルカリ現像液に対する現像
性が非常に優れたものであることが判る。
素原子を持つ置換基を有さない市販のポリウレタン樹脂
としてニスタン# 5715 (Estane$57
15 、B、 F、 グツドリッヂ社製)を用い、同
様に塗布、露光、現像を行なった場合、現像不良となり
、明確な画像が得られなかった。このことから、本発明
の樹脂は、酸性水素原子を持つ置換基を有さないポリウ
レタン樹脂と比較して水性アルカリ現像液に対する現像
性が非常に優れたものであることが判る。
Claims (3)
- (1)酸性水素原子を持つ置換基を有するポリウレタン
樹脂、を含有することを特徴とする感光性組成物。 - (2)ヒドロキシル基及び/又はニトリル基を更に有す
る該ポリウレタン樹脂と、ジアゾニウム化合物とを含有
する特許請求の範囲第(1)項記載の感光性組成物。 - (3)該ポリウレタン樹脂が、炭素−炭素不飽和結合を
有する特許請求の範囲第(1)項記載の感光性組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11434286 | 1986-05-19 | ||
JP61-114342 | 1986-05-19 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63113450A true JPS63113450A (ja) | 1988-05-18 |
Family
ID=14635367
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62121666A Pending JPS63113450A (ja) | 1986-05-19 | 1987-05-19 | 感光性組成物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4877711A (ja) |
JP (1) | JPS63113450A (ja) |
DE (1) | DE3716607C2 (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01231043A (ja) * | 1988-03-11 | 1989-09-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPH01293336A (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPH01297643A (ja) * | 1988-05-26 | 1989-11-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製造方法 |
JPH0224656A (ja) * | 1988-07-13 | 1990-01-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版の保存方法 |
JPH02146042A (ja) * | 1988-08-08 | 1990-06-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPH02284143A (ja) * | 1989-04-26 | 1990-11-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPH0425842A (ja) * | 1990-05-21 | 1992-01-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPH05165206A (ja) * | 1991-12-17 | 1993-07-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JP2001125265A (ja) * | 1999-10-27 | 2001-05-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版 |
JP2007501871A (ja) * | 2003-08-07 | 2007-02-01 | ハンツマン・アドヴァンスト・マテリアルズ・(スイッツランド)・ゲーエムベーハー | 光架橋性ポリウレタン |
US7507525B2 (en) | 2005-05-10 | 2009-03-24 | Fujifilm Corporation | Polymerizable composition and lithographic printing plate precursor |
JP2018072828A (ja) * | 2016-10-28 | 2018-05-10 | 長春人造樹脂廠股▲ふん▼有限公司 | 感光性樹脂組成物及びこれを用いたドライフィルムレジスト |
Families Citing this family (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA1308595C (en) * | 1985-11-22 | 1992-10-13 | Toshiaki Aoai | Photosensitive composition |
JPH0727208B2 (ja) * | 1987-04-20 | 1995-03-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
JPH0769605B2 (ja) * | 1988-02-25 | 1995-07-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
DE68911786T2 (de) * | 1988-07-11 | 1994-05-05 | Konishiroku Photo Ind | Lichtempfindliche Zusammensetzung. |
US5273862A (en) * | 1988-07-29 | 1993-12-28 | Hoechst Aktiengesellschaft | Photopolymerizable recording material comprising a cover layer substantially impermeable to oxygen, binds oxygen and is soluble in water at 20°C. |
DE3841025A1 (de) * | 1988-12-06 | 1990-06-07 | Hoechst Ag | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
JP2584672B2 (ja) * | 1989-04-28 | 1997-02-26 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
DE3924811A1 (de) * | 1989-07-27 | 1991-01-31 | Hoechst Ag | Pfropfpolymerisat mit ungesaettigten seitenketten, dieses enthaltendes lichtempfindliches gemisch sowie daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
US5290663A (en) * | 1991-03-01 | 1994-03-01 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Photocurable polyurethane-acrylate ionomer compositions for aqueous developable printing plates |
DE19518118C2 (de) * | 1995-05-17 | 1998-06-18 | Sun Chemical Corp | Lichtempfindliche Zusammensetzung |
DE19524851C2 (de) * | 1995-07-07 | 1998-05-07 | Sun Chemical Corp | Acetalpolymere und Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen und für lithographische Druckplatten |
DE19525050C2 (de) * | 1995-07-10 | 1999-11-11 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Sulfonamidsubstituierte Acetalpolymere und Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen und lithographischen Druckplatten |
DE19644515A1 (de) * | 1996-10-25 | 1998-06-25 | Sun Chemical Corp | Amidosubstituierte Acetalpolymere und Verwendung derselben in photoempfindlichen Zusammensetzungen und lithographischen Druckplatten |
JP3810510B2 (ja) * | 1997-03-26 | 2006-08-16 | 富士写真フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料及び平版印刷版原版 |
TW513614B (en) * | 1997-12-18 | 2002-12-11 | Nippon Synthetic Chem Ind | Photosensitive resin composition |
US5952154A (en) * | 1998-05-29 | 1999-09-14 | Morton International, Inc. | Photoimageable composition having improved flexibility |
DE19847616C2 (de) * | 1998-10-15 | 2001-05-10 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Polyvinylacetale mit Imidogruppen sowie die Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen |
JP2000137325A (ja) | 1998-11-04 | 2000-05-16 | Kansai Paint Co Ltd | 有機溶剤型感光性レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
JP3974718B2 (ja) * | 1998-11-09 | 2007-09-12 | Azエレクトロニックマテリアルズ株式会社 | 感放射線性樹脂組成物 |
US6555283B1 (en) | 2000-06-07 | 2003-04-29 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imageable element and waterless printing plate |
US6458511B1 (en) | 2000-06-07 | 2002-10-01 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermally imageable positive-working lithographic printing plate precursor and method for imaging |
US6270938B1 (en) | 2000-06-09 | 2001-08-07 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Acetal copolymers and use thereof in photosensitive compositions |
US6451505B1 (en) | 2000-08-04 | 2002-09-17 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imageable element and method of preparation thereof |
US6777155B2 (en) * | 2000-10-03 | 2004-08-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive lithographic printing plate |
JP2003270775A (ja) * | 2002-03-13 | 2003-09-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版及び平版印刷版の製版方法 |
WO2004079452A1 (ja) * | 2003-03-06 | 2004-09-16 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | 感光性樹脂組成物及びその硬化物 |
AU2003260206A1 (en) * | 2003-09-24 | 2005-04-11 | Ibf Industria Brasileira De Filmes Ltda. | Light sensitive coating compositions useful for lithographic elements |
JP4457034B2 (ja) * | 2005-03-28 | 2010-04-28 | 富士フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
US7935776B2 (en) * | 2007-03-21 | 2011-05-03 | Agi Corporation | Radiation curable and developable polyurethane and radiation curable and developable photo resist composition containing the same |
US20110105633A1 (en) * | 2009-10-26 | 2011-05-05 | Promethean Surgical Devices Llc | Functionalized stilbene-polyalkylene oxide prepolymers |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5276399A (en) * | 1975-12-19 | 1977-06-27 | Bayer Ag | Vinyl and carboxyl grouppcontaining crosslinkable urethane resin and preparation thereof |
JPS56120718A (en) * | 1980-02-28 | 1981-09-22 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Improved polyurethane type photosensitive resin composition |
JPS5794747A (en) * | 1980-09-25 | 1982-06-12 | Hoechst Ag | Light hardening mixture and photosensitive copying material made using it |
JPS6120939A (ja) * | 1984-07-10 | 1986-01-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用感光性組成物 |
JPS62123453A (ja) * | 1985-11-22 | 1987-06-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPS62123452A (ja) * | 1985-11-22 | 1987-06-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2770612A (en) * | 1952-01-23 | 1956-11-13 | Goodrich Co B F | Elastomeric dhsocyanate-modified polyesters |
US2871218A (en) * | 1955-12-01 | 1959-01-27 | Goodrich Co B F | Simulated vulcanizates of polyurethane elastomers |
NL134142C (ja) * | 1965-11-02 | |||
US3551154A (en) * | 1966-12-28 | 1970-12-29 | Ferrania Spa | Light sensitive article comprising a quinone diazide and polymeric binder |
US3660097A (en) * | 1969-11-28 | 1972-05-02 | Polychrome Corp | Diazo-polyurethane light-sensitive compositions |
NL7109179A (ja) * | 1970-07-13 | 1972-01-17 | ||
BE789196A (fr) * | 1971-09-25 | 1973-03-22 | Kalle Ag | Matiere a copier photosensible |
US4289838A (en) * | 1972-12-14 | 1981-09-15 | Polychrome Corporation | Diazo-unsaturated monomer light sensitive compositions |
US4123276A (en) * | 1974-02-28 | 1978-10-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition |
JPS533216A (en) * | 1976-06-28 | 1978-01-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | Diazo photosensitive composition |
LU75749A1 (ja) * | 1976-09-08 | 1978-04-27 | ||
US4171974A (en) * | 1978-02-15 | 1979-10-23 | Polychrome Corporation | Aqueous alkali developable negative working lithographic printing plates |
NL8001085A (nl) * | 1979-02-27 | 1980-08-29 | Minnesota Mining & Mfg | Fotogevoelige materialen en voorwerpen. |
DE2948554A1 (de) * | 1979-12-03 | 1981-06-04 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch |
JPS5953836A (ja) * | 1982-09-21 | 1984-03-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
CA1308595C (en) * | 1985-11-22 | 1992-10-13 | Toshiaki Aoai | Photosensitive composition |
-
1987
- 1987-05-12 US US07/048,949 patent/US4877711A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-05-18 DE DE3716607A patent/DE3716607C2/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-05-19 JP JP62121666A patent/JPS63113450A/ja active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5276399A (en) * | 1975-12-19 | 1977-06-27 | Bayer Ag | Vinyl and carboxyl grouppcontaining crosslinkable urethane resin and preparation thereof |
JPS5936246A (ja) * | 1975-12-19 | 1984-02-28 | バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト | 樹脂組成物 |
JPS56120718A (en) * | 1980-02-28 | 1981-09-22 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Improved polyurethane type photosensitive resin composition |
JPS5794747A (en) * | 1980-09-25 | 1982-06-12 | Hoechst Ag | Light hardening mixture and photosensitive copying material made using it |
JPS6120939A (ja) * | 1984-07-10 | 1986-01-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用感光性組成物 |
JPS62123453A (ja) * | 1985-11-22 | 1987-06-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPS62123452A (ja) * | 1985-11-22 | 1987-06-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01231043A (ja) * | 1988-03-11 | 1989-09-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPH01293336A (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPH01297643A (ja) * | 1988-05-26 | 1989-11-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製造方法 |
JPH0224656A (ja) * | 1988-07-13 | 1990-01-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版の保存方法 |
JPH02146042A (ja) * | 1988-08-08 | 1990-06-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPH02284143A (ja) * | 1989-04-26 | 1990-11-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPH0425842A (ja) * | 1990-05-21 | 1992-01-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPH05165206A (ja) * | 1991-12-17 | 1993-07-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JP2001125265A (ja) * | 1999-10-27 | 2001-05-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版 |
JP2007501871A (ja) * | 2003-08-07 | 2007-02-01 | ハンツマン・アドヴァンスト・マテリアルズ・(スイッツランド)・ゲーエムベーハー | 光架橋性ポリウレタン |
US7507525B2 (en) | 2005-05-10 | 2009-03-24 | Fujifilm Corporation | Polymerizable composition and lithographic printing plate precursor |
JP2018072828A (ja) * | 2016-10-28 | 2018-05-10 | 長春人造樹脂廠股▲ふん▼有限公司 | 感光性樹脂組成物及びこれを用いたドライフィルムレジスト |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4877711A (en) | 1989-10-31 |
DE3716607A1 (de) | 1987-11-26 |
DE3716607C2 (de) | 1995-06-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS63113450A (ja) | 感光性組成物 | |
JPH01134354A (ja) | 感光性組成物 | |
US4950582A (en) | Light-sensitive composition | |
JPS63287946A (ja) | 感光性組成物 | |
JPS63287943A (ja) | 感光性組成物 | |
JPS63287942A (ja) | 感光性組成物 | |
JPS63287944A (ja) | 感光性組成物 | |
JPH01271741A (ja) | 感光性組成物 | |
JPS63287947A (ja) | 感光性組成物 | |
US4839254A (en) | Photosensitive mixture and photosensitive recording material produced therefrom with polymeric binder which is reaction product of (thio) phosphinic acidiso (thio) cyanate and active hydrogen containing polymer | |
JPH07120038B2 (ja) | 感光性組成物 | |
JP2002311579A (ja) | 感光性組成物 | |
JPS63287948A (ja) | 感光性組成物 | |
JPS62175734A (ja) | 感光性組成物 | |
JP2577637B2 (ja) | 感光性組成物 | |
US4859562A (en) | Photosensitive mixture and photosensitive recording material produced therefrom with polymeric compound which is reaction product of unsaturated (thio)phosphinic acid iso(thio)cyanate and active hydrogen containing compound | |
JPH01231043A (ja) | 感光性組成物 | |
JP2598977B2 (ja) | 感光性組成物 | |
JP2547607B2 (ja) | 感光性組成物 | |
JPH02287547A (ja) | 光重合性組成物 | |
JPS62175729A (ja) | 感光性組成物 | |
JP2522687B2 (ja) | 画像形成方法 | |
JPH0485542A (ja) | 感光性組成物 | |
JPS62175730A (ja) | 感光性組成物 | |
JPS63287949A (ja) | 感光性組成物 |