JPS62278283A - 基板処理装置の中間搬送装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ３、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明は例えばり−リント配線基板、液晶用ガラス基板
、半導体用基板等（以下単に基板と称する）を複数種の
処理工程内に順次送り込み、一連の処理を行なう場合に
用いられる基板処理装置の中間搬送装置に関し、殊に前
後の処理工程相互間で搬送速度が異なる場合に１基板を
円滑に受け渡しする技術に関する。

〔従来技術〕

基板を例えば現像処理工程、エツチング処理工程、水洗
処理工程等の表面処理工程へ順次送り込んで一連の処理
をする場合、各処理工程に送り込まれる基板の搬送速度
は通常いずれかの処理工程の中の最も遅い速度に統一さ
れ、これを基準にして所要の処理時間か算定され、それ
に基づいて各処理工程内の搬送経路長が設定される。

この種の基板処理装置は製造される基板の品質、性能等
について極めて高い信頼性が要請されるととも江、一方
では、基板及び処理液等の条汗か変わることもあり、そ
の条件に適合するように処理時間等を調整することが必
要となる。

そこで従来では先に本出願人が提案した実公昭５５−７
５６０号公報に示すような技術か用いられていた。それ
は例えば第６図に示すようＫ、前段の処理をする先行処
理工程Ａ＋と後続の処理をする後続処理工程Ｂ１との間
に、これら各処理工程に接続して基板Ｗの受渡しを行う
中間の搬送装置Ｄ１を設けるとともに、この搬送装置Ｄ
１の搬送速度■を前後の搬送装置と独立して変速できる
ようにしたものである。つまり、先行処理工程Ａ１の搬
送速度Ｖａに対して中間搬送装置Ｄ１の搬送速度Ｖを変
えることばより、前段での処理の効果、例えばエツチン
グ処理の進行度合いを調′整可能にしたものである。

〔発明が解決しようとする間笛点〕

しかしながら、上記従来例のものは、先行処理工程Ａ１
のコンベアＣ１の搬送速度Ｖａと後続処理工程Ｂ１のコ
ンベアＣ２の搬送速度ｖｂとか同一であるのに対し、中
間搬送装置Ｄ１のコンベアＣの速度Ｖばこれらと相違す
る。このため基板Ｗを円滑に受渡しすることができない
。

さらに基板ＷかコンベアＣ１からコンベアＣへ、またコ
ンベアＣからコンベアＣ２へ乗り移る際に、基板Ｗとコ
ンベアＣ１・Ｃ又はＣ−Ｃｚとの間に摩擦が発生するこ
とが避けられず、基板Ｗの裏面て不要なキズを生じ、こ
れに伴ない塵埃が発生し、基板の処理品質を高める上で
問題があった。殊に、上記の基板処理装置においては、
基板Ｗの各処理が最適条件の下でなされるべく、搬送速
度、処理時間等を各処理工程ごとに独自に調整可能にす
ることが望ましく、かＮる場合にはコンベアＣ１の搬送
速度ＶａとコンベアＣ２の搬送速度■ｂとが相異するこ
ととなるが、上記従来例のものでは基板Ｗの円滑な受渡
しができないうえ、摩擦が起因して上記のような障害も
生ずる。

そこで第６図に仮想線で示すように、例えばコンベアＣ
上の、所要位置に基板全体かコンベアＣの搬送経路内に
あるか否かを検知するセンサＳを設け、このセンサＳの
検知信号を受けてコンベアＣの速度Ｖを先行処理工程Ａ
１の搬送連間Ｖａから後続処理工程Ｂ１の搬送速度Ｖｂ
Ｋ変速し、コンベアＣ上の基板Ｗが後続処理工程Ｂ１に
送り出され、センサＳか検知は号を発しなくなるのを待
って再びコンベアＣの速度Ｖを元の速度ＶａＫ切り換え
る。このようにして基板を円滑に受け渡しすることも考
えられる。

しかしなから、それでもなお次のような問題が残る。

即ち、中間搬送装置Ｄ１の搬送経路内にある基板Ｗが後
続処理工程Ｂ１に送り込まれてしまうまでは、コンベア
Ｃの搬送速度■は後続処理工程Ｂ１の搬送速度ｖｂと同
調した状態に、やるため、コンベアＣの搬送速度■が先
行処理工程Ａ１の搬送速度ＶａＫ戻るまで待ち時間を設
定する必要がある。

このため、基板と基板との間隔か小さく連続的に基板を
処理する場合には適用できず、従って基板処理装置の処
理能力を高めることができないという間頭がある。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、第
１の目的は基板処理装置の先行処理工程と後続処理工程
との間に本発明に係る中間搬送装置を介在させることに
よってそれぞれの処理工程を最適処理速度で稼動できる
ようにし、もって基板処理品質を高めるよってすること
であり、第２の目的は基板を連続的Ｋかっ円滑に受け渡
しできるようにし、もって基板処理装置の処理能力を高
めかつ基板受け渡しの１祭の不要な摩擦、キズ等の発生
を解消することである。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は上記目的を達成するためて、前記従来技術を次
のように改良したものである。

即ち、第１図に示すように中間搬送装置は複数の搬送ロ
ーラを連設し搬送される基板より長い搬送経路を有する
ローラコンベアと、各搬送ローラにそれぞれ連結され各
搬送ローラの搬送速度を変速する速度変換手段と、各搬
送ローラに対応して配設され基板の有無を検知すること
により基板の搬送に寄与している搬送ローラを識別する
ローラ識別センサと、少なくともローラ識別センサの検
知信号を受けて個々の速度変換手段を制御する制御手段
とにより構成したことを特徴とするものである。

〔作用〕

先行処理工程と、後続処理工程間に所定個数連設したロ
ーラで構成するローラコンベアの搬送方向良さを、搬送
される基板の最大長さより長く設定し、基板識別センサ
をローラコンベア終端附近に吊設しておけば、基板識別
センナが基板を検知した時は、ローラコンベアに最大長
さの基板が必らず載っている状態である。このとき基板
の搬送に寄与しているローラのみ、各ローラ識別センサ
により検知し、その各ローラの搬送速度を基板排出速度
から基板投入速度に切り換え、基板を送り出したローラ
は、その上に基板を有していないため、再び搬送速度を
基板投入速度から基板排出速度に切り換える。基板排出
速度にもどったローラは次の新しい基板を受け入れるこ
とができる。

〔実施例〕

以下本発明に係る中間搬送装置の実施例を図面に基づい
て説明する。

第１図は本発明の構成を示す概要図、第２図は第１の実
施例を示す斜視図、第３図はその駆動制御の態様を示す
７０−チャートである。

これらの図において符号りは中間搬送装置全体を示し、
中間搬送装置りは複数種の基板処理工程を有する基板処
理装置の先行処理工程（例えばエツチング処理工程）Ａ
と後続処理工程（例えば水洗処理工程）Ｂとの間に介在
され、先行処理工程Ａより搬送速度Ｖａで排出される基
板Ｗをこの排出速度Ｖａに同調した速度で受け取り、次
いで、後続処理工程Ｂの搬送速度ＶｂＫ変速して基板Ｗ
を後続処理工程Ｂへ引き渡すように構成されている。

この中間搬送装置りは、複数の搬送ローラＲ１〜ＲＮを
連設して成るローラコンベアＲと、各搬送ローラＲ１−
ＲＮの搬送速度Ｖをそれぞれ独立して変速する速度変換
手段Ｍｌ−ＭＮと、各搬送ローラＲＬ〜ＲＮに対応して
配設され、基板Ｗの有無を検知することにより基板Ｗの
搬送に寄与している搬送ローラを識別するローラ識別セ
ンサ５ｌ−３Ｎと、中間搬送装置りの搬送経路終端付近
に配設された木板識別センサＳｏと、ローラ識別センサ
５ｔ−３Ｎ　及び基板識別センサＳｏからの検知信号Ｊ
を受けて個々の速度変換手段Ｍ１〜ＭＮを制御する制御
手段Ｅを具備して成る。

ローラコンベアＲの搬送経路は、基板Ｗの送り方向長さ
より長く設定されており、基板Ｗの先端が送り出し側ロ
ーラＲＮに達したときには、基板Ｗの後端は少くとも受
け入れ側ローラＲ１から完全に離脱するようになってい
る。

各搬送ローラＲ１〜ＲＮは回転軸１に合成樹脂製の複数
の搬送輪２を適当な間隔で嵌着固定し、この搬送輪２上
に基板Ｗを載せて搬送するよって構成されている。

各速度変換手段Ｍ１〜ＭＮはそれぞれ搬送ローラＲ１〜
ＲＮの回転軸１にカップリング３を介して連結された回
転数可変式駆動モータを具備して成り、各モータＭ１〜
ＭＮの回転数は少なくとも先行処理装置Ａの基板排出速
度Ｖａと、後続処理装置Ｂの基板投入速度ｖｂとに対応
させて出力させることができるよってあらかじめ調節し
て設定される。

各ローラ識別センサ５ｌ−３Ｎは各搬送ローラＲ１〜Ｒ
Ｎに対応させて吊設され、基板Ｗが搬送１１＃ｆｉ１２
上に載置される手前ないし直前に当該基板Ｗの到来を検
知して検知信号Ｊ１〜ＪＮを発し、これにより基板Ｗの
搬送に寄与している搬送ローラ、例えば第１図ではロー
ラＲ，−ＲＮを識別するようにしてある。これは後述す
るように基板Ｗの搬送に寄与しているローラを間開して
変速できればよいので例えば、上記ローラＲＪ　−ＲＮ
　のうち最後部のローラＲＪを識別して、前方のローラ
ＲＪ　−ＲＮを全て変速させてもよい。

基板識別センサＳｏは基板Ｗの到来を検知することによ
って、基板Ｗ全体が確実に搬送経路内にあることを識別
し、検知信号Ｊｏを出力するようにしである。なおこの
基板識別センサＳｏは上記した識別機能を撥揮できる位
置て適宜配設すればよいので、必ずしも基板送り出し側
でなくてもよく、又ローラ１識別センサＳ１〜ＳＮ　と
別体のものでなくてもよい。例えば受け入れ側のローラ
識別センサＳ１で基板識別センサＳｏを兼用せしめ、こ
のセンサＳ１の検知信号が出力されなくなったことで基
板Ｗ全体か８１実に搬送経路内にあることを識別するよ
うにしてもよい。なお、これらのセンナＳｏ　−ＳＮ　
トしては反射型光センサの他、透過型光センサ、静電セ
ンサ、磁気センサ等を用いることができる。

制御手段Ｅはローラ識別センサＳ１〜ＳＮからの検知信
号Ｊを受けて基板Ｗの搬送に寄与している搬送ローラ（
第１図ではＲＪ　−ＲＬ　）をあらかじめ識別し、基板
識別センサＳｏの検知信号Ｊｏを受けて、当該ローラＲ
Ｊ　−ＲＮに対応する各モータＭＪ〜ＭＮを貰速制御す
る制御１言号Ｋ（第３図ではＫＪ〜ＫＬ　）を出力する
とともに、基板Ｗが離脱したローラ識別センサ、例えば
第１図ではセンサＳ３からの検知信号Ｊ３が出力されな
くなったこと如より当該ローラＲ３に対応するモータＭ
３を再び元の速度に制御する制御信号に３を出力するよ
って構成されている。

なお符号Ｅｏは電源スィッチ、速度設定スイッチ、スタ
ートスイッチ等（いずれも図示せず）を有する操作盤で
ある。

以下第６図に基づいて上記中間搬送装置りの作動態様を
説明する。

まず搬送ローラＲ１〜ＲＮ　Ｋ連結された変速用モータ
Ｍ１〜ＭＮの回転数を先行処理工程Ａの基板排出速度Ｖ
ａ及び後続処理袋＠Ｂの基板投入速度ｖｂに対応させて
変速することができるようにあらかじめ設定しておく。

しかる後、操作盤Ｅｏの駆動スイッチ（図示せず）をオ
ンにする（ステップＰ＋）と、搬送ローラＲ１〜ＲＮは
先行処理工程Ａの搬送速度と対応した速度で回転し、先
行処理工程Ａより排出された基板Ｗはその排出速度Ｖａ
　Ｋ同調された搬送ローラＲ１−Ｒ２・・・・・・π順
次載置されながら搬送される。その後基板識別センサＳ
ｏか基板Ｗを険矩する（ステップＰ２）と、基板Ｗの搬
送如寄与しているローラ（例えばＲ１−Ｒ１，）か、対
応するローラ識別センサＳＪ〜ＳＮ　Ｋよって識別され
る（ステップＰ３）。次いで識別されたコーラＲＪ−Ｒ
Ｎだけが基板排出速度Ｖａから後続処理工程Ｂの基板投
入速度ＶｂＫ同期して変速され（ステップＰ４）、基板
Ｗは後続処理工程Ｂへ円滑に引き渡される。

他方基板Ｗの後端か搬送ローラＲＪ　−ＲＮから離脱す
るとローラ識別セン′＋ｊＳＪ〜ＳＮは順次検知信号を
出力しなくなり（ステップＰｓ）対応するローラＲＪ−
ＲＩＪの搬送速１度■か順次元の基板排出速度Ｖａ　Ｋ
変速さｈ（ステップ６）、次の基板Ｗを受け入れること
ができる状態になる。次の基板Ｗが排出されてくるとス
テップＰ２へ移り同様のステップが繰り返され、次の基
板かなければそこで終了となる。

なお、かかる実施例においてはステップＰ４の変速は基
板が摩擦しζより障害を受けるのを無くすだめ一定時間
内でスムースにスローアップするのか望ましい。

第４図〜第５図は本発明だ係る中間搬送装置の第２の実
施例を示し、第４図・ばその斜視図、第５図は速度変換
手段の縦断側面図である。これらの図において第２図の
ものと同一の符号は同一の部はを表わし、重複した説明
を省くとともＫｌ’目異する機能についてのみ説明する
。

各々の搬送ローラＲ１〜ＲＮの回転軸１の一１ｔｌｌｌ
　Ｋはそれぞれクラッチ式変速手段Ｍｕ−Ｍ１２〜ＭＩ
Ｎが連結され、先行処理工程Ａの搬送嘔動源ＭＡに連結
された。駆動軸４を介して各々の搬送ローラを基板排出
速度Ｖａで同期駆動可能に設けられている。また回転軸
１の他方の一側には、同様・７ｃ（れぞれクラッチ式変
速手段Ｍ２１・Ｍ２２〜Ｍ２Ｎか連結され、後続処理工
程Ｂの搬送駆ヴｌ源ＭＢに連結された駆動軸５を介して
各々の搬送ローラを基板投入速度ｖｂで同期駆動可能に
設けられている。

これらの速度変換手段は例えば第５図に示すように回転
軸１にヘリカルギヤ６を固設し、このヘリカルギヤ６と
係合させたスクリューギヤ（ネジ歯車）７をベアリング
８を介して駆動軸４に回転自在に設け、電磁クラッチ１
０でスクリューギヤ７を駆動軸４と接離自在に切換える
ように構成されている。

この電磁クラッチ１ｏは駆動軸４を遊嵌状に貫通させて
取付枠１４に取付けた電磁フィル１１と駆動軸４にキー
１５を介して固設された円板１２と、スクリューギヤ７
の側面に固定された筒体１６に戻しバネ１７を介して設
けられ、円板１２から離間する方向へ付勢されたクラッ
チ板１３とを具備して成り電磁コイルの磁力によりクラ
ッチ板１３が戻しバネ１７に抗して円板１２に吸着され
駆動軸４の駆動力がローラの回転軸１に伝達されるよう
に構成されている。

従って速度変換手段のうち一側のＭｌｌ−Ｍ　Ｉ　Ｎは
各搬送ローラＲ１〜ＲＮの搬送速度■をそれぞれ先行処
理工程Ａの基板排出速度に切換えるのに用いられ、他側
のＭ２１　”　Ｍ２Ｎは前記基板識別センサＳｏの信号
を受けて基板Ｗの搬送に寄与している各搬送ローラのみ
を後続処理工程Ｂの基板投入速度■に切換えるのに用い
られる。

なお第４図において駆動軸＝４及び５をそれぞれ先、後
処理工程Ａ−Ｂの搬送駆動源ＭＡ　−ＭＢ　Ｋ連結した
ものについて説明したが、これに限ることなく、別途駆
１１Ｊ源を設けることもできる。

また、先行処理工程Ａ及び後続処理工程Ｂはそれぞれの
工程内で一定の搬送速度を維持するものを前提としない
。つまり、基板の投入速度や排出速度が同一工程内で異
なるものであっても切換えるべき搬送速度を多数設定し
ておき適宜それを切換え得るように構成しておくことに
より本発明の中間搬送装置を適用し得る。

なお、本発明の中間搬送装置は露光装置（例：スキャナ
、スリット露光カメラ）と自現機との間にも適用するこ
とが可能である。

〔発明の効果〕

木発Ｆ３Ａハ上記のように構成され、作用することから
次のような優れた効果を奏する。

イ、搬送ローラのそれぞれを基板の排出速度に同調させ
て先行処理工作から基板を受け取りかつ基板の投入速度
に同調させて後続処理工程へ基板を引き渡すことができ
るので、それぞれの処理工程を最適処理速度で稼動させ
ることが可能となり、基板処理の品質を向上させること
かできる。

ロ、先行処理工程から排出される基板を待ち時間を設け
ることなく連続的にかつ円滑に受け収り次の工程へ引き
渡すことが可能となり基板処理の能力を高めることがで
きる。

ハ、基板の受け渡しに際し、不要な摩擦やこれに起因す
る基板のキズ等の発生を解消することができる。

【図面の簡単な説明】

第゛１図〜第５図は本発明の実施例を示し、第１図は本
発明の構成を示す概要図、第２図は第１の実施例を示す
中間搬送装置の斜視図、第３図は本装置の駆動制御の態
様を示すフローチャート、第４図は第２の実施例を示す
中間搬送装置の斜視図、第５図は速度変換手段の縦断側
面図、第６図は従来例を示す概要図である。 Ａ・・・先行処理工程、Ｂ・・・後続処理工程、Ｅ・・
・制御手段、Ｍｌ−ＭＮ・・・速度可変式モータ（速度
変換手段）、Ｍ１１〜Ｍ２Ｎ・・・クラッチ式変速手段
、Ｒ・・・Ｃ−ラコンベア、Ｒ１−ＲＮ・・・搬送ロー
ラ、Ｓｏ・・・基板識別センナ、ＳＬ　−ＳＮ・・・ロ
ーラ識別センサ、Ｖａ・・・基板排出速度、ｖｂ・・・
基板投入速度、■・・・ローラコンベアの搬送速度、Ｗ
・・・基板。 特許出願人　　大日本スクリーン製造株式会社蔦　２　
目 ？ 姥３凹

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、複数種の基板処理工程を有する基板処理装置の先行
   処理工程と後続処理工程との間に介在され、先行処理工
   程より排出された基板を受け取り、変速して後続処理工
   程へ引き渡すように構成した基板処理装置の中間搬送装
   置であって、中間搬送装置は、複数の搬送ローラを連設
   し搬送される基板より長い搬送経路を有するローラコン
   ベアと、各搬送ローラにそれぞれ連結され各搬送ローラ
   の搬送速度を変速する速度変換手段と、各搬送ローラに
   対応して配設され基板の有無を検知することにより基板
   の搬送に寄与している搬送ローラを識別するローラ識別
   センサと、少なくともローラ識別センサの検知信号を受
   けて個々の速度変換手段を制御する制御手段とにより構
   成したことを特徴とする基板処理装置の中間搬送装置。 ２、速度変換手段を速度可変式モータで構成した特許請
   求の範囲第１項に記載した基板処理装置の中間搬送装置
   。 ３、速度変換手段をクラッチ式変速手段で構成し、各搬
   送ローラの回転軸の一側をそれぞれ当該クラッチ式変速
   手段を介在させて先行処理工程の基板搬送用駆動軸に接
   離自在に連結し、回転軸の他側をそれぞれ当該クラッチ
   式変速手段を介在させて後続処理工程の基板搬送用駆動
   軸に接離自在に連結して構成した特許請求の範囲第１項
   に記載した基板処理装置の中間搬送装置。