JPS6267727A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6267727A JPS6267727A JP20921485A JP20921485A JPS6267727A JP S6267727 A JPS6267727 A JP S6267727A JP 20921485 A JP20921485 A JP 20921485A JP 20921485 A JP20921485 A JP 20921485A JP S6267727 A JPS6267727 A JP S6267727A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- vertically magnetized
- recording medium
- crystal orientation
- magnetic recording
- Prior art date
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- Pending
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- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、磁気記録媒体の製造方法に係り、特に垂直磁
化記録用に適する磁気記録媒体の製造方法に関する。
化記録用に適する磁気記録媒体の製造方法に関する。
従来の技術
磁気記録の記録密度を更に増大させるため、媒体面の垂
直方向に磁化する。いわゆる垂直磁化記録方式（例えば
特公昭５Ｂ−９１号公報参照）には、従来と異なり、特
別な仕様の記録媒体を必要とする０ この方式に適する記録媒体は、高分子フィルム等の非磁
性基板上に、高周波スパッタリング法でＣｏ−０ｒ膜（
Ｏｒは２０ｗｔ％前後が適当であル。）’ｉＱ、１μｍ
〜１μｍ形成したものである。
直方向に磁化する。いわゆる垂直磁化記録方式（例えば
特公昭５Ｂ−９１号公報参照）には、従来と異なり、特
別な仕様の記録媒体を必要とする０ この方式に適する記録媒体は、高分子フィルム等の非磁
性基板上に、高周波スパッタリング法でＣｏ−０ｒ膜（
Ｏｒは２０ｗｔ％前後が適当であル。）’ｉＱ、１μｍ
〜１μｍ形成したものである。
しかし媒体を大量生産するには、高周波ス・くツタリン
グ法は不向きであり、現在では、電子ビーム蒸着法が検
討されていて、性能的にはまだ十分とはいえないが、垂
直磁化可能なＣｏ−Ｃｒ膜を得ることには成功している
〔鉤えば、電子通信学会論文誌Ｖｏｆ１．１６６−Ｃ，
５１５〜６１頁（１９８３）参照〕〇 一方、記録性能面からは、リング型磁気ヘッドを用いて
も、０．２μｍの記録波長での再生１Ｃｏ−Ｃｒ−Ｎｂ
スパッタ膜で確認されるほど、高密度記録の実現に対し
て垂直磁化膜に対する期待が大きくなってきている〔例
えば、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ’８６ＩＮＴＥＲＭＡＧ、
ＧＡ−ｏｓ（１９８５）参照〕０発明が解決しようとす
る問題 しかしながら、垂直記録用の媒体の量産は、低温（基板
フィルムを特別に２００℃〜３００℃と加熱しなくても
）条件で、かつ高速で垂直磁化膜形成を行える方法を必
要とするものの、従来の技術では十分この要件を満足で
きていない。
グ法は不向きであり、現在では、電子ビーム蒸着法が検
討されていて、性能的にはまだ十分とはいえないが、垂
直磁化可能なＣｏ−Ｃｒ膜を得ることには成功している
〔鉤えば、電子通信学会論文誌Ｖｏｆ１．１６６−Ｃ，
５１５〜６１頁（１９８３）参照〕〇 一方、記録性能面からは、リング型磁気ヘッドを用いて
も、０．２μｍの記録波長での再生１Ｃｏ−Ｃｒ−Ｎｂ
スパッタ膜で確認されるほど、高密度記録の実現に対し
て垂直磁化膜に対する期待が大きくなってきている〔例
えば、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ’８６ＩＮＴＥＲＭＡＧ、
ＧＡ−ｏｓ（１９８５）参照〕０発明が解決しようとす
る問題 しかしながら、垂直記録用の媒体の量産は、低温（基板
フィルムを特別に２００℃〜３００℃と加熱しなくても
）条件で、かつ高速で垂直磁化膜形成を行える方法を必
要とするものの、従来の技術では十分この要件を満足で
きていない。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、高速で、高
性能な垂直磁化膜を形成することの出来る方法を提供す
るものである。
性能な垂直磁化膜を形成することの出来る方法を提供す
るものである。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するために本発明の磁気記録媒体の製
造方法は、高分子フィルム上にあらかじめＢ＠ｆ蒸着し
、超音波振動下で垂直磁化膜を形成するものである０ 作 用 本発明は上記した構成により、Ｂ・が六方稠密結晶であ
ることから、下地として、垂直磁化膜の結晶成長時の結
晶配向性を改良する作用を有するのと、Ｂ・が超音波エ
ネルギーを吸収、伝播し、同じく垂直磁化膜の結晶配向
性を改良することから、基板フィルムを加熱しなくても
、十分特性の良い垂直磁化膜を得ることができるのであ
る。
造方法は、高分子フィルム上にあらかじめＢ＠ｆ蒸着し
、超音波振動下で垂直磁化膜を形成するものである０ 作 用 本発明は上記した構成により、Ｂ・が六方稠密結晶であ
ることから、下地として、垂直磁化膜の結晶成長時の結
晶配向性を改良する作用を有するのと、Ｂ・が超音波エ
ネルギーを吸収、伝播し、同じく垂直磁化膜の結晶配向
性を改良することから、基板フィルムを加熱しなくても
、十分特性の良い垂直磁化膜を得ることができるのであ
る。
実施例
以下、図面を参照しながら本発明の実施例について説明
する０ 図は本発明の実施に用いた蒸着装置の要部構成図である
。図において、１は高分子フィルム、２は送り出し軸、
３は巻取り軸、４は直径が５０ｍの円筒キャン、６は厚
み３０μｍのチタン箔で構成した局長１２０ｃ１ｎのエ
ンドレスベルトで、６゜７は直径が１６備の円筒キャン
、８は超音波振動子、９はＢｅ蒸発源、１０はＣｏ−Ｃ
ｒ蒸発源、１１は防着板、１２．１３はマスク開孔部、
１４は真空ポンプ、１６は真空容器、１６はガイドロー
ラである。
する０ 図は本発明の実施に用いた蒸着装置の要部構成図である
。図において、１は高分子フィルム、２は送り出し軸、
３は巻取り軸、４は直径が５０ｍの円筒キャン、６は厚
み３０μｍのチタン箔で構成した局長１２０ｃ１ｎのエ
ンドレスベルトで、６゜７は直径が１６備の円筒キャン
、８は超音波振動子、９はＢｅ蒸発源、１０はＣｏ−Ｃ
ｒ蒸発源、１１は防着板、１２．１３はマスク開孔部、
１４は真空ポンプ、１６は真空容器、１６はガイドロー
ラである。
図の装置を用いて、磁気記録媒体を製造した。
厚み１４μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを
準備して、電子ビーム蒸着法により、Ｂｅを入射角が６
度以内の成分で厚み０．０６μ、０．２μｍの２種類を
形成した。
準備して、電子ビーム蒸着法により、Ｂｅを入射角が６
度以内の成分で厚み０．０６μ、０．２μｍの２種類を
形成した。
その時、円筒キャンの表面温度は２０℃とし７ｃ、）引
き続いて、Ｃｏ−Ｃｒ垂直磁化膜形成を電子ビーム蒸着
法で、入射角成分６度以内で、Ｃｒが２０ｗｔ％ とな
るように制御して０．１６μｍ蒸着した。
き続いて、Ｃｏ−Ｃｒ垂直磁化膜形成を電子ビーム蒸着
法で、入射角成分６度以内で、Ｃｒが２０ｗｔ％ とな
るように制御して０．１６μｍ蒸着した。
この時、超音波振動子８に１ＫＷ 、 ３ ＫＷ投入し
た。また、比較のために超音波を作用させないものを製
造しｔ。
た。また、比較のために超音波を作用させないものを製
造しｔ。
それらをギャップ長０．１μｍのリング型のセンダスト
ヘッドにより０．２μｍの記録再生を行い、相対出力を
比較した。また、参考のためにＢｅなしについても試作
した。その結果を表にまとめて示した。結晶配向性は（
１１１）面のＸ線回折ロッキング曲線の半値幅で示した
。
ヘッドにより０．２μｍの記録再生を行い、相対出力を
比較した。また、参考のためにＢｅなしについても試作
した。その結果を表にまとめて示した。結晶配向性は（
１１１）面のＸ線回折ロッキング曲線の半値幅で示した
。
上表より、本発明によれば、ポリエチレンテレフタレー
トフィルムを用いても、スパッタ法の約１６０倍の高速
でスパッタ法で得られるＣｏ −Ｃｒ垂直磁化膜とほぼ
同等の性能のものが得られることがわかる。
トフィルムを用いても、スパッタ法の約１６０倍の高速
でスパッタ法で得られるＣｏ −Ｃｒ垂直磁化膜とほぼ
同等の性能のものが得られることがわかる。
本発明の実施の効果の確認は、他の高分子フィルム、
Ｃｏ −Ｏｒ以外の垂直磁化膜でも行われた。
Ｃｏ −Ｏｒ以外の垂直磁化膜でも行われた。
また、高速性を必要としなければ、Ｃｏ−Ｃｒ等の垂直
磁化膜は、更に結晶配向性が改良されることがスパッタ
法でも確かめられ友。
磁化膜は、更に結晶配向性が改良されることがスパッタ
法でも確かめられ友。
発明の効果
以上のように、本発明によれば、垂直磁化膜の形成を高
温に高分子フィルムを保持しなくても、結晶配向性の改
良された状態で、かつ高速で行えるといったすぐれた効
果がある０
温に高分子フィルムを保持しなくても、結晶配向性の改
良された状態で、かつ高速で行えるといったすぐれた効
果がある０
図は本発明の実施に用いた製造装置の一例の要部構成図
である。 １・・・・・・高分子フィルム、４・・・・・・円筒キ
ャン、６・・・・・・エンドレスベルト（チタン箔）、
８・・・・・・超音波振動子、９・・・・・・Ｂｅ蒸発
源、１０・・・・・・Ｃｏ −Ｃｒ蒸発源。
である。 １・・・・・・高分子フィルム、４・・・・・・円筒キ
ャン、６・・・・・・エンドレスベルト（チタン箔）、
８・・・・・・超音波振動子、９・・・・・・Ｂｅ蒸発
源、１０・・・・・・Ｃｏ −Ｃｒ蒸発源。
Claims (1)
- 高分子フィルム上にあらかじめＢｅを蒸着し、垂直磁化
膜形成を超音波振動下で行うことを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20921485A JPS6267727A (ja) | 1985-09-20 | 1985-09-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20921485A JPS6267727A (ja) | 1985-09-20 | 1985-09-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6267727A true JPS6267727A (ja) | 1987-03-27 |
Family
ID=16569239
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20921485A Pending JPS6267727A (ja) | 1985-09-20 | 1985-09-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6267727A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007176003A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Nitta Moore Co | 曲り管成形用クリップ |
| JP2007176004A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Nitta Moore Co | 曲り管成形用クリップ |
-
1985
- 1985-09-20 JP JP20921485A patent/JPS6267727A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007176003A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Nitta Moore Co | 曲り管成形用クリップ |
| JP2007176004A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Nitta Moore Co | 曲り管成形用クリップ |
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