JPH0527627B2 - - Google Patents
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Description
本発明はケトン化合物の新規な不斉還元方法に
関する。さらに詳しくは本発明は一般式() 〔式中、Xはハロゲン原子、アルキル基、ハロア
ルキル基、シアノ基、アルコキシル基、フエノキ
シ基、フエニル基または水素原子を表わし、nは
1〜5の整数を表わす。R1はイミダゾール−1
−イル基または1,2,4−トリアゾール−1−
イル基を表わす。R2はt−ブチル基を表わすか、
またはアルキル基、アルコキシル基、フエニル基
あるいはハロゲン原子で置換されていてもよいフ
エニル基を表わす。〕 で示されるケトン化合物を、ルイス酸、有機酸ま
たは鉱酸の存在下に、一般式() 〔式中、Rは水素原子、炭素数1〜6のアルキル
基またはアラルキル基を表わし、*印は不斉炭素
を意味する。〕 で示される光学活性アミノアルコールで修飾され
た水素化ホウ素化合物系還元剤で不斉還元するに
よる、一般式() 〔式中、X、n、R1、R2および*印は前記と同
じ意味を表わす。〕 で示される光学活性アルコール誘導体の製造法に
関するものである。 上記一般式()で示されるアルコール誘導
体、即ちアゾール系α、β−不飽和アルコール誘
導体は例えば、1−(2,4−ジクロロフエニル)
−2−(1,2,4−トリアゾール−1−イル)−
4,4−ジメチル−1−ペンテン−3−オールや
1−{4−クロロフエニル)−2−(1,2,4−
トリアゾール−1−イル)−4,4−ジメチル−
1−ペンテン−3−オールに代表されるように、
殺菌剤、植物生長調節剤または除草剤の有効成分
として有用であることが知られている。そしてそ
の活性においては、異性体の間で顕著な差違があ
り、殺菌剤としでは(−)体が、植物生長調節剤
および除草剤としては(+)体が強い効力を有す
ることも知られている(特開昭57−99575号およ
び特開昭57−106669号公報)。 このようなことから、その使用目的により
(−)体または(+)体の何れか一方の光学異性
体を、工業的に効率よく製造する方法の開発が望
まれている。 従来、ケトン化合物のカルボニル基を還元して
アルコール化合物に導くための還元剤としては、
水素化アルミニウムリチウムや水素化ホウ素ナト
リウムに代表される種々の試薬が知られている
が、これらの試薬を用いた場合にはその還元生成
物は光学不活性即ちラセミ体であり、また、用い
るケトン化合物に不飽和結合を含む場合、殊に本
発明方法の原料物質のようなα,β−共役不飽和
ケトンの還元に用いた場合には、カルボニル基に
加え二重結合部位の還元も起こり易く、さらに
は、二重結合に関する立体配置の異性化の可能性
も生じてくる。 これまでに、アゾール系α,β−不飽和ケトン
の不斉還元法としては、一般式() 〔式中、Yは水素原子または塩素原子を表わす。〕 で示されるケトン化合物を、不斉修飾水素化アル
ミニウムリチウム化合物で還元し、一般式() 〔式中、Yおよび*は前記と同じ意味を表わす。〕 で示される光学活性アルコール化合物を得る方法
が知られている(特開昭57−99575号および同57
−106669号)。 しかしながら該方法は、(1)水素化アルミニウム
リチウムを用いることから、水分との接触による
発火などの危険性や(2)より光学純度の高いアルコ
ール化合物を得るためには、N−置換アニリンの
ような添加物を多く必要とするなどの点で、工業
的には必ずしも充分な方法とは言い難い。 このような状況の下に、本発明者らは、前記一
般式()で示されるα,β−不飽和ケトン化合
物を不斉還元して一般式()で示される光学活
性α,β−不飽和アルコール誘導体を得る方法に
つき鋭意検討を重ねた結果、一般式()で示さ
れる光学活性アミノアルコールで修飾された水素
化ホウ素化合物系還元剤を用い、ルイス酸、有機
酸または鉱酸の存在下に、一般式()で示され
るケトン化合物を不斉還元することにより、カル
ボニル基のみが選択的に還元され、二重結合に関
する立体配置の異性化も抑制でき、しかもより安
全に効率よく目的の一般式()で示される光学
活性アルコール化合物が得られることを見出し、
本発明を完成するに至つた。 以下に、本発明方法につき説明する。 本発明方法で使用される前記一般式()で示
される光学活性アミノアルコールで修飾された水
素化ホウ素化合物系還元剤において、還元反応の
水素源となる水素化ホウ素化合物としては一般式
() M(BH4)n () 〔式中、Mはアルカリ金属、アルカリ土類金属ま
たはアンモニウム基を表わし、nはそのイオン価
数を表わす。〕 で示される化合物、即ち水素化ホウ素アルカリ金
属、水素化ホウ素アルカリ土類金属または水素化
ホウ素アンモニウムが用いられる。水素化ホウ素
アルカリ金属としては水素化ホウ素リチウム、水
素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウムな
どが挙げられ、水素化アルカリ土類金属としては
水素化ホウ素亜鉛などが挙げられるが、入手の容
易さから水素化ホウ素ナトリウムが好ましい。 また、前記一般式()で示される光学活性ア
ミノアルコールとしては、例えば光学活性なノル
エフエドリン、ノルプソイドエフエドリンなどが
挙げられる。 このような光学活性アミノアルコールで修飾さ
れた水素化ホウ素化合物系還元剤を調製するに
は、通常、光学活性アミノアルコールの塩、例え
ば塩酸、硫酸などの鉱酸の塩、酢酸などのカルボ
ン酸の塩またはp−トルエンスルホン酸などのス
ルホン酸の塩と、水素化ホウ素アルカリ金属、水
素化ホウ素アルカリ土類金属または水素化ホウ素
アンモニウムをジメチルスルホキシド、ジグライ
ム、ジメチルホルムアミドなどの溶媒の溶液とし
て反応させることにより、目的の不斉還元剤を得
ることができる。その際、光学活性アミノアルコ
ールの塩はあらかじめ調製されたものを用いる
か、あるいは光学活性アミノアルコールと当量の
上記酸から調製することができる。 不斉還元剤を調製する場合の水素化ホウ素化合
物と光学活性アミノアルコールのモル比は基質に
応じて種々とることができるが、通常水素化ホウ
素アルカリ金属と水素化ホウ素アンモニウムの場
合は約1:1〜2:1であり、水素化ホウ素アル
カリ土類金属の場合は約0.5:1〜1:1である。 上記の不斉還元剤調製の反応は、窒素やアルゴ
ンなどの不活性ガスの雰囲気下、溶媒中で行なわ
れ、そのような溶媒としては、反応に関与しない
ものであれば特に限定されるものではないが、例
えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベン
ゼン等の芳香族炭化水素、塩化メチレン、1,2
−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等
のハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライム等のエ
ーテル類あるいはこれらの2種以上の混合溶媒が
用いられる。また、該反応の反応温度は特に制限
はなく、−78〜100℃の範囲、好ましくは−40〜
100℃の範囲である。 このようにして得られる不斉還元剤は目的によ
り反応液より単離して用いてもよいが、通常は単
離することなくその溶液のまま還元反応に使用す
る。なお、該不斉還元剤の構造は必ずしも確定さ
れたものではないが光学活性アミノアルコールの
水酸基およびアミノ基が水素化ホウ素化合物のホ
ウ素に結合もしくは配位しているものと推定され
る。 上述のようにして得られる光学活性アミノアル
コールで修飾された水素化ホウ素化合物系還元剤
を用いて、ルイス酸、有機酸または鉱酸の存在下
に、前記一般式()で示されるケトン化合物を
不斉還元することにより、前記一般式()で示
される光学活性アルコール誘導体が得られる。 上記のルイス酸としては、例えば四塩化チタ
ン、三フツ化ホウ素エーテラートまたは塩化アル
ミニウムが挙げられ、有機酸としては、例えば酢
酸が挙げられ、鉱酸としては、例えば硫酸、塩酸
またはリン酸が挙げられる。 この不斉還元反応において使用される還元剤の
量は一般式()で示されるケトン化合物1モル
に対し0.5モル以上、通常1〜5モル、好ましく
は1〜2モルである。また、ルイス酸、カルボン
酸または鉱酸の該ケトン化合物に対するモル比
は、通常0.01〜0.5の範囲である。 不斉還元反応の反応溶媒としては、不活性溶媒
であれば特に制限されるものではなく、前述の不
斉還元剤の調製の際の溶媒が用いられ、好適に
は、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベン
ゼン等の芳香族炭化水素、塩化メチレン、1,2
−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等
のハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライム等のエ
ーテル類あるいはこれらの2種以上の混合溶媒が
用いられる。 還元反応の温度は通常−78〜100℃の範囲であ
るが、工業的に実施容易な−20〜50℃の範囲でも
高い不斉収率を達成することが可能である。さら
に、製造の効率を上げるために反応系を濃厚にし
て容積率を大きくした場合においても、本発明製
造法は、カルボニル基の還元のみでなく二重結合
が水素化された飽和アルコール体の生成物を抑制
することができ、これらの点からも本発明製造法
は優れた方法と言うことができる。 このようにして還元反応を行つた後、反応液に
塩酸および硫酸のような鉱酸の水溶液を加え、有
機層と水層に分液し、有機層を、水洗、乾燥した
後、有機溶媒を除去することにより容易に目的と
する前記一般式()で示される光学活性α,β
−不飽和アルコール誘導体が高収率で得られる。 不斉収率は生成物の旋光度を測定することによ
り、あるいは光学活性充填剤を用いた高速液体ク
ロマトグラフイーで直接エナンチオマー比を測定
することにより求められる。 なお、使用した光学活性アミノアルコールは上
記反応後の水層にアルカリ水溶液を加え、有機溶
媒で抽出することにより立体配置を保持したまま
回収され、再使用することができる。 以下、実施例および参考例により本発明製造法
を詳述するが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。 実施例 1 窒素雰囲気下、(+)−ノルエフエドリン塩酸塩
0.338g(1.8ミリモル)を1,2−ジクロロエタ
ン5mlに懸濁させ、−30℃で水素化ホウ素ナトリ
ウム0.0681g(1.8ミリモル)のジメチルホルム
アミド1ml溶液を加え、2時間を要して常温とし
た。次にこの懸濁液に酢酸0.0108g(0.18ミリモ
ル)と(E)−1−(4−クロロフエニル)−2−(1,
2,4−トリアゾール−1−イル)−4,4−ジ
メチル−1−ペンテン−3−オン(E体/Z体=
99.8/0.2)0.35g(1.2ミリモル)の1,2−ジ
クロロエタン4ml溶液を常温で加え、24時間撹拌
した。次いで2N塩酸6mlを加え2時間撹拌した。
有機層を水洗後減圧濃縮し、残留物をクロロホル
ム溶媒でシリカゲル2gのカラムで精製したの
ち、減圧濃縮すると0.35gの(−)−(E)−1−(4
−クロロフエニル)−2−(1,2,4−トリアゾ
ール−1−イル)−4,4−ジメチル−1−ペン
テン−3−オールの粗結晶が得られた。ガスクロ
マトグラフイーでの分析により、反応率は79.4%
であり、生成物の組成はアルコールE体92.5%、
飽和アルコール体0.3%、アルコールZ体(ケト
ン化合物がZ体に異性化したのち、カルボニル基
のみが還元されている。)7.2%であつた。アルコ
ールE体のエナンチオマー比は光学活性カラムを
用いた高速液体クロマトグラフイーにより(−)
−体76.1%、(+)−体23.9%であつた。光学収率
52.2%。 実施例 2〜11 実施例1において酢酸に代えて四塩化チタン、
三フツ化ホウ素、エーテラート、塩化マグネシウ
ム、塩化アルミニウム、モノクロル酢酸、プロピ
オン酸または濃硫酸を使用した以外は実施例1に
準じて行なつた。結果を表−1にまとめて示す。
関する。さらに詳しくは本発明は一般式() 〔式中、Xはハロゲン原子、アルキル基、ハロア
ルキル基、シアノ基、アルコキシル基、フエノキ
シ基、フエニル基または水素原子を表わし、nは
1〜5の整数を表わす。R1はイミダゾール−1
−イル基または1,2,4−トリアゾール−1−
イル基を表わす。R2はt−ブチル基を表わすか、
またはアルキル基、アルコキシル基、フエニル基
あるいはハロゲン原子で置換されていてもよいフ
エニル基を表わす。〕 で示されるケトン化合物を、ルイス酸、有機酸ま
たは鉱酸の存在下に、一般式() 〔式中、Rは水素原子、炭素数1〜6のアルキル
基またはアラルキル基を表わし、*印は不斉炭素
を意味する。〕 で示される光学活性アミノアルコールで修飾され
た水素化ホウ素化合物系還元剤で不斉還元するに
よる、一般式() 〔式中、X、n、R1、R2および*印は前記と同
じ意味を表わす。〕 で示される光学活性アルコール誘導体の製造法に
関するものである。 上記一般式()で示されるアルコール誘導
体、即ちアゾール系α、β−不飽和アルコール誘
導体は例えば、1−(2,4−ジクロロフエニル)
−2−(1,2,4−トリアゾール−1−イル)−
4,4−ジメチル−1−ペンテン−3−オールや
1−{4−クロロフエニル)−2−(1,2,4−
トリアゾール−1−イル)−4,4−ジメチル−
1−ペンテン−3−オールに代表されるように、
殺菌剤、植物生長調節剤または除草剤の有効成分
として有用であることが知られている。そしてそ
の活性においては、異性体の間で顕著な差違があ
り、殺菌剤としでは(−)体が、植物生長調節剤
および除草剤としては(+)体が強い効力を有す
ることも知られている(特開昭57−99575号およ
び特開昭57−106669号公報)。 このようなことから、その使用目的により
(−)体または(+)体の何れか一方の光学異性
体を、工業的に効率よく製造する方法の開発が望
まれている。 従来、ケトン化合物のカルボニル基を還元して
アルコール化合物に導くための還元剤としては、
水素化アルミニウムリチウムや水素化ホウ素ナト
リウムに代表される種々の試薬が知られている
が、これらの試薬を用いた場合にはその還元生成
物は光学不活性即ちラセミ体であり、また、用い
るケトン化合物に不飽和結合を含む場合、殊に本
発明方法の原料物質のようなα,β−共役不飽和
ケトンの還元に用いた場合には、カルボニル基に
加え二重結合部位の還元も起こり易く、さらに
は、二重結合に関する立体配置の異性化の可能性
も生じてくる。 これまでに、アゾール系α,β−不飽和ケトン
の不斉還元法としては、一般式() 〔式中、Yは水素原子または塩素原子を表わす。〕 で示されるケトン化合物を、不斉修飾水素化アル
ミニウムリチウム化合物で還元し、一般式() 〔式中、Yおよび*は前記と同じ意味を表わす。〕 で示される光学活性アルコール化合物を得る方法
が知られている(特開昭57−99575号および同57
−106669号)。 しかしながら該方法は、(1)水素化アルミニウム
リチウムを用いることから、水分との接触による
発火などの危険性や(2)より光学純度の高いアルコ
ール化合物を得るためには、N−置換アニリンの
ような添加物を多く必要とするなどの点で、工業
的には必ずしも充分な方法とは言い難い。 このような状況の下に、本発明者らは、前記一
般式()で示されるα,β−不飽和ケトン化合
物を不斉還元して一般式()で示される光学活
性α,β−不飽和アルコール誘導体を得る方法に
つき鋭意検討を重ねた結果、一般式()で示さ
れる光学活性アミノアルコールで修飾された水素
化ホウ素化合物系還元剤を用い、ルイス酸、有機
酸または鉱酸の存在下に、一般式()で示され
るケトン化合物を不斉還元することにより、カル
ボニル基のみが選択的に還元され、二重結合に関
する立体配置の異性化も抑制でき、しかもより安
全に効率よく目的の一般式()で示される光学
活性アルコール化合物が得られることを見出し、
本発明を完成するに至つた。 以下に、本発明方法につき説明する。 本発明方法で使用される前記一般式()で示
される光学活性アミノアルコールで修飾された水
素化ホウ素化合物系還元剤において、還元反応の
水素源となる水素化ホウ素化合物としては一般式
() M(BH4)n () 〔式中、Mはアルカリ金属、アルカリ土類金属ま
たはアンモニウム基を表わし、nはそのイオン価
数を表わす。〕 で示される化合物、即ち水素化ホウ素アルカリ金
属、水素化ホウ素アルカリ土類金属または水素化
ホウ素アンモニウムが用いられる。水素化ホウ素
アルカリ金属としては水素化ホウ素リチウム、水
素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウムな
どが挙げられ、水素化アルカリ土類金属としては
水素化ホウ素亜鉛などが挙げられるが、入手の容
易さから水素化ホウ素ナトリウムが好ましい。 また、前記一般式()で示される光学活性ア
ミノアルコールとしては、例えば光学活性なノル
エフエドリン、ノルプソイドエフエドリンなどが
挙げられる。 このような光学活性アミノアルコールで修飾さ
れた水素化ホウ素化合物系還元剤を調製するに
は、通常、光学活性アミノアルコールの塩、例え
ば塩酸、硫酸などの鉱酸の塩、酢酸などのカルボ
ン酸の塩またはp−トルエンスルホン酸などのス
ルホン酸の塩と、水素化ホウ素アルカリ金属、水
素化ホウ素アルカリ土類金属または水素化ホウ素
アンモニウムをジメチルスルホキシド、ジグライ
ム、ジメチルホルムアミドなどの溶媒の溶液とし
て反応させることにより、目的の不斉還元剤を得
ることができる。その際、光学活性アミノアルコ
ールの塩はあらかじめ調製されたものを用いる
か、あるいは光学活性アミノアルコールと当量の
上記酸から調製することができる。 不斉還元剤を調製する場合の水素化ホウ素化合
物と光学活性アミノアルコールのモル比は基質に
応じて種々とることができるが、通常水素化ホウ
素アルカリ金属と水素化ホウ素アンモニウムの場
合は約1:1〜2:1であり、水素化ホウ素アル
カリ土類金属の場合は約0.5:1〜1:1である。 上記の不斉還元剤調製の反応は、窒素やアルゴ
ンなどの不活性ガスの雰囲気下、溶媒中で行なわ
れ、そのような溶媒としては、反応に関与しない
ものであれば特に限定されるものではないが、例
えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベン
ゼン等の芳香族炭化水素、塩化メチレン、1,2
−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等
のハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライム等のエ
ーテル類あるいはこれらの2種以上の混合溶媒が
用いられる。また、該反応の反応温度は特に制限
はなく、−78〜100℃の範囲、好ましくは−40〜
100℃の範囲である。 このようにして得られる不斉還元剤は目的によ
り反応液より単離して用いてもよいが、通常は単
離することなくその溶液のまま還元反応に使用す
る。なお、該不斉還元剤の構造は必ずしも確定さ
れたものではないが光学活性アミノアルコールの
水酸基およびアミノ基が水素化ホウ素化合物のホ
ウ素に結合もしくは配位しているものと推定され
る。 上述のようにして得られる光学活性アミノアル
コールで修飾された水素化ホウ素化合物系還元剤
を用いて、ルイス酸、有機酸または鉱酸の存在下
に、前記一般式()で示されるケトン化合物を
不斉還元することにより、前記一般式()で示
される光学活性アルコール誘導体が得られる。 上記のルイス酸としては、例えば四塩化チタ
ン、三フツ化ホウ素エーテラートまたは塩化アル
ミニウムが挙げられ、有機酸としては、例えば酢
酸が挙げられ、鉱酸としては、例えば硫酸、塩酸
またはリン酸が挙げられる。 この不斉還元反応において使用される還元剤の
量は一般式()で示されるケトン化合物1モル
に対し0.5モル以上、通常1〜5モル、好ましく
は1〜2モルである。また、ルイス酸、カルボン
酸または鉱酸の該ケトン化合物に対するモル比
は、通常0.01〜0.5の範囲である。 不斉還元反応の反応溶媒としては、不活性溶媒
であれば特に制限されるものではなく、前述の不
斉還元剤の調製の際の溶媒が用いられ、好適に
は、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベン
ゼン等の芳香族炭化水素、塩化メチレン、1,2
−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等
のハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライム等のエ
ーテル類あるいはこれらの2種以上の混合溶媒が
用いられる。 還元反応の温度は通常−78〜100℃の範囲であ
るが、工業的に実施容易な−20〜50℃の範囲でも
高い不斉収率を達成することが可能である。さら
に、製造の効率を上げるために反応系を濃厚にし
て容積率を大きくした場合においても、本発明製
造法は、カルボニル基の還元のみでなく二重結合
が水素化された飽和アルコール体の生成物を抑制
することができ、これらの点からも本発明製造法
は優れた方法と言うことができる。 このようにして還元反応を行つた後、反応液に
塩酸および硫酸のような鉱酸の水溶液を加え、有
機層と水層に分液し、有機層を、水洗、乾燥した
後、有機溶媒を除去することにより容易に目的と
する前記一般式()で示される光学活性α,β
−不飽和アルコール誘導体が高収率で得られる。 不斉収率は生成物の旋光度を測定することによ
り、あるいは光学活性充填剤を用いた高速液体ク
ロマトグラフイーで直接エナンチオマー比を測定
することにより求められる。 なお、使用した光学活性アミノアルコールは上
記反応後の水層にアルカリ水溶液を加え、有機溶
媒で抽出することにより立体配置を保持したまま
回収され、再使用することができる。 以下、実施例および参考例により本発明製造法
を詳述するが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。 実施例 1 窒素雰囲気下、(+)−ノルエフエドリン塩酸塩
0.338g(1.8ミリモル)を1,2−ジクロロエタ
ン5mlに懸濁させ、−30℃で水素化ホウ素ナトリ
ウム0.0681g(1.8ミリモル)のジメチルホルム
アミド1ml溶液を加え、2時間を要して常温とし
た。次にこの懸濁液に酢酸0.0108g(0.18ミリモ
ル)と(E)−1−(4−クロロフエニル)−2−(1,
2,4−トリアゾール−1−イル)−4,4−ジ
メチル−1−ペンテン−3−オン(E体/Z体=
99.8/0.2)0.35g(1.2ミリモル)の1,2−ジ
クロロエタン4ml溶液を常温で加え、24時間撹拌
した。次いで2N塩酸6mlを加え2時間撹拌した。
有機層を水洗後減圧濃縮し、残留物をクロロホル
ム溶媒でシリカゲル2gのカラムで精製したの
ち、減圧濃縮すると0.35gの(−)−(E)−1−(4
−クロロフエニル)−2−(1,2,4−トリアゾ
ール−1−イル)−4,4−ジメチル−1−ペン
テン−3−オールの粗結晶が得られた。ガスクロ
マトグラフイーでの分析により、反応率は79.4%
であり、生成物の組成はアルコールE体92.5%、
飽和アルコール体0.3%、アルコールZ体(ケト
ン化合物がZ体に異性化したのち、カルボニル基
のみが還元されている。)7.2%であつた。アルコ
ールE体のエナンチオマー比は光学活性カラムを
用いた高速液体クロマトグラフイーにより(−)
−体76.1%、(+)−体23.9%であつた。光学収率
52.2%。 実施例 2〜11 実施例1において酢酸に代えて四塩化チタン、
三フツ化ホウ素、エーテラート、塩化マグネシウ
ム、塩化アルミニウム、モノクロル酢酸、プロピ
オン酸または濃硫酸を使用した以外は実施例1に
準じて行なつた。結果を表−1にまとめて示す。
【表】
実施例 12〜14
実施例1においてノルエフエドリン塩酸塩と水
素化ホウ素ナトリウムのモル比を変えた以外は実
施例1に準じて行なつた。結果を表−2にまとめ
た。
素化ホウ素ナトリウムのモル比を変えた以外は実
施例1に準じて行なつた。結果を表−2にまとめ
た。
【表】
実施例 15
窒素雰囲気下、(−)ノルエフエドリン塩酸塩
8.18g(0.0436モル)のクロロベンゼン62.17g懸
濁液に酢酸0.393g(0.0065モル)を加え、5〜
10℃で水素化ホウ素ナトリウム1.815g(0.0480
モル)のジメチルホルムアミド9.35g溶液を1.5
時間で滴下したのち、常温で1時間撹拌し、酢酸
0.26g(0.00433モル)および(E)−1−(4−クロ
ロフエニル)−2−(1,2,4−トリアゾール−
1−イル)−4,4−ジメチル−1−ペンテン−
3−オン8.42g(E/Z=99.8/0.2、0.0291モ
ル)のクロロベンゼン49.7g溶液を常温で加え、
18時間保温撹拌した。反応液に10%塩酸17.50g
と水5gを加えて分解し、有機層を分液し、水洗
後、減圧濃縮すると8.15gの(+)−(E)−1−(4
−クロロフエニル)−2−(1,2,4−トリアゾ
ール−1−イル)−4,4−ジメチル−1−ペン
テン−3−オールの結晶が得られた。反応率は
99.8%であり、生成物の組成はアルコールE体
90.8%、飽和アルコール体2.3%、アルコールZ
体6.9%であつた。アルコールE体のエナンチオ
マー比は(+)−体81.0%、(−)−体19.0%であ
つた。光学収率62.0%。 実施例 16 窒素雰囲気下、(+)ノルエフエドリン塩酸塩
13.07g(0.0696モル)の1,2−ジクロロエタ
ン52.26g懸濁液中へ−20℃で水素化ホウ素ナト
リウム2.64g(0.0698モル)のジメチルホルムア
ミド14.95g溶液を滴下し、−20℃より2時間を要
して常温とした。 次いで、リン酸0.35gを加えたのち、(E)−1−
(2,4−ジクロロフエニル)−2−(1,2,4
−トリアゾール−1−イル)−4,4−ジメチル
−1−ペンテン−3−オン(E/Z=97.6/2.4)
16.12g(0.0497モル)の1,2−ジクロロエタ
ン49.37g溶液を20〜25℃で加え、20時間保温撹
拌した。反応液に20%硝酸24.17g、水4.6gを加
えて分解し、有機層を分液し、水洗後、減圧濃縮
すると15.60gの(−)−(E)−1−(2,4−ジク
ロロフエニル)−2−(1,2,4−トリアゾール
−1−イル)−4,4−ジメチル−1−ペンテン
−3−オールの結晶が得られた。反応率は99.8%
であり、生成物の組成はアルコールE体95.6%、
飽和アルコール体0.4%、アルコールZ体3.2%、
その他0.8%であつた。アルコールE体のエナン
チオマー比は(−)−体85.8%、(+)−体14.2%
であつた。光学収率71.6%。 参考例 1 窒素雰囲気下、(+)−ノルエフエドリン塩酸塩
0.338g(1.8ミリモル)を1,2−ジクロロエタ
ン5mlに懸濁させ、−30℃で水素化ホウ素ナトリ
ウム0.0681g(1.8ミリモル)のジメチルホルム
アミド1ml溶液を加え、2時間を要して常温とし
た。次にこの懸濁液に(E)−1−(4−クロロフエ
ニル)−2−(1,2,4−トリアゾール−1−イ
ル)−4,4−ジメチル−1−ペンテン−3−オ
ン(E体/Z体=99.8/0.2)0.35g(1.2ミリモ
ル)の1,2−ジクロロエタン4ml溶液を常温で
加え24時間撹拌した。以下、実施例1と同様に行
なつた。反応率は97.5%であつた。生成物の組成
はアルコールE体83.7%、飽和アルコール体0.4
%、アルコールZ体15.9%であつた。アルコール
E体のエナンチオマー比は(−)−体81.1%、
(+)−体18.9%であつた。光学収率62.2%。 参考例 2および3 参考例1においてノルエフエドリン塩酸塩と水
素化ホウ素ナトリウムのモル日を変えた以外は参
考例1と同様に行なつた。結果を表−3にまとめ
た。
8.18g(0.0436モル)のクロロベンゼン62.17g懸
濁液に酢酸0.393g(0.0065モル)を加え、5〜
10℃で水素化ホウ素ナトリウム1.815g(0.0480
モル)のジメチルホルムアミド9.35g溶液を1.5
時間で滴下したのち、常温で1時間撹拌し、酢酸
0.26g(0.00433モル)および(E)−1−(4−クロ
ロフエニル)−2−(1,2,4−トリアゾール−
1−イル)−4,4−ジメチル−1−ペンテン−
3−オン8.42g(E/Z=99.8/0.2、0.0291モ
ル)のクロロベンゼン49.7g溶液を常温で加え、
18時間保温撹拌した。反応液に10%塩酸17.50g
と水5gを加えて分解し、有機層を分液し、水洗
後、減圧濃縮すると8.15gの(+)−(E)−1−(4
−クロロフエニル)−2−(1,2,4−トリアゾ
ール−1−イル)−4,4−ジメチル−1−ペン
テン−3−オールの結晶が得られた。反応率は
99.8%であり、生成物の組成はアルコールE体
90.8%、飽和アルコール体2.3%、アルコールZ
体6.9%であつた。アルコールE体のエナンチオ
マー比は(+)−体81.0%、(−)−体19.0%であ
つた。光学収率62.0%。 実施例 16 窒素雰囲気下、(+)ノルエフエドリン塩酸塩
13.07g(0.0696モル)の1,2−ジクロロエタ
ン52.26g懸濁液中へ−20℃で水素化ホウ素ナト
リウム2.64g(0.0698モル)のジメチルホルムア
ミド14.95g溶液を滴下し、−20℃より2時間を要
して常温とした。 次いで、リン酸0.35gを加えたのち、(E)−1−
(2,4−ジクロロフエニル)−2−(1,2,4
−トリアゾール−1−イル)−4,4−ジメチル
−1−ペンテン−3−オン(E/Z=97.6/2.4)
16.12g(0.0497モル)の1,2−ジクロロエタ
ン49.37g溶液を20〜25℃で加え、20時間保温撹
拌した。反応液に20%硝酸24.17g、水4.6gを加
えて分解し、有機層を分液し、水洗後、減圧濃縮
すると15.60gの(−)−(E)−1−(2,4−ジク
ロロフエニル)−2−(1,2,4−トリアゾール
−1−イル)−4,4−ジメチル−1−ペンテン
−3−オールの結晶が得られた。反応率は99.8%
であり、生成物の組成はアルコールE体95.6%、
飽和アルコール体0.4%、アルコールZ体3.2%、
その他0.8%であつた。アルコールE体のエナン
チオマー比は(−)−体85.8%、(+)−体14.2%
であつた。光学収率71.6%。 参考例 1 窒素雰囲気下、(+)−ノルエフエドリン塩酸塩
0.338g(1.8ミリモル)を1,2−ジクロロエタ
ン5mlに懸濁させ、−30℃で水素化ホウ素ナトリ
ウム0.0681g(1.8ミリモル)のジメチルホルム
アミド1ml溶液を加え、2時間を要して常温とし
た。次にこの懸濁液に(E)−1−(4−クロロフエ
ニル)−2−(1,2,4−トリアゾール−1−イ
ル)−4,4−ジメチル−1−ペンテン−3−オ
ン(E体/Z体=99.8/0.2)0.35g(1.2ミリモ
ル)の1,2−ジクロロエタン4ml溶液を常温で
加え24時間撹拌した。以下、実施例1と同様に行
なつた。反応率は97.5%であつた。生成物の組成
はアルコールE体83.7%、飽和アルコール体0.4
%、アルコールZ体15.9%であつた。アルコール
E体のエナンチオマー比は(−)−体81.1%、
(+)−体18.9%であつた。光学収率62.2%。 参考例 2および3 参考例1においてノルエフエドリン塩酸塩と水
素化ホウ素ナトリウムのモル日を変えた以外は参
考例1と同様に行なつた。結果を表−3にまとめ
た。
【表】
参考例 4
窒素雰囲気下、(+)−ノルエフエドリン塩酸塩
3.38g(0.018モル)の1,2−ジクロロエタン
62.8g懸濁液中へ−20℃で水素化ホウ素ナトリウ
ム0.618g(0.018モル)のジメチルホルムアミド
9.44g溶液を滴下し、−20℃より2時間を要して
常温とした。次いで(E)−1−(2,4−ジクロロ
フエニル)−2−(1,2,4−トリアゾール−1
−イル)−4,4−ジメチル−1−ペンテン−3
−オン(E/Z=97.6/2.4)3.89g(0.012モル)
の1,2−ジクロロエタン50.24g溶液を加え常
温で21時間、40℃で3時間撹拌した。反応液に10
%塩酸7.22g、水2.1gを加えて分解し、有機層
を分液し、水洗後、減圧濃縮すると3.89gの
(−)−(E)−1−(2,4−ジクロロフエニル)−2
−(1,2,4−トリアゾール−1−イル)−4,
4−ジメチル−1−ペンテン−3−オールの結晶
が得られた。反応率は99.9%であり、生成物の組
成はアルコールE体95.8%、飽和アルコール体
0.2%、アルコールZ体3.5%、その他0.5%であつ
た。アルコールE体のエナンチオマー比は(−)
−体85.2%、(+)−体14.8%であつた。光学収率
70.4%。 参考例 5 窒素雰囲気下、(+)−ノルエフエドリン塩酸塩
3.38g(0.018モル)の1,2−ジクロロエタン
13.52g懸濁液中へ−20℃で水素化ホウ素ナトリ
ウム0.681g(0.018モル)のジメチルホルムアミ
ド9.44g溶液を滴下し、−20℃より2時間を要し
て常温とした。次いで(E)−1−(2,4−ジクロ
ロフエニル)−2−(1,2,4−トリアゾール−
1−イル)−4,4−ジメチル−1−ペンテン−
3−オン(E/Z=97.6/2.4)3.89g(0.012モ
ル)の1,2−ジクロロエタン12.2g溶液を加え
常温で20時間保温撹拌した。反応液に10%塩酸
7.22g、水2.1gを加えて分解し、有機層を分液
し、水洗後、減圧濃縮すると3.84gの(−)−(E)
−1−(2,4−ジクロロフエニル)−2−(1,
2,4−トリアゾール−1−イル)−4,4−ジ
メチル−1−ペンテン−3−オールの結晶が得ら
れた。反応率は99.9%であり、生成物の組成はア
ルコールE体88.9%、飽和アルコール体0.9%、
アルコールZ体9.4%、その他0.8%であつた。ア
ルコールE体のエナンチオマー比は(−)−体
84.1%、(+)−体15.9%であつた。光学収率68.2
%。
3.38g(0.018モル)の1,2−ジクロロエタン
62.8g懸濁液中へ−20℃で水素化ホウ素ナトリウ
ム0.618g(0.018モル)のジメチルホルムアミド
9.44g溶液を滴下し、−20℃より2時間を要して
常温とした。次いで(E)−1−(2,4−ジクロロ
フエニル)−2−(1,2,4−トリアゾール−1
−イル)−4,4−ジメチル−1−ペンテン−3
−オン(E/Z=97.6/2.4)3.89g(0.012モル)
の1,2−ジクロロエタン50.24g溶液を加え常
温で21時間、40℃で3時間撹拌した。反応液に10
%塩酸7.22g、水2.1gを加えて分解し、有機層
を分液し、水洗後、減圧濃縮すると3.89gの
(−)−(E)−1−(2,4−ジクロロフエニル)−2
−(1,2,4−トリアゾール−1−イル)−4,
4−ジメチル−1−ペンテン−3−オールの結晶
が得られた。反応率は99.9%であり、生成物の組
成はアルコールE体95.8%、飽和アルコール体
0.2%、アルコールZ体3.5%、その他0.5%であつ
た。アルコールE体のエナンチオマー比は(−)
−体85.2%、(+)−体14.8%であつた。光学収率
70.4%。 参考例 5 窒素雰囲気下、(+)−ノルエフエドリン塩酸塩
3.38g(0.018モル)の1,2−ジクロロエタン
13.52g懸濁液中へ−20℃で水素化ホウ素ナトリ
ウム0.681g(0.018モル)のジメチルホルムアミ
ド9.44g溶液を滴下し、−20℃より2時間を要し
て常温とした。次いで(E)−1−(2,4−ジクロ
ロフエニル)−2−(1,2,4−トリアゾール−
1−イル)−4,4−ジメチル−1−ペンテン−
3−オン(E/Z=97.6/2.4)3.89g(0.012モ
ル)の1,2−ジクロロエタン12.2g溶液を加え
常温で20時間保温撹拌した。反応液に10%塩酸
7.22g、水2.1gを加えて分解し、有機層を分液
し、水洗後、減圧濃縮すると3.84gの(−)−(E)
−1−(2,4−ジクロロフエニル)−2−(1,
2,4−トリアゾール−1−イル)−4,4−ジ
メチル−1−ペンテン−3−オールの結晶が得ら
れた。反応率は99.9%であり、生成物の組成はア
ルコールE体88.9%、飽和アルコール体0.9%、
アルコールZ体9.4%、その他0.8%であつた。ア
ルコールE体のエナンチオマー比は(−)−体
84.1%、(+)−体15.9%であつた。光学収率68.2
%。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式() 〔式中、Xはハロゲン原子、アルキル基、ハロア
ルキル基、シアノ基、アルコキシル基、フエノキ
シ基、フエニル基または水素原子を表わし、nは
1〜5の整数を表わす。R1はイミダゾール−1
−イル基または1,2,4−トリアゾール−1−
イル基を表わす。R2はt−ブチル基を表わすか、
またはアルキル基、アルコキシル基、フエニル基
あるいはハロゲン原子で置換されていてもよいフ
エニル基を表わす。〕 で示されるケトン化合物を、ルイス酸、有機酸ま
たは鉱酸の存在下に、一般式() 〔式中、Rは水素原子、炭素数1〜6のアルキル
基またはアラルキル基を表わし、*印は不斉炭素
を意味する。〕 で示される光学活性アミノアルコールで修飾され
た水素化ホウ素化合物系還元剤で不斉還元するこ
とを特徴とする一般式() 〔式中、X、n、R1およびR2は前記と同じ意味
を表わし、*印は不斉炭素を意味する。〕 で示される光学活性アルコール誘導体の製造法。 2 光学活性アミノアルコールが光学活性ノルエ
フエドリンである特許請求の範囲第1項に記載の
製造法。 3 光学活性アミノアルコールが光学活性ノルプ
ソイドエフエドリンである特許請求の範囲第1項
に記載の製造法。 4 水素化ホウ素化合物系還元剤が鉱酸、スルホ
ン酸またはカルボン酸の存在下に、上記一般式
()で示される光学活性アミノアルコールと一
般式() M(BH4)n () 〔式中、Mはアルカリ金属、アルカリ土類金属ま
たはアンモニウムイオンを表わし、nはそのイオ
ン価数を表わす。〕 で示される水素化ホウ素化合物とを反応させるこ
とにより得られる不斉還元剤である特許請求の範
囲第1項、第2項または第3項に記載の製造法。 5 上記一般式()において、Xnが2.4−ジク
ロロ基である特許請求の範囲第1項、第2項、第
3項または第4項に記載の製造法。 6 上記一般式()において、Xnが4−クロ
ロ基である特許請求の範囲第1項、第2項、第3
項または第4項に記載の製造法。
Priority Applications (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3112784A JPS60174772A (ja) | 1984-02-20 | 1984-02-20 | 光学活性アルコ−ル誘導体の製造法 |
HU90848A HU202873B (en) | 1983-04-04 | 1984-04-03 | Process for producing asymmetrically modified boron hydride type compounds |
EP84901411A EP0142566B1 (en) | 1983-04-04 | 1984-04-03 | Asymmetrically modified boron hydride compounds, process for its preparation, and process for preparing optically active alcohol derivative using same |
HU841720A HU200755B (en) | 1983-04-04 | 1984-04-03 | Process for producing optically active alcohol derivatives by using asymmetrically modified compounds of boron hydride type |
PCT/JP1984/000161 WO1984003885A1 (en) | 1983-04-04 | 1984-04-03 | Asymmetrically modified boron hydride compounds, process for its preparation, and process for preparing optically active alcohol derivative using same |
DE8484901411T DE3479500D1 (en) | 1983-04-04 | 1984-04-03 | Asymmetrically modified boron hydride compounds, process for its preparation, and process for preparing optically active alcohol derivative using same |
DK572184A DK572184A (da) | 1983-04-04 | 1984-11-30 | Asymmetrisk modificerede borhydridforbindelser, fremgangsmaade til fremstilling heraf og fremgangsmaade til fremstilling af optisk aktivt alkoholderivat ved anvendelse heraf |
US06/781,453 US4760149A (en) | 1983-04-04 | 1985-09-30 | Asymmetrically modified boron hydride type compound, a production method thereof, and a method for producing an optically active alcohol derivative by the use thereof |
US07/189,472 US5041651A (en) | 1983-04-04 | 1988-05-02 | Asymmetrically modified boron hydride type compound and a method for producing an optically active alcohol derivative by the use thereof |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3112784A JPS60174772A (ja) | 1984-02-20 | 1984-02-20 | 光学活性アルコ−ル誘導体の製造法 |
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Publication Number | Publication Date |
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JPS60174772A JPS60174772A (ja) | 1985-09-09 |
JPH0527627B2 true JPH0527627B2 (ja) | 1993-04-21 |
Family
ID=12322758
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP3112784A Granted JPS60174772A (ja) | 1983-04-04 | 1984-02-20 | 光学活性アルコ−ル誘導体の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPS60174772A (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS579957A (en) * | 1980-06-23 | 1982-01-19 | Nippon Light Metal Co | Ridge ventilation body for tiled roof |
JPS57106669A (en) * | 1980-12-22 | 1982-07-02 | Sumitomo Chem Co Ltd | Optically active triazolyl alcohol derivative, its preparation, and plant growth regulator and herbicide containing said derivative as active component |
JPS57146786A (en) * | 1981-03-09 | 1982-09-10 | Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd | Optically active borane compound and preparation of optically active compound using the same |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6414914A (en) * | 1987-07-08 | 1989-01-19 | Fujitsu Ltd | Jig for manufacture of semiconductor |
-
1984
- 1984-02-20 JP JP3112784A patent/JPS60174772A/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS579957A (en) * | 1980-06-23 | 1982-01-19 | Nippon Light Metal Co | Ridge ventilation body for tiled roof |
JPS57106669A (en) * | 1980-12-22 | 1982-07-02 | Sumitomo Chem Co Ltd | Optically active triazolyl alcohol derivative, its preparation, and plant growth regulator and herbicide containing said derivative as active component |
JPS57146786A (en) * | 1981-03-09 | 1982-09-10 | Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd | Optically active borane compound and preparation of optically active compound using the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JPS60174772A (ja) | 1985-09-09 |
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