JPS60174772A - 光学活性アルコ−ル誘導体の製造法 - Google Patents
光学活性アルコ−ル誘導体の製造法Info
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- JPS60174772A JPS60174772A JP3112784A JP3112784A JPS60174772A JP S60174772 A JPS60174772 A JP S60174772A JP 3112784 A JP3112784 A JP 3112784A JP 3112784 A JP3112784 A JP 3112784A JP S60174772 A JPS60174772 A JP S60174772A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はケトン化合物の新規な不斉還元方法に関する。
さらに詳しくは本発明は一般式(1
〔式中、Xはハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル
基、シアノ基、アルコキシル基、フェノキシ基、フェニ
ル基または水素原子を表わし、nは1〜5の整数を表わ
す。
基、シアノ基、アルコキシル基、フェノキシ基、フェニ
ル基または水素原子を表わし、nは1〜5の整数を表わ
す。
R,はイミダゾ−Iレーl−イlし基またはl。
2 、4−)リアゾール−1−イル基を表わす。R12
はt−ブチル基を表わすか、またはアルキル基、アルコ
キシル基、フェニル基あるいはハロゲン原子で1tff
(Iされていてもよいフェニル基を表わす。〕 で示されるケトン化合物を、ルイス酸、有機酸または鉱
酸の存在下に、一般式用 〔式中、kは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基また
はアラルキル基を表わし、*印は不斉炭素を意味する。
はt−ブチル基を表わすか、またはアルキル基、アルコ
キシル基、フェニル基あるいはハロゲン原子で1tff
(Iされていてもよいフェニル基を表わす。〕 で示されるケトン化合物を、ルイス酸、有機酸または鉱
酸の存在下に、一般式用 〔式中、kは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基また
はアラルキル基を表わし、*印は不斉炭素を意味する。
〕
で示される光学活性アミノアルコールで修飾された水素
化ホウ素化合物系還元剤で不斉還元することによる、一
般式(Ill 〔式中、xSn、R1、R2および*印は前記と同じ意
味を表わす。〕 で示される光学活性アルコール誘導体の製造法に関する
ものである。
化ホウ素化合物系還元剤で不斉還元することによる、一
般式(Ill 〔式中、xSn、R1、R2および*印は前記と同じ意
味を表わす。〕 で示される光学活性アルコール誘導体の製造法に関する
ものである。
上記一般式@)で示されるアルコール誘導体、即ちアゾ
ール系α、β−不飽和アルコール誘導体は例えば、1−
(2,4−ジクロロフェニル)−2−(1,2,4−ト
リアゾール−1−イル)−4,4−ジメチル−1−ペン
テ7−8−1−ルやl −(4−クロロフェニル)−2
−(1,2,4−トリアゾール−1−イル)−4,4−
ジメチル−1−ペンテン−8−オールに代表されるよう
に、殺菌剤、植物生長調節剤または除草剤の有効成分と
して有用であることが知られている。そしてその活性に
おいては、異性体の間で顕著な差違があり、殺菌剤とし
ては←)体が、植物生長調節剤および除草剤としては出
体が強い効力を有することも知られている(特開昭57
−99575号および特開昭57−106669号公報
)。
ール系α、β−不飽和アルコール誘導体は例えば、1−
(2,4−ジクロロフェニル)−2−(1,2,4−ト
リアゾール−1−イル)−4,4−ジメチル−1−ペン
テ7−8−1−ルやl −(4−クロロフェニル)−2
−(1,2,4−トリアゾール−1−イル)−4,4−
ジメチル−1−ペンテン−8−オールに代表されるよう
に、殺菌剤、植物生長調節剤または除草剤の有効成分と
して有用であることが知られている。そしてその活性に
おいては、異性体の間で顕著な差違があり、殺菌剤とし
ては←)体が、植物生長調節剤および除草剤としては出
体が強い効力を有することも知られている(特開昭57
−99575号および特開昭57−106669号公報
)。
このようなことから、その使用目的により(−)体また
は(ト)体の何れか一方の光学異性体を、1君的に効率
よく製造する方法の開発が望まれている。
は(ト)体の何れか一方の光学異性体を、1君的に効率
よく製造する方法の開発が望まれている。
従来、ケトン化合物のカルボニル基を還元してアルコー
ル化合物に導くための還元剤としては、水素化アルミニ
ウムリチウムや水素化ホウ素ナトリウムに代表される種
々の試薬が知られているが、これらの試薬を用いた場合
にはその還元生成物は光芋不活性即ちラセミ体であり、
また、用いるケトン化合物に不飽和結合を含む場合、殊
に本発明方法の原料物質のようなα、β−共役不飽和ケ
トンの還元に用いた場合には、カルボニル基に加え二重
結合部位の還元も起こり易く、さらには、二重結合に関
する立体配置の異性化の可能性も生じてくる。
ル化合物に導くための還元剤としては、水素化アルミニ
ウムリチウムや水素化ホウ素ナトリウムに代表される種
々の試薬が知られているが、これらの試薬を用いた場合
にはその還元生成物は光芋不活性即ちラセミ体であり、
また、用いるケトン化合物に不飽和結合を含む場合、殊
に本発明方法の原料物質のようなα、β−共役不飽和ケ
トンの還元に用いた場合には、カルボニル基に加え二重
結合部位の還元も起こり易く、さらには、二重結合に関
する立体配置の異性化の可能性も生じてくる。
これまでに、アゾール系α、β−不飽和ケトンの不斉還
元法としては、一般式(IVIl 〔式中、Yは水素原子または塩素原子を表わす。〕 で示されるケトン化合物を、不斉修飾水素化アルミニウ
ムリチウム化合物で還元し、一般式ff) 〔式中、Yおよび*は前記と同じ意味を表わす。〕 で示される光学活性アルコール化合物を得る方法が知ら
れている(特開昭57−99675号および同57−1
06669号)。
元法としては、一般式(IVIl 〔式中、Yは水素原子または塩素原子を表わす。〕 で示されるケトン化合物を、不斉修飾水素化アルミニウ
ムリチウム化合物で還元し、一般式ff) 〔式中、Yおよび*は前記と同じ意味を表わす。〕 で示される光学活性アルコール化合物を得る方法が知ら
れている(特開昭57−99675号および同57−1
06669号)。
しかしながら該方法は、+11水素化アルミニウムリチ
ウムを用いることから、水分との接触による発火などの
危険性や(2)より光学純度の高いアルコール化合物を
得るためには、N−置換アニリンのような添加物を多く
必要とするなどの点で、工業的には必ずしも充分な方法
とは言い難い。
ウムを用いることから、水分との接触による発火などの
危険性や(2)より光学純度の高いアルコール化合物を
得るためには、N−置換アニリンのような添加物を多く
必要とするなどの点で、工業的には必ずしも充分な方法
とは言い難い。
このような状況の下に、本発明者らは、前記一般式(I
)で示されるα、β−不飽和ケトン化合物を不斉還元し
て一般式(Illで示される光学活性α、β−不飽和ア
ルコール誘導体を得る方法につき鋭意検討を市ねた結果
、一般式(■)で示される光学活性アミノアルコールで
修飾された水素化ホウ素化合物系還元剤を用い、ルイス
酸、有機酸または鉱酸の存在下に、一般式(Ilで示さ
れるケトン化合物を不斉還元することにより、カルボニ
ル基のみが選択的に還元され、二重結合に関する立体配
置の異性化も抑制でき、しかもより安全に効率よく目的
の一般弐佃)で示される光学活性アルコール化合物が得
られることを見出し、本発明を完成するに至った。
)で示されるα、β−不飽和ケトン化合物を不斉還元し
て一般式(Illで示される光学活性α、β−不飽和ア
ルコール誘導体を得る方法につき鋭意検討を市ねた結果
、一般式(■)で示される光学活性アミノアルコールで
修飾された水素化ホウ素化合物系還元剤を用い、ルイス
酸、有機酸または鉱酸の存在下に、一般式(Ilで示さ
れるケトン化合物を不斉還元することにより、カルボニ
ル基のみが選択的に還元され、二重結合に関する立体配
置の異性化も抑制でき、しかもより安全に効率よく目的
の一般弐佃)で示される光学活性アルコール化合物が得
られることを見出し、本発明を完成するに至った。
以下に、本発明方法につき説明する。
本発明方法で使用される前記一般式(Illで示される
光学活性アミノアルコールで修fW1iされた水素化ホ
ウ素化合物系還元剤において、還元反応の水素源となる
水素化ホウ素化合物としては一般式(Vl) M(BH,)n (■) 〔式中、Mはアルカリ金属、アルカリ土類金属またはア
ンモニウム基を表わし、nはそのイオン価数を表わす。
光学活性アミノアルコールで修fW1iされた水素化ホ
ウ素化合物系還元剤において、還元反応の水素源となる
水素化ホウ素化合物としては一般式(Vl) M(BH,)n (■) 〔式中、Mはアルカリ金属、アルカリ土類金属またはア
ンモニウム基を表わし、nはそのイオン価数を表わす。
〕
で示される化合物、即ち水素化ホウ素アルカリ金属、水
素化ホウ素アルカリ土類金属または水素化ホウ素アンモ
ニウムが用いられる。
素化ホウ素アルカリ土類金属または水素化ホウ素アンモ
ニウムが用いられる。
水素化ホウ素アルカリ金1fiとしては水素化ホウ素リ
チウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウ
ムなどが挙げられ、水素化アルカリ土類金属としては水
素化ホウ素亜鉛などが・挙げられるが、入手の容易さか
ら水素化ホウ累ナトリウムが好ましい。
チウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウ
ムなどが挙げられ、水素化アルカリ土類金属としては水
素化ホウ素亜鉛などが・挙げられるが、入手の容易さか
ら水素化ホウ累ナトリウムが好ましい。
また、前記一般式(山で示される光学活性アミノアルコ
ールとしては、例えば光学活性なノルエフェドリン、)
2レプソイドエフエドリンなどが挙げられる。
ールとしては、例えば光学活性なノルエフェドリン、)
2レプソイドエフエドリンなどが挙げられる。
このような光学活性アミノアルコールで修飾された水素
化ホウ素化合物系】V1元剤を調製するには、通常、光
学活性アミノアルコ−/しの塩、例えば塩酸、硫酸など
の鉱酸の塩、酢酸などのカルボン酸の塩またはp−トノ
レニンスルホン峻などのスルホン酸の塩と、水素化ホウ
素アルカリ金属、水素化ホウ素アルカリ土類金属または
水素化ホウ素アンモニウムをジメチルスルホキシド、ジ
グライム、ジメチルホルムアミドなどの溶媒の溶液とし
て反応させることにより、目的の不斉還元剤を得ること
ができる、その際、光学活性アミノアルコールの塩はあ
らかじめ調製されたものを用いるか、あるいは光学活性
アミノアルコールと当鼠の上記酸から調製することがで
きる。
化ホウ素化合物系】V1元剤を調製するには、通常、光
学活性アミノアルコ−/しの塩、例えば塩酸、硫酸など
の鉱酸の塩、酢酸などのカルボン酸の塩またはp−トノ
レニンスルホン峻などのスルホン酸の塩と、水素化ホウ
素アルカリ金属、水素化ホウ素アルカリ土類金属または
水素化ホウ素アンモニウムをジメチルスルホキシド、ジ
グライム、ジメチルホルムアミドなどの溶媒の溶液とし
て反応させることにより、目的の不斉還元剤を得ること
ができる、その際、光学活性アミノアルコールの塩はあ
らかじめ調製されたものを用いるか、あるいは光学活性
アミノアルコールと当鼠の上記酸から調製することがで
きる。
不斉還元剤を調製する場合の水素化ホウ素化合物と光学
活性アミノアルコールのモル比は基質に応じて種々とる
ことができるが、通常水素化ホウ素アルカリ金属と水素
化ホウ素アンモニウムの場合は約l:l〜2:1であり
、水素化ホウ素アルカリ土類金属の場合は約0.5:1
−1:lである。
活性アミノアルコールのモル比は基質に応じて種々とる
ことができるが、通常水素化ホウ素アルカリ金属と水素
化ホウ素アンモニウムの場合は約l:l〜2:1であり
、水素化ホウ素アルカリ土類金属の場合は約0.5:1
−1:lである。
上記の不斉還元剤調製の反応は、窒素やアルゴンなどの
不活性がスの゛雰囲気ド、溶媒中で行なわれ、そのよう
な溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に限
定されるものではないが、例えばベンゼン、トルエン、
キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素、塩化メ
チレン、1.2−ジクロロエタン、クロロホルム、四基
化炭素等のハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライム等のエーテ
ル類あるいはこれらの2種以上の混合溶媒が用いられる
。また、該反応の反応温度は特に制限はなく、−78〜
100℃の範囲、好ましくは一40〜ioo℃の範囲で
ある。
不活性がスの゛雰囲気ド、溶媒中で行なわれ、そのよう
な溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に限
定されるものではないが、例えばベンゼン、トルエン、
キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素、塩化メ
チレン、1.2−ジクロロエタン、クロロホルム、四基
化炭素等のハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライム等のエーテ
ル類あるいはこれらの2種以上の混合溶媒が用いられる
。また、該反応の反応温度は特に制限はなく、−78〜
100℃の範囲、好ましくは一40〜ioo℃の範囲で
ある。
このようにして得られる不斉」襞元剤は目的により反応
液より車間[シてIllいてもよいか、通常は里?EA
することなくその溶成のまま)な元反応に使用する。な
お、該不斉還元剤の構造は必すしも確定されたものでは
ないが光学活性アミノアルコールの水!’i(2Mおよ
びアミノ八が水素化ホウ素化合物のホウ素に結合もしく
は配位しているものと推定される。
液より車間[シてIllいてもよいか、通常は里?EA
することなくその溶成のまま)な元反応に使用する。な
お、該不斉還元剤の構造は必すしも確定されたものでは
ないが光学活性アミノアルコールの水!’i(2Mおよ
びアミノ八が水素化ホウ素化合物のホウ素に結合もしく
は配位しているものと推定される。
上述のようにして得られる光学活性アミノアルコールで
修飾された水素化ホウ素化合物系還元剤を用いて、ルイ
ス酸、有機酸または鉱酸の存在下に;前記一般式(Il
で示されるケトン化合物を不斉還元することにより、前
記一般式Q[Ilで示される光学活性アルコール誘導体
が得られる。
修飾された水素化ホウ素化合物系還元剤を用いて、ルイ
ス酸、有機酸または鉱酸の存在下に;前記一般式(Il
で示されるケトン化合物を不斉還元することにより、前
記一般式Q[Ilで示される光学活性アルコール誘導体
が得られる。
上記のルイス酸としては、例えば四塩化チタン、三フッ
化ホウ素エーテラートまたは塩化アルミニウムが挙げら
れ、有機酸としては、例えば酢酸が挙げられ、鉱酸とし
ては、例えば硫酸、塩酸またはリン酸が挙げられる。
化ホウ素エーテラートまたは塩化アルミニウムが挙げら
れ、有機酸としては、例えば酢酸が挙げられ、鉱酸とし
ては、例えば硫酸、塩酸またはリン酸が挙げられる。
この不斉還元反応において使用される還元剤の量は前記
一般式(Ilで示されるケトン化合物1モルに対し0.
5モル以上、通常1〜5モル、好ましくは1〜2モルで
ある。また、ルイス酸、カルボン酸または鉱酸の該ケト
ン化合物に対するモル比は、通常0.01〜0.5 (
7)範囲である。
一般式(Ilで示されるケトン化合物1モルに対し0.
5モル以上、通常1〜5モル、好ましくは1〜2モルで
ある。また、ルイス酸、カルボン酸または鉱酸の該ケト
ン化合物に対するモル比は、通常0.01〜0.5 (
7)範囲である。
不斉還元反応の反応溶媒としては、不活性溶媒であれば
特に制限されるものではなく、前述の不斉還元剤の調製
の際の溶媒が用いられ、好適には、ベンゼン、トルエン
、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素、塩ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
グライム等のエーテル類あるいはこれらの2種以上の混
合溶媒が用いられる。
特に制限されるものではなく、前述の不斉還元剤の調製
の際の溶媒が用いられ、好適には、ベンゼン、トルエン
、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素、塩ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
グライム等のエーテル類あるいはこれらの2種以上の混
合溶媒が用いられる。
還元反応の温度は通常−78〜100℃の範囲であるが
、1聚的に実施容易な一20〜50℃の範囲でも高い不
斉収率を達成することかり能である。さらに、製造の効
率を上けるために反応系を濃曜にして容Fi1率を大き
くした場合においても、本発明製造法は、カルボニル基
の還元のみでなく二=R結合が水素化された飽和アルコ
ール体の生成物を抑制することができ、これらの点から
も本発明製造法は優れた方法と言うことができる。
、1聚的に実施容易な一20〜50℃の範囲でも高い不
斉収率を達成することかり能である。さらに、製造の効
率を上けるために反応系を濃曜にして容Fi1率を大き
くした場合においても、本発明製造法は、カルボニル基
の還元のみでなく二=R結合が水素化された飽和アルコ
ール体の生成物を抑制することができ、これらの点から
も本発明製造法は優れた方法と言うことができる。
このようにして還元反応を行9た後、反応液に塩酸およ
び硫酸のような鉱酸の水溶液を加え、有機層と水層に分
液し、有機層を、水洗、乾燥した後、有機溶媒を除去す
ることにより6易に目的とする前記一般式(2))で示
される光学活性α、β−不飽和アルコール誘導体が高収
率で得られる。
び硫酸のような鉱酸の水溶液を加え、有機層と水層に分
液し、有機層を、水洗、乾燥した後、有機溶媒を除去す
ることにより6易に目的とする前記一般式(2))で示
される光学活性α、β−不飽和アルコール誘導体が高収
率で得られる。
不斉収率は生成物の旋光度を測定することにより、ある
いは光学活性充填剤を用いた高速液体クロマトグラフィ
ーで直接エナンチオマー比を測定することによりめられ
る。
いは光学活性充填剤を用いた高速液体クロマトグラフィ
ーで直接エナンチオマー比を測定することによりめられ
る。
なお、使用した光学活性アミノアルコールは上記反応後
の水層にアルカリ水溶液を加え、有機溶媒で抽出するこ
とにより立体配置を保持したまま回収され、再使用する
ことができる。
の水層にアルカリ水溶液を加え、有機溶媒で抽出するこ
とにより立体配置を保持したまま回収され、再使用する
ことができる。
以下、実施例および参考例により本発明製造法を詳述す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例1
窒素雰囲気下、(−1−1−ノルエフェドリン塩酸塩0
.888f(1,8ミリモル)を1.2−ジクロロエタ
ン5 ytlに懸濁させ、−80℃で水素化ホウ素ナト
リウム0.0681?(1,8ミリモル)のジメチルホ
ルムアミドl nt浴溶液加え、2時間を要して常温と
した。次にこの懸洞液に酢酸0.0108r(0,18
ミリモlし)と(E)−1−(4−クロロフェニル)−
2−(1,2,4−トリアゾール−1−イル)−4,4
−ジメチル−1−ペンテン−3−オン(E体/Z体=9
9.8 10.2 ) 04 5 f (1,2ミ
リ 七 Iし )の1,2−ジクロロエタン4sy/i
g液を常温で加え、24時間攪拌した。次いで2N塩酸
6 mlを加え2時間攪拌した。有機層を水洗後減圧濃
縮し、残留物をクロロホルム溶媒テシリカゲル21のカ
ラムで精製したのち、減圧濃縮すると0.85 fの(
−1−tE) −1−(4−クロロフェニル)−2−(
1,2゜4−トリアゾール−1−イル)−4、4−ジメ
チル−1−ペンテン−3−オールノ粗結晶が得られた。
.888f(1,8ミリモル)を1.2−ジクロロエタ
ン5 ytlに懸濁させ、−80℃で水素化ホウ素ナト
リウム0.0681?(1,8ミリモル)のジメチルホ
ルムアミドl nt浴溶液加え、2時間を要して常温と
した。次にこの懸洞液に酢酸0.0108r(0,18
ミリモlし)と(E)−1−(4−クロロフェニル)−
2−(1,2,4−トリアゾール−1−イル)−4,4
−ジメチル−1−ペンテン−3−オン(E体/Z体=9
9.8 10.2 ) 04 5 f (1,2ミ
リ 七 Iし )の1,2−ジクロロエタン4sy/i
g液を常温で加え、24時間攪拌した。次いで2N塩酸
6 mlを加え2時間攪拌した。有機層を水洗後減圧濃
縮し、残留物をクロロホルム溶媒テシリカゲル21のカ
ラムで精製したのち、減圧濃縮すると0.85 fの(
−1−tE) −1−(4−クロロフェニル)−2−(
1,2゜4−トリアゾール−1−イル)−4、4−ジメ
チル−1−ペンテン−3−オールノ粗結晶が得られた。
がスクロマトグラフイーでの分析により、反応率は79
.4%であり、生成物の組成はアルコール8体92.5
%、飽和アルコール体0.8%、アルコール2体 −(
ケトン化合物が2体に異性化したのち、カルボニル基の
みが還元されている。)7.2%であった。アルコール
8体のエナンチオマー比は光学活性カラムを用いた高速
液体クロマトグラフィーにより(−)一体76.1%、
山一体23.9%であった。光学収率52.2%。
.4%であり、生成物の組成はアルコール8体92.5
%、飽和アルコール体0.8%、アルコール2体 −(
ケトン化合物が2体に異性化したのち、カルボニル基の
みが還元されている。)7.2%であった。アルコール
8体のエナンチオマー比は光学活性カラムを用いた高速
液体クロマトグラフィーにより(−)一体76.1%、
山一体23.9%であった。光学収率52.2%。
実施例2〜11
実施例1において「1「酸に代えて四塩化チタン、三フ
ッ化ホウ素 エーテラート、塩化マグネシウム、塩化ア
ルミニウム、モノクロル酢酸、プロピオン酸または濃硫
酸を使用した以外は実施例1に準じて行なった。
ッ化ホウ素 エーテラート、塩化マグネシウム、塩化ア
ルミニウム、モノクロル酢酸、プロピオン酸または濃硫
酸を使用した以外は実施例1に準じて行なった。
結果を表−1にまとめて示す。
実施例12−14
実施例1においてノルエフェドリン塩酸塩と水素化ホウ
素ナトリウムのモル比を変えた以外は実施例1に嘔じて
行なった。結果を表−2にまとめた。
素ナトリウムのモル比を変えた以外は実施例1に嘔じて
行なった。結果を表−2にまとめた。
\、
実施例15
窒素雰囲気下、←)ノルエフェドリン塩酸塩8.18
f (0,0486モル)のクロロベンゼン62.17
r懸濁液に酢酸0.8989(0,0065モル)を
加え、5〜lO℃−C水喀化ホウ素ナトリウム1.81
5f (0,0480モル)のジメチルホルムアミド9.35
グ、合液を1.5時間でf西下したのち、濱温で1時間
接伴し、酢酸0.26? (0,00488モル)および(El−1−(4−クロ
ロフェニル)−2−(1,2,4−トリアゾール−1−
イル)−4,4−ジメチル−1−ペンテン−3−オン8
.42f(E/Z=99.810.2.0.0291モ
ル)のクロロベンゼン49.7 ? 溶液を常温で加え
、18時間保温攪拌した。反応液に10%塩酸17.5
0 fと水5fを加えて分解し、有機;噂を分液し、水
洗後、減圧(bJ縮すると8、 l 5 fの(+1−
(El−t −(4−クロロフェニル)−2−(1,2
,4−)リアゾール−1−イル)−4,4−ジメチル−
1−ペンテン−8−オールの結晶が得られた。反応率は
99.8%であり、生成物の組成はアルコール6体90
.8%、N1和アルコール体2.8%、アルコール2体
6.9%であった。
f (0,0486モル)のクロロベンゼン62.17
r懸濁液に酢酸0.8989(0,0065モル)を
加え、5〜lO℃−C水喀化ホウ素ナトリウム1.81
5f (0,0480モル)のジメチルホルムアミド9.35
グ、合液を1.5時間でf西下したのち、濱温で1時間
接伴し、酢酸0.26? (0,00488モル)および(El−1−(4−クロ
ロフェニル)−2−(1,2,4−トリアゾール−1−
イル)−4,4−ジメチル−1−ペンテン−3−オン8
.42f(E/Z=99.810.2.0.0291モ
ル)のクロロベンゼン49.7 ? 溶液を常温で加え
、18時間保温攪拌した。反応液に10%塩酸17.5
0 fと水5fを加えて分解し、有機;噂を分液し、水
洗後、減圧(bJ縮すると8、 l 5 fの(+1−
(El−t −(4−クロロフェニル)−2−(1,2
,4−)リアゾール−1−イル)−4,4−ジメチル−
1−ペンテン−8−オールの結晶が得られた。反応率は
99.8%であり、生成物の組成はアルコール6体90
.8%、N1和アルコール体2.8%、アルコール2体
6.9%であった。
アルコール6体のエナンチオマー比は…一体81.0%
、(=)一体19.0%であった。光学収率62.0%
。
、(=)一体19.0%であった。光学収率62.0%
。
実施例16
窒素雰囲気下、…ノルエフェドリン塩酸塩18.07F
(0,0696モル)の1.2−ジクロロエタン52.
26 t !V!瀾7&中へ一20℃で水素化ホウ素ナ
トリウム2.64f(0,0698モlし)のジメチル
ホルムアミド14.95f溶液を滴下し、−20℃より
2時間を要して常温とした。
(0,0696モル)の1.2−ジクロロエタン52.
26 t !V!瀾7&中へ一20℃で水素化ホウ素ナ
トリウム2.64f(0,0698モlし)のジメチル
ホルムアミド14.95f溶液を滴下し、−20℃より
2時間を要して常温とした。
次いで、リン酸0.85rを加えたのち、(El−1−
(2,4−ジクロロフェニル)−2−(1,2,4−ト
リアゾール−1−イル)−4,4−ジメチル−1−ペン
テンー3−オン(E/Z=97.6 /2.4 ) 1
6.12r(0,0497モル)O)1.2−ジクロロ
エタン49.87Fギ1液を20〜25℃で加え、20
時間保温攪拌した。反応液に20%硝酸24.17 F
、水4.62を加えて分解し、何(幾r’Jtを分液し
、水洗後、減圧a縮すると15.6Ofの(−1−(E
l−1−(2,4−ジクロロフェニル)−2−(1,2
,4−トリアゾール−1−イル)−4,4−ジメチル−
1−ペンテン−3−オールの結晶カ得られた。反応率は
99.8%−Cあり、生成、・り1の、組成はアルコー
ル8体95.5.!ど、飽和の工六ンチオマー比は(−
)一体858%、(月一体14.2%であった。尤を収
・す=<71.6?ど。
(2,4−ジクロロフェニル)−2−(1,2,4−ト
リアゾール−1−イル)−4,4−ジメチル−1−ペン
テンー3−オン(E/Z=97.6 /2.4 ) 1
6.12r(0,0497モル)O)1.2−ジクロロ
エタン49.87Fギ1液を20〜25℃で加え、20
時間保温攪拌した。反応液に20%硝酸24.17 F
、水4.62を加えて分解し、何(幾r’Jtを分液し
、水洗後、減圧a縮すると15.6Ofの(−1−(E
l−1−(2,4−ジクロロフェニル)−2−(1,2
,4−トリアゾール−1−イル)−4,4−ジメチル−
1−ペンテン−3−オールの結晶カ得られた。反応率は
99.8%−Cあり、生成、・り1の、組成はアルコー
ル8体95.5.!ど、飽和の工六ンチオマー比は(−
)一体858%、(月一体14.2%であった。尤を収
・す=<71.6?ど。
参I!;例1
沓i素・3囲気下、(ト)−フルエフェドリン塩酸幅0
.338f(1,8ミリモル)を1.2−ジクロロエタ
ン5肩lに懸(イiilさt=、−aOCで水素化ホウ
素ナトリウム0.0681F(1,8ミリモル)のジメ
チルホルムアミド1m/f’ll液を加え、2時間を要
して常温とした。次にこのk M液1こ(El−1−(
4−クロロフェニル)−2−(1、2、4−)リアゾー
ル−1−イル)−4,4−ジメチル−1−ペンテン−3
−オン(E体/Z体=9 9、 8 / 0. 2 )
0. 8 5 r (、1,2ミ リ モ lし )
の1,2−ジクロロエタン4屑tq液を常温で加え24
時間纜押した。以下、実施例1と同様に行なった。反応
率は97.5%であった。生成物の組成はアルコール8
体83.7%s 飽和7 ル:I−ル体0.4 q6、
アルコール2体15.9%であった。アルコール8体の
エナンチオマー比は(−)一体81.1%、山一体18
.9%であった。光学収率62.2%0診考例2および
3 参考例1においてノルエフェドリン塩酸塩と水素化ホウ
素ナトリウムのモル比を変れた以外は参考例1と同様に
行なった。結果を表−8にまとめた。
.338f(1,8ミリモル)を1.2−ジクロロエタ
ン5肩lに懸(イiilさt=、−aOCで水素化ホウ
素ナトリウム0.0681F(1,8ミリモル)のジメ
チルホルムアミド1m/f’ll液を加え、2時間を要
して常温とした。次にこのk M液1こ(El−1−(
4−クロロフェニル)−2−(1、2、4−)リアゾー
ル−1−イル)−4,4−ジメチル−1−ペンテン−3
−オン(E体/Z体=9 9、 8 / 0. 2 )
0. 8 5 r (、1,2ミ リ モ lし )
の1,2−ジクロロエタン4屑tq液を常温で加え24
時間纜押した。以下、実施例1と同様に行なった。反応
率は97.5%であった。生成物の組成はアルコール8
体83.7%s 飽和7 ル:I−ル体0.4 q6、
アルコール2体15.9%であった。アルコール8体の
エナンチオマー比は(−)一体81.1%、山一体18
.9%であった。光学収率62.2%0診考例2および
3 参考例1においてノルエフェドリン塩酸塩と水素化ホウ
素ナトリウムのモル比を変れた以外は参考例1と同様に
行なった。結果を表−8にまとめた。
4考例4
慴素雰囲気下、(ト)−ノルエフェドリン塩酸塩8.3
8f(0,018モル)の1.2− ′ジクロロエタン
62.82懸+蜀液中へ−200で水素化ホウ素ナトリ
ウム0.681?(0,018モル)のジメチルホルム
アミド9、44 を溶液を滴Fし、−20℃より2時間
を要して常温とした。次いで(El −1−(2,4−
ジクロロフェニル)−2−(1゜2 、4−1−リアゾ
ール−1−イル)−4゜4−ジメチル−1−ペンテン−
3−オン(E/Z = 97.6 /2.4 ) 8.
8 99 (0,012モル)の1.2−ジクロロエタ
ン50242浴液を加え常温で21時間、40℃で3時
間IAプ拌した。反応液に10%塩酸7.227、水2
.l?を加えて分11′〆し、有機層を分液し、水洗後
、減圧LrA @l’fすると8.89fO”)(−1
−(El−1−(2、4−ジクロロフェニル)−2−(
1、2、4−)リアゾール−1−イル)−4,4−ジメ
チル−1−ペンテン−8−オールの結晶が得られた。反
応率は99.9%であり、生成物の組成はアルコール8
体95.8%、飽和アルコール体0.2%、アルコール
1体3.5・%、その他0.5%であった。アルコール
8体のエナンチオマー比は(−)一体85.2%、山一
体14,8%であった。光学収率70.4%。
8f(0,018モル)の1.2− ′ジクロロエタン
62.82懸+蜀液中へ−200で水素化ホウ素ナトリ
ウム0.681?(0,018モル)のジメチルホルム
アミド9、44 を溶液を滴Fし、−20℃より2時間
を要して常温とした。次いで(El −1−(2,4−
ジクロロフェニル)−2−(1゜2 、4−1−リアゾ
ール−1−イル)−4゜4−ジメチル−1−ペンテン−
3−オン(E/Z = 97.6 /2.4 ) 8.
8 99 (0,012モル)の1.2−ジクロロエタ
ン50242浴液を加え常温で21時間、40℃で3時
間IAプ拌した。反応液に10%塩酸7.227、水2
.l?を加えて分11′〆し、有機層を分液し、水洗後
、減圧LrA @l’fすると8.89fO”)(−1
−(El−1−(2、4−ジクロロフェニル)−2−(
1、2、4−)リアゾール−1−イル)−4,4−ジメ
チル−1−ペンテン−8−オールの結晶が得られた。反
応率は99.9%であり、生成物の組成はアルコール8
体95.8%、飽和アルコール体0.2%、アルコール
1体3.5・%、その他0.5%であった。アルコール
8体のエナンチオマー比は(−)一体85.2%、山一
体14,8%であった。光学収率70.4%。
参考例5
窒素雰囲気ド、(+−1−ノルエフェドリン塩酸塩8.
88r(0,018モル)の1,2−ジクロロエタンl
3.52 ?’44副液中へ一20℃で水素化ホウ素
ナトリウムO,68M’(0,018モル)のジメチル
ホルムアミド9.449溶液を滴下し、−20℃より2
時間を要して常温とした。次いで(El−1−(2゜4
−ジクロロフェニル)−2−(1,2゜4−トリアゾー
ル−1−イル)−4,4−ジメチIレー1−ペンテンー
3−オン(E/Z=97.6 /2.4 ) 8.89
9 (0,012モル)の1.2−ジクロロエタン12
.2y;容、夜を加え常温で20時間保温攪拌した。反
応液に10%塩酸’1.22f、水2.17を加えて分
解し、有機1崎を分液し、水洗後、減圧纏絡すると3.
849の(−1−fE]−t −(2、4=ジクロロフ
エニル)−2−(1,2,4−トリアゾール−1−イル
)−4,4−ジメチル−1−ペンテン−3−オールの結
晶が得られた。反応率は99.9%であり、生成物の組
成はアルコール8体88.9%、飽和アルコール体0.
9%、アルコールz 体9.4%、その他0,8%であ
った。アルコール8体のエナンチオマー比は(−)一体
84.1%、(ト)一体15.9%であった。光学収率
68.2%0
88r(0,018モル)の1,2−ジクロロエタンl
3.52 ?’44副液中へ一20℃で水素化ホウ素
ナトリウムO,68M’(0,018モル)のジメチル
ホルムアミド9.449溶液を滴下し、−20℃より2
時間を要して常温とした。次いで(El−1−(2゜4
−ジクロロフェニル)−2−(1,2゜4−トリアゾー
ル−1−イル)−4,4−ジメチIレー1−ペンテンー
3−オン(E/Z=97.6 /2.4 ) 8.89
9 (0,012モル)の1.2−ジクロロエタン12
.2y;容、夜を加え常温で20時間保温攪拌した。反
応液に10%塩酸’1.22f、水2.17を加えて分
解し、有機1崎を分液し、水洗後、減圧纏絡すると3.
849の(−1−fE]−t −(2、4=ジクロロフ
エニル)−2−(1,2,4−トリアゾール−1−イル
)−4,4−ジメチル−1−ペンテン−3−オールの結
晶が得られた。反応率は99.9%であり、生成物の組
成はアルコール8体88.9%、飽和アルコール体0.
9%、アルコールz 体9.4%、その他0,8%であ
った。アルコール8体のエナンチオマー比は(−)一体
84.1%、(ト)一体15.9%であった。光学収率
68.2%0
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (11一般式tII 〔式中、Xはハロゲン原子、アルキル基、ハロアルギル
基、シアノ基、アルコキシル基、フェノキシ基、フェニ
ル基または水素原子を表わし、nは1〜5の整数を表わ
す。 R1はイミダゾール−1−イル基またはl。 2.4−トリアゾール−1−イル基を表わす。K2はt
−ブチル基を表わすか、またはアルキル基、アルコキシ
ル基、フェニル基あるいはハロゲン原子で置換されてい
てもよいフェニル基を表わす。〕 で示されるケトン化合物を、ルイス酸、有機酸または鉱
酸の存在下、に、一般式(II)〔式中、P−は水素原
子、炭素数1〜6のアルキル基またはアラルキル基を表
わし、*印は不斉炭素を意味する。〕 で示される光学活性アミノアルコールで修飾された水素
化ホウ素化合物系還元剤で不斉還元することを特徴とす
る一般式傾) 〔式中、X、n、R1およびR2は前記と同じ意味を表
わし、*印は不斉炭素を意味する。〕 で示される光学活性アルコール誘導体の製造法。 (2)光学活性アミノアルコールが光雲活性ノルエフェ
ドリンである特許請求の範囲第1項に記載の製造法。 (8)光学活性アミノアルコールが光学活性ノルプソイ
ドエフェドリンである特許請求の範囲第1項に記載の製
造法。 (4)水素化ホウ素化合物系還元ハ11が鉱酸、スルホ
ン酸またはカルボン酸の存在下に、上記一般式用で示さ
れる光学活性アミノアルコールと一般式m M(BH4)n (V) 〔式中、Mはアルカリ金1萬、アルカリ土類金、嘱また
はアンモニウムイオンを表わし、nはそのイオン価数を
表わす。〕 で示される水素化ホウ素化合物とを反応させることによ
り得られる不斉還元剤である特許請求の範囲第1項、第
2項または第8項に記載の製造法。 (5)上記一般式(IIICおいて、Xnが2.4−ジ
クロロ基である特許請求の範囲第1項、第2項、第3項
または第4項に記載の製造法。 (6)上記一般式(Ilにおいて、Xn が4−クロロ
基である特許請求の範囲第1項、第2項、第3項または
第4項に記載の製造法。
Priority Applications (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3112784A JPS60174772A (ja) | 1984-02-20 | 1984-02-20 | 光学活性アルコ−ル誘導体の製造法 |
HU90848A HU202873B (en) | 1983-04-04 | 1984-04-03 | Process for producing asymmetrically modified boron hydride type compounds |
HU841720A HU200755B (en) | 1983-04-04 | 1984-04-03 | Process for producing optically active alcohol derivatives by using asymmetrically modified compounds of boron hydride type |
DE8484901411T DE3479500D1 (en) | 1983-04-04 | 1984-04-03 | Asymmetrically modified boron hydride compounds, process for its preparation, and process for preparing optically active alcohol derivative using same |
EP84901411A EP0142566B1 (en) | 1983-04-04 | 1984-04-03 | Asymmetrically modified boron hydride compounds, process for its preparation, and process for preparing optically active alcohol derivative using same |
PCT/JP1984/000161 WO1984003885A1 (en) | 1983-04-04 | 1984-04-03 | Asymmetrically modified boron hydride compounds, process for its preparation, and process for preparing optically active alcohol derivative using same |
DK572184A DK572184D0 (da) | 1983-04-04 | 1984-11-30 | Asymmetrisk modificerede borhydridforbindelser, fremgangsmaade til fremstilling heraf og fremgangsmaade til fremstilling af optisk aktivt alkoholderivat ved anvendelse heraf |
US06/781,453 US4760149A (en) | 1983-04-04 | 1985-09-30 | Asymmetrically modified boron hydride type compound, a production method thereof, and a method for producing an optically active alcohol derivative by the use thereof |
US07/189,472 US5041651A (en) | 1983-04-04 | 1988-05-02 | Asymmetrically modified boron hydride type compound and a method for producing an optically active alcohol derivative by the use thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3112784A JPS60174772A (ja) | 1984-02-20 | 1984-02-20 | 光学活性アルコ−ル誘導体の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60174772A true JPS60174772A (ja) | 1985-09-09 |
JPH0527627B2 JPH0527627B2 (ja) | 1993-04-21 |
Family
ID=12322758
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3112784A Granted JPS60174772A (ja) | 1983-04-04 | 1984-02-20 | 光学活性アルコ−ル誘導体の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60174772A (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS579957A (en) * | 1980-06-23 | 1982-01-19 | Nippon Light Metal Co | Ridge ventilation body for tiled roof |
JPS57106669A (en) * | 1980-12-22 | 1982-07-02 | Sumitomo Chem Co Ltd | Optically active triazolyl alcohol derivative, its preparation, and plant growth regulator and herbicide containing said derivative as active component |
JPS57146786A (en) * | 1981-03-09 | 1982-09-10 | Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd | Optically active borane compound and preparation of optically active compound using the same |
JPS6414914A (en) * | 1987-07-08 | 1989-01-19 | Fujitsu Ltd | Jig for manufacture of semiconductor |
-
1984
- 1984-02-20 JP JP3112784A patent/JPS60174772A/ja active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS579957A (en) * | 1980-06-23 | 1982-01-19 | Nippon Light Metal Co | Ridge ventilation body for tiled roof |
JPS57106669A (en) * | 1980-12-22 | 1982-07-02 | Sumitomo Chem Co Ltd | Optically active triazolyl alcohol derivative, its preparation, and plant growth regulator and herbicide containing said derivative as active component |
JPS57146786A (en) * | 1981-03-09 | 1982-09-10 | Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd | Optically active borane compound and preparation of optically active compound using the same |
JPS6414914A (en) * | 1987-07-08 | 1989-01-19 | Fujitsu Ltd | Jig for manufacture of semiconductor |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0527627B2 (ja) | 1993-04-21 |
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