JPS628142A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

［産業上の利用分野］ 本発明はハロゲン化銀写真感光材料に間するものであり
、特に圧力減感耐性の改良されたハロゲン化銀写真感光
材料に関する。 ［発明の背ｊ！１ 一般にハロゲン化銀カラー写真感光材料は支持体上に青
色光・緑色光および赤色光に感光性を有するように選択
的に増感された３種のハロゲン化銀カラー写真用乳剤ツ
が塗設されている。たとえばカラーネガ用感光材料では
、一般に露光される側から青感性乳剤層、緑感性乳剤層
、赤感性乳剤層の、順に塗設されており、青感性乳剤層
と緑感性乳剤層の間には青感性乳剤層を透過する青色光
を吸収させるために漂白可能な黄色フィルタ一層が設け
られている。さらに各乳剤層の間には各々特殊な目的で
他の中間層を、また最外層として保護層を設けることが
行なわれている。また、たとえばカラー印画紙用感光材
料では一般に露光される側から赤感性乳剤層、緑感性乳
剤層、青感性乳剤層の順に塗設されており、カラーネガ
用感光材料におけると同様に各々特殊の目的で紫外線吸
収口をはじめとする中間層、保ｒ！ｉ層等が設けられて
いる。これらの各乳剤層は前記とは別の配列で設けるこ
とも知られており、さらに感光域の異なる各乳剤層を１
Ｍ用いる代りに各々の色光に対して実質的に同じ感光域
に感光性を有する２ｆｆｌの感光性乳剤層を用いること
も知られている。これらのハロゲン化銀カラー写真感光
材料においては、発色現像主薬として、例えば芳香族第
一級アミン化合物を用いて、露光されたハロゲン化銀粒
子を現像し、生成した発色現像主薬の酸化精製物と色素
形成カプラーとの反応により色素ｍ像が形成される。 この方法においては通常シアン、マゼンタおよびイエロ
ーの色素画像を形成するために、それぞれフェノールも
しくはナフトール系シアンカプラー、５−ビラゾロン、
ピラゾリノペンツイミダゾール、ピラゾロトリアゾール
、インダシロンもしくはシアノアセチル系マゼンタカプ
ラーおよびアシルアセトアミドもしくはベンゾイルメタ
ン系イエローカプラーが用いられる。これらの色素形成
カプラーは感光性カラー写真用乳剤層中もしくは現像液
中に含有される。 上記の如く得られたハロゲン化銀写真感光材料のうち特
にプリント用のハロゲン化銀カラー写真感光材料におい
ては、近年のラボ業界における納期の短縮化および効率
化等の動向により、該感光材料の高感度化と共に取扱い
時の様々な観点からみたタフネスが要求されている。 ハロゲン化銀写真感光材料における高感度化の手段とし
ては、ハロゲン化銀粒子の大粒子化は最も一般的に用い
られる方法である。しかし、特にプリント用のハロゲン
化銀カラー写真感光材料の場合、前記の如き比較的大粒
子のハロゲン化銀粒子を用いると例えばシート状の感光
材料では露光を与える場合等において、該シート状感光
材料が「折れ」を生じた時にその「折れ」の箇所におい
て減感を生じる（以下、つめ折れ減感と称す）傾向が強
くなることも知られている。このようなつめ折れ減感の
発生したカラープリントはカラープリントとしての価値
が著しく低下したものであり、顧客にうけいれられるも
のではないために、再度同作業をくり返さなければなら
ず、感光材料の損失の増大および作業の非効率化のもと
になる。 この物理的な圧力によって、ハロゲン化銀乳剤がカブリ
や減感を生じることに関する研究は多数報告されている
。例えばり、　［）ａｎｔｒｉｃｈ　、　Ｆ。 Ｇｒａｎｚｅｒ、　ＩＥ、　Ｍｏ＋ｓａｒ　　（ディー
ψドートリッヒ。 エフ・グランツアー、イー・モイザー）らの“Ｔｈｅ　
　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｒ　ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ　
５ｃｉｅｎｃｅ（ザ・ジャーナル・オブ・フォトグラフ
ィック・サイエンス）　Ｖｏｌ、　２１　（１９７３）
　ｐ、　２２１〜２２６″には圧力によってハロゲン化
銀粒子が変形し、そのような状態における結昌のひずみ
ゃ格子欠陥およびそれらが潜像中心の分布に与える影響
について詳しく述べられている。 上記の圧力力ブリや圧力減感に対する改良手段として、
従来より、感光材料の保護層や中間層およびハロゲン化
銀粒子含有層に各種ゼラチン誘導体、高沸点有機溶媒、
その他各種有機物を添加する方法が知られている。 例えば、英国特許第７３８，６１８号の異ｆｆｉ環状化
合物、同７３８，６３７号のアルキルフタレート、同１
３８．６３９号のアルキルエステル、米国特許第２，９
６０，４０４号のポリヒドリックアルコール、同第３，
１２１，０６０号のカルボキシアルキルセルロース、特
開昭４９−５０１７号のパラフィンとカルボン酸塩、同
５１−１４１６２３号のグリセリン！ｌ　Ｆｓ体とエー
テル又はチオエーテル化合物を用いる方法等を挙げるこ
とができる。 しかし上記の改良方法においては、塗布液の粘度上昇や
塗布故障等製造上の問題を誘発したり、ハロゲン化銀写
真乳剤の感度等に悪影響を及ぼす場合があり、反面得ら
れる効果も小さくあまり好ましいとはいえない。 更に特開昭５３−１３９２３号、同５３−８５４２１号
公報に記載の如く高沸点有機溶媒を沃臭化銀乳剤層中に
高濃度にて含有させて圧力ひずみにょるカプリを防止す
る方法ル提案されているが、この方法では減感型の圧力
効果であるつめ折れ減感は解消できないばかりか、特に
イエローカプラー含有層では、イエロー色素の光堅牢性
が劣化してしまう欠点がある。 又、特開昭５６−５１７３３号公報には、ハロゲン化錫
の生成、°物理熟成時にイリジウム（ＩＶ）化合物を適
用する方法も提案されているが、この方法によればハロ
ゲン化銀乳剤の相反則不軌特性が変動してしまい好まし
くない上に得られる改良効果も全く不十分であった。 以上のようにプリント用のハロゲン化銀カラー写真感光
材料におけるつめ折れ減感耐性の改良方法については満
足のゆく手段が見出されていないのが実情であり、改良
が強く望まれている。 ［発明の目的Ｊ 本発明の第１の目的は、高感度でしかもつめ折れ減感耐
性が著しく改良されたハロゲン化銀写真感光材料を提供
することである。 本発明の第２の目的は、製造上に何ら支障をきたさない
つめ折れ減感耐性の改良方法を提供することである。 本発明の第３の目的は、色素画像の光、熱、湿度等に対
する堅牢性を高水準に維持できるつめ折れ減感の改良方
法を提供することである′。 本発明の他の目的は、以下の記載より自ら明らかになろ
う。 ［発明の構成］ 上記本発明の目的は、支持体上に、ハロゲン化銀乳剤層
および親水性バインダーを主体とする非感光性層を有す
るハロゲン化銀写真感光材料において、前記ハロゲン化
銀乳剤層の少なくとも一層は平均粒径が０．７μｍ１以
上の塩臭化銀粒子を含み、更に、支持体からみて最も遠
いハロゲン化銀乳剤層の支持体側とは反対側に２つ以上
の非感光性層を有し、該非感光性層のうち、最外層には
平均粒径１〜１０μ曹の微粒子粉末を含有し、残りの非
感光性層の少なくとも１層は疎水性化合物を含有し、か
つ、該微粒子粉末を含有する非感光性層と比べて、疎水
性化合物の親水性バインダーに対する比率が高いことを
特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によって達成され
た。 〔発明の具体的構成１ 以下に本発明を具体的に説明する。 本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料に用いられる層
構成としては、支持体からみて最も遠いハロゲン化銀乳
剤層の支持体側とは反対側に２つ以上の非感光性層を有
し、該非感光性層のうち最外層には平均粒径１〜１０μ
ｍの微粒子粉末を含有し、残りの非感光性層の少なくと
も一層は疎水性化合物を含有し、該微粒子粉末を含有す
る非感光性層と比べて疎水性化合物の親水性バインダー
に対する比率が高い限り、如何なる構成をもとりうる。 なお、非感光性層のうち最外層に含有されている平均粒
径１〜１０μｍの微粒子粉末は当業界でマット剤と一般
に称されているものであり、従って以下では、特に断わ
りのない限りマット剤と称す。 前記の支持体からみて最も遠いハロゲン化銀乳剤層とし
ては如何なる感色性をもつハロゲン化銀乳剤でもよく、
具体的には青感性ハロゲン化銀乳剤層、緑感性ハロゲン
化銀乳剤層または赤感性ハロゲン化銀乳剤層が挙げられ
るが、好ましくは赤感性ハロゲン化銀乳剤Ｈが好ましい
。 上記ハロゲン化銀乳剤層の支持体側とは反対側に位置す
る２つ以上の非感光性層中に含有される疎水性化合物と
しては、例えば紫外線吸収剤、混色防止剤、スティン防
止剤、着色用染料および高沸点有機溶媒等を挙げること
ができる。 マット剤を含有する非感光性図中の疎水性化合物の親水
性バインダーに対する比率としては前記の条件を満足す
る限り如何なる比率をもとりうるが、０育ｔ％〜５０ｖ
ｔ％の範囲が好ましく特にＱｗｔ％〜１Ｑｗｔ％の範囲
が好ましい。 前記非感光性層のうち、マット剤を含有する非感光性層
よりも疎水性化合物含有比率の高い非感光性層における
該比率も上記条件を満足する限り如何なる比率をもとろ
うるが、ｔｏｗｔ％乃至２００ｗｔ％の範囲が好ましく
、特に３０ｗｔ％乃至１００ｖｔ％の範囲が好ましい。 前記の２つの非感光性層に含有される親水性バインダー
の塗布量は特に限定されないが、それぞれ１ｆあたり２
００■〜５ｇが好ましく、特に５００１１ｇ〜２．５Ω
の範囲で好ましく用いることができる。 本発明において、前記の非感光性Ｉ！親水性バインダー
としては、ゼラチン、ゼラチン誘導体（例えばアセチル
化ゼラチン、フタル化ゼラチン等）、アルブミン、ユロ
ジオン等が用いられるが、ゼラチンが好ましい。 本発明に係るマット剤としては、例えば、結晶性または
非結晶性シリカ、二酸化チタン、酸化マグネシウム、炭
酸カルシウム、＠駿バリウム、ケイ酸アルミナマグネシ
ウム、アクリル駿−エチルアクリレート共重合体、アク
リル駿−メチルメタクリレート共重合体１、イタコン酸
−スチレン共重合体、マレイン酸−メチルメタクリレー
ト共重合体、マレイン酸−スチレン共重合体、アクリル
酸−フェニルアクリレート共重合体、ポリメチルメタク
リレート、アクリル酸−メタクリル酸−エチレンメタク
リレート共重合体、ポリスチレン、デンプン、セルロー
スアセテートプロピオネート等を挙げることができ、そ
の他米国特許第１，２２１，９８０号、同第２，９９２
，１０１号等に記載の化合物等が挙げられ、これらを単
独で、もしくは２種１ス上組み合わせて用いることがで
きる。 上記マット剤の粒子の平均粒径は１〜１０μｍでよいが
好ましくは２〜７μｍである。ここでいう平均粒径とは
、球状の粒子の場合はその直径、また立方体や球状以外
の形状の粒子の場合はその投影像を同面積の内作に換痺
した時の直径の平均値であって、個々のその粒径がｒ；
であり、その数が０１である時、下記の式によって定義
される。 具体的な測定方法は特開昭５９−２９２４３号公報に記
載された方法を用いることができる。 本発明に係るマット剤は非感光性層の最外層中に分散含
有されるが分散含有させる方法としては、必要に応じて
じてノニオン性、カチオン性またはアニオン性界面活性
剤を含む親水性バインダー中に、必要により他の添加剤
を加え、高速回転ミキサー、ホモジナイザー、超音波分
散、ボールミル等により、ぜん所応力を利用した乳化分
散法により分散し、写真分野で用いられる任意の方法に
より感光材料の最外層として塗布することにより形成で
きる。 本発明に係るマット剤の塗布量としては、最外層の非感
光性層において、１ｆ当たり０．５〜５０ｍｇ含有させ
ることが好ましい。更に好ましくは１ｆ当たり１〜２０
ＩＩ１ｇ含有させる。 また、マット剤の含有ｍは、親水性バインダーに対して
０．１〜２１１％が好ましい。 本発明に用いられる塩臭化銀粒子（以下、本発明に係る
塩臭化銀粒子と称す）について詳しく述べると、先ず本
発明の塩臭化銀粒子については、特開昭５５−１２１４
３２号、特公昭５８−２４７７２号、特開昭５５−４２
６２３４号、同　５８−１０７５３０号、同５９−２９
２４３号等の記載に従い製造することができる。 又、本発明に係る塩臭化銀粒子に用いられる塩化銀およ
び臭化銀の比率は特に制限はないが高感度化と現像性の
観点から、臭化銀含有率（モル％）は０．５乃至１００
で好ましく用いることでき、１０乃至９９モル％の範囲
で特に好ましく用いることができる。 本発明に係る塩臭化銀粒子の粒度分布についても特に制
限はないが、特開ｒＩ！５９−２９２４３号公報に定義
された如き単分散のものを好ましく用いることができ、
本発明に係る塩臭化銀粒子は特開昭５９−２≦０．１５
がより好ましい。 本発明に係る塩臭化銀粒子は、規則的な結晶形を持つも
のでもよいし、球状や板状のような変則的な結晶形を持
つものでもよい。これら粒子において（１００）面と（
１１１）面の比率は任意のものが使用できるが、実質的
に８面体粒子であることが好ましい。又、これら結晶形
の複合形を持つものでもよく、様々な結晶形の粒子が混
合されてもよい。 本発明に係る塩臭化銀粒子の平均粒径は０．１０μｍ以
上であれば特に上限はないが、現像。 性みよび脱銀性の観点から２．０μｍ以下であることが
好ましく、特に０．１０μｍ≦γ＜１．５μｍであるこ
とが好ましい。ここでいう平均粒径とは、球状の粒子の
場合はその直径、また立方体や球状以外の形状の粒子の
場合はその投影像を同面積の円像に換算した時の直径の
平均値であって、個々のその粒径がｒｉであり、その数
がｎｉである時、下記の式によって定義される。 具体的な測定方法は特開昭５９−２９２４３号公報に記
載された方法を用いることができる。 更に該塩臭化銀乳剤は写真業界において増感色素として
知られている色素を用いて、所望の波長域に分光学的に
増感できる。増感色素は単独で用いてもよいが、２種以
上を組合せて用いても良い。 増感色素と共にそれ自身分光増感作用を持たない色素、
あるいは可視光を実質的に吸収しない化合物であって、
増感色素の増感作用を強める強色増感剤を乳剤中に含有
させても良い。 本発明に係る塩臭化銀乳剤を含むハロゲン化銀乳剤層は
青感性、緑感性および赤感性のいずれの感色性をもつハ
ロゲン化銀乳剤層でもよいが、青感性のハロゲン化銀乳
剤であることが好ましい。 本発明に係る塩臭化銀粒子はＩ）Ａ！Ｉｔ、温度、添加
速度等のコントロールあるいは種々の粒子生成条件を選
択することにより調製することができ、通常のシングル
ジェット法でもダブルジェット法でも調製することかで
きる。それらは酸性法、中性法、アンモニア法、コンバ
ージョン法等公知の方法のいずれを用いてもよく、逆混
合法を用いることもできる。また本発明の塩臭化銀粒子
はいわゆるコア／シェル型の塩臭化銀粒子であってもよ
い。 本発明に係る塩臭化銀粒子形成時および／または物理熟
成中にイリジウム塩、ロジウム塩、カドミウム塩、亜鉛
塩、鉛塩、タリウム塩等を使用することもでき、特にイ
リジウム塩を添加することは好ましい。添加ｍとしては
塩臭化銀１モルあたり１０　乃至１０−３モルで好まし
く用いられ、特に１０−３乃至１０−５モルが好ましい
。 本発明に係る塩臭化銀粒子を含有する乳剤は物理熟成を
されたものでも、そうでないものでもよいが、該乳剤は
、沈澱形成後、あるいは物理熟成後に、通常、水可溶性
塩類を除去させるが、そのために用いられる手段として
は、古くから知られたヌードル水洗法を用いても、多価
アニオンを有する無機塩類（例えば硫酸アンモニウム、
硫酸マグネシウム）、アニオン性界面活性剤、ポリスチ
レンスルフォン、その他の７ニオン性ポリマー、あるい
は脂肪族−または芳香族−アシル化ゼラヂンなどのゼラ
チン誘導体を利用した沈降法を用いても良い。 本発明に用いられる上記乳剤は肖業者により通常行われ
ている方法により化学増感を施すことができる。例えば
、ミース（Ｍｅｅｓ　）著ザ・セオリー・オブ・フォト
グラフィック・プロセス（Ｔ　ｈｅＴｈｅｏｒｙ　ｏｆ
　　Ｐｈｏｔｏａｒａｐｈｉｃ　Ｐｒｏｃｅｓｓ）など
の成形に記載された方法あるいは、その伯公知の方法を
用いることができる。すなわち、銀イオンと反応し得る
イオウを含む化合物、例えばチオ硫酸塩あるいは、米国
特許第１，５７４，９４４号、同第２，２７８．９４７
号、同第２，４１０，６８９号、同第３，１８９，４５
８号、同第３，５０１，３１３号、フランス特許第２，
０５９，２４５号等に記載されている化合物など、また
は活性ゼラチンを用いる硫黄増感法、また還元物質、例
えば、米国特許第２，４８７，８５０号に記載されてい
る第１スズ塩、米国特許第２，５１８，６９８号、同第
２，５２１，９２５号、同第２，５２１，９２６＠、同
第２，４１９，９７３号、同第２．４１９，９７５号等
に記載されているアミン類、未口特許第２，９８３，６
１０号に記載のイミノアミノメタンスルフィン酸類、米
国特許第２，６９４，６３７号に記載のシラン化合物な
ど、又は、ジャーナル・オブ・フォトグラフィック・サ
イエンス（Ｊ　ｏｕｒｎａｌ　ｏｆＰ　ｈｏｔｏｇｒａ
ｐｈｔｃ　Ｓ　Ｃ１ｅｎＣｅ）第１巻（１９５３年）１
６３ページ以下に記載のエイチ・ダブリュー・ウッド（
Ｈ，Ｗ、　Ｗｏｏｄ　）の方法など°による還元増感法
、或いは米国特許第２，３９９，０８３号に記載の金塩
や金チオ硫酸塩などを用いる金増感法、あるいは米国特
許第２，４４８，０６０号、同第２，５４０，０８６号
、同第２．５６６．２４５号、同第２，５６６．２６３
号に記載されている白金、パラジウム、イリジウム、ロ
ジウム、ルテニウムのような責合Ｚの塩を用いる増感法
などを単独または組合わせて用いることができる。また
、イオウ増感法の代りに、またはイオウ増感法とともに
米国特許第３，２９７，４４６号に記載されたセレン増
感法を用いることもできる。上記の本発明に用いること
のできる化学増感法のうちで特に硫黄増感法を好ましく
用いることができる。 本発明に用いられる塩臭化銀乳剤は、前記化学熟成によ
って生成した感光核を粒子表面に持つ所謂表面潜像型乳
剤であっても良いし、また、感光核の生成優、更にハロ
ゲン化銀を沈澱させて粒子内部に感光核をもたせた内部
潜像型乳剤であっても良い。内部潜像型乳剤としては、
化学熟成を施さない、変換法によって調製された乳剤で
あってももちろん構わない。 本発明に係る塩臭化銀粒子を含むハロゲン化銀乳剤は、
ゼラチンが保護コロイドとして有利に用いられ、この場
合に、特に不活性ゼラチンが有利である。また、ゼラチ
ンの代わりに写真的に不活性ゼラチン誘導体（例えば、
フタル化ゼラチンなど）、水溶性合成ポリマー（例えば
、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、カル
ボキシメチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース
など）を用いることもできる。 本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤には、製造工程中
、感光材料の保存中、または現像処理時各時期における
カブリを防止し、あるいは写真性能を安定化させる目的
で、テトラザインデン類、メルカプトテトラゾール類の
ような化合物を含有させても良い。 一方、本発明に係る塩臭化銀粒子は確かに高感度を得る
ためには有用であるが、比較的大粒子のため特に高濃度
部の現像進行性が遅く、粒径が比較的大きいねりには、
８感度化が不十分でありしかも肩部階調が低いという欠
点がみられる。 この現像進行性を改良する技術として例えば、特開昭５
９−６０４３７号公報に記載されたａ速反応性カプラー
を用いることができる。しかし、前記比較的大粒子のハ
ロゲン化銀粒子に高速反応性カプラーを組合せた場合、
高濃度部の現像進行性は改良されたが、最小濃度（Ｄｍ
ｉｎ）まで上昇し更には脚部階調の低下をきたしてしま
い、ハイライト部の性能が重要なカラープリント等の感
光材料において致命的な問題であった。前記のＤｍｉｎ
の選択的な改良については、テトラザインデン類やメル
カプトテトラゾール類のいわゆるカブリ防止剤や、アル
キルハイドロキノン類の如きスティン防止剤では他のハ
ロゲン化銀乳剤層への影響や生試料保存性の低下等の問
題もある上に改良効果も小さいものであった。 上記高速反応性カプラーのうち、例えば特開昭５７−３
５８５８号公報に記載された４−（２−アルコキシアリ
ールチオ）５−ピラゾロン型マゼンタカプラーについて
は特開昭５７−１２５９３９号および同５７−２１１１
４７号等に記載された方法による改良技術が提案されて
おり、これらの技術は上記のマゼンタカプラーには有効
であったが例えば高速反応性イエローカプラーを組合せ
た場合のｐｍｉｎ上昇およびそれにともなう肩部階調の
低下を改良することは困難であった。 そこで、前記本発明に係る塩臭化銀粒子を含有するハロ
ゲン化銀乳剤層中に後に定義する高速反応性イエローカ
プラーを含有させた場合に、これに更に加えて以下に示
す一般式（ｂ）で示される化合物を含有させた場合に、
Ｑ　ｗｉｎの上昇および膨部Ｗｉ調の低下をおさえて、
高濃度部の現像進行性をはやめ、従って高感度化および
肩部階調の向上したハロゲン化銀写真感光材料が得られ
ることがわかった。 さらに好ましい態様としては、支持体からみて最も遠い
ハロゲン化銀乳剤層の支持体側とは反対側に非感光性層
を設け、支持体からみて最外層に位置する非感光性居中
にマット剤を含有させたものである。 本発明に係る色素画像を形成するカプラーとしては限定
される事なく種々のカプラーを用いることができるが、
イエロー色素画像形成カプラーとしては、下記一般式（
Ａ）で示されるカプラーを用いることができる。 一般式（Ａ） 式中、Ｒｙはアルキル基またはアリール基を表わし、Ｒ
２はアリール基を表わし、Ｘは水素原子または発色現像
反応の過程で脱離する基を表わす。 Ｒ１としては直鎖または分岐のアルキル基（例えばブチ
ル基）またはアリール基（例えばフェニル基）であるが
、好ましくはアルキル基（特に

【−ブチル基）が挙げら
れ、Ｒ２としてはアリール基（好ましくはフェニル基）
を表わし、これらＲ１、Ｒ２の表わすアルキル基、アリ
ール基はＵ換基を有するものも含まれ、Ｒ２のアリール
基にはハロゲン原子、アルキル基等が置換されているこ
とが好ましい。Ｘとしては下記一般式（Ｂ）または（Ｃ
）で示される基が好ましく、さらに一般式（Ｂ）のうち
一般式（Ｂ′　）で示される基が特に好ましい。 一般式（Ｂ） 式中、ｚｌは４員〜７員環を形成し得る非金属原子群を
表わす。 一般式（Ｃ） 、−０−Ｒ＋１ 式中、Ｒｌｔはアリール基、複素環基またはアシル基を
表わすがアリール基が好ましい。 一般式（Ｂ′） 成し得る非金属原子群を表わす。 前記一般式（Ａ）において好ましい本発明に係るイエロ
ーカプラーは次の一般式（Ａ′　）で示される。 一般式（Ａ′） 式中、Ｒ＋４は水素原子、ハロゲン原子、または、アル
コキシ基を表わし、ハロゲン原子が好ましい。 またＲ１５、Ｒ１６及びＲ１７はそれぞれ水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基
、アリール基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基
、カルバミル基、スルフォン基、スルファミル基、アル
キルスルフォンアミド基、アシルアミド基、ウレイド基
またはアミノ基を表わし、Ｒ１５及びＲ＋ｓがそれぞれ
水素原子であってＲ１７がアルコキシカルボニル基、ア
シルアミド基またはアルキルスルホンアミド基が好まし
い。また、Ｘは前記一般式（Ａ）で示されたものと同義
の基を表わし、好ましくは前記一般式（８）または（Ｃ
）、または（Ｂ）のうちでさらに好ましくは前記一般式
（Ｂ′）で表わされる基が挙げられる。　また、前記一
般式（Ａ）において別の好ましい本発明に係るイエロー
カプラーは次の一般式％式％ 一般式（Ａ“） 式中、Ｒ１８は前記一般式（Ａ′）におけるＲｎと同義
の基を表わし、Ｒ１９，Ｒ２０及びＲ■はそれぞれ水素
原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アル
コキシ基、アリール基、カルボキシル基、アルコキシカ
ルボニル基、カルバミル基、スルホン基、スルファミル
基、スルホンアミド基、アシルアミド基、ウレイド基、
アミノ基のいずれかを表わす。また、Ｘは前記一般式（
Ａ′）で示されたものと同義の基を表わす。 これら一般式で示されるカプラーの中に高速反応性イエ
ローカプラーは含まれるが、それは下記に定義する物性
値を有するものである。 即ち、高速反応性イエローカプラーは、相対カプリング
反応速度が０．３以上のイエローカプラーであり、好ま
しくは相対カプリング反応速度が０．５以上のイエロー
カプラーである。 カプラーのカプリング反応速度は相互に明瞭に分離し得
る異った色素を与える２種類のカプラーＭ及びＮを混合
してハロゲン化銀乳剤に添加して発色現像することによ
って得られる色像中のそれぞれの色素量を測定すること
によって相対的な値として決定できる。 カプラーＭのａ高濃度（ＤＭ）＋ｎａｘ１、中途段階で
は濃度ＤＭの発色を、またカプラーＮについてのそれを
それぞれ（ＯＮ　）　１ｌａｘ０、ＯＮの発色を表わす
とすれば、両力プラーの反応活性の比ＲＭ／ＲＮは次の
式で表わされる。 ＤＭ つまり、混合したカプラーを含むハロゲン化銀乳剤に、
種々の段階の露光を与え、発色現像して得られる数個の
ＤＭとＤＮとの組を直交する２軸に としてプロットして得られる直轢の勾配からカプリング
活性比ＲＭ／ＲＮの値を求められる。 ここで一定のカプラーＮを用いて、各種カプラーについ
て前記のようにしてＲＭ／ＲＮの値を求めれば、カプリ
ング反応速度の相対的な値、即ち相対カプリング反応速
度値が求められる。 本発明においては上記のカプラーＮとして下記のカプラ
ーを用いた場合のＲＭ／ＲＮ値をいう。 イエローカプラーの添加量は任意のハロゲン化銀乳剤層
でよいが好ましくは、青感光性ハロゲン化銀乳剤層であ
り、添加量としては銀１モル当り２Ｘ１０−３〜５Ｘ１
０−１モルが好ましく、より好ましくはｌＸ１０−２〜
５Ｘ１０−１モルである。 以下に、本発明に係るイエローカプラーの具体例を挙げ
るが、これに限定されるものではない。 以下余白 （Ｙ−７） ｌ ２Ｈ５ Ｈｓ ＣＨｚＣＨ２０Ｃ２Ｈｓ Ｈ３ 肛（Ｃ）１ ｌ Ｃ）ｈ ＣＯＯＣ１ｚＨ２ｓ（ｎ） （Ｙ−３２） ＣＨ３ （Ｙ−３３） （Ｙ−３４） ｔ’１ （Ｙ−３５） （Ｙ−３６） （Ｙ−３７） （Ｙ−３８） （Ｙ−３９） （Ｙ−４０） （ＲＭ／ＲＮ＝０．６５　） （Ｙ−４１） （Ｙ−４２） （Ｙ−４３） ＣＹ−４４） ｔ （Ｙ−４５）ＣＬ （ＲＭ／ＲＮ＝１．２７） （ＲＭ／ＲＮ＝０．８８　） （ＲＭ／ＲＮ＝１．１９　） （Ｙ−５４） （Ｙ−５５） （ＲＭ／ＲＮ＝１．１　） （ＲＭ／ＲＮ＝４．３　） （ＲＭ／ＲＮ＝４．０　） （Ｙ−７５８） （ＲＭ／ＲＮ＝０．９４　） シアン画像形成カプラーとしては、下記一般式［Ｄ］、
［Ｅｌで示されるカプラーを好ましく用いることができ
る。 式中、Ｒ１はアリール基、シクロアルキル基または複素
環基を表わす、Ｒ６はフルキル基またはフェニル基を表
わす、Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、フルキル基また
はアルコキシ基を表わす。 Ｚｌは水素原子、ハロゲン原子または芳香族第一級アミ
ン系発色現像主薬の酸化体との反応により離脱し得る基
を表わす。 式中、Ｒ４はアルキル基（ｇ４えばメチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基、ノニル基等）を表わ丁。烏は
アルキル基（例えばメチル基、エチル基等）を表わす。 几は水素原子、ノーロゲン原子（例えばフッ素、塩素、
臭素等）またはアルキル基（例えばメチル基、エチル基
等）を表わす。Ｚ２は水素原子、ハロゲン原子または芳
香族第１級アミン系発色現像主薬の酸化体との反応によ
り離脱し得る基を表わす。 本発明において前記一般式［Ｉ）コの島で表わされるア
リール基は、例えばフェニル基、ナフチル基であり、好
ましくはフェニル基である。Ｒ８で表わされる複素環基
は、例えばピリジル基、７ラン基等である。Ｒ８で表わ
されるシクロアルキル基は例工ばシクロプロピル基、シ
クロヘキシル基等である。これらの＆で表わされる基は
単一もしくは複数の置換基を有していても良く１例えば
フェニル基に導入される置換基としては代表的なものに
ハロゲン原子（例えばフッ素、塩素、臭素等）、アルキ
ル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ドデシル基等う、ヒドロキシル基、シアノ基、ニト
ロ基、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基り
、アルキルスルホンアミド基（例えばメチルスルポンア
ミド基、オクチルスルホンアミド基等］、アリールスル
ホンアミド基（例えばフェニルスルホン７ミド基、ナフ
チルスルホンアミド基等）、アルキルスルファモイル基
（例えばブチルスルファモイル基等）、アリールスルフ
ァモイル基（例えばフェニルスルファモイル１１）％ア
ルキルオキシカルボニル基（例えばメチルオキシカルボ
ニル基等）、７１７−Ａ／オキシカルボニル基（例えば
フェニルオキシカルボニル基等）、アミノスルホンアミ
ド基、アシルアミノ基、カルバモイル基、スルボニル基
、スルフィニル基、スルホオキシ基、スルホ基、アリー
ルオキシ基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルキル
カルボニル基、アリールカルボニル酸、アミノカルボニ
ル基などを挙げることができる。これらの置換基は２種
以上がフェニル基に置換されていても良い。Ｒ，で表わ
される好ましい基としては、フェニル基またはハロゲン
原子、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンア
ミド基、アルキルフル７アモイル基、アリールスルファ
モイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、も
しくはシアノ基を置換基として１つまたは２つ以上有す
るフェニル基である。 馬で表わされろアルキル基は、直鎖もしくは分岐のもの
であり例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、オクチル基等である。 本発明において一般式［ｐコで表わされるシアンカプラ
ーの好ましくは、下記一般式［１７′コで表わされる化
合物である。 一般式［Ｄ’コにおいて、飼１フェニル基な表わ丁。こ
のフェニル基は単一もしくは複数の置換基を有していて
も良く、導入される置換基としては代表的なものにハロ
ゲン原子（例えばフッ素、塩素、臭−等へアルキ〃基（
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オ
クチル基、ドデシル基等）、ヒドロキシル基、シアノ基
、ニトロ基、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキ
シ基等）、アルキルスルホンアミド基（例えばメチルス
ルホ／アミド基、オクチルスルホンアミド基等）、アリ
ールスルホ／アミド基（例えばフェニルスルホンアミド
基、ナフチルスルホンアミド基等）、アルキルスルファ
モイル基（例えばプチルス／Ｌ／７アモイル基等）、ア
リールスルファモイル基（例えばフェニルスルファモイ
ル基等）、アルキルオキシカルボニル基（例えばメチル
オキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基
（例えばフェニルオキシカルボニル基等）などを挙げる
ことができる。これらの置換基は２種以上がフェニル基
に置換されていても良い。Ｒ７で表わさ基、ｐ−オクチ
ルスルホンアミド基、Ｏ−ドデシルスルホンアミド基）
、アリールスルホンアミド基（好ましくはフェニルスル
ホンアミド基）、アルキルスルファモイル基（好ｔしく
ハフチルスルファモイル基）、アリールスルファモイル
基（好ｔ　Ｌ　＜　ハフチルスルファモイル基基（好ま
しくはメチル基、トリフルオロメチル基）アルコキシ基
（好ましくはメトキシ基、エトキシ基）ｆｔｌｔ換基と
して１つまたは２つ以上有するフェニル基である。 にはアルキル基またはアリール基である。アルキル基ま
たはアリール基は単一もしくは複数の置換基を有してい
ても良く、この置換基としては代弄的なものに、Ｉ・ロ
ゲン原子（例えばフッ素、塩素、臭素等）ヒドロキシル
基、カルボキシル基、アルキル基（例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル
基等）、アラルキル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキ
シ基（例えばメト、キシ基、エトキシ基）アリールオキ
シ基、プルキルスルホンアミド基（例えばメチルスルホ
ンアミド基、オクチルスルホンアミド基等）アリールス
ルホンアミド基（例エバフェニルスルホンアミド基、ナ
フチルスルホンアミド基等）アルキルスルファモイル基
（例工Ｇ１７”チルスルファモイル基等）、アリールス
ルファモイル基（例、ｔばフェニルスルファモイル基等
）、アルキルオキシカルボニル基（例えばメチルオキシ
カルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例ｔ
ばフェニルオキシカルボニル基等）、アミノスルホンア
ミド基（例えばジメチルアミノスルホンアミド基等）、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキ
ルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミノカルボ
ニルアミド基、カルバモイル基、スルフィニル基などを
挙げることができる。 これらの置換基は２種以上が導入されても良い。 山で表わされる好ましい基としては、ｎ　＝　ｏのとき
はアルキル基、ｎ　＝　１以上のときはアリール基であ
る。鳥で表わされているさらに好ましい基としては、ｎ
　＝　ｏのときは炭素数１〜２２個のアルキル基（好ま
しくはメチル基、エチル基、゛プロピル基、ブチル基、
オクチル基、ドデシル基］であり、ｎ　＝　１以上のと
きはフェニル基、またはアルキル基（好ましくはｔ−ブ
チル基、ｔ−７ミル基、オクチル基）、アルキルスルホ
ンアミド基（好ましくはブチルスルホンアミド基、オク
チルスルホンアミド基、ドデシルスルホンアミド基）、
アリールスルホンアミド基（好ましくはフェニルスルホ
ンアミド基）、アミノスルホンアミド基（好ましくはジ
メチルアミノスルホンアミド基］、アルキルオキシカル
ボニル基（好ましくはメチルオキシカルボニル基、ブチ
ルオキシカルボニル基］を置換基として１つまたは２つ
以上有するフェニル基である。 Ｒ−まアルキレン基な表わす。直鎖または分岐の炭素原
子数１〜２０個、更には炭素原子数１〜１２個のアルキ
レン基な表わす。 Ｒｌｏは水素原子またはハロゲン原子（フッ素、塩素、
臭素または沃素）を表わす。好ましくは水素原子である
。 ｎは０または正の整数であり、好ましくは０または１で
ある。 Ｘは÷、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−１→αト、−８Ｏ，ＮＲ
’−１−皿′５Ｏ２ＮＲ′乙、−シー−３Ｏ−または−
８Ｏｚ−基の２価基を表わす。ここで、Ｒ′、ｒは置換
または非置換のアルキル基な表わす。Ｘの好ましくは、
ベト、−シー−５Ｏ−１−ＳＯ，−基である。 ｚ３は水素原子、ハロゲン原子または芳香族筒１・級ア
ミｙ系発色現像主薬の酸化体との反応により離脱し得る
基を表わす。 好ましくは、塩累原子、フッ素原子である。 以下余白 以下に式［Ｄ］で表わされるシアンカプラーの代表的具
体例を示すが、これらに限定されるものではない。 Ｃｓ２ム Ｃ００Ｃ１６Ｈ３３（ｎ） し４１−１９ 本発明において、前記一般式（Ｅ〕で表わされるシアン
カプラーは、よシ好ましくは下記一般式〔ε′Ｊで表わ
されるものである。 式中、Ｒ１１およびＲ１，は、同一であシまたは異なシ
、水素原子、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、アミル基、オクチル基、ドデシ
ル基等）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ
基等）を表わす。 但しＲ１，とＲ１，の炭素原子数の総和は８〜１６個で
ある。よシ好ましくは、Ｒ１１およびＲ１，が、それぞ
れプ、チル基またはアミル基である。 馬、は水素原子またはアルキル基（例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基等）である
。 ゲン原子または芳香族第１級アミン系発色現像主薬の酸
化体との反応によシ離脱し得る基を表わす。 式〔２人【ＳλＣ力および〔めにおいて、２１．２１．
２、およびｚｌで表わされる芳香族第１級アミン系発色
現像主薬の酸化体との反応によ）離脱し得る基は、当業
者の周知のものであシ、カプラーの反応性を改質し、ま
たはカプラーから離脱して、ハロゲン化釧カラー写真感
光材料中のカプラーを含む塗布層もしくはその他の層に
おいて、現像抑制、漂白抑制、色補正などの機能を果た
すことによシ有利に作用するものである。代表的なもの
としては、例えばアルコキシ基、アリールオキシ基、ア
リールアゾ基、チオエーテル、カルバモイルオキシ基、
アシルオキシ基、イミド基、スルホンアミド基、チオシ
アノ基または複素環基（例えば、オキサシリル、ジアゾ
リル、トリアゾリル、テトラゾリル等）などが挙げられ
る。２で表わされる特゛に好適な例は、水素原子または
塩素原子でちる。 以下に式〔ε〕で表わされるシアンカプラー〇代嵌的具
体例を示すが、これらに限定されるもので１才ない。 （ＩＩ−１） ｔ （ＩＩ−２） （Ｌ （ＩＩ−３） ｔ （Ｉｔ−５） ｔ （ＩＩ−６） ｔ （Ｍ−７） ｔ （Ｉｆ−１０） ｔ （ＩＩ−１１） ｔ （Ｉｔ−１２） （ＩＩ−１３） ｔ （ＩＩ−１４） （ＩＩ−１５） （ｎ−１９） （ＩＩ−２０） ｔ （ＩＴ−２１） ｔ 本発明におけるハロゲン化銀写真感光材料においてマゼ
ンタ色素画像形成カプラーとしては下記一般式［ａ］お
よび［Ｉ］で示されるカプラーを好ましく用いることが
できる。 １式中、Ａｒはアリール基を表わし、Ｒ，は水素原子又
は置換基を表わし、Ｒ２はＷ！置換基母わす。Ｙは水素
原子または発色ｌ像主薬の酸化体との反応によりｔ！ｉ
脱しうる置換基を、Ｗ１ニーＮＨ−１−ＮＨＣＯ−’（
Ｎ原子はピラゾロン核の炭素原子に結合）または−ＮＨ
ＣＯＮＨ−を表わし、ｍは１または２の！ｉ！数である
。） ［式中Ｚは含窒素複素環を形成するに必要な非金属原子
群を表し、該２により形成される環は置換基を有しても
よい。Ｘは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反
応により離脱しうるＭ換基を表す。またＲは水素原子ま
たは置換基を表す、］次に前記一般式［ａ　］で表わさ
れるカプラーについて詳述する。 Ａ「で表わされるアリール基としてはフェニル基および
ナフチル基等が挙げられ、好ましくはフェニル５であり
、特に好ましくはＭ換されたフェニル基である。 このＭ摸基としては、例えばハロゲン原子、アルキル基
、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコギシカルボ
ニル基、シアムＬカルバモイル基、スルファモイル基、
スルホニル基、スルホンアミド基、アシルアミノ基等で
あり、Ａｒであられされるフェニル基に２個以上のｒｌ
ＭＡＭを有してもよい。 以下に［換塁の具体的な例を挙げる。 ハロゲン原子：塩素、臭素、フッ素 アルキル基：メチル基、エチル基、ｌ５Ｏ−プロピル基
、ブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基等であるが
特に炭素原子ａ１〜５のアルキル基が好ましい。 アルコキシ基：メトキシ基、エトキシ基、プトキシ基、
５ｅｃ−ブトキシ基、１ｓｏ−ペンチルオキシ基等であ
るが、特に炭素原子数１〜５のアルコキシ基が好ましい
。 アリールオキシ基：フェノキシ基、β−ナフトキシ昌等
であるが、このアリール部分には更にＡｒで示されるフ
ェニル基に撃げていると同様なＩｉ！挽塁を有してもよ
い。 アルコキシカルボニル基：上述したアルコキシ基の付い
たカルボニル基であり、メトキシカルボニル器、ペンチ
ルオキシカルボニル基等のアルキル部分のＩｊ！粂ａ子
独が１〜５のものが好ましい。 カルバモイルＭ：カルバモイル基、ジメチルカルバモイ
ル基等のアルキルカルバモイル墨スルファモイル！ｉ！
：スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチ
ルスルファモイル基、エチルスルフ１モイルＭ等のアル
キルスルファモイル基 スルホニル基二メタンスルホニル墨、エタンスルホニル
≦、ブタンスルホニルＢ＠アルキルスルホニル運 スルホンアミド基：メタンスルホンアミド基、トルエン
スルホンアミド基等のアルキルスルホンアミドβ、アリ
ールスルホンアミド基等アシルアミノ基：アセトキシ基
しビバＯイルアミノａ、ベンズアミドＭ等 特に好ましくはハロゲン原子であり、その中でも塩京が
最も好ましい。 Ｒ１，で表わされるＩｔｌ層はハロゲン原子、アルキル
基、アルコキシ基等である。 具体的な例を以下に挙げる、 ハロゲン原子：塩素、臭素、フッ素 アルコキシ基：メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、
５ｅｃ−ブトキシ基、１ｓｏ−ペンチルオキシＭ等の炭
素原子数が１〜５のアルコキシ基が好ましい。 アルキル基：メチル基、エチル基、１ＳＯ−プロピル基
、ブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基等の炭素原
子数が１〜５のアルキル基が好ましい。 特に好ましくはハロゲン原子であり、中でも坦素が好ま
しい。 Ｒ２で表わされるＩ＆挽募はハロゲン原子、アルキル基
、アミド基、イミド基、Ｎ−アルキルカルバモイル ルコキシカルｄ’ｓニル墨、アシルオキシ基、スルホン
アミド基、またはウレタンｂ等である。これらの基のう
ちアミドＩ（例えば、テトラデカンアミド基、３−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェノキシテトラデカンアミド
基等）、イミド基（例えばドデシルスクシンイミド基、
オクタデセニルスクシンイミド基等）およびスルホンア
ミド基（例えばブチルスルホンアミド基、１デシルスル
ホンアミド基等）を好ましく用いることができる。 Ｗは一ＮＨ−、−ＮＨＣＯ−　（窒素原子はピラゾ臼ン
核の炭素原子に結合）または−ＮＨＣＯＩマＨ−のいず
れでもよいが、Ｗは一ＮＨ−を特に好ましく用いること
ができる。 Ｙで表わされる芳香前筒１１；３アミン系発色現像主薬
の酸化体とカップリング反応によりａｍしうるｒｋ挽β
としては、例えばハロゲン原子、アルコ（２２は窒素原
子と共に炭素原子、酸素原子、と素原子、イオウ原子の
中から選ばれた原子と５ないし６ｍ原を形成するに食す
る原子群を表わ１。）等が挙げられる。 以下に詞体的な何をかげる。 ハロゲン原子：塩素、Ａ素、フッ素 アノＣコキシ基：エトキシ轟、ベンジルオキシ基、メト
キシエチルカルバモイルメトキシ基、テトラデシルカル
バモイルメトキシ アリールオキシ基：フェノキシ基、４−メ！・キシフェ
ノキシ基、４−ニトロフェノキシ長等アシルオキシ基：
アセトキシ基、ミリストイルオキシａ，ベンゾイルオキ
シＮ＠ アリールチオａ：フェニルチオ基、２−７トキシー５−
オクチルフェニルチオ！、２．５−ジヘキシルオキシフ
ＩニルチオＭ＠ アルキルチオ基：メチルチオ基、オクチルチオ基、ヘキ
サデシルチオ基、ベンジルチオ基、２−（ジエチルアミ
ノ）エチルチオ、基、エトキシカルボニルメチルチオ基
、エトキシエチルチオ基、フェノキλＪチルチオ旦等 次に前記一般式［ａ　Ｊで表わされるマゼンタカプラー
の具体的代表例を挙げるが、本発明がこれらに限定され
るものではない。 以下余白 ａ−”　　　　　　　　　Ｃ／。 ａ−４Ｃ／。 ｔ ａ−７ｃｔ ａ−１Ｏｃｔ ”−１６Ｃｔ Ｌ −１８ｃｔ ｔ ａ　−２２ｃｔ ａ　−２３０ ＋＋ α ａ　−２４ｃｔ ｔ Ｌ ＣＬ ａ−３５ｃｔ ｓ−４０Ｃｔ Ｃｔ ａ　　４９　　　　ＱＣ４Ｈｓ（ｎ） ＣＲｓ これらは、例えば米国特許第２，６００，７８８〜、同
第　３，０６１，４３２号、同第　３，０６２，６５３
号、同第３，１２７゜２６９号、同第　３，３１１，４
７６号、同第　３，１５２，８９６号、同第３，４１９
．３９１号、同第３，５１９，４２９号、同第３．５５
５．３１８号、同第　３．６８４，５１４号、同第　３
，８８８．６８０号、同第３，９０７，５７１号、同第
３．９２８，０４４号、同第３．９３０．８６１号、同
第３，９３０，８６６号、同第３，９３３，５００４等
の明【Ｌ特開昭４９−２９６３９号、同４９−４１１６
３１号、同４９−１２９５３８＠、同！１０−１３０４
１号、同！１２−５８９２２号、同５５−６２４５４号
、同５５−１１８０３４＠、同５６−３８０４３号、同
５７−３５８５８号、同６０−２３８５５号の各公報、
英田特許Ｍ１，２４７，４９３号、ベルキー特許第　７
６９，１１６号、同第７９２，５２５号、西独特許２，
１５６，１１１号の各明１Ｌ特公昭４６−６０４７９＠
公報等に記載されている、以下会ｎ 本発明に係る前記一般式〔１〕 一般式〔１〕 ！ で表されるマゼンタカプラーに於いて、Ｚは含窪素複素
環を形成するに必要な非金属原子群を表し、該Ｚにより
形成される環は置換基を有してもよい。 Ｘは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によ
り雌脱しうる置換基を表す。 またＲは水素原子または置換基を表す。 前記Ｒの表す置換基としては、例えばハロゲン原子、ア
ルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロア
ルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、
アシル基、スルホニル基、スルフィニル基、ホスホニル
基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、ス
ピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シロキシ基
、アシルオキシ−基、カルバモイルオキシ基、アミノ基
、アシルアミノ基、スルホンアミド基、イミド基、ウレ
イド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニ
ルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基が挙げ
られる。 ハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子が挙
げられ、特に塩素原子が好ましい。 Ｒで表されるアルキル基としては、炭素数１〜３２のも
の、アルケニル基、アルキニル基としては炭素数２〜３
２のもの、シクロアルキル基、シクロアルケニル基とし
ては炭素数３〜１２、特に５〜７のものが好ましく、ア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基は直鎖でも分岐
でもよい。 また、これらアルキル基、アルケニル基、アルキニル基
、シクロアルキル基、シクロアルケニル基は置換基〔例
えばアリール、シアノ、ハロゲン原子、ヘテロ環、シク
ロアルキル、シクロアルケニル、スピロ化合物残基、有
橋炭化水素化合物残基の他、アシル、カルボキシ、カル
バモイル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカル
ボニルの如（カルボニル基を介して置換するもの、更Ｚ
二はへテロ原子を介して置換するもの【具体的にはヒド
ロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロ環オキシ
、シロキシ、アシルオキシ、カルバモイルオキシ等の酸
素原子を介して置換するもの、ニトロ、アミノ（ジアル
キルアミノ等を含む）、スルファモイルアミノ、アルコ
キシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミ
ノ、アシルアミノ、スルホンアミド、イミド、ウレイド
等の窪素原子を介して置換するもの、アルキルチオ、ア
リールチオ、ヘテロ環チオ、スルホニル、スルフィニル
、スルファモイル等の硫黄原子を介して置換するもの、
ホスホニル等の燐原子を介して置換するもの等）〕を有
していてもよい。 具体的には例えばメチル基１、エチル基、イソプロピル
基、ｔ−ブチル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基、
１−へキシルノニル基、１．１・−ジベンチルノニル基
、２−クロル−１−ブチル基、トリフルオロメチル基、
１−エトキシトリデシル基、１−メトキシイソプロピル
基、メタンスルホニルエチル基、２．４−ジ−ｔ−アミ
ルフェノキシメチル基、アニリノ基、ｌ−フェニルイソ
プロピル基、３−ａ−ブタンスルホンアミノフェノキシ
プロビル基、３−４・−（α−〔４・・（ｐ−ヒドロキ
シベンゼンスルホニル）フェノキシフドデカノイルアミ
ノ）フェニルプロピル基、３−【４・−〔α−（２Ｉ・
、４Ｉ・−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）ブタンアミド〕
フェニル】−プロピル基、４−〔α−（Ｏ−クロルフェ
ノキシ）テトラデカンアミドフェノキシフプロピル基、
アリル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙
げられる。 Ｒで表されるアリール基としてはフェニル基が好ましく
、置換基（例えば、アルキル基、アルコキシ基、アシル
アミノ基等）を有していてもよい。 具体的には、フェニル基、４−１−ブチルフェニル基、
２．４−ジ−ｔ−アミルフェニル基、４−テトラデカン
アミドフェニル基、ヘキサデシロキシフェニル基、４・
−〔α−（４・・−１−ブチルフェノキシ）テトラデカ
ンアミド〕フェニル基等力（挙げられる。 Ｒで表されるヘテロ環基としては５〜７貝のものが好ま
しく、置換されていてもよく、又縮合していてもよい。 具体的には２−フリル基、２−チェニル基、２−ピリミ
ジニル基、２−ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。 Ｒで表されるアシル基としては、例えｌｆアセチル基、
フェニルアセチル基、ドデカノイル基、α−２，４−ジ
ーｔ−アミルフェノキシブタノイル基等のアルキルカル
ボニル基、ベンゾイル基、３−ペンタデシルオキシベン
ゾイル基、ｐ−クロルベンゾイル基等のアリールカルボ
ニル基等力（挙１デられる。 Ｒで表されるスルホニル基としてはメチルスルホニル ルホニル エンスルホニル基の如きアルキルスルホニノシ基等が挙
げられる。 Ｒで表されるスルフィニル基としては、エチルスルフィ
ニル基、オクチルスルフィニル基、３−フェノキシブチ
ルスルフィニル基の如きアルキルスルフィニル基、フェ
ニルスルフィニル基、ｍ−ベンタデシルフェニルスルフ
ィニル基の如きアリールスルフィニル基等が挙げられる
。 Ｒで表されるホスホニル基としてはブチルオクチルホス
ホニル基の如きアルキルホスホニル基、オクチルオキシ
ホスホニル基の如きアルコキシホスホニル基、フェノキ
シホスホニル基の如きアリールオキシホスホニル基、フ
ェニルホスホニル基の如きアリールホスホニル基等が挙
げられる。 Ｒで表されるカルバモイル基は、アルキル基、アリール
基（好ましくはフェニル基）等が置換していてもよく、
例えばＮ−メチルカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−ジブチルカ
ルバモイル基、Ｎ−（２−ペンタデシルオクチルエチル
）カルバモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルカルバモ
イル基、Ｎ−（３−’（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノ
キシ）プロピル）カルバモイル基等が挙げられる。 以下余白 Ｒで表されるスルファモイル基はアルキル基、アリール
基（好ましくはフェニル基）等が置換していてもよく、
例えばＮ−プロビルスルファモイノシ基、Ｎ、Ｎ−ジエ
チルスルファモイル基、Ｎ−（２−ペンタデシルオキシ
エチル）スルファモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシル
スルファモイル基、Ｎ−フェニルスルファモイル基等が
挙げられる。 Ｒで表されるスピロ化合物残基としては例え１ｆスピロ
［３，３］へブタン−１−イル等が挙げら、！する。 Ｒで表される有橋炭化化合物残基としては例えばビシク
ロ［２，２，１コヘブタン−１−イル、トリシフ゛ｏ［
３，３，１，１”’］デカンー１−イル、７．７−シメ
チルービシクロ［２，２，１：ｌヘプタノ−１−イル等
が挙げられる。 Ｒで表されるアルコキシ基は、更に前記アル、キル基へ
の置換基として挙げたものを置換してＬｌてらよく、例
えばメトキシ基、プロポキシ基、２−エトキシエトキシ
基、ペンタデシルオキシ基、２−ドデシルオキシエトキ
シ基、フェネチルオキシエトキシ基等が挙げられる。 Ｒで表されるアリールオキシ基としてはフェニルオキシ
が好ましく、アリール核は更に前記アリール基へのＩｔ
置換基は原子として挙げたもので置換されていてもよく
、例えばフェノキシ基、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシ基、
ｍ−ペンタデシルフェノキシ基等が挙げられる。 Ｒで表されるヘテロ環オキシ基としては５〜７貝のへテ
ロ環を有するものが好ましく該ヘテロ環は更に置換基を
育していてもよく、例えば、３゜４．５．６−テトラヒ
ドロビラニル−２−オキシ基、Ｊ−フェニルテトラゾー
ル−５−オキシ基が挙げられる。 Ｒで表されるシロキシ基は、更にアルキル基等で置換さ
れていてもよく、例えば、トリメチルシロキシ基、トリ
エチルシロキシ基、ジメチルブチルシロキシ基等が挙げ
られる。 Ｒで表されるアシルオキシ基としては、例えばアルキル
カルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基等が
挙げられ、更に置換基を有してぃてもよく、具体的には
アセチルオキシ基、α−クロルアセチルオキシ基、ベン
ゾイルオキシ基等が挙げられる。 Ｒで表されるカルバモイルオキシ基は、アルキル基、ア
リール基等が置換していてもよく、例えばＮ−エチルカ
ルバモイルオキシ基、Ｎ、Ｎ−ジエチルカルバモイルオ
キシ基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ基等が挙げら
れる。 Ｒで表されるアミノ基はアルキル基、アリール基（好ま
しくはフェニル基）等で置換されていてもよく、例えば
エチルアミノ基、アニリノ基、ｍ　−クロルアニリノ基
、３−ペンタデシルオキシカルボニルアニリノ基、２−
クロル−５−ヘキサデカンアミドアニリノ基等が挙げら
れる。 Ｒで表されるアシルアミノ基としては、アルキルカルボ
ニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基（好ましく
はフェニルカルボニルアミノ基）等が挙げられ、更に置
換基を有してもよく具体的にはアセトアミド基、α−エ
チルプロパンアミド基、Ｎ−フェニルアセトアミド基、
ドデヵンアミド基、２，４＝ジーｔ−アミルフェノキシ
アセトアミド基、α−３−ｔ−ブチル４−ヒドロキシフ
ェノキシブタンアミド基等が挙げられる。 Ｒで表されるスルホンアミド基としては、アルキルスル
ホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基等が挙げ
られ、更に置換基を有して６よい。 具体的にはメチルスルホニルアミノ基、ペンタデシル゛
スルホニルアミノ基、ベンゼンスルホンアミド基、ｐ−
）ルエンスルホンアミド基、２−メトキシ−５−ｒ−ア
ミルベンゼンスルホンアミド基等が挙げられる。 Ｒで表されるイミド基は、開鎖状のものでも、環状のも
のでもよく、置換基を有していてもよく、例えばコハク
酸イミド基、３−ヘプタデシルコハク酸イミド基、フタ
ルイミド基、グルタルイミド基等が挙げられる。 Ｒで表されるウレイド基は、アルキル基、アリール基（
好ましくはフェニル基）等により置換されていてもよく
、例えばＮ−エチルウレイド基、Ｎ−メ、チルーＮ−デ
シルウレイド基、Ｎ−フェニルウレイド基、Ｎ−１−）
リルウレイド基等が挙げられる。 Ｒで表されるスルファモイルアミノ基は、アルキル基、
アリール基（好ましくはフェニル基）等で置換されてい
てもよく、例えばＮ、Ｎ−ジブチルスルファモイルアミ
ノ基、Ｎ−メチルスルファモイルアミノ基、Ｎ−フェニ
ルスルファモイルアミノ基等が挙げられる。 Ｒで表されるアルコキシカルボニルアミノ基としては、
更に置換基を有していてもよく、例えばメトキシカルボ
ニルアミノ基、メトキシエトキシカルボニルアミノ基、
オクタデシルオキシカルボニルアミノ基等が挙げられる
。 Ｒで表されるアリールオキシカルボニルアミノ基は、置
換基を有していてもよく、例えばフェノキシカルボニル
アミノ基、４−メチルフェノキシカルボニルアミノ基が
挙げられる。 Ｒで表されるアルコキシカルボニル基は更に置換基を有
していてもよく、例えばメトキシカルボニル基、ブチル
オキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、オ
クタデシルオキシカルボニル基、エトキシメトキシカル
ボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニル基等が挙げ
られる。 Ｒで表されるアリールオキシカルボニル基は更に置換基
を有していてもよく、例えばフェノキシカルボニル基、
ｐ−クロルフェノキシカルボニル基、ｍ−ペンタデシル
オキシフェノキシカルボニル基等が挙げられる。 Ｒで表されるアルキルチオ基は、更に置換基を有してい
てもよく、例えば、エチルチオ基、ドデシルチオ基、オ
クタデシルチオ基、フェネチルチオ基、３−フェノキシ
プロピルチオ基が挙げられる。 Ｒで表されるアリールチオ基はフェニルチオ基が好まし
く更に置換基を宵してもよく、例えばフェニルチオ基、
ｐ−メトキシフェニ′ルチオ基、２−を−オクチルフェ
ニルチオ基、３−オクタデシルフェニルチオ基、２−カ
ルボキシフェニルチオ基、ｐ−アセトアミノフェニルチ
オ基等が挙げられる。 Ｒで表されるヘテロ環チオ基としては、５〜７貝のへテ
ロ環チオ基が好ましく、更に縮合環を有してもよく、又
置換基を有していてもよい０例えば２−ピリジルチオ基
、２−ベンゾチアゾリルチオ基、２．４−ジフェノキシ
−１，３，５−）リアゾ′−ルー６−チオ基が挙げられ
る。 Ｘの表す発色現像主薬の酸化体との反応により離脱しう
る置換基としては、例えばハロゲン原子（塩素原子、臭
素原子、フッソ原子等）の他炭素原子、酸素原子、硫黄
原子または窟素原子を介して置換する基が挙げられる。 炭素原子を介して置換する基としては、カルボキシル基
の他例えば一般式 （Ｒ，・は前記Ｒと同義であり、Ｚ・は前記Ｚと同義で
あり、Ｒ，・及びＲ１・は水素原子、アリール基、アル
キル基又はヘテロ環基を表す、）で示される基、ヒドロ
キシメチル基、トリフェニルメチル基が挙げられる。 酸素原子を介して置換する基としては例えばアルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキ
シ基、スルホニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキ
シ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキルオ
キサリルオキシ基、アルコキシオキサリルオキシ基が挙
げられる。 該アルコキシ基は更に置換基を有してもよく、例えば、
エトキシ基、２−７エノキシエトキシ基、２−シアノエ
トキシ基、フェネチルオキシ基、ｐ−クロルベンジルオ
キシ基等が挙げられる。 該アリールオキシ基としては、フェノキシ基が好ましく
、該アリール基は、更に置換基を有していてもよい。具
体的にはフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、３−
ドデシルフェノキシ基、４−メタンスルホンアミドフェ
ノキシ基、４−〔α−（３・−ペンタデシルフェノキシ
）ブタンアミド〕フェノキシ基、ヘキシデシルカルバモ
イルメトキシ基、４−シアノフェノキシ基、４−メタン
スルホニルフェノキシ基、ｌ−ナフチルオキシ基、ｐ−
メトキシフェノキシ基等が挙げられる。 該ヘテロ環オキシ基としては、５〜７員のへテロ環オキ
シ基が好ましく、縮合環であってもよく、又置換基を有
していてもよい。具体的には、１−フェニルテトラゾリ
ルオキシ基、２−ベンゾチアゾリルオキシ基等が挙げら
れる。 該アシルオキシ基としては、例えばアセトキシ基、ブタ
ツルオキシ基等のアルキルカルボニルオキシ基、シンナ
モイルオキシ基の如きアルケニルカルボニルオキシ基、
ベンゾイルオキシ基の如きアリールカルボニルオキシ基
が挙げられる。 該スルホニルオキシ基としては、例えばブタンスルホニ
ルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基が挙げられる。 該アルコキシカルボニルオキシ基としては、例えばエト
キシカルボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニルオ
キシ基が挙げられる。 該アリールオキシカルボニル基としてはフェノキシカル
ボニルオキシ基等が挙げられる。 該アルキルオキサリルオキシ基としては、例えばメチル
オキサリルオキシ基が挙げられる。 該アルコキシオキサリルオキシ基としては、エトキシオ
キサリルオキシ基等が挙げられる。 硫黄原子を介して置°摸する基としては、例えばアルキ
ルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキル
オキシチオカルボニルチオ基が挙げられる。 該アルキルチオ基としては、ブチルチオ基、２−シアノ
エチルチオ基、フェネチルチオ基、ベンジルチオ基等が
挙げられる。 該アリールチオ基としてはフェニルチオ基、４−メタン
スルホンアミドフェニルチオ基＞４−ドデシルフェネチ
ルチオ基、４−ノナフルオロペンクンアミドフェネチル
チオ基、４−カルボキシフェニルチオ基、２−エトキシ
−５−ｔ−ブチルフェニルチオ基等が挙げられる。 該ヘテロ環チオ基としては、例えばｌ−フェニル−１，
２，３，４−テトラゾリル−５−チオ基、２−ベンゾチ
アゾリルチオ基等が挙げられる。 該アルキルオキシチオカルボニルチオ基とじては、ドデ
シルオキシチオカルボニルチオ基等が挙げられる。 えば一般式−Ｎ　　　で示されるものが挙げられアリー
ル基、ヘテロ環基、スルファモイル基、カルバモイル基
、アシル基、スルホニル基、アリールオキシカルボニル
基、アルコキシカルボニル基を表し、Ｒ４・とＲ，・は
結合してヘテロ環を形成してもよい。但しＲ４・とＲ，
・が共に水素原子であることはない。 該ア、ルキル基は直鎮でも分岐でもよく、好ましくは、
炭素数１〜２２のものである。又、アルキル基は、置換
基を有していてもよく、置換基としては例えばアリール
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基
、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ
基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、イミノ基、ア
シル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基
、カルバモイルー基、スルファモイル基、アルコキシカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルオ
キシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルア
ミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、
ハロゲン原子が挙げられる。 該アルキル基の具体的なものとしては、例えばエチル基
、オキチル基、２−エチルヘキシル基、２−クロルエチ
ル基が挙げられる。 Ｒ４・又はＲｓ・で表されるアリール基としては、炭素
数６〜３２、特にフェニル基、ナフチル基が好ましく、
該アリール基は、置換基を有してもよく置換基としては
上記Ｒ４・又はＲ８・で表されるアルキル基への置換基
として挙げたもの及びアルキル基が挙げられる。該アリ
ール基として具体的なものとしては、例えばフェニル基
、１−ナフチル基、４−メチルスルホニルフェニル基が
挙げられる。 Ｒ４・又はＲ１・で表されるヘテロ環基としては５〜６
員のものが好ましく、縮合環であってもよく、置換基を
有してもよい。具体例としては、２−フリル基、２−キ
ノリル基、２−ピリミジル基、２−ベンゾチアゾリル基
、２−ピリジル基等が挙げられる。 Ｒ４・又はＲ３・で表されるスルファモイル基としては
、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ、Ｎ−ジアルキル
スルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ
、Ｎ−ジアリールスルファモイル基等が挙げられ、これ
らのアルキル基及び了り−ル基は前記アルキル基及びア
リール基について挙げた置換基を有してていもよい。ス
ルファモイル基の具体例としては例えばＮ、Ｎ−ジエチ
ルスルファモイル基、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ
−ドデシルスルファモイル基、Ｎ−ｐ−）リルスルファ
モイル基が挙げられる。 Ｒ４・又はＲｓ・で表されるカルバモイル基としては、
Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−ジアルキルカル
バモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−ジ
アリールカルバモイル基等が挙げられ、これらのアルキ
ル基及びアリール基は前記アルキル基及びアリール基に
ついて挙げた置換基を有していてもよい。カルバモイル
、基の具体例としては例走ばＮ、Ｎ−ジエチルカルバモ
イル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−ドデシルカル
バモイル基、Ｎ−ｐ−シアノフェニルカルバモイル基、
Ｎ−ｐ−）リルカルバモイル基が挙げられる。 Ｒ４・又はＲ１・で表されるアシル基としては、例えば
アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ
環カルボニル基が挙げられ、該アルキル基、該アリール
基、該ヘテロ環基は置換基を有していてもよい。アシル
基として具体的なものとしては、例えばヘキサフルオロ
ブタノイル基、２゜３．４．５．６−ペンタフルオロベ
ンゾイル基、アセチル基、ベンゾイル基、ナフトニル基
、２−フリルカルボニル基等が挙げられる。 Ｒ４・又はＲｓ・で表されるスルホニル基としては、ア
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロ環
スルホニル基が挙げられ、置換基を有してもよく、具体
的なものとしては例えばエタンスルホニル基、ベンゼン
スルホニル基、オクタンスルホニル基、ナフタレンスル
ホニル基、ｐ−クロルベンゼンスルホニル基等が挙げら
れる。 Ｒ４・又はＲｓ・で表されるアリールオキシカルボニル
基は、前記アリール基について挙げたものを置換基とし
て有してもよく、具体的にはフェノキシカルボニル基等
が挙げられる。 Ｒ、Ｊ又はＲｓ７で表されるアルコキシカルボニル基は
、前記アルキル基について挙げた置換基を有してもよく
、具体的なものとしてはメトキシカルボニル基、ドデシ
ルオキシカルボニル基、ベンジルオキ°ジカルボニル基
等が挙げられる。 Ｒ４・及びＲ５・が結合して形成するヘテロ環としては
５〜６員のものが好ましく、飽和でも、不飽和でもよく
、又、芳香族性を有していても、いなくて６よく、又、
縮合環でもよい。該ヘテロ環としては例えばＮ−フタル
イミド基、Ｎ−コハク酸イミド基、４−Ｎ−ウラゾリル
基、１−Ｎ−ヒダントイニル基、３−Ｎ−２，４−ジオ
キソオキサゾリジニル基、２−Ｎ−１，１−ジオキソ−
３−（２Ｈ）−オキソ−１，２−ベンズチアゾリル基、
】−ピロリル基、１−ピロリジニル基、ｌ−ピラゾリ　
　　□ル基、１−ピラゾリジニル基、１−ピペリジニル
基、１−ピロリニル基、ｌ−イミダゾリル基、１−イミ
ダゾリニル基、Ｉ−インドリル基、ｌ−イソインドリニ
ル基、２−イソインドリル基、２−イソインドリニル基
、１−ベンゾトリアゾリル基、１−ベンゾイミダゾリル
基、Ｉ　−（１，２，４−）リアゾリル）基、Ｉ−（１
，２，３−）リアゾリル）基、Ｉ−（１，２，３，４−
テトラゾリル）基、Ｎ−モルホリニル基、１，２，３．
４−テトラヒドロキノリル基、２−オキソ−１−ピロリ
ジニル基、２−ＩＨ−ピリドン基、フタラジオン基、２
−オキソ−１−ピペリジニル基等が挙げられ、これらへ
テロ環基はアルキル基、アリール基、アルキルオキシ基
、アリールオキシ基、アシル基、スルホニル基、アルキ
ルアミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、スル
ホンアミノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、ウレイド基、アルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、イミド
基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、ハロゲン原
子等により置換されていてもよい。 またＺ又はＺ・により形成される含窒素複素環としては
、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環また
はテトラゾール環等が挙げられ、前記環が有してもよい
置換基としては前記Ｒについて述べたものが挙げられる
。 又、一般式（１）及び後述の一般式（ＩＩ）〜〔■〕に
於ける複素環上の置換基（例えば、Ｒ１Ｒ１〜Ｒ，）が ！ 部分（ここにＲ・・、Ｘ及び２−Ｉは一般式〔１〕にお
けるＲ、Ｘ、Ｚと同義である。）を有する場合、所謂ビ
ス体型カプラーを形成するが勿論本発明に包含される。 又、Ｚ、Ｚ・、Ｚ・・及び後述のＺＩにより形成される
環は、更に他の環（例えば５〜７員のシクロアルケン）
が縮合していてもよい。例えば一般式（Ｖ）においては
Ｒ５とＲ，が、一般式〔）り〕においてはＲ７とＲ１と
が、互いに結合して環（例えば５〜７員のシクロアルケ
ン、ベンゼン）を形成してもよい。 以下余白 一般式〔１〕で表されるものは更に具体的には例えば下
記一般式（Ｕ）〜〔■〕により表される。 一般式（ＩＩ） 一般式（ＩＩＩ） ＨＮ　−Ｎ 一般式（Ｒ’） ＮＮ□龍 一般式（Ｖ　） 一般式（ＶＩ） ＮＮ□洲 一般式〔■〕 ＮＮ 前記一般式（ＩＩ）〜〔■〕に於いてＲ１−Ｒ１及びＸ
は前記Ｒ及びＸと同義である。 又、一般式（１）の中でも好ましいのは、下記一般式〔
■〕で表されるものである。 一般式〔■〕 式中Ｒ、、Ｘ及びＺｊは一般式〔１〕におけるＲｏＸ及
びＺと同義である。 前記一般式（Ｉｔ）〜〔■〕で表されるマゼンタカプラ
ーの中で特に好ましいのものは一般式（ＩＩ）で表され
るマゼンタカプラーである。 又、一般式（１）〜〔■〕における複素環上の置換基に
ついていえば、一般式（１）においてはＲが、また一般
式［１１）〜〔■〕においてはＲ。 が下記条件１を満足する場合が好ましく更に好ましいの
は下記条件１及び２を満足する場合であり、特に好まし
いのは下記条件１．２及び３を満足する場合である。 条件ｌ　複素環に直結する根元原子が炭素原子である。 条件２　該炭素原子に水素原子が１個だけ結合している
、または全く結合していない。 条件３　該炭素原子と隣接原子との間の結合が全て単結
合である。 前記複素環上の置換基Ｒ及びＲ１として最も好ましいの
は、下記一般式（■）により表されるものである。 一般式（ＩＸ） Ｒ− Ｒｒｏ−Ｃ− 式中Ｒ＠、　Ｒｒ。及びＲ１１はそれぞれ水素原子、ノ
翫ロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケ
ニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール
基、ヘテロ環基、アシル基、スルホニル基、スルフィニ
ル基、ホスホニル基、カルバモイル基、スルファモイル
基、シアノ基、スピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物
残基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキ
シ基、シロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキ
シ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
イミド基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アル
コキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニル
アミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ
環チオ基を表し、Ｒｓ。 ＲＩＯ及びＲ１１の少なくとも２つは水素原子、ではな
い。 又、前記Ｒ，，Ｒ，。及びＲｏの中の２つ例えばＲ１と
Ｒ１゜は結合して飽和又は不飽和の環（例えばシクロア
ルカン、シクロアルケン、ペテロ環）を形成してもよく
、更に該環にＲｌｍが結合して有橋炭化水素化合物残基
をｔ［してもよい。 Ｒ１−Ｒ１１により表される基は置換基を存してもよく
、Ｒ，〜Ｒ，１に、より表される基の具体例及び該基が
有してもよい置換基としては、前述の一般式〔１〕にお
けるＲが表す基の具体例及び置換基が挙げられる。 又、例えばＲ１とＲＩｏが結合して形成する環及びＲ１
〜Ｒ０により形成される有橋炭化水素化合物残基の具体
例及びその有してもよい置換基としては、前述の一般式
〔１〕におけるＲが表すシクロアルキル、シクロアルケ
ニル、ヘテロ環基有橋炭化水素、化合物残基の具体例及
びその置換基が挙げられる。 一般式（ＩＸ）の中でも好ましいのは、（ｉ）Ｒｅ−Ｒ
１１の中の２つがアルキル基の場合、（ｉｉ）Ｒｅ〜Ｒ
Ｉｓの中の１つ例えばＲｏが水素原子でありで、他の２
つＲ−とＲｓ＋が結合して根元炭素原子と共にシクロア
ルキルを形成する場合、 である。 更に（ｉ）の中でも好ましいのは％Ｒｓ〜Ｒ１１の中の
２つがアルキル基であって、他の１つが水素原子または
アルキル基の場合である。 ここに該アルキル、該シクロアルキルは更に置換基を有
してもよく該アルキル、該シクロアルキル及びその置換
基の具体例としては前記一般式（１）におけるＲが表す
アルキル、シクロアルキル及びそのＸ換基の具体例が挙
げられる。 以下余白 又、一般式（１）におけるＺにより形成される環及び一
般式〔〜１〕におけるＺｌにより形成される環が有して
６よい置換基、並びに一般式（ＩＩ）〜（■）における
Ｒ２−Ｒ１とじては下記一般式（Ｘ）で表されるものが
好ましい。 一般式〔Ｘ） −Ｒ’−ＳＱ、−Ｒ” 式中Ｒ１はアルキレンを、Ｒ″はアルキル、シクロアル
キルまたは了り−ルを表す。 Ｒ１で示されるアルキレンは好ましくは直鎖部分の炭素
数が２以上、より好ましくは３ないし６であり、直鎖１
分岐を問わない。またこのアルキレンは置換基を有して
もよい。 該置換基の例としては、前述の一般式〔１〕におけるＲ
がアルキル基の場合該アルキル基が有してもよい置換基
として示したものが挙げられる。 置換基として好ましいものとしてはフェニルが挙げられ
る。 Ｒ１で示されるアルキレンの、好ましい具体例を以下に
示す。 −Ｃｎ、ＣＨ，ＣＭ□−，−ＣＨＣＢｔＣＨｔ−、−Ｃ
ＩＩＣＬＣＩ、−１−Ｃ１ｆｆＣＢｔＣＩＩ−（ｌ　ｍ
　　　　　　　　ＣｚＩＩｓ　　　　　　　　　　　Ｃ
＊　Ｒ、＊Ｒ１で示されるアルキル基は直鎖１分岐を問
わない。 具体的にはメチル、エチル、プロピル、１ｓｏ−プロピ
ル、ブチル、２−エチルヘキシル、オクチル、ドデシル
、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタダシル、２−へ
キシルデシルなどが挙げられる。 Ｒ”で示されるシクロアルキル基としては５〜６員のも
のが好ましく、例えばシクロヘキシルが挙げられる。 Ｒ″で示されるアルキル、シクロアルキルは置換基を有
してもよく、その例としては、前述のＲ１への置換基と
して例示したものが挙げられる。 Ｒ′で示されるアリールとしては具体的には、フェニル
、ナフチルが挙げられる。該アリール基は置換基を有し
てもよい。該置換基としては例えば直鎖ないし分岐のア
ルキルの倍、前述のＲ１への置換基として例示したもの
が挙げられる。 また、置換基が２個以上ある場合それらの置換基は、同
一であっても異なっていてもよい。 一般式〔１〕で表される化合物の中でも特に好ましいの
は、下記一般式〔刀〕で表されるものである。 一般式〔旧 式中、Ｒ，Ｘは一般式（１）におけるＲ、Ｘと同義であ
りＲＩ　、　Ｒ＊は、一般式（Ｘ）におけるＲ１゜Ｒ１
と同義である。 以下余白 −　　　　　　　　　　　　　　　＝ −リ　　　　　　　　へ　　　　　　　−の（）　　　
　　　　　　　　寸　　　　　　　　（）−〇　　　　
　　　　〇 ト　　　　　　　　　　　　■ ：ｌｌ：：Ｃ： 口 ■− 一　　　　　　−− の　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　寸Ｃ
１ （’ｌ） １、Ｉ　　　ｕノ　　　　　　　　ＣＮ　　　　　　　
　＋、ノ　　　（）　　　　　　　　　　　Ｎ；ｉ −ノ　　（）　　　　　　　　　へ　　　　　　（）　
　（−ロ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　ヘ寸　　　　
　　　　　　　　　　　　寸　　　　　　　　　　　　
　　　　寸／Ｃ″）＼ の　　　　　＝　　＝ 、　　　　　　ＯＱ 工 寸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　寸　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　啼＝− リリ寸 ｊ　　　　　　　　　　　　　　− リーー Ｕ） ＝ 一一（）　　　　　　　　　ｕ’；＋　　　　　　　ｇ
ｇＵ） １　　　　　　　　　　　　　　　　　　ロ　　　　　
　　リ　　リ　　　　　　Ｃｑコ 〇 ト ＣＨ。 Ｈｓ Ｒｒ （Ｊ ＣＨ。 （’１１ ｒ／ ＣＨ３ＣＨ）ＩＨフ（す １つ 工　　に ぐｑ　　　　　　　　　− ＣＩ Ｕ　４　Ｈｇ ＣｓＨ＋＋（す ｌ −Ｎ−Ｎ Ｎ ＣＨ３ ＣＨ。 ｌ また前記カプラーの合成はジャーナル・オブ・ザ・ケミ
カル・ソサイアテイ（Ｊ　ｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　　ｔｈ
ｅＣｈｅｍｉｃａｌ　　５ｏｃｉｅｔｙ）　、パーキン
（Ｐ　ｅｒｋｉｎ）Ｊ　　（Ｊ９７７）　、　２０４７
〜２０５２、米国特許：ｌ、７２５，０６７号、特開昭
５９−９９４３７号、特開昭５８−４２０４５号、特開
昭５９−１６２５４８号、特開昭５９−１７１９５６、
特開昭６０−３３５５２号及び特開昭６０−４３６５９
号等を参考にして合成を行った。 蝙記カプラーは通常ハロゲン化ｆｆ１１モル始りｌＸｌ
０−”モル乃至１モル、好ましくは１ｘ１ｏ−’モル乃
至ＢＸＩＯ−’モルの転回で用いることができる。 以下余白 一般式〔シ〕 Ｒつ Ｒ。 〔式中、　Ｒ１およびＲ２は、それぞれアルキル基を表
わす。Ｒ３はアルキル基、−ＮＲ’　Ｒ”基、−８Ｒ’
基（Ｒ’は価の有機基を表わす。〕、または−ＣＯＯＲ
”基（Ｒ”は水素原子または１価の有機基を表わす。）
を表わす。ｍはθ〜３の整数を表わす０〕一般式（ｂ）
の＆およびＲ２で表わされるアルキル基の好ましくは、
炭素原子数１〜１２°個のアルキル基、更に好ましくは
炭素原子数３〜８個のα位が分岐のアルキル基である。 Ｒ１およびＲ２の特に好ましくは、ｔ−ブチル基ま゛た
はｔ−ペンチル基である。 Ｒ３で表わされるアルキル基は、直鎖または分岐のもの
であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、オクチル基、ノニル基、ドデシル基
、オクタデシル基等である。 このアルキル基が置換基を有する場合、これらの置換基
としては、ノ・ロゲン原子、ヒドロキシル基。 ニトロ基、シアノ基、アリール基（例えばフェニル基、
ヒドロキシフェニルＭ、３１５−’）−ｔ−フチルー４
−ヒドロキシフェニル＆、３．５−シーｔ−ペンチル−
４−ヒドロキシフェニル基等）、７ミノ基（例えばジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、１．３．５−トリア
ジニルアミノ基等）、アルキルオキシカルボニル基（例
えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フ
ロビルオキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペ
ンチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル
基、ノニルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボ
、ニル基、オクタデシルオキシカルボニル基等〕、アリ
ールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル
基等）、カルバモイル基（例えハメチルカルバモイル基
、エチルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブ
チルカルバモイル基、ヘプチルカルバモイル基等のアル
キルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基等のアリ
ールカルバモイル基、シクロヘキシルカルバモイル基等
のシクロアルキルカルバモイル基ｓ）、インシアヌリル
基、１，３．５−　）リアジニル基等の複素環基が挙げ
られる。Ｒ３で表わされるアミノ基は、例えばジメチル
アミノ基、ジエチルアミノ基、メチルエチルアミノ基等
のアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、ヒドロキシル
フェニルアミノ基等のアリールアミノ基、シクロヘキシ
ル基等のシクロアルキルアミノ基、１，３．５−　）リ
アジニルアミノ基、イソシアヌリル基等の複素環アミノ
基などを包含す、る。Ｒ′およびＲ“で表わされる１価
の有機基は、　　。 例えばアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロ′
ピル基、゛ブチル基、アミル基、デシル基、ドデシル基
、ヘキサデシル基、オクタデシル基等〕、アリール基（
例えばフェニル基、ナフチル基等）、　　ニジクロアル
キル基（例えばシクロヘキシル基等）、複素環基（例え
ば１，３１５−　）　ＩＪアジニル基、イソ　　″シア
ヌリル基等〕を包含する。これらの有機基が　　′置換
基を有する場合、この置換基としては１１例えばハロゲ
ン原子（例えばフッ素、塩素、臭素等〕、　　′ヒドロ
キシル基、ニトロ基、シアン基、アミノ基、アルキル基
（例えばメチル基、エチル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブ
チル基、ｔ−アミル基等〕、アリール基（例えばフェニ
ル基、トリル基等〕、アルクニル基（例えばアリル基等
）、アルキルカルボニルオキシ基（例えばメチルカルボ
ニルオキシ基、エチ、ルカルボニルオキシ基、ベンジル
カルボニルオキシ基等〕、アリールカルボニルオキシ基
（例えばベンゾイルオキシ基等〕などが挙げられる。 本発明において前記一般式（し〕で表わされる化合物の
好ましくは下記一般式〔ト′〕、〔ｂ“〕及び〔ｂ′＃
〕で表わされる化合物である〇−一般式ｂ′〕 〔式中、Ｒ１１およびｌ’ｔｔｚは、それぞれ炭素原子
数３〜８価の直鎖または分岐のアルキル基、特にｔ−ブ
チル基、ｔ−ペンチル基を表わす。Ｒ１３はに価の有機
基を表わす。ｋは１〜６の整゛数を表わす。〕Ｒ１３で
表わされるに価の有機基としては、例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、オクチル
基、ヘキサデシル基、メトキシエチル基、クロロメチル
基、１，２−ジフロモエチル基、２−クロロエチル基、
ベンジル基、フェネチル基等のアルキル基、アリル基、
プロペニル基、ブテニル基等のアルケニル基、エチレン
、トリメチレン、プロピレン、ヘキサメチレン、２−ク
ロロトリメチレン等の多価不飽和炭化水素基、グリセリ
ル、ジグリセリル、ペンタエリスリチル、ジペンタエリ
スリチル等の不飽和炭化水素基、シクロプロピル、シク
ロヘキシル、シクロヘキセニル基等の脂環式炭化水素基
、フェニル基、ｐ−オクチルフェニル基、２１４−ジメ
チルフェニル基、２．４−ジ−ｔ−ブチルフェニル基、
２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェニル基、ｐ−クロロフェ
ニル基、２．４−ジブロモ７エール基、ナフチル基等の
アリール基、１．２−または１．３−あるいは１．４−
フエ＝　Ｌ／　ン基、３，５−’）　ｌチル−１，４−
フェニレン基、２−ｔ−ブチ／Ｌ−−１．４−フェニレ
ン基、２−クロロ−１，４−フェニレン基、ナフタレン
基等のアリーレン基、１，３．５−三置換ベンゼン基等
が挙げられる。 Ｒ１３は、更に上記の基以外に、上記基のうち任意の基
を一〇−１−Ｓ−１−８０２−基を介して結合したに価
の有機基を包含する。 Ｒ，３の更に好ましくは、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル基、２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェニル基、ｐ−オ
クチルフェニル基、ｐ−ドデシルフェニル基、３．５−
−／−ｔ−フチルー４−ヒドロキシルフェニル基、３．
５−ジ−ｔ−ペンチル−４−ヒドロキシフェニル基であ
る。 ｋの好ましくは、１〜４の整数であるう以下余白 一般式［ｂ“］ ｃ式中Ｒ１を乃至Ｒ１３およびｋは一般式［ｂ′］で示
したものと同一であり、Ｙは２価の有ｉ基を表わす。ｆ
は正の整数、ｎおよびｑはＯまたは正の整数を表わす。 ］ Ｙで表わされる２価の有Ｉａ基としてはアリーレン基（
例えばフェニレン基）、オキシカルボニル基、カルボニ
ルオキシ基、スルホニル基、アミノ基、スルホンアミド
基、スルファモイル基、アシルアミノ基、カルバモイル
基等を挙げることがで０°　　　　　　　　　　　　　
　　以下余白一般式［ｂ”］ ［式中、Ｒ１１％Ｒ１２は一般式［ｂ′］で示したもの
と同一であり、！は一般式［ｂ”ｌで示したものと同一
であり、Ｒ？４およびＲ１５は水素原子、アルキル基、
（例えばメチル基、エチル基、ブＯビル基、ブチル基、
ペンチル基、ベンジル基等）、アルケニル基、（例えば
ビニル基、アリル基、イソプロペニル基等）、アルキニ
ル基、（例えば、エチニル基、プロペニル基等）、アシ
ル基（例えばホルミル基、アセチル基、プロピオニル基
、ブチリル基、アクリロイル基、プロピオロイル基１、
　メタクリロイル基、り０トノイル！１等）を表わす。 ｎおよびＱは１乃至３の整数を表わし、ｐは０乃至２の
整数を表わし、ｎ　＋Ｑ十ｐ　−４である。 Ｒ＋４、Ｒ＋ｓの更に好ましい基としては、メチル基、
エチル基、ビニル基、アリル基、プロピニル基、ベンジ
ル基、アセチル基、プロピオニル基、アクリロイル基、
メタクリロイル基、クロトノイル基である。 以下に一般式（ｂ）で示される化合物の具体的化合物を
挙げる。 以下余白 〔３〕Ｃ４Ｈ９（ｔ） （６〕Ｃ４Ｈ９（ｔ） ＣａＨ＊（ｔ） （９’　　　　　Ｃ４Ｈ９（ｔ）　　　　　　　　　　
　　　　　　　　（１３）（１２）ＣｓＨｔ（ｉ）　　
　　　　　　　　　　　　　　　　（１６）Ｃ３Ｈ７（
す Ｃ３Ｈ１１（ｔ） Ｃ４Ｈｓ（ｔ） Ｃ４Ｈｌ（ｔ）　　　　　　Ｃ５Ｈｌ　ｔ（ｔ）（２８
〕 以下余白 般式［ｂ　］で表わされる化合物の添加Ｈは、反応性イ
エローカプラーの塗布量１００重量部して、５〜３００
重口部、好ましくは１０〜ｉｏ。 部の割合で用いる。 発明の感光材料の保ｆＩ層、中間層等の非感光およびハ
ロゲン化銀乳剤層に色素画像の安定目的として紫外線吸
収剤を用いてもよい。有用いることのできる紫外線吸収
剤としては２２′−ヒドロキシフェニル）ペンシトリア
ゾ系化合物が挙げられ、特に下記一般式［Ｃ］される化
合物が好ましい。 般式［Ｃ］ 上記一般式［Ｃ］において、Ｒ＋ｓ、Ｒ＋７およびＲｌ
ａはそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ア
リール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルケニ
ル基、ニトロ基または水酸基を表わす。 Ｒ＋ｓ、Ｒ１７およびＲｔａで表わされるハロゲン原子
としては、例えば、弗素原子、塩素原子、臭素原子等が
挙げられ、特に塩素原子が好ましい。 Ｒ１６、Ｒ＋７６よびＲｔａで表わされるアルキル基、
アルコキシ基としては、炭素数１〜２０のもの、アルケ
ニル基としては、炭素数２〜２０のものが好ましく、直
鎖でも分岐でもよい。 以下余白 以下に前記一般式（Ｃ）で表わされる化合物の代表的具
体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。 ０４　Ｒ９（ｔ） Ｈ３ （ＵＶ−５） Ｃ出 ＣａＲ９（ｔ） ０４Ｈ９（ｔ） Ｃ４Ｈ９（ｔ） ０４迅（１） Ｃ４Ｈ９（Ｓｅｅ） Ｃ１Ｈｓ（ｔ） Ｃｓ　Ｈｓ　１（ｔ） Ｃ５Ｈ１１（ｔ） ＣＨｓ　ＣＨ２Ｃ００ＣｓＨｔｔ（ｎｌ（ＵＶ−２２） ＯＣｓ　Ｈｌ　ｙ（ｎ） これらの２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリ
アゾール系化合物の添加量としては、いがなる量で用い
てもよいが好ましくは、１乃至５０ｓａ／ｄｆの割合で
用いられ、特に好ましくは、２乃至３０■ａ／ｄｆであ
る。 カプラーおよび一般式［ｂ］および［Ｃ］で表わされる
化合物は、ハロゲン化銀写真感光材料への添加方法とし
ては、一般的な疎水性化合物の添加方法と同様に、固体
分散法、ラテックス分散法、　　　□水中油滴型乳化分
散法等、種々の方法を用いる事ができ、これはカプラー
等の疎水性化合物の化学構造等に応じて適宜選択するこ
とができる。水中油滴型乳化分散法は、カプラー等の疎
水性化合物を分散させる従来公知の方法が適用でき、通
常、沸点約１５０’Ｃ以上の高沸点有機溶媒に、必要に
応　　　　□じて低沸点、及びまたは水溶性有機溶媒を
併用して溶解し、ゼラチン水溶液などの親水性バインダ
ー中に界面活性剤を用いて撹拌器、ホモジナイザー、コ
ロイドミル、フロージットミキサー、超音波装置等の分
散手段を用いて、乳化分散した後、目的し１Ｆ眩木 性コロイド層中に添加すればよい。分散液または分散と
同時に低沸点有機溶媒を除去する工程を入れても良い。 高沸点有機溶媒としては、現像主薬の酸化体と反応しな
いフェノール誘導体、フタル酸エステル、リン酸エステ
ル、クエン酸エステル、安息香酸エステル、アルキルア
ミド、脂肪酸エステル、トリメシン酸エステル等の沸点
１５０℃以上の有機溶媒が用いられる。 本発明において好ましく用いることのできる高沸点有機
溶媒としては、誘電率が６．０以下の化合物であり、例
えば、誘電率６．０以下の７タル酸エステル、リン酸エ
ステル等のエステル類、有機酸アミド類、ケトン類、炭
化水素化合物等である。 好ましくは誘電率６．０以下１．９以上で１００℃にお
ける蒸気圧が０．５１１１１１８　Ｑ以下の高沸点有機
溶媒である。またより好ましくは、該高沸点有機溶媒中
の７タル酸エステル類あるいはリン酸エステル類である
。更に該高沸点有機溶媒は２種以上の混合物であっても
よい。 なお、本発明における誘電率とは、３０℃における誘電
率を示している。 本発明において有利に用いられるフタル酸エステルとし
ては、下記一般式［ｄｌで示されるものが挙げられる。 一般式［ｄｌ 式中、Ｒ１６およびＲ１７は、それぞれアルキル基、ア
ルケニル基またはアリール基を表わす。但し、Ｒ１６お
よびＲ１７で表わされる基の炭素原子数の総和は８乃至
３２である。またより好ましくは炭素原子数の総和が１
６乃至２４である。 本発明において、前記一般式［ｄ　］のＲ＋ｓおよびＲ
１７で表わされるアルキル基は、直鎖でも分岐のもので
もよく、例えばブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘ
プチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシ
ル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペ
ンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オク
タデシル基等である。Ｒ１６およびＲ＋ｒで表わされる
アリール基は、例えばフェニル基、ナフチル基等であり
、アルケニル基は、例えばヘキセニル基、ヘプテニル基
、オクタデセニル基等である。これらのアルキル基、ア
ルケニル基およびアリール基は、単一もしくは複・数の
置換基を有していても良く、アルキル基およびアルケニ
ル基の置換基としては、例えばハロゲン原子、アルコキ
シ基、アリール基、アリールオキシ基、アルケニル基、
アルコキシカルボニル基等が挙げられ、アリール基の置
換基としては、例えばハロゲン原子、アルキル基、アル
コキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルケニル
基、アルコキシカルボニル基等を挙げることができる。 本発明において有利に用いられるリン酸エステルとして
は、下記一般式［ｅ　］で示されるものが挙げられる。 以下余白 −ｗ１８［°］。 Ｒ２゜０−Ｐ−ＯＲ＋ａ ＯＲ＋ｑ 式中、Ｒ１８、Ｒ１９およびＲ２０は、それぞれアルキ
ル基、アルケニル基またはアリール基を表わす。 但し、Ｒ１８、Ｒ１９およびＲ２Ｏで表わされる炭素原
子数の総和は２４乃至５４である。 一般式［ｅ　］のＲ１８、Ｒ１９およびＲ２０で表わさ
れるアルキル基は、例えばブチル基、ペンチル基、ヘキ
シル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基
、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデ
シル基、ペンタデシル基、ヘキサデジル基、ヘプタデシ
ル基、オクタデシル基、ノナデシル基等であり、アリー
ル基としては、例えばフェニル基ζナフチル基等であり
、またアルケニル基としては、例えばヘキセニル基、ヘ
プテニル基、オクタデセニル基等である。 これらのアルキル基、アルケニル基およびアリール基は
、単一もしくは複数の置換基を有していても良い。好ま
しくはＲ１８、ＲｌｓおよびＲ２０はアルキル基であり
、例えば、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、３
，５．５−１−リメチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ
−デシル基、５ｅｃ−デシル基、５ｅｃ−ドデシル基、
ｔ−オクチル基等が挙げられる。 以下に本発明に用いられる有機溶媒の代表的具体例を示
すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 以下余白 例示有Ｉｆ！溶媒 Ｓ″″２Ｃ２Ｈｓ Ｃ，Ｈ。 、Ｓ’−５ Ｓ−１２Ｃ２Ｈ５ ０−Ｃ嘗Ｈ＋ｔ（ｉ） ０−ＣｓＨ＋＊（ｎ） ｏ−ｃ、、Ｈ２ｔ（ｉ） ０−Ｃ１゜Ｈｚ＋（ｎ） Ｓ−１９ −２Ｏ これらの有機溶媒は、一般に本発明に用ｕ％るカプラー
に対し、１０乃至１５０重量％の割合で用（、％られる
。好ましくはカプラーに対し２０乃至１００重量％であ
る。 カプラー等の疎水性化合物を高沸点溶媒単独又は低沸点
溶媒と併用した溶媒に溶かし、機械的又は超音波を用い
て水中に分散する時の分散助剤として、シニオン性界面
活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤
を用いる事が出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、例え番ｆカラー
ネガのネガ及びポジフィルム、ならびにカラー市画紙な
どに適用されるが、とりわけ直接鑑賞用に供されるカラ
ー印画紙に適用した場合に本発明の効果が有効に発揮さ
れる。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層、その
他の親水性コロイド層は、バインダー（又は保護コロイ
ド）分子を架橋させ、膜強度を高める硬膜剤を単独又は
併用することにより硬膜される。硬膜剤は、処理液中に
硬膜剤を加える必要がない程度に、感光材料を硬膜出来
る量添加する事が望ましいが、処理液中に硬膜剤を加え
る裏も可能である。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料のハロゲン化銀乳剤
層及び／又は他の親水性コロイド層の柔軟性を高める目
的で可塑剤を添加出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層その他
の親水性コロイド層に、寸度安定性の改良などを目的と
して、水不溶又はＨｍ性合成ポリマーの分散物（ラテッ
クス）を含む事が出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の乳剤層には、発色
現像処理において、芳香族第１級アミン現像剤（例えば
ｐ−フェニレンジアミン誘導体や、アミノフェノール誘
導体など）の酸化体とカップリング反応を行い色素を形
成する、色素形成カプラーが用いられる。該色素形成性
カプラーは、各々の乳剤層に対して乳剤層の感光スペク
トル光を吸収する色素が形成されるように選択されるの
が普通であり、青色光感光性乳剤層にはイエロー色素形
成カプラーが、線色光感光性乳剤層にはマゼンタ色素形
成カプラーが、赤色光感光性乳剤層にはシアン色素形成
カプラーが用いられる。しかしながら目的に応じて上記
組み合わせと異なった用い方でハロゲン化銀写真感光材
料をつくっても良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料には、フィルタ一層
、ハレーション防止層、及び／又はイラジェーション防
止層等の補助層を設ける事が出来る。これらの層中及び
／又は乳剤層中には、現像処理中にカラー感光材料より
流出するか、もしくは漂白される染料が含有させられて
も良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の清り摩擦を低減さ
せるために滑剤を添加出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料に、帯電防止を目的
とした帯電防止剤を添加出来る。帯電防止剤は支持体の
乳剤を積層してない側の帯電防止層に用いられる事もあ
るし、乳剤層及び／又は支持体に対して乳剤層が積層さ
れている側の乳剤層以外の保護コロイド層に用いられて
も良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層及び／
又は他の親水性コロイド層には、塗布性改良、帯電防止
、スベリ性改良、乳化分散、接着防止及び（現像促進、
硬調化、増感等、の）写真特性改良等を目的として、種
々の界面活性剤が用いられる。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層、その
他の層が塗布される支持体としてはバライタ層又はα−
オレフレインボリマー等をラミネートした紙、合成紙等
の可撓性反射支持体、酢酸セルロース、硝酸セルロース
、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリカーボネイト、ポリアミド等′の半合成
又は合成高分子からなるフィルムや、万ラス、金属、陶
器などの剛体等である。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、必要に応じて支
持体表面にコロナ放電、紫外線照射、火焔処理等を施し
た後、直接又は（支持体表面の接着性、帯電防止性、寸
度安定性、耐摩耗性、硬さ、ハレーション防止性、摩擦
特性及び／又はその他の特性を向上するための）１また
は２以上の下塗層を介して塗布されても良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の塗布に際して、塗
布性を向上させる為に増粘剤を用いても良い。塗布法と
しては２種以上の層を同時に塗布する事の出来るエクス
ドールジョンコーティング及びカーテンコーティングが
特に有用である。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、該感光材料を構
成する乳剤層が感度を有しているスペクトル領域の電磁
波を用いて露光出来る。光源としては、自然光（日光）
、タングステン電灯、蛍光灯、水銀灯、キセノンアーク
灯、炭素アーク灯、キセノンフラッシュ灯、陰極線管フ
ライングスポット、各種レーザー光、発光ダイオード光
、電子線、Ｘ線、γ線、α線などによって励起された蛍
光体から放出する光等、公知の光源のいずれでも用いる
ことが出来る。 露光時間は通、常カメラで用いられる１ミリ秒から１秒
の露光９Ｉｆｆｉ！は勿論、１マイクロ秒より短い露光
、例えば陰極線管やキセノン閃光灯を用いて１００マイ
クロ秒〜１マイクロ秒の露光を用いることも出来るし、
１秒以上より長い露光も可能である。該露光は連続的に
行なわれても、間欠時に行なわれても良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、当業界公知のカ
ラー現像を行う事によりカラー画像を形成することが出
来る。 本発明において発色現像液に使用される芳香族第１級ア
ミン発色現像主薬は、種々のカラー写真プロセスにおい
て広範囲に使用されている公知のものが包含される。こ
れらの現像剤はアミノフェノール系及びｐ−フェニレン
ジアミン系誘導体が含まれる。これらの化合物は遊離状
態より安定のため一般に塩の形、例えば１！酸塩または
硫酸塩の形で使用される。また、これらの化合物は一般
に発色現像液１１について約０．　ＩＱ〜約３０９の濃
度、好ましくは発色現像液１ｊ！について約１ｇ〜約１
５ｇの濃度で使用する。 本発明において使用される発色現像液には、前記第１級
芳香族アミン系発色現像剤に加えて、更に発色現像液に
通常添加されている得々の成分、例えば水酸化ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ剤、
アルカリ金属亜硫酸塩、アルカリ金属重亜硫ＨＭＡ、ア
ルカリ金属チオシアン酸塩、アルカリ金属ハロゲン化物
、ベンジルアルコール、水軟化剤及び濃厚化剤などを任
意に含有せしめることもできる。この発色現像液の１）
Ｈ値は、通常７以上であり、最も一般的には約１０〜約
１３である。 本発明においては、発色現像処理した後、定着能を有す
る処理液で処理するが、該定着能を有する処理液が定着
液である場合、その前に漂白処理が行なわれる。該漂白
工程に用いる漂白剤としては有機酸の金属錯塩が用いら
れ、該金属錯塩は、現像によって生成した金属銀を酸化
してハロゲン化銀にかえすと同時に発色剤の未発色部を
発色させる作用を有するもので、その構成はアミノポリ
カルボン酸または蓚酸、クエン酸等の有ｔｌ１ｗ１で鉄
、コバルト、銅等の金属イオンを配位したものである。 このような有機酸の金属錯塩を形成するために用いられ
る最も好ましい有機酸としては、ポリカルボン酸または
アミノポリカルボン酸が挙げられる。これらのポリカル
ボン酸またはアミノポリカルボン酸はアルカリ金属塩、
アンモニウム塩もしくは水溶性アミン塩であってもよい
。 これらの具体的代表例としては、次のものを挙げること
ができる。 ［１〕エチレンジアミンテトラ酢酸 ［２〕ニトリロトリ酢酸 ［３〕イミノジ酢酸 ［４］エチレンジアミンテトラ酢酸ジナトリウム塩 ［５］エチレンジアミンテトラ酢駿テトラ（トリメチル
アンモニウム）塩 ［６］エチレンジアミンテトラ酢酸テトラナトリウム塩 ［７〕ニトリロトリ酢酸ナトリウム塩 使用される漂白剤は、前記の如き有！ｌＨの金属ｔ！塩
を漂白剤として含有すると共に、種々の添加剤を含むこ
とができる。添加剤としては、特にアルカリハライドま
たはアンモニウムハライド、例えば臭化カリウム、臭化
ナトリウム、塩化ナトリウム、臭化アンモニウム等の再
ハロゲン化剤、金属塩、キレート剤を含有させることが
望ましい。 また硼酸塩、蓚酸塩、酢Ｍ塩、炭Ｍ店、燐酸塩等のｐＨ
！！！ｉｉ剤、アルキルアミン類、ポリエチレンオキサ
イド類等の通常漂白液に添加することが知られているも
のを適宜添加することができる。 更に、定着液及び漂白定着液は、亜硫酸アンモニウム′
、亜硫酸カリウム、重亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸カ
リウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜ａ酸アンモニウ
ム、メタ重亜硫酸カリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム等
の亜硫酸塩や硼酸、硼砂、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重亜硫酸ナト
リウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム、酢酸、酢
酸す一トリウム゛、水酸化アンモニウム等の各種の塩か
ら成るｐＨ緩衝剤を単独或いは２種以上含むことができ
る。 漂白定着液（浴）に漂白定着補充剤を補充しながら本発
明のハロゲン化銀写真感光材料の処理を行なう場合、該
漂白定着液（浴）にチオ硫酸塩、チオシアンＭＵ又は亜
硫Ｍ塩等を含有せしめてもよいし、該漂白定着補充液に
これらの塩類を含有上しめて処理浴に°補充してもよい
。 漂白定着液の活性度を高める為に漂白定着浴中及び漂白
定着補充液の貯蔵タンク内で所望により空気の吹き込み
、又は酸素の吹き込みをおこなってもよく、或いは適当
な酸化剤、例えば３１Ｍ化水素、臭素酸塩、過硫１１塩
等を適宜添加してもよい。 ［実施例〕 以下に具体的な実施例を示して本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。 〈実ｍ倒１〉 表１に示した層構成にて多層ハロゲン化銀カラー写真感
光材料を作成した。 以下余白 以上の如く作成した試料を試料１とする。次に、試料１
において第１ＨＩに用いたハロゲン化銀乳剤、第７層へ
のマット剤の添加および第１層に用いたイエローカプラ
ーおよび一般式（ｂ）で示される化合物の添加を表２に
示した如く変更して試料２乃至２８を作成した。 （１）センシトメトリー特性試験 これらの試料に感光針（小西六写真工業株式会社ＶＫＳ
−７型）を用いて青色光により先便露光を行なった後、
以下の処理を施した。 基準処理工程（処理温度と処理時間） ［１］発色現像　　　３８℃　　３分３０秒〔２〕漂白
定着　　　３３℃　　１分３０秒［３］水洗処理　２５
〜３０℃　３分 ［４〕乾　　燥　７５〜８０℃　約２分処理液組成 （発色現像液） ベンジルアルコール　　　　　　　　　１５ｍ１２エチ
レングリコール　　　　　　　　　１５ｉ１２亜硫酸カ
リウム　　　　　　　　　　　２．０　Ｑ臭化カリウム
　　　　　　　　　　　　０・７ｇ塩化ナトリウム　　
　　　　　　　　　０．２ｇ炭酸カリウム　　　　　　
　　　　　３０．０　Ｑヒドロキシルアミン硫酸塩　　
　　　　３，０９ポリリン酸（ＴＰＰＳ）　　　　　　
　　２．５ｇ３−メチル−４−アミノ−Ｎ−エチル −Ｎ−（β−メタンスルホンアミド エチル）−アニリン硫酸塩　　　　　　５．５ｇ蛍光増
白剤（４，４’　−ジアミノ スチルベンズスルホンｍＴＲ２！３体）　　　　１．０
　ｇ水酸化カリウム　　　　　　　　　　　２．０１；
１水を加えて全量を１２とし、ｐ）−１１０，２０にｍ
整する。 （漂白定着液） エチレンジアミンテトラ酢酸第２鉄 アンモニウム２水塩　　　　　　　　　６０４７エチレ
ンジアミンテトラ酢Ｒ３ａ チオ硫酸アンモニウム（７０％溶液）　　　ｉｏｏ１ｇ
亜１ａ酸アりモニウム（４０％溶液）　　　２７．５１
（１炭酸カリウムまたは氷酢酸でＤＨ７，１に調整し水
を加えて全量を１１とする。 なお、表２中に示したハロゲン化銀乳剤の内容を以下に
示す。 以下余白 表２に用いたマット剤の内容を以下に示す。 略　　号　　鉋、５ｉ１　　　　　　　　　　平均粒径
（μ麟）　塗布量ｇ／１２ＭＡＴ−１シリカ　　　　　
　　　　　　　３．０　　　　　　Ｇ、　００３ＭＡＴ
−２ポリメチルメタクリレート　　　０．５〃ＭＡＴ−
３シリカ　　　　　　　　　　　　０．０３ＭＡＴ−４
ポリスチレン　　　　　　　　　１ｏ５〃以下余白 なお、試料１２および１３の第６層のゼラチン塗布感は
２．６ｇ／ｍ”とし、第７層中に紫外線吸収剤（ＵＶ　
−１６）　　０，３Ｑ　／ｖ’および高洲点溶媒（Ｓ−
６）　　０，２ｏ／１才を添加した。 第１１！ｉに添加した一般式（ｂ　）で示される化合物
の添加２はイエローカプラーに対して３０重伍％とした
。 また表２中、０ｉ１１０ｅｌは親水性バインダーに対す
る疎水性化合物の比率である。 得られた各試料について、相対感度、ガンマ（γ）およ
び最小反射濃度（カブリ）について光電濃度計（小西六
写真工業株式会社製ＰＤＡ−６０型）を用いて測定し得
られた結果を表２に示す。表２中、γ１は肩部階調、γ
２は脚部階調である。 （２）つめ折れ減感耐性試験 得られた各試料について、乳剤面を内側にして一定の圧
力により折り曲げる。この方法にはジャーナル・オブ・
フォトグラフィック・サイエンス（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏ
ｆ　ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ　３ｃｉｅｎｃｅ）　Ｖ
ｏｌ。 １４　（１９６６）の２８２ページ以降に記載された方
法を用いた。上記折り曲げを与えた後（１）と同様の露
光（但し、［）　　−−２，０を与える青色光による露
光とした）および処理を施し、折れ曲げた部分の最低濃
度の折れ曲げていない部分の濃度に対する差（ΔＤ）で
つめ折れ減感耐性を表示し、ΔＤが小さい方がつめ折れ
減感耐性が高いことを示す。 得られた結果を表２に記した。 以下余白 表２の結果より、試料１に比べて、試料３．５６よび７
においては高感度なハロゲン化銀写真感光材料を得たが
、一方前記の如（、つめ折れ減感耐性が劣化してしまう
。これに対して試料４，６および８乃至１１においては
高感度化を損なわずにつめ折れ減感が飛躍的に改善され
ていることがわかる。又、試料１２および１３の如く最
外層の方が疎水性化合物含有比率の高い場合においては
若干の感度低下を示し、さらにつめ折れ減感耐性の改良
も著しく小さかった。又、試料１にマット剤を応用した
試料２においては、低感度であり本発明の目的に合致し
ないばかりか、つめ折れ減感に対する改良効果も殆ど貴
さなかった。センシトメトリー性能においては単分散性
が高く八面体の結昌形をもつ塩臭化銀粒子から成るハロ
ゲン化銀乳剤りが感度および階調性の点からより好まし
い。 一方、上記高感度化されたハロゲン化銀乳剤の長所を更
に発揮すべく、高速反応性イエローカプラーを用いた場
合、試料１６の如く感度および肩部階調は上昇したが、
［）ｍｉｎの上昇と脚部階調の低下をきたしてしまう。 この問題に対して一般式（ｂ）で示される化合物を添加
した試料１７．１９及び２１乃至２６については高感度
、高い肩部階調を維持しつつ、［）　ｗｉｎおよび脚部
階調が改良され、階調コントロールが可能となることが
明らかである。 〈実施例２〉 実施例１における第１層、第６Ｍおよび第７層の構成に
ついて表３に示した如く変更した以外は実施例１と全く
同様にして試料２９乃至３６を作成した。　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　１以下余白 表３の結果より、試料２９および３０では第７層を塗設
しない試料として第６扇に本発明に係る微粒子粉末を用
いてもつめ折れ減感に対する効果が殆どないことがわか
る。又、試料３１における第６層〜該微粒子粉末を添加
した試Ｆｔ３２の第７層に添加した試料３３に比べてつ
め折れ減感改良効果は著しく小さかった。 更に、高速反応性カプラー（Ｙ−４２）を用いた試料３
４に一般式（ｂ）で示される化合物を添加した試料３５
および３６については高感度、肩部γ１が十分であり、
かつ脚部階調性およびＱ　ｍｉｎの改良された優れた試
料であることが明らかである。 特許出願人　小西六写真工業株式会社 代　理　人　弁理士　市之瀬　宮夫 手続補正書（ｔ１式） １、事件の表示 昭和６０年特許Ｉ！　　１４８０２５号２、発明の名称 ハロゲン化銀写真感光材料。 ３、補正をする者 事件との関係　　　特許出願人 住所　東京都新宿区西新宿１丁目２６番２号　　　　□
名称　（１２７）　　小西六写真工業株式会社代表取締
役　　　弁子　患生 ４、代理人　　〒１０２ 住所　東京都千代田区九段北４丁目１番１号九段−ロ坂
ビル電話２６３−９５２４ （発送日）　昭和６０年１り月？９日 Ｇ、ｎ正の対象 明細書全文の浄書　（内容に変更なし）ワ、補正の内容 ゝ−１−一〆

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 支持体上に、ハロゲン化銀乳剤層および親水性バインダ
   ーを主体とする非感光性層を有するハロゲン化銀写真感
   光材料において、前記ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも
   一層は平均粒径が０．７０μｍ以上の塩臭化銀粒子を含
   み、更に支持体からみて最も遠いハロゲン化銀乳剤層の
   支持体側とは反対側に２つ以上の非感光性層を有し、該
   非感光性層のうち、最外層には平均粒径１〜１０μｍの
   微粒子粉末を含有し、残りの非感光性層の少なくとも１
   層は疎水性化合物を含有し、かつ、該微粒子粉末を含有
   する非感光性層と比べて、疎水性化合物の親水性バイン
   ダーに対する比率が高いことを特徴とするハロゲン化銀
   写真感光材料。