JPS63113450A - 感光性組成物 - Google Patents

感光性組成物

Info

Publication number
JPS63113450A
JPS63113450A JP62121666A JP12166687A JPS63113450A JP S63113450 A JPS63113450 A JP S63113450A JP 62121666 A JP62121666 A JP 62121666A JP 12166687 A JP12166687 A JP 12166687A JP S63113450 A JPS63113450 A JP S63113450A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polyurethane resin
acid
compound
compounds
present
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62121666A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiaki Aoso
利明 青合
Kazuo Maemoto
一夫 前本
Akihiko Kamiya
神谷 明彦
Hiroshi Misu
三須 寛
Toshiyuki Sekiya
関屋 俊之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Publication of JPS63113450A publication Critical patent/JPS63113450A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/08Processes
    • C08G18/0804Manufacture of polymers containing ionic or ionogenic groups
    • C08G18/0819Manufacture of polymers containing ionic or ionogenic groups containing anionic or anionogenic groups
    • C08G18/0823Manufacture of polymers containing ionic or ionogenic groups containing anionic or anionogenic groups containing carboxylate salt groups or groups forming them
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/30Low-molecular-weight compounds
    • C08G18/34Carboxylic acids; Esters thereof with monohydroxyl compounds
    • C08G18/348Hydroxycarboxylic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/67Unsaturated compounds having active hydrogen
    • C08G18/675Low-molecular-weight compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/67Unsaturated compounds having active hydrogen
    • C08G18/675Low-molecular-weight compounds
    • C08G18/679Acetylenic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/83Chemically modified polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/016Diazonium salts or compounds
    • G03F7/021Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0212Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
    • G03F7/0217Polyurethanes; Epoxy resins
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • Y10S430/107Polyamide or polyurethane

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はネガ作用の感光性組成物に関するものであり、
特に水性アルカリ現像液で現像することができ、光架橋
性が良く、高耐刷力の平版印刷版に得られる感光性平版
印刷版に好適に使用される感光性組成物に関する。
〔従来の技術つ 予め感光性を与えられたネガ作用の印刷材料の感光性物
質として使用されているものの大多数はジアゾニウム化
合物であり、その最も常用されているものにp−ジアゾ
ジフェニルアミンのホルムアルデヒド縮合物に代表され
るジアゾ樹脂がある。
ジアゾ樹脂を用いた感光性平版印刷版の感光性層の組成
物は、例えば米国特許第2.714.066号明細書に
記載されているようにジアゾ樹脂単独のもの、つまり結
合剤を1吏用しないものと、例えば特開昭50−306
04号公報に記載されているように結合剤とジアゾ樹脂
が混合されているものに分類することができるが、近年
ジアゾニウム化合物を用いた感光性平版印刷版の多くの
ものは高耐刷性を持たせるためにジアゾニウム化合物と
結合剤となるポリマーよりなっている。
このような感光層としては特開昭50−30604号公
報に記載されているように、未露光部が水性アルカリ現
像液によって除去(現像)される所謂アルカリ現像型と
、有機溶剤系現像液によって除去される所謂溶剤現像型
が知られているが、労働安全衛生上、アルカリ現像型が
注目されている。このようなアルカリ現像型感光層に有
用な結合剤としては前記特開昭50−30604号公報
に記載されているように2−ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレートとメタクリル酸のようなカルボン酸含有の
モノマーとを共重合させたポリマー、米国特許第2.8
61.058号明細書に記載されているようにポリビニ
ルアルコールのヒドロキシル基と無水フタル酸のような
環状酸無水物を反応させることによりポリマー中にカル
ボン酸を導入したものがあるが、得られたポリマーは構
造上、耐摩耗性が悪く、このような結合剤を感光層に含
む感光性平版印刷版からは耐剛力の低い平版印刷版しか
得られなかった。一方ポリビニルアセタールは強じんな
皮膜を形成し、耐摩耗性もあるが有機溶剤現像型の感光
性平版印刷版しか得られないという欠点があった。
また、耐摩耗性が優れた公知のポリマーとしてポリウレ
タン樹脂があり、特公昭49−36961号公報、およ
び特開昭56−94346号公報において、ジアゾニウ
ム化合物と実質上線状のポリウレタン樹脂とを組合わせ
た組成物、およびジアゾニウム塩重縮合物と分岐状のポ
リウレタン樹脂とを組合わせた組成物が、それぞれ開示
されている。
しかし、これらのポリウレタン樹脂はいずれもアルカリ
可溶性基を有しておらず、本質的に水性アルカリ現像液
に対する溶解性が不充分であり、このポリウレタン樹脂
をバインダーとする感光性組成物を感光層とする感光性
平版印刷版は非露光域に残膜を生じることなく現像を行
なうことは非常に困難であった。更にこのポリウレタン
樹脂は、組合わせたジアゾニウム化合物と露光時に光反
応を起こして、効率よく架橋する部位を有していない為
、充分な強度を有する画像を形成しないという欠点を有
していた。
一方、光重合性組成物をネガ作用の感光性平版印刷版の
感光性画像形成層として用いる試みは多く、特公昭4’
6−32714号公報に開示されているようなバインダ
ーとしてのポリマー、モノマーおよび光重合開始剤から
成る基本組成、特公昭49−34041号公報に開示さ
れているようなバインダーとしてのポリマーに不飽和二
重結合を導入し、硬化効率を改善した組成、特公昭48
−38403号及び特公昭53−27605号の各公報
、及び英国特許第1.388.492号明細書等に開示
されている・ような新規な光重合開始剤を用いた組成等
が知られており、一部で実用に供されているが、いずれ
の感光性組成物も、画像露光時の感光性平版印刷版の表
面温度により、感度が大きく左右され、また画像露光時
に酸素による重合阻害を強く受けるという欠点があった
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明の目的は上記欠点を克服し、水性アルカリ現像液
に対する現像性が優れ、光架橋性が良く、高耐刷性を有
する新規な感光性組成物を提供することである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、
新規な感光性組成物を使用することで、これらの目的が
達成されることを見い出し、本発明に到達した。
すなわち本発明は、酸性水素原子を持つ置換基を有する
ポリウレタン樹脂、を含有することを特徴とする感光性
組成物を提供するものである。
なお本発明における酸性水素原子を持つ置換基とは、そ
の水中での酸解離定数(。Ka)が7以下のものをさし
、たとえば−COOH,−3O7NflCOO−1−(
”0N)1s[1□−1−(’0N)1sO□N)l−
1−NHCON)IS[]□−などが含まれる。樹脂の
1g当りの酸含量は、0.05〜6ミリ当量が好ましい
。0.05ミリ当量より少ないとアルカリ現像液での現
像性が不十分となり、6ミリ当量より多いと耐摩耗性が
劣化してくる。
好ましくは0.2〜4ミリ当量である。
本発明のポリウレタン樹脂には、炭素−炭素不飽和結合
を含有させることが好ましい。本発明における炭素−炭
素不飽和結合とは、エチレン及びアセチレン結合の両者
を意味し包含するが、好ましくはエチレン結合である。
本発明の感光性組成物の基本組成としては、該ポリウレ
タン樹脂単独で使用することもできるが、好ましくは以
下に示す組成を組み合せた系で使用される。即ち、 (1)本発明のポリウレタン樹脂と光重合開始剤及び/
又は増感剤との組み合せ系、 (2)本発明のポリウレタン樹脂とジアゾニウム化合物
との組み合せ系、 (3)本発明のポリウレタン樹脂と重合可能なエチレン
性不飽和基を少なくとも2個有するモノマー又はオリゴ
マーと光重合開始剤及び/又は増感剤との組み合せ系、 (4)本発明のポリウレタン樹脂と光重合開始剤及び/
又は増感剤とジアゾニウム化合物との組み合せ系、 (5)本発明のポリウレタン樹脂と重合可能なエチレン
性不飽和基を少なくとも2個有するモノマー又はオリゴ
マーと光重合開始剤及び/又は増感剤とジアゾニウム化
合物との組み合せ系、において使用される。
ここで該ポリウレタン樹脂が炭素−炭素不飽和結合を含
有する場合は、上記のいずれの系においても使用される
が、炭素−炭素不飽和結合を含有しない場合は、(2)
、(3)、(4)、(5)の系のみにおいて使用される
イ)カルボキシル基を含有するポリウレタン樹脂本発明
に好適に使用されるポリウレタン樹脂としては下記一般
式(1)で表わされるジイソシアネート化合物と、一般
式(II)、(III)又は(rV)で表わされるカル
ボキシル基を有するジオール化合物との反応生成物を基
本骨格とするポリウレタン樹脂が含まれる。
0[1:N−R,−NCO([) 1             (■) R6 ? 0OH HOL  Ar  Rじ−DH Rs              (III)0Dl1 110−R3−N−R,−0H 1(■) Rs UDH 式中、R1は置換基(例えば、アルキノベアルケニノベ
アラルキノベアリール、アルコキシ、ハロゲノの各基が
好ましい。)を有していてもよい二価の脂肪族又は芳香
族炭化水素を示す。必要に応じ、R1中にインシアネー
ト基と反応しない他の官能基例えばエステノペウレタン
、アミド、ウレイド基、炭素−炭素不飽和結合を有して
いてもよい。
R2は水素原子、置換基(例えば、アルキル、アリーノ
ペアルコキシ、エステル、ウレタン、アミド、ウレイド
、ハロゲンの各基が好ましい。)を有していてもよいア
ルキノベアルケニル、アラルキノペアリール、アルコキ
シ、アリーロキシ基を示し、好ましくは水素原子、炭素
数1〜8個のアルキルもしくはアルケニル、炭素数6〜
15個の了り−ル基を示す。R3、R4、Rs はそれ
ぞれ同一でもt目異していてもよく、単結合、置換基(
例えば、アルキノベアルケニル、アラルキノベアリール
、アルコキシ及びハロゲノの各基が好ましい。)を有し
ていてもよい二価の脂肪族又;ま芳香族炭化水素を示す
。好ましくは炭素数1〜20個のアルキレン、炭素数6
〜15個のアリーレン基、更に好ましくは炭素数1〜8
個のアルキレン基を示す。また必要に応じ、R3、R,
、R,中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、
例えばエステル、ウレタン、アミド、ウレイド基、炭素
−炭素不飽和結合を有していてもよい。なおR2、Rt
 、R4、Rsのうちの2又は3個で環を形成してもよ
い。
Arは置換基を有していてもよい三価の芳香族炭化水素
を示し、好ましくは炭−素数6〜15個の芳香族基を示
す。
一般式(I)で示されるジイソシアネート化合物として
、具体的には以下に示すものが含まれる。
即ち、2. 4−)リレンジイソシアネート、2゜4−
トリレンジイソシアネートの二量体、2.6−トリレン
ジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、
m−キシリレンジイソシアネート、4.4’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネー)、1. 5−ナフチレンジイ
ソシアネート、3゜3′−ジメチルビフェニル−4,4
′−ジイソシアネート等の如き芳香族ジイソシアネート
化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチル
へキサメチレンジイソシアネート、す°ジンジイソシア
ネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の始き脂肪族ジ
イソシアネート化合物;イソホロンジイソシアネート、
4.4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネー
ト)、メチルシクロヘキサン−2,4(又は2,6)ジ
イソシアネート、1゜3−(インシアネートメチル)シ
クロヘキサン等の如き指環族ジイソシアネート化合物;
1.3−ブチレングリコール1モルとトリレンジイソシ
アネート2モルとの付加体等の如きジオールとジイソシ
アネートとの反応物であるジイソシアネート化合物等が
挙げられる。
また一般式([)、(I[[)又は(rV)で示される
カルボキシル基を有するジオール化合物としては具体的
には以下に示すものが含まれる。
即ち、3.5−ジヒドロキシ安息香酸、2,2−ビス(
ヒドロキシメチル)プロピオン12゜2−ビス(2−ヒ
ドロキシエチル)プロピオン酸、2.2−ビス(3−ヒ
ドロキシプロピル)プロピオン酸、ビス(ヒドロキシメ
チル)酢酸、ヒス(4−ヒドロキシフェニル)酢酸、4
,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン酸、酒
石R1N、N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−カ
ルボキシ−プロピオンアミド等が挙げられる。
口)カルボキシル基以外の酸性水素原子を有するポリウ
レタン樹脂 また、カルボキシル基以外の酸性水素原子を有する本発
明のポリウレタン樹脂としては、一般式(I)のジイソ
シアネート化合物と、下記一般式(V)、(VI)、(
■)又は(■)のジオール化合物との反応生成物で表わ
される構造を基本骨格とするポリウレタン樹脂が含まれ
る。
Qう R2 ■ HD−R3−八r   R40H R、(■) HO−R3−Y−R4−OH(■) 式中、R2、R3、R1、RS及びArは前記と同義で
ある。R6は置換基(例えば、アルキノペアルコキシ、
ハロゲノの各基が好ましい。)を有していてもよい一価
の脂肪族又は芳香族炭化水素を示す。好ましくは炭素数
1〜20個のアルキル又はアルケニル、炭素数6〜15
個のアリール、炭素数7〜15個のアラルキル基を示す
。更に好ましくは炭素数1〜8個のアルキル、又はアル
ケニル、炭素数6〜10個のアリール基を示す。
YはN−スルホニルアミド基(−Co  NHSO2)
、N−スルホニルウレイド基(−NH−CO−NH−3
o□−)、N−アミノスルホニルアミド基(−CO−N
H−3O2−NH−)又はスルホニルウレタン基(−〇
−CO−NH−8O□−)を示す。
また一般式(V)、(VI)、(■)、又は(■)で示
されるジオール化合物は、例えば一般式(I[)、(I
II)、(rV)で示されるカルボキシル基を有するジ
オール化合物のヒドロキシ基を保護した後、塩基存在下
、一般式(IX)、(X)、(XI)又は(X [)の
化合物との反応により合成される。更にクロロスルホニ
ルイソシアネートと反応させた後、一般式(X III
 )のアミン化合物と反応させることにより合成される
R,S[12NC[l         (IX)X 
 R3CONHSO2Re    (X)X  L  
NHCD  NHSO2R6(XI)X  R3CON
)I  SO2−NHRe   (XI[)Rs  N
)12             (XIII)式中、
Xは塩素原子又は臭素原子を示す。
またスルホニルウレタン基の場合、トリヒドロキシ化合
物の1つのヒドロキシ基を一般式(IX)の化合物と反
応させることにより合成できる。
また、一般式(X)の化合物は、例えば、下記一般式(
×■)と(XV)の化合物の反応、一般式(XI) (
7)化合物は、下記一般式(XVT)  と(XV)の
化合物の反応、一般式(XII)の化合物は、下記一般
式(X■)トクロロスルホニルイソシアネートの反応の
後、一般式(X I )のアミン化合物との反応により
、各々合成される。
X−R3−C0CA          (XIV)R
6SO2NH2(XV) X−R3−NCO(XVI) X −R,−COOH(X■) また更に一般式(■)で示されるジオール化合物は、例
えば、一般式(XrV) と下記一般式(X■)の化合
物の反応、一般式(XVI)と下記一般式(X■)の化
合物の反応、一般式(X■)とクロロスルホニルイソシ
アネートの反応の後、下記−般式(XIX)の化合物と
の反応により、各々得られた化合物をヒドロキシル化す
ることにより合成される。
X−R,−5D2−NH2(XVIII)X−R4NH
2(XIX) 具体的には一般式(I[)、([[)、(IV)及び(
V)で示されるジオール化合物としては、以下に示すも
のが含まれる。
(No、1) CH3 (No、2) C11゜ ■ (No、3) CH。
嘱 HO−CH,−C−CH,−OH CD−NH−3O2C,Il。
(No、4) (No、5) C1l。
CD−N)I−5O7−C4H9 (No、8) 80  CH2CH2−N CH2CH2−OH(No
、lo) (No、11) (’0[1−C)12cO−NH−3O2−[’2H。
(Na12) H[1−(”H,CH□−N−CI(2CH2−0)1
(!Jo、 14 ) CH3 (’J口15) CO−NH−5O□−Nil−C2H5(Vo、l6) (No、17) CH3 HO−CH2−C−CH2−OH CD0−[:It、CD−NH−3O7−NH−C,I
ts(No、18) CI(3 (No、19) 110(LCL−N CLCL−11)1C=0 CLCL−COD−CLC’D−NH−5[l□−NH
−CJs(Nα20) CH。
(No、21) CH3 HO−C)12−C−C)!、−0)1C[10−C,
)llI−N)1−CD−N)I−502−[2H5D
:o、22)     HO−(”H2[1’O−NH
−3O2−C3H6−OHG(o、23)    H(
]−CH2C[1−I(−3[12−NH−C2H,−
DH(No、24)    tiO−C*HaCO−N
ll−5o□−NH−C,HじOH本発明に用いるポリ
ウレタン樹脂は、一般式(I)のジイソシアネート化合
物と一般式(VI)、(■)、又は(■)のジオール化
合物との反応生成物であるカルボキシル基を有するポリ
ウレタン樹脂に、塩基存在下、一般式(IX)、(X)
、(XI)又は(X[[)の化合物を反応させること、
更に上記…脂とクロロスルホニルイソシアネートとの反
応の後に、一般式(XI[I)のアミン化合物を反応さ
せることにおいても合成できる。
ハ)炭素−炭素不飽和結合 本発明のポリウレタン樹脂中に存在してもよい炭素−炭
素不飽和結合は一般式(II)、(III)又は(I’
V)の化合物から由来されるカルボキシル基の一部を炭
素−炭素不飽和結合を有するハロゲン化合物又はエポキ
シ化合物と、塩基存在下反応させることによりポリウレ
タン樹脂中に含有させることができる。上記ハロゲン化
合物およびエポキシ化合物の好ましい例としては例えば
アリルプロミド、2−ブテニルプロミド、l−フェニル
−1−プロペニル−3−プロミド、2−ブロモエチルシ
ンナメート、ブロモメチルスチレン、プロパルギルプロ
ミド、ブロモ−2−ブチン及び上記クロロ体等のハロゲ
ン化合物、アリルグリシジルエーテル、2−ブテニルグ
リシジルエーテノベ1−フェニルプロペニルグリシジル
エーテル、グリシジルアクリレート、グリシジルメタク
リレート、グリシジルシンナメート、プロパルギルグリ
シジルエーテル等のエポキシ化合物がある。
また炭素−炭素不飽和結合を有するジオール化合物を一
般式(n)、(1)又は(rV)のジオール化合物と併
用することによってポリウレタン樹脂中に導入すること
ができる。好ましいジオール化合物としては、例えば2
−ブチンジオール、4゜4′−ジヒドロキシスチルベン
、ジヒドロキシエチルフマレート、ジヒドロキシエチル
マレート、ジヒドロキシエチルP−フェニレンジアクリ
レート、4.4′−ジヒドロキシカルコン、1.4−ジ
ヒドロキシ−2−ブチン、1.6−シヒドロキシー2.
4−へキサジイン等がある。
二)ヒドロキシル基及び/又はニトリル基を含有するポ
リウレタン樹脂 また、本発明のポリウレタン樹脂中には必要に応じヒド
ロキシル基及び/又はニトリル基を導入することが好ま
しい。このようなヒドロキシル基及び/又は二) IJ
ル基は一般式(II>、([[)又は(■)から由来さ
れるカルボキシル基の一部をヒドロキシル基及び/又は
ニトリル基を有するハロゲン化合物と、塩基存在下反応
させることによりポリウレタン樹脂中に含有させること
ができる。
上記ハロゲン化合物としては、例えばエチレンブロモヒ
ドリン、3−ブロモプロパツール、4−、’ロモブタノ
ール、1−ブロモ−2−プロパツール、4−ヒドロキシ
−α、3.5−トリブロモトルエン、シアノエチルプロ
ミド、3−シアノプロピルプロミド、4−シアノブチル
プロミド、4−シアノベンジルプロミド及び上記クロロ
体等が好ましい。
またニトリル基の場合、二) IJル基を有するジオー
ル化合物を一般式(n)、(III)又は(rV)のジ
オール化合物と併用することによってもポリウレタン樹
脂中に導入することができる。
な右本発明のポリウレタン樹脂は一般式(1)で示され
るジイソシアネート化合物および一般式(n)、([[
)又は(rV)で示されるカルボキシル基を有するジオ
ール化合物2種以上から形成されてもよい。
また更に、カルボキシル基を有せず、イソシアネートと
反応しない他の置換基を有していてもよいジオール化合
物を、アルカリ現像性を低下させない程度に併用するこ
ともできる。
このようなジオール化合物としては、具体的には以下に
示すものが含まれる。
即ち、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プ
ロピレングリコーノペジプロピレングrノコーノベポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコーノペネオ
ベンチルグリコール、1. 3−ブチレングリコール、
1.6−ヘキサンジオール、2−ブテン−1,4−ジオ
ール、2゜2.4−)ジメチル−1,3−ベンタンジオ
ール、1.4−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘ
キサン、シクロヘキサンジメタツール、トリシクロデカ
ンジメタツール、水添ビスフェノールA1水添ビスフエ
ノールF1ビスフエノールAのエチレンオキサイド付加
体、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体、
ビスフェノールFのエチレンオキサイド付加体、ビスフ
ェノールFのプロピレンオキサイド付加体、水添ビスフ
ェノールAのエチレンオキサイド付加体、水添ビスフェ
ノールAのプロピオンオキサイド付加体、ヒドロキノン
ジヒドロキシエチルエーテル、p−キシリレングリコー
ノベジヒドロキシエチルスルホン、ビス(2−ヒドロキ
シエチル)−2,4−)リレンジカルバメート、2.4
−)リレン−ビス(2−ヒドロキシエチルカルバミド)
、ビス(2−ヒドロキシエチル)−m−キシリレンジカ
ルバメート、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソフタレ
ート等が挙げられる。
また本発明のポリウレタン樹脂には、残存の一〇H基と
一般式(IX)の化合物とを反応させて、酸性水素原子
を含する置換基−8O□NHCOO−を導入することが
できる。
ホ)ポリウレタン樹脂の合成 本発明のポリウレタン樹脂は上記ジイソシアネート化合
物およびジオール化合物を非プロトン性溶媒中、それぞ
れの反応性に応じた活性の公知な触媒を添加し、加熱す
ることにより合成される。
使用するジイソシアネートおよびジオール化合物のモル
比は好ましくは0.8:1〜1.2:1であり、ポリマ
ー末端にインシアネート基が残存した場合、アルコール
類又はアミン類等で処理することにより、最終的にイン
シアネート基が残存しない形で合成される。
本発明のポリウレタン樹脂の分子量は、好ましくは重量
平均で1000以上であり、更に好ましくは5.000
〜15万の範囲である。
これらの高分子化合物は単独で用いても混合して用いて
もよい。感光性組成物中に含まれる、これらの高分子化
合物の含有量は約30〜95重量%、好ましくは約50
〜90重量%である。
vi)その他の樹脂 本発明の感光性組成物には前記重合体に対して50重量
%以下の量で他の樹脂をも混入することができる。混入
される樹脂としては例えばポリアミド樹脂、エポキシ樹
脂、ポリアセタール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹
脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹
脂を挙げることができる。
へ)エチレン性不飽和基を少なくとも2個有するモノマ
ー又はオリゴマー 本発明の感光性組成物に添加することのできる重合可能
なエチレン性不飽和基を少なくとも2個有するモノマー
又はオリゴマーは、常圧で沸点100℃以上の、少なく
とも1分子中に2個以上の付加重合可能なエチレン性不
飽和基を有する分子110,000以下のモノマーまた
はオリゴマーである。このようなモノマー又はオリゴマ
ーとして;ま、ポリエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、トリメチロールエタントリ (メタ)アクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート
、ペンタエリスリトールトリ (メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ (メタ)アクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、
ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリ (ア
クリロイロキシエチル)インシアネート、グリセリンや
トリメチロールエタン等の多価アルコールにエチレンオ
キサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後(メタ
)アクリレート化したもの、特公昭48−41708号
、特公昭50−6034号、特開昭51−37193号
各公報明細載されているようなウレタンアクリレート類
、特開昭48−64183号、特公昭49−43191
号、特公昭52−30490号各公報明細載されている
ポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)
アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多
官能のアクリレートやメタクリレートをあげることがで
きる。さらに日本接着協会誌Vol。20、No、 7
.300〜308ページに光硬化性モノマー及びオリゴ
マーとして紹介されているものも使用することができる
これらのモノマーまたはオリゴマーと本発明のポリウレ
タン樹脂の組成比は重量で3:97〜7[1:30の範
囲が好ましく、更に好ましい範囲は5:95〜50:5
0である。
ト)光重合開始剤 本発明の化合物に添加することのできる光重合開始剤は
米国特許第2.367、660号明細書に開示されてい
るビシナールポリケタルドニル化合物、米国特許第2.
367、661号及び第2.367、670号明細書に
開示されているα−カルボニル化合物、米国特許第2.
448.828号明細書に開示されているアシロインエ
ーテル、米国特許第2.722.512号明細書に開示
されてシ)、るα−炭化水素で置換された芳香族アシロ
イン化合物、米国特許第3.046.127号及び第2
、951.758号明細書に開示されている多岐キノン
化合物、米国特許第3.549.367号明細書に開示
されているトリアリールイミダゾールダイマー/p−ア
ミノフェニルケトンの組合せ、米国特許第3、870.
524号明細書に開示されているベンゾチアソール系化
合物、米国特許第3.751.259号明細書に開示さ
れているアクリジン及びフェナジン化合物、米国特許第
4.212.970号明細書に開示されているオキサジ
アゾール化合物等が含まれる。
好ましくは下記一般式(XX)又は(XXI)で示され
るトリハロメチル−8−トリアジン化合物又はトリハロ
メチルオキサジアゾール化合物が挙げられる。
ここで式中、R8は置換もしくは無置換のアリール、ア
ルケニル基、R1はRe 、−C20又は、置換もしく
は無置換のアルキル基を示す。Zは塩素原子又は臭素原
子を示す。
一般式(XX)で示される化合物としては、例えば苦杯
ら著、Bull、(’hem、Soc、Japan 、
第42巻、第2924頁(1969年)に記載の化合物
、英国特許第1.388.492号、西独特許第2.7
18.259号、及び西独特許第3.337..024
号明細書記載の化合物が挙げられる。具体的には次に示
す化合物が含まれる。
ff1lチ、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロル
メチル)−3−)リアジン、2−(p−クロルフェニル
)−4,6−ビス(lクロルメチル)−8−トリアジン
、2− (p−トリル)−4,6−ビス(トリクロルメ
チル)−3−)リアジン、2−(p−メトキシフェニル
)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−3−1−リア
ジン、2−(2’、4’−ジクロルフェニル)−4,6
−ビス(トリクロルメチル)−3−)’Jアジン、2゜
4、 6−)リス(トリクロルメチル)−3−トリアジ
ン、2−メチル−4,6−ビス(トリ、クロルメチル)
−3−トリアジン、2−n−ノニル−4゜6−ビス(ト
リクロルメチル)−s−トリアジン、2−(α、α、β
−トリクロルエチル)−4,6−ビス(トリクロルメチ
ル)−3−)リアジン、2−スチリル−4,6−ビス(
トリクロルメチル)−8−トリアジン、2−(p−メチ
ルスチリル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−3
−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6
−ビス(トリクロルメチル)−3−トリアジン、2−(
4−メトキシ−ナフト−1−イル)−4゜6−ビス(ト
リクロルメチル)−5−ト’Jアジン、2−(4−エト
キシ−ナフト−1−イル)−4゜6−ビス(トリクロル
メチル)−8−トリアジン、2− C4−(2−エトキ
シエチル)−ナフト−1−イル〕−4,6−ビス(トリ
クロルメチル)−8−トリアジン、2−(4,7−ジメ
トキシ−ナフトー1−イル]−4,6−ビス(トリクロ
ルメチル)−3−)リアジン、2−(アセナフト−5−
イル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−5−トリ
アジン、2− (4−スチリルフェニル)−4,6−ビ
ス(トリクロロメチル)−3−)リアジン等が含まれる
また一般式(XH)で示される化合物としては、例えば
特開昭54−74728号公報、特開昭55−7774
2号公報、及び特開昭59−148784号公報記載の
化合物が挙げられる。
具体的には次に示す化合物が含まれる。
即ち、2−スチリル−5−トリクロロメチル−1、3,
4−オキサジアゾール、2−(4−クロロスチリル)−
5−)リクロロメチル−1,3゜4−オキサジアゾール
、2−(4−メチルスチリル)−5−トリクロロメチル
−1,3,4−オキサジアゾール、2−(4−メトキシ
スチリル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキ
サジアゾール、2−(4−ブトキシスチリル)−5−ト
リクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−
 (4−スチリルスチリル)−5−トリクロロメチル−
1,3,4−オキサジアゾール、2−フ二二ルー5−ト
リクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−
 (4−メトキシフェニル)−5−トリクロロメチル−
1,3,4−オキサジアゾール、2−(3,4−ジメト
キシフェニル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−
オキサジアゾール、2−(4−スチリルフェニル)−5
−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾールペ
2−(1−ナフチル)−5−)リクロロメチル−1,3
,4−オキサジアゾール等が含まれる。
チ)増感剤 本発明の感光性組成物に添加することのできる増感剤は
、特公昭59−28328号公報に示される芳香族チア
ゾール化合物、特開昭54−151024号公報に示さ
れるメロシアニン色素、特開昭58−40302号公報
に示される芳香族チオピリリウム塩や芳香族ピリリウム
塩、その他9−フェニルアクリジン、5−ニトロアセナ
フテン、ケトクロリン類等の光吸収剤が挙げられる。更
にはこれらにN−フェニルグリシン、2−メルカブトベ
ンゾチナゾール、N、N’−ジメチルアミノ安息香酸エ
チル等の水素供与体等を組み合せた系も、本発明に有効
に使用される。
本発明における光重合開始剤及び/又は増感剤の量は、
光重合可能なエチレン性不飽和化合物と本発明のポリウ
レタン樹脂との合計に対して0.01重量%から20重
量%の範囲で充分であり、更に好ましくは0.5重量%
から10重量%で良好なる結果を得る。
す)ジアゾニウム化合物 本発明に用いられるジアゾニウム化合物としては米国特
許第3.867、147号記載のジアゾニウム化合物、
米国特許第2.632.703号明細書記載のジアゾニ
ウム化合物などがあげられるが特に芳香族ジアゾニウム
塩と例えば活性なカルボニル含有化合物(例えばホルム
アルデヒド)との縮合物で代表されるジアゾ樹脂が有用
である。好ましいジアゾ樹脂には、例えばp−ジアゾジ
フェニルアミンとホルムアルデヒド又はアセトアルデヒ
ドの縮合物のへキサフルオロりん酸塩、テトラフルオロ
はう酸塩が含まれる。また、米国特許第3.300.3
09号に記載されているようなp−ジアゾジフェニルア
ミンとホルムアルデヒドとの縮合物のスルホン酸塩(例
えば、p−)ルエンスルホン酸塩、ドデシルベンゼンフ
ルホン酸塩、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベン
ゾイルベンゼンスルホン酸塩など)、ホスフィン酸塩(
例えばベンゼンホスフィン酸塩など)、ヒドロキシ基含
有化合物塩(例えば2.4−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン塩など)、有機カルボン酸塩なども好ましい。
更には特開昭58−27141号に示されているような
3−メトキシ−4−ジアゾ−ジフェニルアミンを4.4
′−ビス−メトキシ−メチル−ジフェニルエーテルで縮
合させメシチレンスルホン酸塩としたものなども適当で
ある。
これらジアゾニウム化合物の感光性組成物中の含有量は
、1〜50重量%、好ましくは3〜20重量%である。
また必要に応じ、ジアゾニウム化合物2種以上を併用し
てもよい。
ヌ)熱重合防止剤 さらに本発明においては感光性組成物の製造中あるいは
保存中において重合可能なエチレン性不飽和化合物の不
要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加
することが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイ
ドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル
−p−クレゾーノペビロガローノペ t−ブチルカテコ
ール、ベンゾキノン、4.4’ −チオビス(3−メチ
ル−5−t−ブチルフェノール)、2.2’−メチレン
ビス(4−メチル−6−t−、’チルフェノール)、2
−メルカプトベンゾイミダゾール、N−ニトロソフェニ
ルヒドロキシアミン第一セリウム塩等があげられる。
ル)その他の成分 本発明の感光性組成物には必要に応じて、染料、顔料、
安定剤、充てん剤、界面活性剤、可塑剤などの添加によ
り性能の改良を図ることもできる。
好適な染料としては油溶性染料、例えばC,1,261
05(オイルレッドRR) 、CJ、21260(オイ
ルブルーレツト#308) 、C,1,74350(オ
イルブルー)、C,1,52015(メチレンルブルー
) 、C01,42555(クリスタルバイオレット)
 、C,1,42595(ビクトリアピコアブルー)な
どが含まれる。
安定剤とては、リン酸、亜リン酸、シュウ酸、p−)ル
エンスルホン酸、ジピコリン酸、リンゴ酸、酒石酸、2
−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼ
ンスルホン酸、ブチルナフタレンスルホン酸、ベンゼン
スルホンL p−ヒドロキシベンゼンスルホン酸、等が
あげられる。
ヲ)感光性組成物の使用法 本発明の感光性組成物は通常、溶剤に溶解した後、適当
な支持体に塗布し、乾燥して使用される。
その塗布量は乾燥重量で約0.1〜5 g / m’、
好ましくは0.3〜3g/m゛である。
かかる溶剤としては、例えばメタノール、エタノール、
インプロパツール、n−ブタノール、t−ブタノール、
2−メトキシフェノールベ 1−メトキシ−2−プロパ
ノーノペ 2−エトキシエタノール、2−メトキシエチ
ルアセテート、エチレングリコール、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメチルスルホキシド、N、N−ジメ
チルホルムアミド、アセトン、メチルエチルケトンなど
及びこれらの混合物が使用される。
また本発明の感光性組成物が塗布される支持体としては
、例えば、紙、プラスチックス(例えばポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリスチレンなど)がラミネートされ
た紙、例えばアルミニウム(アルミニウム合金も含む。
)、亜鉛、銅などのような金属の板、例えば二酢酸セル
ロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、
酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース
、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリス
チレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニ
ルアセタールなどのようなプラスチックのフィルム、上
記の如き金属がラミネート、もしくは蒸着された紙もし
くはプラスチックフィルムなどが含まれる。これらの支
持体のうち、アルミニウム板は寸度的に著しく安定であ
り、しかも安価であるので特に好ましい。更に、特開昭
48−18327号公報に記されているようなポリエチ
レンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが
結合された複合体シートも好ましい。
また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場
合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、珪酸カリ、弗化ジ
ルコニウム酸カリウム、リン酸塩等の水溶液への浸漬処
理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理がなされてい
ることが好ましい。
また、米国特許第2.714.066号明細書に記載さ
れている如く、珪酸す) IJウム水溶液に浸漬処理さ
れたアルミニウム板、特公昭47−5125号公報に記
載されているようにアルミニウム板を陽極酸化処理した
のちに、アルカリ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したも
の、米国特許第4.476、006号に記載されている
ような機械的粗面化と電解粗面化を組合せて処理された
アルミニウム支持体も好適に使用される。上記陽極酸化
処理は、例えば、リン酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無
機酸、若しくは、蓚酸、スルファミン酸等の有機酸また
はこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以上
を組み合せた電解液中でアルミニウム板を陽極として電
流を流すことにより実施される。特に本発明の感光性組
成物中にジアゾ化合物を含有させない場合は、リン酸を
含んだ電解液中で陽極酸化を行うことが望ましい。
また砂目立て処理、陽極酸化後、封孔処理を施したもの
も好ましい。かかる封孔処理は珪酸ナトリウム水溶液、
珪酸カリウム水溶液、熱水及び無機塩又は有機塩を含む
熱水溶液への浸漬並びに水蒸気浴などによって行われる
また、米国特許第3.658.662号明細書に記載さ
れているようなシリケート電着も有効である。
更に特公昭46−27481号公報、特開昭52−58
602号公報、特開昭52−30503号公報に開示さ
れているような電解ダレインを施した支持体と、上記陽
極酸化処理及び珪酸ソーダ処理を組み合せた表面処理も
有用である。
更には、特開昭56−28893号公報に開示されてい
るような、ブラシグレイン、電解ダレイン、陽極酸化処
理さらに珪酸ソーダ処理を行ったものも好適である。
更にこれらの処理を行った後に、水溶性の樹脂、たとえ
ばポリビニルフォスホン酸、スル串ン酸基を側鎖に有す
る重合体および共重合体、ポリアクリル酸等を下塗りし
たものも好適である。
これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とするた
めに施される以外に、その上に設けられる感光性組成物
の有害な反応を防ぐため、更には感光層の密着性の向上
等のために施されるものである。
支持体上に設けられた感光性組成物の層の上には、空気
中の酸素による重合禁止作用を完全に防止するため、例
えばポリビニルアルコーノペ酸性セルロース類などのよ
うな酸素遮断性に優れたポリマーよりなる保護層を設け
てもよい。この髄な保護層の塗布方法については、例え
ば米国特許第3、458.311号、特公昭55−49
729号明細書に詳しく記載されている。
支持体上に塗布された本発明の感光性組成物は線画像、
網点画像等を有する透明原画を通して露光し、次いで水
性現像液で現像することにより、原画に対してネガのレ
リーフ像を与える。
露光に使用される光源としてはカーボンアーク灯、水銀
灯、キセノンランプ、タングステンランプ、メタルハラ
イドランプなどがある。
また、上記現像液として好ましいものは、ベンジルアル
コール、2−フェノキシエタノール、2−ブトキシェタ
ノールのような有機溶媒を少量含むアルカリ水溶液であ
り、例えば米国特許第3、475.171号および同3
.615.480号に記載されているものを挙げること
ができる。
更に、特開昭50−26601号、特公昭56−394
64号、同56−42860号の各公報に記載されてい
る現像液も上記感光性組成物の現(象液として優れてい
る。
〔発明の効果〕
本発明の感光性組成物は支持体上に塗布する際の有機塗
布溶剤への溶解性に優れ、また塗布、乾燥、画像露光後
、未露光部をアルカリ性現像液で現1象する際の現像性
に優れる。得られたレリーフ像は耐摩耗性、感脂性及び
支持体への接着性が良く、印刷版として使用した場合、
良好な印刷物が多数枚得られる。
〔実施例〕
以下、本発明を合成例、実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明の内容がこれにより限定されるものではな
い。
合成例1゜ コンデンサー、撹拌機を備えた500m1の3つ口丸底
フラスコに4.4′−ジフェニルメタンジイソシアネー
ト125g(0,50モル)および2.2−ビ、ス (
ヒドロキシメチル)プロピオン酸67g(0,50モル
)を加え、ジオキサン290m1に溶解した。触媒とし
てN、N−ジエチルアニリン1gを添加し、撹拌下6時
間加熱還流させた。その後、反応溶液を水4β、酢酸4
0m1の溶液中に撹拌しながら投入し、白色のポリマー
を析出させた。このポリマーを濾別し、水にて洗浄後、
真空下乾燥させることにより185gのポリマーを得た
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー(GPC)に
て分子量を測定したところ重量平均(ポリスチレン標準
)で28,000であった。更に滴定によりカルボキシ
ル基含有量を測定したところ2.47meq/gであっ
た。
更にこのポリマー40gをコンデンサー、撹拌機を備え
た300m1の3つ日丸底フラスコに入れ、DMF20
0mβにて溶解した。この溶液にトリエチルアミン6.
3g(0,062モル)を加え、80℃に加熱後アリル
プロミド7.5g(0,062モル)を撹拌下10分間
かけて滴下した。その後2時間撹拌を続けた。
反応終了後、反応溶液を水41、酢酸200m1の溶液
中に撹拌しながら投入し、白色のポリマーを析出させた
。このポリマーを濾別し、水洗後、真空下乾燥させるこ
とにより41gのポリマーを得た。
NMR測定により、アリル基がカルボキシル基に導入さ
れていることを確認し、更に滴定により残存のカルボキ
シル基含有量を測定したところ、1.19meq/gで
あった(本発明のポリウレタン(a))。
合成例2〜16 第1表に示したジイソシアネート、ジオール化合物を使
用し、合成例1と同様にして、まずカルボキシル基を有
するポリウレタン樹脂t脂を合成した。
その後、第1表に示した化合物を使用し、ポリウレタン
樹脂中のカルボキシル基の一部と反応させることにより
、本発明のポリウレタン樹脂を合成した。N M R測
定により上記化合物がカルボキシル基に導入されている
ことをVfiglした。更に、GPCにより分子量を測
定し、滴定により残存のカルボキシル基含量を測定した
。測定したカルボキシル基含量は第1表に示す。
分子量はいずれも重量平均(ポリスチレン標準)で、1
5.000〜55,000であった。
実施例1〜6 軍さ0.24 mmのアルミニウム板をナイロンブラシ
と400メツシユのバミストンの水性懸濁液を用いてそ
の表面を砂目立てした後よく水で洗浄した。これを10
%水酸化ナトリウム水溶液に70℃で60秒間浸漬して
エツチングした後、流水で水洗後20%硝酸で中和洗浄
し、特開昭53−67507号公報記載の電気化学的粗
面化法、即ちVa = 12.7 V SVc = 9
.1 V (D正弦波交番e形電流を用い、1%硝酸水
溶液中で160ク一ロン/dm’の陽極特電気量で電解
粗面化処理を行った。ひきつづき30%の硫酸水溶液中
に浸漬し、55℃で2分間デスマットした後7%硫酸水
溶液中で酸化アルミニウムの被ふく量m2.0g/m’
になるように陽極酸化処理を行った。その後70℃のケ
イ酸ナトリウムの3%水溶液に1分間浸漬処理し、水洗
乾燥した。以上のようにして得られたアルミニウム板に
次に示す感光液(1)〜(VT)をホイラーを用いて塗
布し、80℃で2分間乾燥した。乾燥重量は2.0g/
m’であった。
なお、感光液(I)〜(VI)に用いた本発明のポリウ
レタン樹脂は第2表に示す。
(感光液) (現像液) 各印部す版を用いてハイデルベルグ社製KOR型印刷機
で市販のインキにて、上質紙に印刷した。
平版印刷版(I)〜(VI)の最終印刷枚数を調べたと
ころ、第2表に示すとおりであった。
第2表 第2表かられかるように、本発明のポリウレタン樹脂を
用いた平版印刷版(I)〜(■)は、印刷枚数が多く、
耐刷性が非常に優れたものである。
合成例17 コンデンサー、撹拌機を備えた500m1の3つ口丸底
フラスコに4.4′−ジフニニルメタンジイソシアネー
)125g(0,50モル)および2.2−ビス(ヒド
ロキシメチル)プロピオン酸67g(0,50モル)を
加え、ジオキサン290m1に溶解した。触媒としてN
、N−ジエチルアニリン1gを添加し、撹拌下6時間加
熱還流させた。その後、反応溶液を水4L酢酸40m1
の溶液中に撹拌しながら投入し、白色のポリマーを析出
させた。このポリマーを濾別し、水にて洗浄後、真空下
乾燥させることにより185gのポリマーを得た。
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー(GPC)に
て分子量を測定したところ重量平均(ポリスチレン標準
)で28.000であった。更に滴定によりカルボキシ
ル基含有量を測定したところ2.47meq/gであっ
た。
更にこのポリマー40gをコンデンサー、撹拌機を備え
た300m1の3つ日丸底フラスコに入れ、0MF2(
]C1m1にて溶解した。この溶液にトリエチルアミン
6.3g(0,062モル)を加え、80℃に加熱後エ
チレンブロモヒドリン7.7g(0,062モル)を撹
拌下10分間かけて滴下したつその後2時間撹拌を続け
た。
反応終了後、反応溶液を水4β、酢酸200m1の溶液
中に撹拌しながら投入し、白色のポリマーを析出させた
。このポリマーを濾別し、水洗後、真空下乾燥させるこ
とにより42gのポリマーを得た。
NMR測定により、ヒドロキシエチル基がカルボキシル
基に導入されていることを確認し、更に滴定により残存
のカルボキシル基含有量を測定したところ、1.21m
eq / gであった(本発明のポリウレタン(a”)
)。
合成例18〜24 第1表に示したジイソシアネート、ジオール化合物を使
用し、合成例17と同様にして、まずカルボキシル基を
有するポリウレタン樹脂を合成した。その後、第1表に
示した化合物を使用し、ポリウレタン樹脂中のカルボキ
シル基の一部と反応させることにより、本発明のポリウ
レタン樹脂を合成した。NMR測定により上記化合物が
カルボキシル基に導入されていることを確認した。更に
、GPCにより分子量を測定し、滴定により残存のカル
ボキシル基含量を測定した。測定したカルボキシル含量
は第3表に示す。
なお分子量はいずれも重量平均(ポリスチレン換算)で
15.000〜75.000であった。
合成例25 コンデンサー、撹拌機を備えた500mnの370丸底
フラスコにm−キシリレンジイソシアネ  −−)94
g(0,50モル)および2.2−ビス(ヒドロキシメ
チル)−N−)ルエンスルホニル144g(0,50モ
ル)を加え、ジオキサン330m1lに溶解した。触媒
としてN、N−ジエチルアニリン1gを添加し、撹拌下
6時間加熱還流させた。その後、反応溶液を水4f、酢
酸40IT11の溶液中に撹拌しながら投入し、白色の
ポリマーを析出させた。このポリマーを濾別し、水で洗
浄後、真空下乾燥させることにより229gのポリマー
を得た。
GPCにて分子量を測定したところ重量平均(ポリスチ
レン標準)で19,000であうた。更に滴定により酸
価を測定したところ、2.05meq/gであった。(
本発明のポリウレタン(q))。
実施例7〜23 厚さ0.24 mmのアルミニウム板をナイロンブラシ
と400メツシ二のパミストンの水性懸濁液を用いてそ
の表面を砂目立てしだ後よく水で洗浄した。これを10
%水酸化ナトリウム水溶液に70℃で60秒間浸漬して
エツチングした後、流水で水洗後20%硝酸で中和洗浄
し、特開昭53−67507号公報記載の電気化学的粗
面化法、即ちVA =12.7V、Vc =9.IVの
正弦波交番波形電流を用い、1%硝酸水溶液中で160
ク一ロン/dm2の陽極特電気量で電解粗面化処理を行
った。ひきつづき30%の硫酸水溶液中に浸漬し、55
℃で2分間デスマットした後7%硫酸水溶液中で酸化ア
ルミニウムの被ふく量が2.0g/m’になるように陽
極酸化処理を行った。その後70℃のケイ酸ナトリウム
の3%水溶液に1分間浸漬処理し、水洗乾燥した。以上
のようにして得られたアルミニウム板に次に示す感光液
■〜◎をホイラ−を用いて塗布し、80℃で2分間乾燥
した。乾燥重量は1.8g/m’であった。
なお、感光液■〜0に用いた本発明のポリウレタン樹脂
は第4表に示す。
(感光液) 1本発明の1リウ′り′樹脂     5・Og(1,
ア□             。、。5812−メト
キシエタノール      100 g感光液■〜0を
用いて得られた各感光性平版印刷版■〜■それぞれに富
士写真フィルム■製PSライトで1mの距離から1分間
画像露光し、次に示す現像液にて室温で1分間浸漬した
後、脱脂綿で表面を軽くこすり、未露光部を除去し、明
るい青色の画像の平版印刷版■〜0を得た。
(現像液) 「亜硫酸ナトリウム          5gベンジル
アルコール         30g炭酸ナトリウム 
           5g各印刷版を用いてハイデル
ベルグ社製KOR型印刷機で市販のインキにて、上質紙
に印刷した。
平版、印刷版■〜■の最終印刷枚数を調べたところ、第
4表に示すとおりであった。
第   4   表 実施例24〜26 実施例7〜23のアルミニウム板の作製において、7%
の硫酸水溶液中で陽極酸化処理する代りに、5%りん酸
水溶液中で厚さが1.5g/m’になるように陽極酸化
処理を行った後、3%のケイ酸ナトリウム水溶液で70
℃、10秒間処理し、水洗乾燥した。このようにして得
られたアルミニウム仮に次に示す感光液@〜■をボイラ
ーを用いて塗布し、80℃で2分間乾燥した。乾燥重畳
は1.5g/m″であった。
なお感光液■〜■:′−用いた本発明のポリウレタン樹
脂は第5表に示す。
(感光液) 本発明のポリウレタン樹脂     5.0g銅フタロ
シアニン彦1aI)         0.1gメチル
エチルケトン        50 g2−メトキシエ
タノール       50 g感光液0〜■を用いて
得られた各感光性平版印刷版@〜■を実施例■〜■と同
様に処理し、平版印刷版■〜■を得た。各印刷版を用い
て実施例■〜■と同様なテストを行った結果を第5表に
示す。
第   5   表 これらの結果かられかるように、本発明の感光性組成物
を用いた平版印刷版はアルカリ現像可能でかつ耐刷力が
非常に優れたものである。
なお、感光液■〜■の本発明の樹脂の代わりに、酸性水
素原子を持つ置換基を有さない市販のポリウレタン樹脂
としてニスタン# 5715  (Estane$57
15 、B、 F、  グツドリッヂ社製)を用い、同
様に塗布、露光、現像を行なった場合、現像不良となり
、明確な画像が得られなかった。このことから、本発明
の樹脂は、酸性水素原子を持つ置換基を有さないポリウ
レタン樹脂と比較して水性アルカリ現像液に対する現像
性が非常に優れたものであることが判る。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)酸性水素原子を持つ置換基を有するポリウレタン
    樹脂、を含有することを特徴とする感光性組成物。
  2. (2)ヒドロキシル基及び/又はニトリル基を更に有す
    る該ポリウレタン樹脂と、ジアゾニウム化合物とを含有
    する特許請求の範囲第(1)項記載の感光性組成物。
  3. (3)該ポリウレタン樹脂が、炭素−炭素不飽和結合を
    有する特許請求の範囲第(1)項記載の感光性組成物。
JP62121666A 1986-05-19 1987-05-19 感光性組成物 Pending JPS63113450A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11434286 1986-05-19
JP61-114342 1986-05-19

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63113450A true JPS63113450A (ja) 1988-05-18

Family

ID=14635367

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62121666A Pending JPS63113450A (ja) 1986-05-19 1987-05-19 感光性組成物

Country Status (3)

Country Link
US (1) US4877711A (ja)
JP (1) JPS63113450A (ja)
DE (1) DE3716607C2 (ja)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01231043A (ja) * 1988-03-11 1989-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH01293336A (ja) * 1988-05-20 1989-11-27 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH01297643A (ja) * 1988-05-26 1989-11-30 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の製造方法
JPH0224656A (ja) * 1988-07-13 1990-01-26 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版の保存方法
JPH02146042A (ja) * 1988-08-08 1990-06-05 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH02284143A (ja) * 1989-04-26 1990-11-21 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH0425842A (ja) * 1990-05-21 1992-01-29 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH05165206A (ja) * 1991-12-17 1993-07-02 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JP2001125265A (ja) * 1999-10-27 2001-05-11 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP2007501871A (ja) * 2003-08-07 2007-02-01 ハンツマン・アドヴァンスト・マテリアルズ・(スイッツランド)・ゲーエムベーハー 光架橋性ポリウレタン
US7507525B2 (en) 2005-05-10 2009-03-24 Fujifilm Corporation Polymerizable composition and lithographic printing plate precursor
JP2018072828A (ja) * 2016-10-28 2018-05-10 長春人造樹脂廠股▲ふん▼有限公司 感光性樹脂組成物及びこれを用いたドライフィルムレジスト

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1308595C (en) * 1985-11-22 1992-10-13 Toshiaki Aoai Photosensitive composition
JPH0727208B2 (ja) * 1987-04-20 1995-03-29 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPH0769605B2 (ja) * 1988-02-25 1995-07-31 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
DE68911786T2 (de) * 1988-07-11 1994-05-05 Konishiroku Photo Ind Lichtempfindliche Zusammensetzung.
US5273862A (en) * 1988-07-29 1993-12-28 Hoechst Aktiengesellschaft Photopolymerizable recording material comprising a cover layer substantially impermeable to oxygen, binds oxygen and is soluble in water at 20°C.
DE3841025A1 (de) * 1988-12-06 1990-06-07 Hoechst Ag Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
JP2584672B2 (ja) * 1989-04-28 1997-02-26 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
DE3924811A1 (de) * 1989-07-27 1991-01-31 Hoechst Ag Pfropfpolymerisat mit ungesaettigten seitenketten, dieses enthaltendes lichtempfindliches gemisch sowie daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
US5290663A (en) * 1991-03-01 1994-03-01 W. R. Grace & Co.-Conn. Photocurable polyurethane-acrylate ionomer compositions for aqueous developable printing plates
DE19518118C2 (de) * 1995-05-17 1998-06-18 Sun Chemical Corp Lichtempfindliche Zusammensetzung
DE19524851C2 (de) * 1995-07-07 1998-05-07 Sun Chemical Corp Acetalpolymere und Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen und für lithographische Druckplatten
DE19525050C2 (de) * 1995-07-10 1999-11-11 Kodak Polychrome Graphics Llc Sulfonamidsubstituierte Acetalpolymere und Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen und lithographischen Druckplatten
DE19644515A1 (de) * 1996-10-25 1998-06-25 Sun Chemical Corp Amidosubstituierte Acetalpolymere und Verwendung derselben in photoempfindlichen Zusammensetzungen und lithographischen Druckplatten
JP3810510B2 (ja) * 1997-03-26 2006-08-16 富士写真フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料及び平版印刷版原版
TW513614B (en) * 1997-12-18 2002-12-11 Nippon Synthetic Chem Ind Photosensitive resin composition
US5952154A (en) * 1998-05-29 1999-09-14 Morton International, Inc. Photoimageable composition having improved flexibility
DE19847616C2 (de) * 1998-10-15 2001-05-10 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Polyvinylacetale mit Imidogruppen sowie die Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen
JP2000137325A (ja) 1998-11-04 2000-05-16 Kansai Paint Co Ltd 有機溶剤型感光性レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
JP3974718B2 (ja) * 1998-11-09 2007-09-12 Azエレクトロニックマテリアルズ株式会社 感放射線性樹脂組成物
US6555283B1 (en) 2000-06-07 2003-04-29 Kodak Polychrome Graphics Llc Imageable element and waterless printing plate
US6458511B1 (en) 2000-06-07 2002-10-01 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermally imageable positive-working lithographic printing plate precursor and method for imaging
US6270938B1 (en) 2000-06-09 2001-08-07 Kodak Polychrome Graphics Llc Acetal copolymers and use thereof in photosensitive compositions
US6451505B1 (en) 2000-08-04 2002-09-17 Kodak Polychrome Graphics Llc Imageable element and method of preparation thereof
US6777155B2 (en) * 2000-10-03 2004-08-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
JP2003270775A (ja) * 2002-03-13 2003-09-25 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版及び平版印刷版の製版方法
WO2004079452A1 (ja) * 2003-03-06 2004-09-16 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha 感光性樹脂組成物及びその硬化物
AU2003260206A1 (en) * 2003-09-24 2005-04-11 Ibf Industria Brasileira De Filmes Ltda. Light sensitive coating compositions useful for lithographic elements
JP4457034B2 (ja) * 2005-03-28 2010-04-28 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版
US7935776B2 (en) * 2007-03-21 2011-05-03 Agi Corporation Radiation curable and developable polyurethane and radiation curable and developable photo resist composition containing the same
US20110105633A1 (en) * 2009-10-26 2011-05-05 Promethean Surgical Devices Llc Functionalized stilbene-polyalkylene oxide prepolymers

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5276399A (en) * 1975-12-19 1977-06-27 Bayer Ag Vinyl and carboxyl grouppcontaining crosslinkable urethane resin and preparation thereof
JPS56120718A (en) * 1980-02-28 1981-09-22 Asahi Chem Ind Co Ltd Improved polyurethane type photosensitive resin composition
JPS5794747A (en) * 1980-09-25 1982-06-12 Hoechst Ag Light hardening mixture and photosensitive copying material made using it
JPS6120939A (ja) * 1984-07-10 1986-01-29 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用感光性組成物
JPS62123453A (ja) * 1985-11-22 1987-06-04 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS62123452A (ja) * 1985-11-22 1987-06-04 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2770612A (en) * 1952-01-23 1956-11-13 Goodrich Co B F Elastomeric dhsocyanate-modified polyesters
US2871218A (en) * 1955-12-01 1959-01-27 Goodrich Co B F Simulated vulcanizates of polyurethane elastomers
NL134142C (ja) * 1965-11-02
US3551154A (en) * 1966-12-28 1970-12-29 Ferrania Spa Light sensitive article comprising a quinone diazide and polymeric binder
US3660097A (en) * 1969-11-28 1972-05-02 Polychrome Corp Diazo-polyurethane light-sensitive compositions
NL7109179A (ja) * 1970-07-13 1972-01-17
BE789196A (fr) * 1971-09-25 1973-03-22 Kalle Ag Matiere a copier photosensible
US4289838A (en) * 1972-12-14 1981-09-15 Polychrome Corporation Diazo-unsaturated monomer light sensitive compositions
US4123276A (en) * 1974-02-28 1978-10-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition
JPS533216A (en) * 1976-06-28 1978-01-12 Fuji Photo Film Co Ltd Diazo photosensitive composition
LU75749A1 (ja) * 1976-09-08 1978-04-27
US4171974A (en) * 1978-02-15 1979-10-23 Polychrome Corporation Aqueous alkali developable negative working lithographic printing plates
NL8001085A (nl) * 1979-02-27 1980-08-29 Minnesota Mining & Mfg Fotogevoelige materialen en voorwerpen.
DE2948554A1 (de) * 1979-12-03 1981-06-04 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch
JPS5953836A (ja) * 1982-09-21 1984-03-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
CA1308595C (en) * 1985-11-22 1992-10-13 Toshiaki Aoai Photosensitive composition

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5276399A (en) * 1975-12-19 1977-06-27 Bayer Ag Vinyl and carboxyl grouppcontaining crosslinkable urethane resin and preparation thereof
JPS5936246A (ja) * 1975-12-19 1984-02-28 バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト 樹脂組成物
JPS56120718A (en) * 1980-02-28 1981-09-22 Asahi Chem Ind Co Ltd Improved polyurethane type photosensitive resin composition
JPS5794747A (en) * 1980-09-25 1982-06-12 Hoechst Ag Light hardening mixture and photosensitive copying material made using it
JPS6120939A (ja) * 1984-07-10 1986-01-29 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用感光性組成物
JPS62123453A (ja) * 1985-11-22 1987-06-04 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS62123452A (ja) * 1985-11-22 1987-06-04 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01231043A (ja) * 1988-03-11 1989-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH01293336A (ja) * 1988-05-20 1989-11-27 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH01297643A (ja) * 1988-05-26 1989-11-30 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の製造方法
JPH0224656A (ja) * 1988-07-13 1990-01-26 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版の保存方法
JPH02146042A (ja) * 1988-08-08 1990-06-05 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH02284143A (ja) * 1989-04-26 1990-11-21 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH0425842A (ja) * 1990-05-21 1992-01-29 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH05165206A (ja) * 1991-12-17 1993-07-02 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JP2001125265A (ja) * 1999-10-27 2001-05-11 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP2007501871A (ja) * 2003-08-07 2007-02-01 ハンツマン・アドヴァンスト・マテリアルズ・(スイッツランド)・ゲーエムベーハー 光架橋性ポリウレタン
US7507525B2 (en) 2005-05-10 2009-03-24 Fujifilm Corporation Polymerizable composition and lithographic printing plate precursor
JP2018072828A (ja) * 2016-10-28 2018-05-10 長春人造樹脂廠股▲ふん▼有限公司 感光性樹脂組成物及びこれを用いたドライフィルムレジスト

Also Published As

Publication number Publication date
US4877711A (en) 1989-10-31
DE3716607A1 (de) 1987-11-26
DE3716607C2 (de) 1995-06-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS63113450A (ja) 感光性組成物
JPH01134354A (ja) 感光性組成物
US4950582A (en) Light-sensitive composition
JPS63287946A (ja) 感光性組成物
JPS63287943A (ja) 感光性組成物
JPS63287942A (ja) 感光性組成物
JPS63287944A (ja) 感光性組成物
JPH01271741A (ja) 感光性組成物
JPS63287947A (ja) 感光性組成物
US4839254A (en) Photosensitive mixture and photosensitive recording material produced therefrom with polymeric binder which is reaction product of (thio) phosphinic acidiso (thio) cyanate and active hydrogen containing polymer
JPH07120038B2 (ja) 感光性組成物
JP2002311579A (ja) 感光性組成物
JPS63287948A (ja) 感光性組成物
JPS62175734A (ja) 感光性組成物
JP2577637B2 (ja) 感光性組成物
US4859562A (en) Photosensitive mixture and photosensitive recording material produced therefrom with polymeric compound which is reaction product of unsaturated (thio)phosphinic acid iso(thio)cyanate and active hydrogen containing compound
JPH01231043A (ja) 感光性組成物
JP2598977B2 (ja) 感光性組成物
JP2547607B2 (ja) 感光性組成物
JPH02287547A (ja) 光重合性組成物
JPS62175729A (ja) 感光性組成物
JP2522687B2 (ja) 画像形成方法
JPH0485542A (ja) 感光性組成物
JPS62175730A (ja) 感光性組成物
JPS63287949A (ja) 感光性組成物