JPS6168471A - 光学活性アルコ−ル誘導体の製造法 - Google Patents

光学活性アルコ−ル誘導体の製造法

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JPS6168471A
JPS6168471A JP19117084A JP19117084A JPS6168471A JP S6168471 A JPS6168471 A JP S6168471A JP 19117084 A JP19117084 A JP 19117084A JP 19117084 A JP19117084 A JP 19117084A JP S6168471 A JPS6168471 A JP S6168471A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はケトン化合物の新規な不斉還元方法に関する。
さらに詳しくは本発明は一般式(I)[式中、Xはハロ
ゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、シアノ基、ア
ルコキシル基、フェノキシ基、フェニル基または水素原
子を表わす。nは1〜5の整数を表わす。R1はイミダ
ゾール−1−イル基または1,2.4−トリアゾール−
1−イル基を表わす。kはt−ブチル基を表わすか、ま
たはアルキル基、アルコキシル基、フェニル基あるいは
ハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基を表わ
す。〕 で示されるケトン化合物を一般式に) 〔式中、R8はアルキル基、アリール基、シクロアルキ
ル基またはアラルキル基を表わし、R4はアルキル基、
アリール基、アラルキル基またはアルコキシカルボニル
基を表わし、Rsは水素原子、アルキル基またはアラル
キル基を表わす。*は不斉炭素を表わす。ただし、R3
がフェニル基であり、かつR4がメチル基である場合を
除く。〕 で示される光学活性アミノアルコールで修飾された水素
化ホウ素化合物系還元剤で不斉還元することを特徴とす
る一般式備) 〔式中、)(、n、R1、R1および*は前記と同じ意
味を表わす。〕 で示される光学活性アルコール誘導体の製造法に関する
ものである。
上記一般式(2)で示されるアルコール誘導体、即ちア
ゾール系α、β−不飽和アルコール誘導体ハ例えば、1
−(2,4−ジクロロフェニル)−2−(1,2,4−
トリアゾール−1−イル)−4,4−ジメチル−1−ペ
ンテン−8−オールや1−(4−クロロフェニル)−2
−(1゜2.4−トリアゾール−1−イル)−4,4−
ジメチル−1−ペンテン−3−オールに代表されるよう
に、殺菌剤、植物生長調節剤または除草剤の有効成分と
して有用であることが知られている。そしてその活性に
おいては、異性体の間で顕著な差違があり、殺菌剤とし
ては(1体が植物生長調節剤および除草剤としては(+
体が強い効力を有することも知られている(特開昭57
−99575号および特開昭57−106669号公報
)。
このようなことから、その使用目的により(1体または
(ト)体の何れか一万の光学異性体を、工業的にも効率
よく製造する方法の開発が望まれている。
従来、ケトン化合物のカルボニル基を還元してアルコー
ル化合物に導くための還元剤としては、水素化アルミニ
ウムリチウムや水素化ホウ素ナトリウムに代表される種
々の試薬が知られているが、これらの試薬を用いた場合
にはその還元生成物は光学不活性即ちラセミ体であり、
また、用いるケトン化合物に不飽和結合を含む場合、殊
に本発明方法の原料物質のようなa。
β−共役不飽和ケトンの還元に用いた場合には、カルボ
ニル基に加え二重結合部位の還元も起こり易く、さらに
は、二重結合に関する立体配置の異性化の可能性も生じ
てくる。
これまでに、アゾール系α、β−不飽和ケトンの不斉還
光法としては、一般式(ト)[式中、Yは水素原子また
は塩素原子を表わす。] で示されるケトン化合物を、不斉修飾水素化アルミニウ
ムリチウム化合物で還元し、一般式(7)〔式中、Yお
よび*は前記と同じ意味を表わす。〕 で示される光学活性アルコール化合物を得る方法が知ら
れている(特開昭57−99575号および同57−1
06669号)。
しかしながら該方法は、(1)水素化アルミニウムリチ
ウムを用いることから、水分との接触による発火などの
危険性があることやC)より光学純度の高いアルコール
化合物を得るためには、N−置換アニリンのような添加
物を多量必要とすることなどの点で、工業的には必ずし
も充分な方法とは言い難い。
このような状況の下に、本発明者らは、前記一般式(I
)で示されるα、β−不飽和ケトンを不斉還元して一般
式(資)で示されるα、β−不飽和アルコール誘導体を
得る方法につき鋭意検討を重ねた結果、前記一般式国)
で示される光学活性アミノアルコールで修飾された水素
化ホウ素化合物系還元剤を用いることにより、カルボニ
ル基のみが選択的に還元され、しかもより安全に効率よ
く目的の光学活性アルコール化合物が得られることを゛
見出し、本発明を完成するに至った。
以下に、本発明方法につき説明する。
本発明方法で使用される前記一般式(IF)で示される
光学活性アミノアルコールで修飾された水素化ホウ素化
合物系還元剤において、還元反応の水素源となる水素化
ホウ素化合物としては水素化ホウ素金属化合物またはボ
ランが用いられる。水素化ホウ素金属化合物としては例
えば水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、
水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛などが挙げら
れるが、入手の容易さから水素化ホウ素ナトリウムが好
ましい。また、ボランとしては、例えばジボラン、ボラ
ン−テトラヒドロフラン錯体、ボラン−スルフィド錯体
などが挙げられる。
また、前記一般式碩)で示される光学活性アミノアルコ
ールにおいて、置換基R1の具体例としては炭素数1〜
10のアルキル基、炭素数5〜10のシクロアルキル基
または炭素数7〜16のアラルキル基か、またはハロゲ
ン原子、アルキル基、シアノ基、アルコキシル基もしく
はアルコキシカルボニル基で置換されていてもよいフェ
ニル基か、またはハロゲン原子、アルキル基、シアノ基
、アルコキシル基もしくはアルコキシカルボニル基で置
換されていてもよいナフチル基が挙げられ、R4の具体
例としては、炭素数6〜16のアリール基、炭素数1〜
10のアルキル基、炭素数7〜16の7ラルキル基、ア
ルキル部位の炭素数が1〜10であるアルコキシカルボ
ニル基が挙げられ、Rsの具体例としては水素原子、炭
素数1〜6のアルキル基または炭素数7〜16のアラル
キル基が挙げられる。より具体的には、成用)で示され
る光学活性アミノアルコールとして、光学活性な1−(
2゜5−ジメチルフェニル)−2−アミノ−1−プロパ
ツール、1−(2,5−ジメトキシフェニル)−2−ア
ミノ−1−プロパツール、1−(2,5−ジエトキシフ
ェニル)−2−アミノ−1−プロパツール、1−(2,
5−ジプロポキシフェニル)−2−アミノ−1−プロパ
ツール、1−(2−メトキシ−5−メチルフェニル)−
2−アミノ−1−プロパツール、1−(4−メトキシ−
2−メチルフェニル)−2−アミノ−1−プロパツール
、1−(2,4−ジメチルフェニル)−2−アミノ−1
−プロパツール、1−(2,4,6−ドリメチルフエニ
ル)−2−アミノ−1−プロパツール、1−α−ナフチ
ル−2−アミノ−1−プロパツール、スレオニンエステ
ルまたは1,2−ジフェニル−2−アミノ−1−エタノ
ールを挙げることができる。
これらは例えば、M、 J、 KalmlJ、 Org
、 Cham、。
25、1929〜87 (1960) :W、H,Ha
rtungら、J、Am、 Chem、 Soc、、 
 52. 8817〜22(1980) ; W、 H
,Hartungら、J、 Am、Chem。
3oc、、 51 、2262−6 (1929) i
M、 C,Kloetzelら、J、 Org、 Ch
em、、 11 、890−4(1946)などに記載
の方法により製造される。
上記のような光学活性アミノアルコールで修飾された水
素化ホウ素化合物系還元剤を調製するに際し、光学活性
アミノアルコールを塩たとえば塩酸塩、硫酸塩などの鉱
酸塩、酢酸などのカルボン酸の塩またはp−トルエンス
ルホン酸などのスルホン酸塩とした後、該塩に水素化ホ
ウ素金属化合物をジメチルスルホキシド、ジグライム、
ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダ
ゾリジノンなどの溶媒の溶液として反応させることによ
り、目的の不斉還元剤を得るこ゛とができる。その際光
学活性アミノアルコールの塩はあらかじめ調製されたも
のを用いるか、あるいは光学活性アミノアルコールと当
量の上記酸から調製することができる。また、ボランを
用いる場合には光学活性アミノア ′ルコールをそのま
まボランと反応させることにより、目的の不斉還元剤を
得ることができる。
不斉還元剤を調製する場合の水素化ホウ素化合物と光学
活性アミノアルコールのモル比はホウ素換算で水素化ホ
ウ素化合物が水素化ホウ素金属化合物である場合、0.
7:1〜2:1、好ましくは0.7:1〜1.8:1、
より好ましくは1:1であり、ボランである場合は、0
.7:1〜11:1.好ましくは1:1である。
上記の不斉還元剤調製の反応は、窒素やアルゴンなどの
不活性ガスの雰囲気下、溶媒中で行なわれ、そのような
溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に限定
されるものではないが、ベンゼン、トルエン、キシレン
、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素、塩化メチレン、
1.2−ジクロロエタン、クロロホルム、四基5化炭素
等のハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ジグライム等のエーテル類あ
るいはこれらの2種以上の混合溶媒が用いられる。また
、該反応の反応温度は特に制限はなく、−78〜100
°Cの範囲、好ましくは一40〜100″Cの範囲であ
る。
このようにして得られる不斉還元剤は目的により反応液
より単離して用いてもよいが、通常は単離することなく
その溶液のまま還元反応に使用する。なお、該不斉還元
剤の構造は必ずしも確定されたものではないが光学活性
アミノアルコールの水酸基およびアミノ基が水素化ホウ
素化合物のホウ素に結合もしくは配位しているものと推
定される。
上記のようにして得られる光学活性アミノアルコールで
修飾された水素化ホウ素化合物系還元剤を用いて前記一
般式(I)で示されるケトン化合物を不斉還元するに際
し、用いる還元剤の量は該ケトン化合物1モルに対しホ
ウ素換算で0、5モル以上、通常1〜5モル、好ましく
は1′〜2モルである。
また、該還元反応の反応溶媒としては、不活性溶媒であ
れば特に制限されるものではないが、好適には、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭
化水素、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロ
ロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジグラ
イム等のエーテル類などの有機溶媒またはこれらの2種
以上の混合溶媒が用いられる。
還元反応の温度は一78〜100″Cの範囲であるが、
工業的に実施容易な一20〜50℃の範囲でも高い不斉
収率を達成することが可能であり、このような点からも
本発明製造法は優れた方法と言うことができる。
上記反応条件において前記一般式CI)で示されるケト
ン化合物はその二重結合に関して、E体とZ体間の異性
化を伴う場合がある。該異性化を抑制する為に、必要に
応じ四塩化チタン、三フッ化ホウ素エーテラート、塩化
アルミニウムなどのルイス酸、あるいは酢酸などの有機
酸または硫酸、塩酸、リン酸などの鉱酸の存在下に反応
を行なう。さらには、製造の効率を上げる為に反応液の
濃度を上げて容積率を大きくした場合に、前記一般式C
I)で示されるケトン化合物のα、β−不飽和カルボニ
ルの二重結合とカルボニルのいずれもが水素化還元され
た飽和アルコール体の副生物が増加する傾向があり、こ
の場合にも必要に応じ上記の酸の存在下に反応を行なう
ことにより飽和アルコール体の副生を抑制できる。ここ
で用いる添加物とケトン化合物のモル比は約0.Ql:
1〜0.5:1の範囲が好ましい。
このようにして還元反応を行った後、反応液に塩酸およ
び硫酸のような鉱酸の水fIl液を加え、有機層と水層
に分液し、有機層を水洗、乾燥した後、有機溶媒を除去
することにより容易に目的とする前記一般式(1)で示
される光学活性α。
β−不不飽和アルコ−語誌導体高収率で得られる。
不斉収率は生成物の旋光度を測定することにより、ある
いは光学活性充填剤を用いた高速液体クロマトグラフィ
ーで直接エナンチオマー比を測定することにより求めら
れる。
なお、使用した光学活性アミノアルコールは上記反応後
の水層にアルカリ水浴液を加え、有機溶媒で抽出するこ
とにより立体配置を保持したまま回収され、再使用する
ことができる。。
以下、実施例により本発明製造法を詳述するが、本発明
はこれらに限定されるものではない。
実施例1゜ 窒素雰囲気下、(+3−1−(2,5−ジメチルフェニ
ル)−2−アミノ−1−プロパツール塩酸塩0.888
y(1,8ミリモル)を1゜2−ジクロロエタン5dに
懸濁させ一20″Cに冷却し、水素化ホウ素ナトリウム
0.0681f(1,8ミリモル)のジメチルホルムア
ミド。
1m溶液を加え一20°Cより2時間を要して室温とし
た。次にこの懸濁液に■−1−(2゜4−ジクロロフェ
ニル) −2−(1,2,4−トリアゾール−1−イル
)−4,4−ジメチル−1−ペンテン−8−オン(E/
Z=97.6/2.4 ) 0.89 f (1,2ミ
リモル)の1,2−ジクロロエタン4dfB液を室温で
加え69時間攪拌した。次いで2N塩酸6−を加え攪拌
分解した。有機層を水洗後減圧濃縮した。
残留物をクロロホルム溶媒でシリカゲル2ノのカラムで
精製して0.89fのH−■−1−(2,4−ジクロロ
フェニル)−2−(1゜2.4−トリアゾール−1−イ
ル)−4,4−ジメチル−1−ペンテン−8−オールの
粗結晶を得た。
ガスクロマトグラフィーによゆ反応率は100%であり
、生成物の組成は・アルコール8体96.6%、アルコ
ール2体3.3%、飽和アルコール体(原料ケトンのα
、β−不飽和ケトンのカルボニル基と二重結合のいずれ
もが水素化還元された生成物を意味する。)0.1%以
下であった。光学活性カラムを用いた高速液体クロマト
グラフィーによりアルコール8体のエナンチオマー比は
、(へ)体90.2%、(ト)体9.8%であった(光
学収率80.4%)。
実施例2〜6 下記光学活性アミノアルコールの塩酸塩を用イテ■−1
(2,4−i;クロロフェニル)−2−(1、2、4−
トリアゾール−1−イル)−4,4−ジメチル−1−ペ
ンテン−8−オン及び■−1−(4−クロロフェニル)
−2−(1、2、4−トリアゾール−1−イル)−4,
4−ジメチル−1−ペンテン−8−オン(E/Z = 
98.9/1.1 )を実施例1に準じて不斉還元した
。結果を表−1に示す。
実施例10 窒素雰囲気下、(4)−1−(2,5−ジメチルフェニ
ル)−2−アミノ−1−プロパツール塩酸塩0.458
IC2,1ミリモル)をモノクロロベンゼン8.0yに
懸濁させ一20℃に冷却し、水素化ホウ素ナトリウム0
.0794N(2,1ミリモル)のジメチルホルムアミ
ド0.409g溶液を加え−20”Cより2時間を要し
て室温とした。次にこの懸濁液に■−1−(4−クロロ
フェニル)−2−(1,2゜4−トリアゾール−1−イ
ル)−4,4−ジメチル−1−ペンテン−8−オン0.
406F(1,4ミリモル)のモノクロロベンゼン2.
89fi@液を室温で加え20時間攪拌した。以下実施
例1に準じて行なった。
反応率は100%であり、生成物の組成はアルコール8
体89.8%、アルコール2体9.8%、飽和アルコー
ル体1.4%であった。アルコール8体のエナンチオマ
ー比は(ハ)体92.8%、(ト)体7,7%であった
(光学収率84.6%)。
実施例11 窒素雰囲気下、(+l−1−(2,5−ジメチルフェニ
ル)−2−アミノ−1−プロパツール塩酸塩0.458
1/(2,1ミリモル)をモノクロロベンゼン8.01
に懸濁させ、酢酸0.0189Fを加えて一20°Cに
冷却し、水素化ホウ素ナトリウム0.0874j’(2
,81ミリモル)のジメチルホルムアミド0.450F
m液を加え一20℃より2時間を要して室温とした。次
にこの懸濁液に■−1−(4−クロロフェニル)−2−
(1、2、4−トリアゾール−1−イル)−4,4−ジ
メチル−1−ペンテン−8−オン0.406f(1,4
ミリモル)、i[0,01261のモノクロルベンゼン
2.891溶液を室温で加え20時間攪拌した。以下実
施例1に準じて行なった。
反応率は98.8%であり、生成物の組成はアルコール
8体92.8%、アルコール2体6.5%、飽和アルコ
ール体1.2%であった。
アルコール8体のエナンチオマー比は(−1体89.1
%、(ト)体10.9%であった(光学収率78.2%
)。
実施例12 窒素雰囲気下0.72Mのボランテトラヒドロフラン洛
H2,50d(ボラン1.8ミリモル)とテトラヒドロ
フラン2 tttfliH−中へ(+3−1゜2−ジフ
ェニル−2−アミノエタノール0.884N(1,8ミ
リモル)のテトラヒドロフラン4−溶液を一78℃で滴
下し、−78“Cより約2時間を要して室温とした。次
に、この液に室温で■−1−(2,4−ジクロロフェニ
ル)−2−(1、2、4−)リアゾール−1−イル)−
4,4−ジメチル−1−ペンテン−3−オン(E/Z=
99.910.1 ) O,a 9 f (1,2ミリ
モル)のテトラヒドロフラン4mA/1g液を滴下し、
24時間攪拌した。反応液に2N塩酸6−を加えて約2
時間攪拌し、(±−1,2−ジフェニルー2−アミノエ
タノール塩酸塩を戸数し、F液の有機層を水で洗浄後、
減圧濃縮した。残留物をクロロホルム溶媒で2yのシリ
カゲルカラムで精製して0.89fの(ハ)−〇−1−
(2,4−ジクロロフェニル)−2−(1,2,4−ト
リアゾール−1−イル)−4,4−ジメチル−1−ペン
テン−8−オールの粗結晶を得た。
生成物のガスクロマトグラフィーにより反応率は88.
996であり、生成物の組成はアルコール8体98.2
%、アルコール2体1.8%であった。アルコール8体
のエナンチオマー比は8体68.0%、(上体32.0
%であった(光学収率86.0%)。
実施例13〜16 実施例12iζおいて、1.2−ジフェニル−2−アミ
ノエタノールをL−スレオニンシクロヘキシルエステル
またはL−スレオニンエチルエステルに代え、ボランテ
トラヒドロフランM[以外の溶媒をテトラヒドロフラン
、ジエチルエーテル、ジオキサンを使用した以外は実施
例12と同様に行ない、(イ)−〇−1−(2,4−ジ
クロロフェニル)−2−(1゜2.4−トリアゾール−
1−イル)−4,4−ジメチル−1−ペンテン−8−オ
ールを得た。結果を表−2に示す。
手続補正書(自発) 昭和59年12月19日

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、Xはハロゲン原子、アルキル基、 ハロアルキル基、シアノ基、アルコキシル 基、フェノキシ基、フェニル基または水素 原子を表わす。nは1〜5の整数を表わす。 R_1はイミダゾール−1−イル基または1,2,4−
    トリアゾール−1−イル基を表わ す。R_2はt−ブチル基を表わすか、またはアルキル
    基、アルコキシル基、フェニル基 あるいはハロゲン原子で置換されていても よいフェニル基を表わす。〕 で示されるケトン化合物を、一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、R_3はアルキル基、アリール基、シクロアル
    キル基またはアラルキル基を表わ す。R_4はアルキル基、アリール基、アラルキル基ま
    たはアルコキシカルボニル基を表 わす。R_5は水素原子、アルキル基またはアラルキル
    基を表わす。*は不斉炭素を表わ す。ただし、R_3がフェニル基であり、かつR_4が
    メチル基である場合を除く。〕 で示される光学活性アミノアルコールで修飾された水素
    化ホウ素化合物系還元剤で不斉還元することを特徴とす
    る一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、X、n、R_1、R_2および*は前記と同じ
    意味を表わす。〕 で示される光学活性アルコール誘導体の製造法。
  2. (2)上記一般式(II)において、R_3が炭素数6〜
    16のアリール基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素
    数5〜10のシクロアルキル基または炭素数7〜16の
    アラルキル基であり、R_4が炭素数6〜16のアリー
    ル基、炭素数1〜10のアルキル基またはアルキル部位
    の炭素数が1〜10のアルコキシカルボニル基であり、
    R_5が水素原子である特許請求の範囲第1項に記載の
    製造法。
  3. (3)上記一般式(II)において、R_3がハロゲン原
    子、アルキル基、シアノ基、アルコキシル基あるいはア
    ルコキシカルボニル基で置換されていてもよいフェニル
    基であるか、またはハロゲン原子、アルキル基、シアノ
    基、アルコキシル基あるいはアルコキシカルボニル基で
    置換されていてもよいナフチル基であり、R_4が低級
    アルキル基であり、R_5が水素原子である特許請求の
    範囲第1項または第2項に記載の製造法。
  4. (4)上記一般式(II)において、R_3がナフチル基
    であり、R_4がメチル基であり、R_5が水素原子で
    ある特許請求の範囲第1項、第2項または第3項に記載
    の製造法。
  5. (5)上記一般式(II)においてR_3が2,5−ジメ
    チルフェニル基であり、R_4がメチル基であり、R_
    5が水素原子である特許請求の範囲第1項、第2項また
    は第3項に記載の製造法。
  6. (6)上記一般式(II)においてR_3が2,5−ジメ
    トキシフェニル基であり、R_4がメチル基であり、R
    _5が水素原子である特許請求の範囲第1項、第2項ま
    たは第3項に記載の製造法。
  7. (7)上記一般式(II)においてR_3が2,4−ジメ
    トキシフェニル基であり、R_4がメチル基であり、R
    _5が水素原子である特許請求の範囲第1項、第2項ま
    たは第3項に記載の製造法。
  8. (8)上記一般式(II)においてR_3が2,5−ジエ
    トキシフェニル基であり、R_4がメチル基であり、R
    _5が水素原子である特許請求の範囲第1項、第2項ま
    たは第3項に記載の製造法。
  9. (9)水素化ホウ素化合物系還元剤が上記一般式(II)
    で示される光学活性アミノアルコールの鉱酸塩、有機ス
    ルホン酸塩またはカルボン酸塩を水素化ホウ素金属化合
    物と反応させることにより得られる還元剤である特許請
    求の範囲第1項〜第8項に記載の製造法。
  10. (10)水素化ホウ素金属化合物が水素化ホウ素ナトリ
    ウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素リチウムま
    たは水素化ホウ素亜鉛である特許請求の範囲第9項に記
    載の製造法。
  11. (11)水素化ホウ素化合物系還元剤が上記一般式(I
    I)で示される光学活性アミノアルコールをボランと反
    応させることにより得られる還元剤である特許請求の範
    囲第1項〜第8項に記載の製造法。
  12. (12)ルイス酸、有機酸または鉱酸の存在下に不斉還
    元を行なう特許請求の範囲第1項〜第10項に記載の製
    造法。
  13. (13)上記一般式( I )において、Xnが2,4−
    ジクロロ基である特許請求の範囲第1項〜第12項に記
    載の製造法。
  14. (14)上記一般式( I )において、Xnが4−クロ
    ロ基である特許請求の範囲第1項〜第12項に記載の製
    造法。
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