JPS60126273A - 光学活性アルコ−ル誘導体の製造法 - Google Patents
光学活性アルコ−ル誘導体の製造法Info
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- JPS60126273A JPS60126273A JP23485983A JP23485983A JPS60126273A JP S60126273 A JPS60126273 A JP S60126273A JP 23485983 A JP23485983 A JP 23485983A JP 23485983 A JP23485983 A JP 23485983A JP S60126273 A JPS60126273 A JP S60126273A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はケトン化合物の新規な不斉還元方法に関する。
さらに詳しくは本発明は一般式(1)〔式中、Xはハロ
ゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、シアノ基、ア
ルコキシル基、フェノキシ基、フェニル基または水素原
子を表わし、nは1〜5の整数を表わす。R1はイミダ
ゾール−1−イル基または1.2.4−トリアゾール−
1−イル基を表わす。垢はt−ブチル基を表わすか、ま
たはアルキル基、アルコキシル基、フェニル基あるいは
ハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基を表わ
す。〕 で示されるケトン化合物を一般式(1)〔式中、R3は
アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表わし、
R4はアルキル基、アリール基またはアルコキシカルボ
ニル基を表わし、R5は水素原子、炭素数1〜6のアル
キル基またはアラルキル基を表わす。*は不斉炭素を表
わす。ただし、几3がフェニル基であり、かつR4がメ
チル基である場合を除く。〕 で示交れる光学活性アミノアルフールで修飾された水素
化ホウ素化合物系還元剤で不斉還元することを特徴とす
る一般式(1) 〔式中、X、n、R1、R2およびXは前記と同じ意味
を表わす。〕 で示される光学活性アルコール誘導体の製造法に関する
ものである。
ゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、シアノ基、ア
ルコキシル基、フェノキシ基、フェニル基または水素原
子を表わし、nは1〜5の整数を表わす。R1はイミダ
ゾール−1−イル基または1.2.4−トリアゾール−
1−イル基を表わす。垢はt−ブチル基を表わすか、ま
たはアルキル基、アルコキシル基、フェニル基あるいは
ハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基を表わ
す。〕 で示されるケトン化合物を一般式(1)〔式中、R3は
アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表わし、
R4はアルキル基、アリール基またはアルコキシカルボ
ニル基を表わし、R5は水素原子、炭素数1〜6のアル
キル基またはアラルキル基を表わす。*は不斉炭素を表
わす。ただし、几3がフェニル基であり、かつR4がメ
チル基である場合を除く。〕 で示交れる光学活性アミノアルフールで修飾された水素
化ホウ素化合物系還元剤で不斉還元することを特徴とす
る一般式(1) 〔式中、X、n、R1、R2およびXは前記と同じ意味
を表わす。〕 で示される光学活性アルコール誘導体の製造法に関する
ものである。
上記一般式(1)で示されるアルコール誘導体、−2−
(1、2、4−トリアゾール−1−イル)−4,4−ジ
メチル−1−ペンテン−8−オールや1−(4−クロロ
フェニル)−2−(1゜2.4−)リアゾール−1−イ
ル)−4,4−ジメチル−1−ペンテン−3−オールに
代表されるように、殺菌剤、植物生長調節剤または除草
剤の有効成分として有用であることが知られている。そ
してその活性においては、異性体の間で顕著な差違があ
り、殺菌剤としては←)体が植物生長調節剤および除草
剤としては←)体が強い効力を有することも知られてい
る(特開昭57 99575号および特開昭57−10
6669号号公報)。
(1、2、4−トリアゾール−1−イル)−4,4−ジ
メチル−1−ペンテン−8−オールや1−(4−クロロ
フェニル)−2−(1゜2.4−)リアゾール−1−イ
ル)−4,4−ジメチル−1−ペンテン−3−オールに
代表されるように、殺菌剤、植物生長調節剤または除草
剤の有効成分として有用であることが知られている。そ
してその活性においては、異性体の間で顕著な差違があ
り、殺菌剤としては←)体が植物生長調節剤および除草
剤としては←)体が強い効力を有することも知られてい
る(特開昭57 99575号および特開昭57−10
6669号号公報)。
このようなことから、その使用目的により←)体または
(ト)体の何れか一方の光学異性体を、工業的にも効率
よ(製造する方法の開発が望まれている。
(ト)体の何れか一方の光学異性体を、工業的にも効率
よ(製造する方法の開発が望まれている。
従来、ケトン化合物のカルボニル基を還元してアルコー
ル化合物に導くための還元剤としては、水素化アルミニ
ウムリチウムや水素化ホウ素ナトリウムに代表される種
々の試薬が知られているが、これらの試薬を用いた場合
にはその還元生成物は光学不活性即ちラセミ体であり、
また、用いるケトン化合物に不飽和結合を含む場合、殊
に本発明方法の原料物質のようなα! β−共役不飽和ケトンの還元に用いた場合には、カルボ
ニル基に加え二重結合部位の還元も起こり易く、さらに
は、二重結合に関する立体配置の異性化の可能性も生じ
てくる。
ル化合物に導くための還元剤としては、水素化アルミニ
ウムリチウムや水素化ホウ素ナトリウムに代表される種
々の試薬が知られているが、これらの試薬を用いた場合
にはその還元生成物は光学不活性即ちラセミ体であり、
また、用いるケトン化合物に不飽和結合を含む場合、殊
に本発明方法の原料物質のようなα! β−共役不飽和ケトンの還元に用いた場合には、カルボ
ニル基に加え二重結合部位の還元も起こり易く、さらに
は、二重結合に関する立体配置の異性化の可能性も生じ
てくる。
これまでに、アゾール系α、β−不飽和ケトンの不斉還
元法としては、一般式(IV)I2 〔式中、Yは水素原子または塩素原子を表わす。〕 で示されるケトン化合物を、不斉修飾水素化アルミニウ
ムリチウム化合物で還元し、一般式(V)〔式中、Yお
よび*は前記と同じ意味を表わす。〕 で示される光学活性アルコール化合物を得る方法が知ら
れている(特開昭57−99575号およリヂウムを用
いることから、水分との接触による発火などの危険性や
(2)より光学純度の高いアルコール化合物を得るため
には、N−置換アニリンのような添加物を多量必要とす
るなどの点で、工業的には必ずしも充分な方法とは言い
難い。
元法としては、一般式(IV)I2 〔式中、Yは水素原子または塩素原子を表わす。〕 で示されるケトン化合物を、不斉修飾水素化アルミニウ
ムリチウム化合物で還元し、一般式(V)〔式中、Yお
よび*は前記と同じ意味を表わす。〕 で示される光学活性アルコール化合物を得る方法が知ら
れている(特開昭57−99575号およリヂウムを用
いることから、水分との接触による発火などの危険性や
(2)より光学純度の高いアルコール化合物を得るため
には、N−置換アニリンのような添加物を多量必要とす
るなどの点で、工業的には必ずしも充分な方法とは言い
難い。
このような状況の下に、本発明者らは、前記一般式(1
)で示されるα、β−不飽和ケトンを不斉還元して一般
式([)で示されるα、β−不飽和アルコール誘導体を
得る方法につき鋭意検討を重ねた結果、前記一般式(1
)で示される光学活性アミノアルコールで修飾された水
素化ホウ素化合物系還元剤を用いることにより、カルボ
ニル基のみが選択的に還元され、しかもより安全に効率
よく目的の光学活性アルコール化合物が得られることを
見出し、本発明を完成するに至った。
)で示されるα、β−不飽和ケトンを不斉還元して一般
式([)で示されるα、β−不飽和アルコール誘導体を
得る方法につき鋭意検討を重ねた結果、前記一般式(1
)で示される光学活性アミノアルコールで修飾された水
素化ホウ素化合物系還元剤を用いることにより、カルボ
ニル基のみが選択的に還元され、しかもより安全に効率
よく目的の光学活性アルコール化合物が得られることを
見出し、本発明を完成するに至った。
以下に、本発明方法につき説明する。
本発明方法で使用される前記一般式(1)で示される光
学活性アミノア°ルコールで修飾された水素化ホウ素化
合物系還元剤において、還元反応の水素源となる水素化
ホウ素化合物としては一般式(1) %式%() 〔式中、Mはアルカリ金属、アルカリ土類金属またはア
ンモニウム基を表わし、nはそのイオン価数を表わす。
学活性アミノア°ルコールで修飾された水素化ホウ素化
合物系還元剤において、還元反応の水素源となる水素化
ホウ素化合物としては一般式(1) %式%() 〔式中、Mはアルカリ金属、アルカリ土類金属またはア
ンモニウム基を表わし、nはそのイオン価数を表わす。
〕
で示される水素化ホウ素アルカリ金属、水素化ホウ素ア
ルカリ土類金属または水素化ホウ素アンモニウム、また
はジボランが用いられる。水素化ホウ素アルカリ金属と
しては水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素すl・リウ
ム、水素化ホウ素カリウムなどが挙げられ、水素化アル
カリ土類金属としては水素化ホウ素亜鉛などが挙げられ
るが、入手の容易さから水素化ホウ素ナトリウムが好ま
しい。
ルカリ土類金属または水素化ホウ素アンモニウム、また
はジボランが用いられる。水素化ホウ素アルカリ金属と
しては水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素すl・リウ
ム、水素化ホウ素カリウムなどが挙げられ、水素化アル
カリ土類金属としては水素化ホウ素亜鉛などが挙げられ
るが、入手の容易さから水素化ホウ素ナトリウムが好ま
しい。
また、前記一般式(1)で示される光学活性アミノアル
コールとしては、一般式(III)で示される光学活性
アルコール誘導体が高い光学収率で得られる点から1.
2−ジアリール−2−アミノエタノールまたはβ−ヒド
ロキシ−α−アミノ酸エステルなどが用いられ、1,2
−ジアリール−2−アミノエタノールとしてはたとえば
1゜2−ジフェニル−2−アミノエタノールが挙げられ
、またβ−ヒドロキシ−α−アミノ酸エステルとしては
たとえばスレオニンのエステルが挙げられ、エステル残
基としてはたとえば炭素数1〜10のアルキル基、アラ
ルキル基、またはシクロアルキル基が挙げられる。
コールとしては、一般式(III)で示される光学活性
アルコール誘導体が高い光学収率で得られる点から1.
2−ジアリール−2−アミノエタノールまたはβ−ヒド
ロキシ−α−アミノ酸エステルなどが用いられ、1,2
−ジアリール−2−アミノエタノールとしてはたとえば
1゜2−ジフェニル−2−アミノエタノールが挙げられ
、またβ−ヒドロキシ−α−アミノ酸エステルとしては
たとえばスレオニンのエステルが挙げられ、エステル残
基としてはたとえば炭素数1〜10のアルキル基、アラ
ルキル基、またはシクロアルキル基が挙げられる。
上記のような光学活性アミノアルコールで修飾された水
素化ホウ素化合物系還元剤を調製するに際し、光学活性
アミノアルコールを塩たとえば塩酸塩、硫酸塩などの鉱
酸塩、酢酸などのカルボン酸の塩またはp−1ルエンス
ルホン酸などのスルホン酸塩とした後、該塩に水素化ホ
ウ素アルカリ金属、水素化ホウ素アルカリ土類金属また
は水素化ホウ素アンモニウムをジメチルスルホキシド、
ジグライム、ジメチルホルムアミドなどの溶媒の溶液と
して反応させることにより、目的の不斉還元剤を得るこ
とができる。
素化ホウ素化合物系還元剤を調製するに際し、光学活性
アミノアルコールを塩たとえば塩酸塩、硫酸塩などの鉱
酸塩、酢酸などのカルボン酸の塩またはp−1ルエンス
ルホン酸などのスルホン酸塩とした後、該塩に水素化ホ
ウ素アルカリ金属、水素化ホウ素アルカリ土類金属また
は水素化ホウ素アンモニウムをジメチルスルホキシド、
ジグライム、ジメチルホルムアミドなどの溶媒の溶液と
して反応させることにより、目的の不斉還元剤を得るこ
とができる。
その際光学活性アミノアルコールの塩はあらかじめ調製
されたものを用いるか、あるいは光学活性アミノアルコ
ールと当量の上記酸から調製することができる。また、
ジボランを用いる場合には光学活性アミノアルコールを
そのままジボランと反応させることにより、目的の不斉
還元剤を得ることができる。
されたものを用いるか、あるいは光学活性アミノアルコ
ールと当量の上記酸から調製することができる。また、
ジボランを用いる場合には光学活性アミノアルコールを
そのままジボランと反応させることにより、目的の不斉
還元剤を得ることができる。
不斉還元剤を調製する場合の水素化ホウ素化合物と光学
活性アミノアルコールのモル比は基質に応じて種々とる
ことができるが、通常水素化ホウ素アルカリ金属と水素
化ホウ素アンモニウムの場合は約1:1〜2:1であり
、水素化ホウ素アルカリ土類金属の場合は約0.5:1
〜1:1であり、またジボランの場合には約0.5:1
−1:1である。
活性アミノアルコールのモル比は基質に応じて種々とる
ことができるが、通常水素化ホウ素アルカリ金属と水素
化ホウ素アンモニウムの場合は約1:1〜2:1であり
、水素化ホウ素アルカリ土類金属の場合は約0.5:1
〜1:1であり、またジボランの場合には約0.5:1
−1:1である。
上記の不斉還元剤調製の反応は、窒素やアルゴンなどの
不活性ガスの雰囲気下、溶媒中で行なわれ、そのような
溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に限定
されるものではないが、ベンゼン、トルエン、キシレン
、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素、塩化メチレン、
1.2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等
のハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジグライム等のエーテル類ある
いはこれらの2種以上の混合溶媒が用いられる。また、
該反応の反応温度は特に制限はなく、−78〜100℃
の範囲、好ましくは一40〜100℃の範囲である。
不活性ガスの雰囲気下、溶媒中で行なわれ、そのような
溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に限定
されるものではないが、ベンゼン、トルエン、キシレン
、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素、塩化メチレン、
1.2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等
のハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジグライム等のエーテル類ある
いはこれらの2種以上の混合溶媒が用いられる。また、
該反応の反応温度は特に制限はなく、−78〜100℃
の範囲、好ましくは一40〜100℃の範囲である。
このようにして得られる不斉還元剤は目的により反応液
より単離し°C用いてもよいが、通常は単離することな
くその溶液のまま還元反応に使用する。なお、該不斉還
元剤の構造は必ずしも確定されたものではないが光学活
性アミノアルコールの水酸基およびアミノ基が水素化ホ
ウ素化合物のホウ素に結合もしくは配位しているものと
推定される。
より単離し°C用いてもよいが、通常は単離することな
くその溶液のまま還元反応に使用する。なお、該不斉還
元剤の構造は必ずしも確定されたものではないが光学活
性アミノアルコールの水酸基およびアミノ基が水素化ホ
ウ素化合物のホウ素に結合もしくは配位しているものと
推定される。
上記のようにして得られる光学活性アミノアルコールで
修飾された水素化ホウ素化合物系還元剤を用いて前記一
般式(I)で示されるケトン化合物を不斉還元するに際
し、用いる還元剤の量は該ケトン化合物1モルに対し0
.5モル以上、通常1〜5モル、好ましくは1〜2モル
である。
修飾された水素化ホウ素化合物系還元剤を用いて前記一
般式(I)で示されるケトン化合物を不斉還元するに際
し、用いる還元剤の量は該ケトン化合物1モルに対し0
.5モル以上、通常1〜5モル、好ましくは1〜2モル
である。
また、該還元反応の反応溶媒としては、不活性溶媒であ
れば特に制限されるものではないが、好適には、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭
化水素、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロ
ロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭素、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライム
等のエーテル類などの有機溶媒またはこれらの2種以上
の混合溶媒が用いられる。
れば特に制限されるものではないが、好適には、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭
化水素、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロ
ロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭素、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライム
等のエーテル類などの有機溶媒またはこれらの2種以上
の混合溶媒が用いられる。
還元反応の温度は一78〜100℃の範囲であるが、工
業的に実施容易な一20〜50°Cの範囲でも高い不斉
収率を達成することが可能であり、このような点からも
本発明製造法は優れた方法と言うことができる。
業的に実施容易な一20〜50°Cの範囲でも高い不斉
収率を達成することが可能であり、このような点からも
本発明製造法は優れた方法と言うことができる。
上記反応条件において前記一般式(1)で示されるケト
ン化合物はその二重結合に関して、8体と2体間の異性
化を伴う。該異性化を抑制する為に、必要に応じ四塩化
チタン、三フッ化ホウ素エーテラート、塩化アルミニウ
ムなどのルイス酸、あるいは酢酸などのカルボン酸また
は硫酸、塩・酸、リン酸などの鉱酸を反応系に添加する
。さらには、製造の効率を上げる為に反応液の濃度を上
げて容積率を大きくした場合に、前記一般式(1)で示
されるケトン化合物のα、β−不飽和カルボニルの二重
結合とカルボニルのいずれもが水素化還元された飽和ア
ルコール体の副生物が増加する傾向があり、この場合に
も必要に応じ上記の酸を添加することにより飽和アルコ
ール体の副生を抑制できる。ζこで用いる添加物とケト
ン化合物のモル比は約o、oi:i〜0.5:1の範囲
が好ましい。
ン化合物はその二重結合に関して、8体と2体間の異性
化を伴う。該異性化を抑制する為に、必要に応じ四塩化
チタン、三フッ化ホウ素エーテラート、塩化アルミニウ
ムなどのルイス酸、あるいは酢酸などのカルボン酸また
は硫酸、塩・酸、リン酸などの鉱酸を反応系に添加する
。さらには、製造の効率を上げる為に反応液の濃度を上
げて容積率を大きくした場合に、前記一般式(1)で示
されるケトン化合物のα、β−不飽和カルボニルの二重
結合とカルボニルのいずれもが水素化還元された飽和ア
ルコール体の副生物が増加する傾向があり、この場合に
も必要に応じ上記の酸を添加することにより飽和アルコ
ール体の副生を抑制できる。ζこで用いる添加物とケト
ン化合物のモル比は約o、oi:i〜0.5:1の範囲
が好ましい。
このようにして還元反応を行った後、反応液に塩酸およ
び硫酸のような鉱酸の水溶液を加え、有機層と水層に分
液し、有機層を水洗、乾燥した後、有機溶媒を除去する
ことにより容易に目的とする前記一般式(II[)で示
される光学活性α。
び硫酸のような鉱酸の水溶液を加え、有機層と水層に分
液し、有機層を水洗、乾燥した後、有機溶媒を除去する
ことにより容易に目的とする前記一般式(II[)で示
される光学活性α。
β−不飽和アルコール誘導体が高収率で得られる。
不斉収率は生成物の旋光度を測定することにより、ある
いは光学活性充填剤を用いた高速液体クロマトグラフィ
ーで直接エナンチオマー比を測定することによりめられ
る。
いは光学活性充填剤を用いた高速液体クロマトグラフィ
ーで直接エナンチオマー比を測定することによりめられ
る。
なお、使用した光学活性アミノアルコールは上記反応後
の水層にアルカリ水溶液を加え、有機溶媒で抽出するこ
とにより立体配置を保持したまま回収され、再使用する
ことができる。
の水層にアルカリ水溶液を加え、有機溶媒で抽出するこ
とにより立体配置を保持したまま回収され、再使用する
ことができる。
以下、実施例により本発明製造法を詳述するが、本発明
はこれらに限定されるものではない。
はこれらに限定されるものではない。
実施例1
窒素雰囲気下、(ト)−1,2−ジフェニル−2−アミ
ノエタノール塩酸塩0.45Of(1,8ミリモル)を
1.2−ジクロロエタン5厘lに懸濁させ一80°Cに
冷却し、水素化ホウ素ナトリウム0.0681F(1,
8ミリモル)のジメチルホルムアミド1 ml溶液を加
え一80°Cより2時間を要して室温とした。次にこの
懸濁液に(E)−1−(2,4−ジクロロフェニル)−
2−(1,2,4−トリアゾール−1−イル)−4,4
−ジメチル−1−ペンテン−3−オン0.899 (1
,2ミリモル)の1゜2−ジクロロエタン4ゴ溶液を室
温ぞ加え24時間攪拌した。次、いて2N塩酸6 wl
を加、tflll拌した。1.2−ジフェニル−2−ア
ミノエタノール塩酸塩を枦取したのち、p液の有機層を
水洗後減圧濃縮した。残留物をクロロホルム溶媒でシリ
カゲル2yのカラムで精製して0.891の←) −(
E)−1−(2、4−ジクロロフェニル)−2−(1、
2、4−トリアゾール−1−イル) 4.4−ジメチル
−1−ペンテン−3−オールの粗結晶を得た。
ノエタノール塩酸塩0.45Of(1,8ミリモル)を
1.2−ジクロロエタン5厘lに懸濁させ一80°Cに
冷却し、水素化ホウ素ナトリウム0.0681F(1,
8ミリモル)のジメチルホルムアミド1 ml溶液を加
え一80°Cより2時間を要して室温とした。次にこの
懸濁液に(E)−1−(2,4−ジクロロフェニル)−
2−(1,2,4−トリアゾール−1−イル)−4,4
−ジメチル−1−ペンテン−3−オン0.899 (1
,2ミリモル)の1゜2−ジクロロエタン4ゴ溶液を室
温ぞ加え24時間攪拌した。次、いて2N塩酸6 wl
を加、tflll拌した。1.2−ジフェニル−2−ア
ミノエタノール塩酸塩を枦取したのち、p液の有機層を
水洗後減圧濃縮した。残留物をクロロホルム溶媒でシリ
カゲル2yのカラムで精製して0.891の←) −(
E)−1−(2、4−ジクロロフェニル)−2−(1、
2、4−トリアゾール−1−イル) 4.4−ジメチル
−1−ペンテン−3−オールの粗結晶を得た。
ガスクロマトグラフィーにより反応率は97.1%であ
り、生成物の組成は生成アルコール体98.6%、生成
飽和アルコール体(生成飽和アルコール体は原料ケトン
のα、β−不飽和ケトンのカルボニル基と二重結合のい
ずれもが水素化還元された生成物を意味する。)1、4
91であった。
り、生成物の組成は生成アルコール体98.6%、生成
飽和アルコール体(生成飽和アルコール体は原料ケトン
のα、β−不飽和ケトンのカルボニル基と二重結合のい
ずれもが水素化還元された生成物を意味する。)1、4
91であった。
光学活性カラムを用いた高速液体クロマトグラフィーに
より生成アルコール体のエナンチオマー比は、←)体6
6.5%、(ト)体88.5%であった(光学収率38
.0%)。
より生成アルコール体のエナンチオマー比は、←)体6
6.5%、(ト)体88.5%であった(光学収率38
.0%)。
(にEND−9,96°((11,0,C!HC[、)
実施例2 実施例1において、(ト)−1,2−ジフェニル−2−
アミノエタノール塩酸塩をL−スレオニンシクロヘキシ
ルエステル塩酸塩に代工た以外は実施例1と同様に行な
い、(ト)−(E)−1−(2,4−ジクロロフェニル
)−2−(1,2,4−)リアゾール−1−イル)−4
.4−ジメチル−1−ペンテン−13−オールを得たつ
生成物のガスクロマトグラフィーにより反応率は58.
6%であり、その組成は生成アルコール体98.9%、
生成飽和アルコール体1.1%であった。
実施例2 実施例1において、(ト)−1,2−ジフェニル−2−
アミノエタノール塩酸塩をL−スレオニンシクロヘキシ
ルエステル塩酸塩に代工た以外は実施例1と同様に行な
い、(ト)−(E)−1−(2,4−ジクロロフェニル
)−2−(1,2,4−)リアゾール−1−イル)−4
.4−ジメチル−1−ペンテン−13−オールを得たつ
生成物のガスクロマトグラフィーにより反応率は58.
6%であり、その組成は生成アルコール体98.9%、
生成飽和アルコール体1.1%であった。
生成アルコール体のエナンチオマー比は0−)体68.
3%、←)体81.796であった(光学収率86.6
%)。
3%、←)体81.796であった(光学収率86.6
%)。
実施例8
窒素雰囲気下0.860 Mのジボランテトラヒドロフ
ラン溶液2.50 ml (ジボラン0.9Eリモル)
とテトラヒドロフラン2 ml溶液中へ(ト)−1,2
−ジフェニル−2−アミノエタノール0.884F(1
,8ミリモル)のテトラヒドロフラン4 ml溶液を一
78°Cで滴下し、−78°Cより約2時間を要して室
温とした。次に、この液に室温で(E) −1−(2、
4−ジクロロフェニル)−2−(1、2、4−)リアゾ
ール−1−イル)−4,4−ジメチル−1−ペンテン−
8−オン0.89F(1,2ミリモル)のテトラヒドロ
フラン4 ml溶液を滴下し、24時間攪拌した。反応
液に2N塩酸6yxlを加えて約2時間攪拌じ、(ト)
−1,2−ジフェニル−2−アミノエタノール塩[IF
取し、F液の有機層を水で洗浄後、減圧濃縮した。残留
物をクロロホルム溶媒で2Fのシリカゲルカラムで精製
して0.89 Fの←)−(E)−1−(2,4−ジク
ロロフェニル)−2−(1,2,4−)リアゾール−1
−イル)−4,4−ジメチル−1−ペンテン−8−オー
ルの粗結晶を得た。
ラン溶液2.50 ml (ジボラン0.9Eリモル)
とテトラヒドロフラン2 ml溶液中へ(ト)−1,2
−ジフェニル−2−アミノエタノール0.884F(1
,8ミリモル)のテトラヒドロフラン4 ml溶液を一
78°Cで滴下し、−78°Cより約2時間を要して室
温とした。次に、この液に室温で(E) −1−(2、
4−ジクロロフェニル)−2−(1、2、4−)リアゾ
ール−1−イル)−4,4−ジメチル−1−ペンテン−
8−オン0.89F(1,2ミリモル)のテトラヒドロ
フラン4 ml溶液を滴下し、24時間攪拌した。反応
液に2N塩酸6yxlを加えて約2時間攪拌じ、(ト)
−1,2−ジフェニル−2−アミノエタノール塩[IF
取し、F液の有機層を水で洗浄後、減圧濃縮した。残留
物をクロロホルム溶媒で2Fのシリカゲルカラムで精製
して0.89 Fの←)−(E)−1−(2,4−ジク
ロロフェニル)−2−(1,2,4−)リアゾール−1
−イル)−4,4−ジメチル−1−ペンテン−8−オー
ルの粗結晶を得た。
生成物のガスクロマトグラフィーにより反応率は88.
9%であり、その組成は生成アルコール体100%であ
った。生成アルコール体のエナンチオマー比は←)体6
8.0%、(ト)体32.0%であった(光学収率86
.0%)。
9%であり、その組成は生成アルコール体100%であ
った。生成アルコール体のエナンチオマー比は←)体6
8.0%、(ト)体32.0%であった(光学収率86
.0%)。
〔α〕o−8,45°(C1,0、0HO13)実施例
4〜9 実施例3において、1.2−ジフェニル塩酸塩をL−ス
レオニンシクロヘキシルエステルまたはL−スレオニン
エチルエステルに代え、ジボランテトラヒドロフラン溶
液以外の溶媒をテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
、ジオキサンを使用した以外は実施例8と同様に行ない
、(ト)−(E)−t−(2,4−ジクロロフェニル)
−2−(1、2、4−)リアゾール−1−イル)−4,
4−ジメチル−1−ペンテン−3−オールを得た。結果
を表−1に示す。
4〜9 実施例3において、1.2−ジフェニル塩酸塩をL−ス
レオニンシクロヘキシルエステルまたはL−スレオニン
エチルエステルに代え、ジボランテトラヒドロフラン溶
液以外の溶媒をテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
、ジオキサンを使用した以外は実施例8と同様に行ない
、(ト)−(E)−t−(2,4−ジクロロフェニル)
−2−(1、2、4−)リアゾール−1−イル)−4,
4−ジメチル−1−ペンテン−3−オールを得た。結果
を表−1に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)一般式(1) 〔式中、又はハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル
基、シアノ基、アルコキシル基、フェノキシ基、フェニ
ル基または水素原子を表わし、nは1〜5の整数を表わ
すO几、はイミダゾール−1−イル基または1゜2.4
−)リアゾール−1−イル基を表わす。几、はt−ブチ
ル基を表わすか、またはアルキル基、アルコキシル基、
フェニル基あるいはハロゲン原子で置換されていてもよ
いフェニル基を表わす。〕 で示されるケトン化合物を、一般式(1)%式% 〔式中、几、はアルキル基、アリール基またはアラルキ
ル基を表わす。几、はアルキル基、アリール基またはア
ルコキシカルボニル基を表わす。堀は水素原子、炭素数
1〜6のアルキル基またはアラルキル基を表わす。 *は不斉炭素を表わす。ただし、几、がフェニル基であ
り、かつR4がメチル基である場合を除く。〕 で示される光学活性アミノアルコールで[Iiされた水
素化ホウ素化合物系還元剤で不斉還元することを特徴と
する一般式 〔式中、X、n、R1、几、および*は前記と同じ意味
を表わす。) で示される光学活性アルコール誘導体の製造法。 (2)光学活性アミノアル2−ルが1.2−ジアリール
−2−アミノエタノールである特許請求の範囲第1項に
記載の製造法。 a3)光学活性アミノアルコールがβ−ヒドロキシ−α
−アミノ酸エステルである特許請求の範囲第1項に記載
の製造法。 (4)水素化ホウ素化合物系還元剤が、上記一般式(1
)で示される光学活性アミアルコールの鉱酸塩、スルホ
ン酸塩またはカルボン酸塩を一般式 %式%) 〔式中、Mはアルカリ金属、アルカリ土類金属またはア
ンモニウム基を表わし、nはそのイオン価数を表わす。 〕 で示される水素化ホウ素化合物と反応させることにより
得られる特許請求の範囲第1項、第2項または第8項に
記載の製造法。 (5) 不斉還元においてルイス酸、有機酸または鉱酸
を添加する特許請求の範囲第1項、第2項、第8項また
は第4項に記載の製造法。 (6)上記一般式(1)において、Xnが2.4−ジク
ロロ基である特許請求の範囲第1項、第2項、第8項、
第4項または第5項に記載の製造法。 (7)上記一般式(1)において、Xnが4−クロロ基
である特許請求の範囲第1項、第2項、第8項、第4項
または第5項に記載の製造法。
Priority Applications (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23485983A JPS60126273A (ja) | 1983-12-12 | 1983-12-12 | 光学活性アルコ−ル誘導体の製造法 |
EP84901411A EP0142566B1 (en) | 1983-04-04 | 1984-04-03 | Asymmetrically modified boron hydride compounds, process for its preparation, and process for preparing optically active alcohol derivative using same |
HU90848A HU202873B (en) | 1983-04-04 | 1984-04-03 | Process for producing asymmetrically modified boron hydride type compounds |
HU841720A HU200755B (en) | 1983-04-04 | 1984-04-03 | Process for producing optically active alcohol derivatives by using asymmetrically modified compounds of boron hydride type |
PCT/JP1984/000161 WO1984003885A1 (en) | 1983-04-04 | 1984-04-03 | Asymmetrically modified boron hydride compounds, process for its preparation, and process for preparing optically active alcohol derivative using same |
DE8484901411T DE3479500D1 (en) | 1983-04-04 | 1984-04-03 | Asymmetrically modified boron hydride compounds, process for its preparation, and process for preparing optically active alcohol derivative using same |
DK572184A DK572184A (da) | 1983-04-04 | 1984-11-30 | Asymmetrisk modificerede borhydridforbindelser, fremgangsmaade til fremstilling heraf og fremgangsmaade til fremstilling af optisk aktivt alkoholderivat ved anvendelse heraf |
US06/781,453 US4760149A (en) | 1983-04-04 | 1985-09-30 | Asymmetrically modified boron hydride type compound, a production method thereof, and a method for producing an optically active alcohol derivative by the use thereof |
US07/189,472 US5041651A (en) | 1983-04-04 | 1988-05-02 | Asymmetrically modified boron hydride type compound and a method for producing an optically active alcohol derivative by the use thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23485983A JPS60126273A (ja) | 1983-12-12 | 1983-12-12 | 光学活性アルコ−ル誘導体の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60126273A true JPS60126273A (ja) | 1985-07-05 |
Family
ID=16977463
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23485983A Pending JPS60126273A (ja) | 1983-04-04 | 1983-12-12 | 光学活性アルコ−ル誘導体の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60126273A (ja) |
-
1983
- 1983-12-12 JP JP23485983A patent/JPS60126273A/ja active Pending
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