JPS6157640A - 新規なフォスフォリレート化した反応生成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規なフオスフオリレート化した反応生成物
に関し、そして更に詳しくは、磁気記録のような組成物
において分散及びそのための媒体の磁気特性の増大に使
用するための新規生成物に関する。

発明の目的 本発明の主要な目的は、磁気被覆体のような用途に、所
望の分散及び配向特性を付与するのに使用するための新
規なフォスフォリレート化した組成物を提供するにある
。

本発明の更に目的とするところは、磁気記録媒体用とし
て、主にプラグ−イン（ｐｌｕｇ−ｉｎ　）置換（Ｄよ
うな配合物（処方物）における慣用のバインダーに対し
て置き換えることが出来る新規々バインダー系を提供す
るにある。

更に他の目的は、卒直な、容易な合成法を使用すること
によって得られる新規なフォスフォリレート化した組成
物を提供するにある。

本発明の他の目的は、磁気記録媒体用のバインダー系を
提供するものであって、この系は使用時にブルーミング
（ｂｌｏｏｍｉｎｇ　）’！ｒ起すことができる分散剤
を使用するのを最小に、或は排除するものである。

更に他の目的は、慣用的に使用する磁気被覆装置におい
て処置することが可能な磁気被覆体を提供することであ
る。

更に他の目的は、延長された長時間に亘って貯蔵するこ
とができ、しかも使用時に、所望の磁気特性を提供する
のに容易に処置することができる磁気被覆体を提供する
にある。

他の目的は、電子ビーム照射によって交差結合または硬
化することの出来るバインダー系を提供することである
。関連目的は電子ビーム照射によって硬化することが出
来、そして更に所望の分散特性を提供する硬化性樹脂を
提供することである。

本発明の更に目的とするところは、バインダー系内に化
学的に結合して、硬化した被覆体における原子移動また
はプルーミングを回避することができる分散剤を提供す
るにある。

本発明のこれらの目的及びその他の目的は、下記の記載
から明らかとなるであろう。

発明の総括 本発明ハ、慣用のビニルクロリドービニルエステルコホ
リマー及びターポリマー、フェノキシ樹脂及び成る種の
ラクトンをフオスフオリレート化すると、所望の分散及
び磁気特性を有する磁気記録媒体を提供し得ることの発
見に基づくものである。このようにフオスフオリレート
化した組成物は、まっすぐな容易な方法によって合成す
ることが出来、そして慣用の磁気被覆装置に使用し得る
粘度及びその他の特性を有する磁気被覆体を提供するこ
とができる。慣用の磁気被覆配合物に包含させるのに、
重大な変更を必要としない。合成反応に適当な選択をす
ることによって、得られるバインダー系は電子ビーム照
射によって硬化し得るように丁べきである。こうして得
られる糸瓜また使用に先立って長時間に亘って貯蔵する
ことも出来、そして数基は、その後で、本発明の比較的
低分子量の７オス７オリレート化された物質で容易に処
理して、必要な磁気特性を達成させることが出来る。こ
の比較的低分子量のフオスフオリレート化。

した物質は、同様な目的に対して慣用なバインダー系に
、付加物として同様に使用することが出来る。使用すべ
き特定の硬化技術に対して、低分子量のフオスフオリレ
ート化した物質を適当に選択することによって、このよ
うな物質は硬化した被覆物中に化学的に結合され、そし
てブルーム（ｂｌｏｏｍ　）または原子移動（ｍｉｇｒ
ａｔｅ　）　Ｌない。

本発明の一つの様相によれば、必須モジュラス及びその
他の強度特性を提供するのに使用した硬化用樹脂は適当
てフォスフォリレート化して、必須の顔料分散液及び磁
性を達成するのに適当な特性を提供させる。本発明の他
の様相によれば、採用するバインダーと直接的に、或は
間接的反応し得るフォスフォリレート化した分散性物質
を使用する。

本明細書において使用する字句「フォスフォリレート化
Ｊ　（ｐｈｏｓｐｈｏｒｙｌａｔｉｏｎ　）は、ヒドロ
キシル基の７オスフエートへの転換を意味する。したが
って、本発明のフオスフオリレート化した組成物は、同
様に、フォスフェートエステルとも考えることができる
。

２価フェノールと、１個及び２個のオキシラン基すなわ
ち２個の隣接脂肪族炭素原子に結合した酸素をそれぞれ
含有するモノエポキシドまたはジエボキシドとの本質的
に当モル量ヲ、アルカリ性媒体中で反応させることによ
って合成したフェノキシレジンは、公知であって、次の
一般式によって特徴づけられる。

　　ＯＭ またはそれらの混合体であり、Ａｒは芳香族の２価炭化
水素基例えばす７チレン、好ましくはフェニレンであり
、Ｙ及びＹｌは同一または異なることができ、好ましく
は１〜４個の炭素原子を有するアルキル基、ハロゲン原
子すなわち弗素、塩素、臭素及び沃素、或は好ましくは
１〜４個の炭素原子を有するアルコキシ基であり、ｒ及
び２は置換基によって置き換えることができる芳香族基
（Ａｒ　）上における水素原子の数に相邑する０乃至最
大値の値を有する整数であり、そしてＲ１はジヒドロキ
シジフェニルにおけるように隣接炭素間の結合であるか
、或は例えば−Ｃ−１−〇−１−Ｓ−１−ＳＯ−１−ｓ
ｏ、−１及び−８−８−を包含する２価の基、アルキレ
ン、アルキリデン、環式脂肪族、例えばシクロアルキリ
デン、ハロゲン化アルコキシまたはアリールオキシ置換
したアルキリン、アルキリデン、及びハロゲン化を含む
環式脂肪族基並びにアルキリデン及び芳香族基、アルキ
ル、アルコキシまたはアリールオキシ置換した芳香族基
、及びＡｒ基に融着した環を含む２価の基である：或は
Ｒ１はポリアルコキシまたはポリシロキシ、或は芳香族
環によって離たれ一７’ｃ２個またはそれ以上のアルキ
リデン基、第３級アミン基、エーテル結合、カルボニル
基またはスルホキシドのような硫黄含有基などであり得
る；そしてＲは水素または１〜約２０個の炭素原子より
成るアルキル基であり、そしてｎは代表的には少くとも
約５０であり、そして好１しくけ約１００またはそれ以
上であって、所望のモジュラス及び靭性特性などを有す
る系を提供し得る樹脂を与える数値である。

フェノキシ樹脂の製造に望ましく使用される具体的な２
価フェノールの例は、なかんずく、次のものを包含する
。

ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン、ｆｌＪ、ｔｉｄ
’２．２−ヒス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、 ２．４′−ジヒドロキシジフェニルメタン、ビス（２−
ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，６−シメ
チルー３−メトキシフェニル）メタン、 １．１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１．
２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１．１−
ビス（４−ヒドロキシ−２−クロロフェニル）エタン、 １．１．−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル
）エタン、 １．３−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロパン、 ２．２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル
）プロパン、 ２．２−ビス（３−イソプロピル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン、 ２．２−ビス（２−イソプロピル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン、 ２．２−ビス（４−ヒドロキシルナフチル）プロパン、 ２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、 ３．３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、 ２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）へブタン、 ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、 ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシルメタン
、 １．２−ビス（４−ヒドロキシフエニノリー１，１−ビ
ス（フェニル）プロパン、 ２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニ
ル−プロパンなど。

ジ（ヒドロキシフェニル）スルホン側光ば、ビス（４−
ヒドロキシフェニル）スルホン、２．４′−ジヒドロキ
シジフェニルスルホン、５′−クロロ−２，４′−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホン、 ｓ’−クロロ−４，４’　−ジヒドロキシジフェニルス
ルホンなど。

ジ（ヒドロキシフェニル）エーテル例エバ、ビス（４−
ヒドロキシフェニル）エーテル、４．３’−１４，２’
−１２，２’−１２，３’−、ジヒドロキシジフェニル
エーテル、 ４．４′−ジヒドロキシ−２，２−ジメチルジフェニル
エーテル、 ビス（４−ヒドロキシ−３−インブチルフェニル）エー
テル、 ビス（４−ヒドロキシ−３−インブチルフェニル）エー
テル、 ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）エーテル
、 ビス（４−ヒドロヤシ−３−フルオロフェニル）エーテ
ル、 ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）エーテル
、 ビス（４−ヒドロキシナフチル）エーテル、ビス（４−
ヒドロキシ−３−クロロナフチル）エーテル、 ビス（２−ヒドロキシジフェニル）エーテル、４．４′
−ジヒドロキシ−２，５−ジェトキシジフェニルエーテ
ルなど。

また好適なものには、４−ビールシクロへキサントフェ
ノールとのビスフェノール反応生成物、例工ば１．３−
ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）−１−エチルシクロヘ
キサン、及びジペンテンまたｈその異性体とフェノール
とのビスフェノール反応生成物、例えば１．２−ビス（
ｐ−ヒドロキシフェニル）−１−メチル−４−イソプロ
ピルシクロヘキサン並びにビスフェノール例えば１．３
．３−トリメチル−１−（４−ヒドロキシフェニル）−
６−ヒドロキシインダン及び２．４−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）−４−メチルペンタンなトカする。

特に望ましい２価フェノールは次式を有する。

この式でＹ及びＹ、は先に定義したとおりであり、ｒ及
び２はＯ乃至４の値を有し、そしてＲ１は２価の飽和脂
肪族炭化水素基、特に１〜３個の炭素原子を有するアル
キレン及びアルキリデン基及び１０個までの炭素原子を
含有するシクロアルキレン基である。２価フェノールの
混合物も同様に使用することかできるので、本発明に包
含されるものとする。

モノ−及びジ−エポキシ化合物は、好ましくは飽和され
ているもの、すなわち、エチレン性及びアセチレン性不
飽和を含まないものである。特に好ましいものは、ハロ
ゲン置換したモノエポキシド、すなわち、エビハロヒド
リン、及び炭素、水素及び酸素だけを含有する飽和ジエ
ボキシド、特に、隣接炭素原子が脂肪族炭化水素鎖の一
部を構成するものである。このようなジエボキシドにお
ける酸素は、オキシラン酸素以外に、ｒＲ素−ｏ−１オ
キシカルボニル酸素−Ｃ−Ｏ＋、カルボニル９Ｘ−ｅ−
５などであり得る・ モノエポキシドの具体例には、エビ／Ｓ−ヒドリン例え
ばエビクロロヒドリン、エビブロモヒドリン、１．２−
エポキシ−１−メチル−３−クロロプロパン、１．２−
エポキシ−１−ブチル−３−クロロプロパン、１．２−
エポキシ−２−メチル−３−フルオロプロパンなどが包
含される。

代表的なジエポキシドには次の化合物が包含される。

ジエチレンクリコールビス（３，４−エボキシシクロヘ
キサンーカーボキシレート）、 ビス（３，４−エポキシシクロへキシル−メチル）アジ
ペート、 ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）７タレ
ート、 ６−メチル−３，４−エポキシシクロへキシルメチル−
６−メチル−３，４−エボキシシクロヘキサンカーポキ
シレート、 ２−クロロ−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−
２−／クロー３，４−エボキシシクロヘキサンカーボキ
シレート、 ビスフェノール−Ａのジグリシジルエーテル、ビス（２
，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、 １．５−ベンタンジオールビス（２，３−エポキシ−２
−エチルヘキシル）アジペート、 ジグリシジルマレエート、 ジグリシジルフタレート、 ３−オキサテトラシクロＣ４，４，０，１７−１０，ｏ
　２−　’　）−ウンデクー８−イル２，３−エポキシ
プロビルエーテル、 ビス（３，４−エポキシへキサオキシプロピル）スルホ
ン、 ２、２’−スルホオニルジエチル−ビス（２，３−エポ
キシシクロメンタンカルボキシレート）、３−オキシテ
トラシクロ−（４，４，ｏ、　１７−１０　、　ｏＬ　
４　）−ウンデク−８−イル２．３−エポキシブチレー
ト、５ビス（２，３−エポキシブチルフェニール−２−
エチルへキシルホスフェート、 ジェポキシジオキサン、 ブタジェンジオキシド、及び ２．３−ジメチルブタジェンジオキシド。

好ましいジエボキシドは、オキシラン基の各々が、該オ
キシラン基の炭素原子から除かれた１個の炭素原子が、
炭素原子上にある電子供与置換基に結合している化合物
である。しかしてこのような電子供与置換基には例えば
、−０−１−Ｓ−１−８Ｏ−１−Ｃ−０などが包含され
る。

磁気記録媒体中で硬化性樹脂として望ましいと一般的に
考えられるフェノキク樹脂は、メチルエチルケトン中４
０重景％溶液として、２５℃において、少くとも４５０
０センチポアズの粘度によって更に特徴づけられるもの
であって、好適な粘度は代表的には４５００ないし約７
７００センチポアズ或はその附近である。

好ましいフェノキシ樹脂はビスフェノール−Ａと、エビ
クロロヒドリンとの反応生成物であって、次の一般式 （式中にはフェニル基であり、そしてｎは約８０ないし
１２０である） によって特徴づけられる。

公知のように、フェノキシ樹脂は優れた耐久性、靭性及
び熱安定性によって特徴づけられる。これ゛らの特性は
フェノキシ樹脂をして、最も厳密な性能要求事項を有す
ると考えられる用途（施工）に対する選択の所望物質例
えばフロッピー・ジスク（ｆｌｏＰｐ）’　ｄｉｓｋｓ
　）、コンピューター・テープなどとなす。

本発明に従い、選択したフェノキシ樹脂原料は、所望の
磁気塗料成分を提供するように好適にフォスフォリレー
ト化される。概念的には、フォスフォリレート化の程度
は、フェノキシ樹脂の顔料湿潤性を改良するのに充分と
なすべきである。かくして、フォスフォリレート化した
フェノキシ樹脂は、磁気被覆体（塗料）に所望の分散性
と磁気特性とを達成させるのに役立つ。フェノキシ樹脂
をフオスフオリレート化する程度は、特に臨界的ではな
いが、磁気塗料の配合物中のフォスフォリレート化樹脂
の有用性に関する限り、多数の因子（ファクター）に応
じて決まる。この目的のために・フオスフオリレート化
の程度または水準は、フォスフォリレート化した樹脂が
磁気塗料を製造するのに慣用的に使用する非プロトン性
溶媒に、所望のバインダー系を提供し、且つこのバイン
ダー系を所望のベース（基材）に塗布するのに充分な量
において可溶性であるようにしなければならない。フォ
スフォリレート化の程度は、フォスフォリレート化した
樹脂のガラス転移温度が約７０℃よりも有意に低くない
よってし、以って塗料の適正なモジュラスを確保するよ
うに一般的に同じくすヘキである。更に、フォスフォリ
レート化の程度は、フォスフォリレート化した樹脂がバ
インダー（結合剤）系の他の成分、特に、使用する弾性
ポリマー例えばポリウレタンなどと相容性を保持するよ
うにしなければならない。

フオスフオリレート化の程度に関する更に考究事項は、
使用する硬化技術である。したがって、もし慣用のポリ
イソシアネート硬化が採用されるとすると、適正なヒド
ロキシル官能性は、遂行てべき架橋結合を充分に丁べき
である。更に、ポリイソシアネート技術以外の技術によ
って硬化すべき合成樹脂においてさえも、充分にフオス
フオリレート化した誘導体よりも低いものを使用するの
が望ましいことが判明した。このような誘導体は、磁気
記録媒体に、一層望ましい分散性と磁気特性とを提供す
ることが明らかである。

これらのパラメータに合致して、イソシアネート硬化す
ることが意図される物質に対して、フェノキシ樹脂中に
存在するヒドロキシル基の約１〜約８０％のホスホリル
化が適当であるべきであり、残りの未ホスホリル化ヒド
ロキシル基はインシアネートとの反応に対する活性部位
を提供すべきである。他方において樹脂が電子ビーム放
射１１１ｃより硬化し得る場合はヒドロキシル基が硬化
反応に関与しないのでヒドロキシル基の完全なホスホリ
ル化力ｆ達成されている反応生成物を使用することがで
きる。

ホスホリレートに対して約５％、更に望ましくは約１０
〜２０％のヒドロキシル基が存在することが好適である
ことがわかった。このホスホリル化水準は使用する樹脂
とホスホリル化剤との相対量を適当に調整することによ
って得られる。

ホスホリル化反応が行われる温度は臨界的ではないけれ
ど使用するホスホリル化剤に関係する。

しかしながら一般的にホスホリル化反応を高められた温
度において行ってヒドロキシル基の適度す反応を行わせ
、かつ完全な反応を保証することが望ましく、適当な温
度は約５０℃ないし約２００℃である。ホスホリル化を
行うに当って、反応にはホスホリル化剤と、２個のフェ
ノキシ分子がホスフェート部分を通して共に結合する場
合に得られるような高分子量種の有意量の生成を回避す
る染件とを使用すべきである。このような高分子量種の
存在は望ましくない高粘度を有する系が得られることが
ある。このことはフェノキシ樹脂出発物質が既に比較的
に高分子量を有するものである場合に明らかに大きな意
味を有する。

好適なホスホリル化剤には塩化ホスホリル及びその誘導
体”　ＰＯ（ＯＲ”）ｎ’　ＣＪ　ａ−ｎ／　（式中、
ユ、ハ。１０．２、又は３であり、そしてＲ１は水素、
炭素原子工ないし約２０個を有する飽和又は不飽和の炭
化水素基、炭素原子工ないし約２０個を有するシクロア
ルキル基、アルキル基が炭素原子工ないし約１０個を有
するアルキルアクリレート又はアルキルメタクリレート
、炭素原子６ないし約２０個を有するアリール及び置換
ア゛リール、ならびにヒドロキシアルキルアクリレート
及びメタクリレートの付加物及びラクトン（下記に更に
詳しく記載する）、ならびにそれらの混合物である〕、
又は五酸化リン、もしくは五酸化リンと水、炭素原子１
ないし２０個を有する飽和もしくは不飽和のアルコール
、炭素原子２ないし１０個を有するヒドロキシアルキル
アクリレートもしくはメタクリレート、置換した、もし
くは非置換のフェノール、及びヒドロキシアルキルアク
リレート及びメタクリレートの付加物、下記に更に詳し
く記載するラクトンならびにそれらの混合物を包含する
ヒドロキシル含有物との反応生物が包含される。

ホスホリル化反応は任意の種々の非プロトン性溶媒中で
行うことができる。好適な例にはメチルエチルケトン、
テトラヒドロフラン及びシクロヘキサノンが包含される
。非プロトン溶媒に添加する出発物質の量は該物質が溶
媒に可溶性であり、しかも該溶液の粘度がかくはんを妨
げるほどには高くないことを条件てして広い範囲内にわ
たることができる。一般的に約２５重量％の水準が好都
合に採用されている。ホスホリル化剤とフェノキシ樹脂
との相対量は所望のホスホリル化水準が得られるように
選択することができる。

ホスホリル化剤を適当に選択することにより電子ビーム
放射線により硬化することのできるホスホリル化フェノ
キシ樹脂の製造が可能となる。すなわち前述した塩化ホ
スホリル又は１配化リン誘導体が電子ビーム硬化性のア
クリレート又はメタクリレートの残基全包含する場合、
得られるホスホリル化フェノキシ樹脂は電子ビーム放射
線により硬化することができる。

特定の用途に対して所望のモジュラスを与えるのに適度
な分子量を有するフェノキシ樹脂出発物質を選択するこ
とにより本発明のホスホリル化フェノキシ樹脂を所望に
より、フェノキシ樹脂を使用する慣用の磁性塗料におけ
る実質的な差込み型置換（ｐｌｕｇ　−ｉｎ　５ｕｂｓ
ｔｉｔｕｔｉｏｎ　）として使用することができる。低
分子量のフェノキシ樹脂の使用も同様に採用することが
できる。しかし特定の用途においては慣用のフェノキシ
樹脂又はその他の硬化性樹脂を使用して所望のモジュラ
ス及びその他の特性を確立する必要がある場合がある。

又はその代りに硬化工程中において成る種の用途に対し
、低分子量物質のモジュラスの確立が達成されることが
ある。

ビニル樹脂。

従来、ｉ々のビニルクロリド−ビニルエステル　　′の
共重合体及びターポリマーが磁気記録媒体に使用されて
いる。数平均分子量は少なくとも約１０００、更に典型
的には少なくとも約２０００である。約２５．０００ま
での数平均分子量を有する樹脂は市販されている。慣用
的には例えば１５，０００ぐらい又はそれ以上の分子量
を有するもののような高分子量物質のみが磁気記録媒体
における硬化性樹脂として使用されている。特に好適な
ビニルクロリド−ビニルエステルの共重合体又はターポ
リマーは若干の、又は全部のエステル基が加水分解され
ているものである。一般的に、このような共重合体及び
ターポリマーはビニルクロリド、ビニルエステル及びビ
ニルアルコールより成り、好ましくは約２８〜３２ビニ
ルクロリド対０．５〜８ビニルアルコール対０〜４ビニ
ルエステルのモル比にあるものである。これらのターポ
リマーの製造において好適に使用されるビニルエステル
にはビニルホーメート、ビニルアセテート、ビニルプロ
ピオネート、ビニルブチレートなどが包含される。炭素
原子６個までの、他の高級ビニルエステルも同様に使用
することができる。

その他の同様に好適な共重合体及びターボリマ−ハ、ビ
ニルクロリド、アルキルセグメント中に炭素原子２〜５
個を有するヒドロキシアルキルアクリレート又はメタク
リレート、及びビニルアセテート、ビニルプロピオネー
トなどのような、炭素原子１〜６個を有するカルボン酸
のビニルエステルの均一にランダムなヒドロキシ官能性
の共重合体又はターポリマーのような、ヒドロキシアル
キルアクリレート及びメタクリレートにより改質したビ
ニルクロリド重合体である。好適なヒドロキシル官能性
の共重合体及びターポリマーが東国特許＄３，８８４，
８８７号及び米国特許第３，７５５，２７１号各明細書
に記載されている。

一般的に、このような共重合体及びターポリマーのモル
比は約１２〜２０ビニルクロリド対０〜３ビニルエステ
ル対１〜３ヒドロキシアルキルアクリレート又はメタク
リレートである。

上記に述べたビニルクロリド−ビニルエステル、及ヒヒ
ニルクロリドービニルエステルーヒドロキシアルキルア
クリレート及びメタクリレートの共重合体及びターポリ
マーは以後、成る場合には「ビニル樹脂」と称する。

本発明によれば、選択されたビニル樹脂出発物質は適当
にホスホリル化されて所望の磁性塗料成分を提供する。

このような物質の熱安定特性の故に該ホスホリル化反応
はビニル樹脂の有意の劣化を回避するため温度において
、しかもそのような条件下に行うべきである。ホスホリ
ル化反応温度はビニル樹脂の組成及び分子量、使用する
ホスホリル化剤、及び当業者に公知の熱安定剤の存在下
又は不存在下にも関係して変動することができる。

上記のような熱安定剤の使用により、ビニル樹脂の熱安
定特性に起因して、該安定剤を使用しない場合に望まし
い温度よりも高い温度において反応を行うことが可能と
なる。

ホスホリル化反応は出発ビニル樹脂金非プロトン性溶媒
に溶解し、それに所望のホスホリル化剤をかくはん下に
添加することによって行うことができる。該反応はかく
はん下に室温において反応が完了するまで進行させるこ
とができる。

好適なホスホリル化剤にはさきに本発明のホスホリル化
フェノキシ樹脂の合成に関して記載したような五酸化リ
ン、五酸化リン誘導体ならびに塩化ホスホリル及びその
誘導体が包含される。

あるいはヒドロキシアルキルアクリレート又はメタクリ
レートにより改質したビニルクロリドの共重合体又はタ
ーポリマーの場合は、該アクリレート又はメタクリレ−
ｔｔ−最初にホスホリル化することかできる。該ホスホ
リル化中間体は次いで所望の共重合体もしくはターポリ
マーの合成に使用するか、又は本明細書に記載される任
意のビニルクロリド重合体に対するホスホリル化剤とし
て使用するかのいずれかができる。このことは他のヒド
ロキシル官能性単量体を使用する場合においでも同様に
真実である。

フェノキシ物質のホスホリル化についてと同様にビニル
樹脂のホスホリル化を行うに当って該反応にはホスホリ
ル化剤と、２種の出発ビニル樹脂がホスフェート部分を
通して結合する場合に得ら　　　１れる高分子量種の有
意量が生成するのを回避するための条件とを使用丁べき
である。反応混合物中に少量の水を含有させることは上
記のような種の生成を防止する。典型的には、製造した
もの及び市販のものとしてのビニル樹脂は少量の水を含
有し、この水は上記のような種の生成を防止するのに十
分である。しかしながら上記ビニル樹脂中に時々存在す
る比較的高水準の水は一般的に該ホスホリル化剤の利用
を非効率化する。別法として１、　　ビニル樹脂を乾燥
して水の水準を最適化し、ホスホリル化剤の利用を最大
化し、しかもなお有意量の高分子量種の生成を防止する
ことができる。

またさきに述べたように、ホスホリル化の程度は広く変
動することかできるけれど、ビニル樹脂の顔料湿潤性を
改良するのに十分であるべきである。溶解度及び相容性
のファクターはフェノキシ樹脂に関して論じたものと同
一である。より高い分子量物質、例えば８０００又はそ
れ以上のものについて、Ｔｇの問題はこれらの物質のＴ
ｇは一般的に６５℃よりも有意に低く下るべきでないと
いう点を除いてフェノキシ樹脂の場合と同じである。

より低い分子量の物質、すなわち８０００又はそれ以下
の物質については該ビニル樹脂のＴｇは、架橋し、又は
硬化した場合において、同様に有意に６５℃以下である
べきでなく、この場合もまた塗料の所望のモジュラスを
保証する。

所望の特性を与えるのに好適なホスホリル化の水準又は
程度はホスホリル化したビニル樹脂の重量を基準にして
該物質のリン含量が約０．０３重置火のように低くても
よく、更に望ましくは少なくとも約０．１重量％、より
一層望ましくは少なくとも約０，３重量％である。

選択された出発物質が特定の磁気記録媒体用に対し必須
のモジュラス及びその他の特性を与えるのに適度な分子
量を有する場合は硬化性樹脂として上記のような出発物
質を使用する慣用の処方物に実質的に差込み置換を使用
することができる。

しかしながら、たとえ低分子量の出発物質が当然に適当
であるとしても特定の応用に対して所望のモジュラスを
確立するためには慣用の硬化性樹脂が必要である場合が
ある。あるいは低分子量物質のモジュラスの確立を硬化
操作中に行うことができる。

ラクトン−ヒドロキシアルキルアクリレート本発明のな
おもう一つの観点から、すぐれた分散特性と磁性特性と
を特徴とする磁気記録媒体は製造に尚ってホスホリル化
ラクトン付加物を使用することによって得ることができ
る。

磁気媒体中における分散剤として使用するのに適当であ
る本発明のラクトン−アクリレート付加物はラクトンと
ヒドロキシアルキルアクリレート又はヒドロキシアルキ
ルメタクリレートとの反応生成物である。このラクトン
−アクリレート付加物は下記式： （式中、Ｒ”は水素又はメチルであり、Ｒ４は炭素原子
２ないし約１０個を有するアルキル基であり、 Ｒ５は独立的に水素か、又は炭素原＋１ないし約１２個
を有するアルキル基かであり、 Ｘは４から７までの整数であり、 ｙは１から１０−！での整数である）により表わすこと
ができる。

ラクトン−アクリレート付加物金製するに当って使用す
るのに好適なラクトンは下記式：（式中、Ｒ’は独立的
に水素か、又は炭素原子１ないし１２個を有するアルキ
ル基かであり、Ｘは４ないし７である）により特徴づけ
られる。

使゛用することのできるヒドロキシアルキルアクリレー
ト及びメタクリレートには２−ヒドロキシエチルアクリ
レート及びメタクリレート、ヒドロキシプロピルアクリ
レート及びメタクリレート、ヒドロキシブチルアクリレ
ート及びメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−クロロ
−プロピルアクリレート及びメタクリレート、２．３−
ジヒドロキ　　ｉジプロピルアクリレート及びメタクリ
レートなど、又はそれらの混合物が包含される。公知の
ように電子ビーム放射線に対するアクリレートの反応性
はメタクリレートのそれよりも優っている。したがって
一般的にアクリレートが好ましい。ヒドロキシエチルア
クリレートが特に好ましい。また所望により前記の式に
おいて末端メチル基はメチル基によって置換された１個
の水素を有することができる。得られた付加物は電子ビ
ーム放射線に対しアクリレート又はメタクリレートより
も反応性が劣るようである。

採用するホスホリル化技術はホスホリル化したビニル樹
脂及びフェノキシ樹脂の製造に関して記載したものでよ
い。

ｉられるホスホリル化ラクトン付加物は磁性塗料中の顔
料粒子にすぐれた分散性を与え、十分に配向して所望の
磁気特性を示すことのできる磁性塗料を生成する。その
上、上記分散剤は使用前に貯蔵した磁性塗料の衰微した
性質の回復に特に価値がある。

反応生成物の計画についての考慮事項 所望のホスホリル化の程度は採用する個々のプロセス条
件について達成される転化の程度を考慮に入れなければ
ならないことは勿論である。フェノキシ樹脂の場合は、
本明細書に記載の条件を使用して実質的に完全な転化が
得られる。したがって、使用する反応物の相対濃度を調
整することにより所望のホスホリル化水準を得ることが
できる。

ビニル樹脂については採用するプロセス条件及びホスホ
リル化剤の反応性によって広範囲にわたって変動する。

本明細書の実施例において採用する条件下においては１
０ないし２０％の程度の転化率が得られる。使用する反
応体の濃度の調整には上記のような転化率水準が考慮さ
れるべきである。与えられた情況下に得られる個々の転
化率は分析により直ちに決定することができる。

ラクトン付加物の場合には反応温度は得られる転化率に
おける主要なファクターである。周囲条件下においては
不完全な転化が得られるけれど高められた温度における
反応においては実質的に完全な転化が行われる。いずれ
にせよ、不完全な転化が得られた場合は、所望により公
知技術によつてホスホリル化物質を容易に分離すること
ができる０ フェノキシ樹脂及びビニル樹脂のホスホリル化から生ず
る反応生成物の場合においては分離を考慮する必要はな
い。反応生成物が所望水準のホスホリル化物質を有する
限りにおいては該反応生成物は磁性塗料に直接に使用す
ることができる。

上記のホスホリル化剤についての記載から、リンは本発
明のホスホリル化したビニル樹脂、フェノキシ樹脂及び
ラクトン付加物中において式二〇 −Ｐ−（ＯＲ’）２ （式中、Ｒ６は水素か、炭素原工ないし２０個を有する
アルキル基又はアルケニル基、アルキルセグメント中に
炭素原子２ないしｌＯ＠を有するアルキルアクリレート
又はメタクリレート、置換又は非置換フェニル、本明細
書に記載のラクトン付加物又はそれらの混合物である）
により特徴づけられる、広く変動するリンエステル部分
の形態で含まれることかできることがわかる。

リン部分に対する式は理想化された式を表わす。

得られる反応生成物は、採用される反応条件及び個々の
ホスホリル化剤によって、モノ−、ジー及びトリーリン
酸エステルの分配物から成る。したがって理想化された
式においてＲ６は水素のみ（ホスフェートモノエステル
を供給する）、水素と誘導体の出発物質である炭化水素
の炭化水素残基（ジエステルを供給する）、又は炭化水
素残基のみ（トリエステルを供給する）であることがで
きる。本発明の目的に対し、リン部分を示された式につ
いて記載する。この場合数式は組成物の複合混合物又は
分配物が得られるそれらの情況を含めて反応生成物を表
わすためく使用丁・る。

磁気記録媒体 ベース 任意のベース又は基板を使用することができ、特に選択
される基板は大ていは特定の用途に二つ　　　３て示さ
れる。ポリエチレンテレフタレート及びポリプロピレン
の各フィルムは磁気記録媒体に対するベース材料として
広く使用されている。耐熱性が重要な考慮事項である場
合はポリイミドフィルム、ポリアミドフィルム、ポリア
リールエーテルフィルムなどを使用することができる。

薄いベースとしてのポリエステルフィルムの場合は一軸
延伸又は二軸延伸後にそれが屡々使用される。フィルム
の予備処理が湿潤性又は接着性を促進するために有益で
あることは周知である。

磁気コーティング層の組成 磁気粒子は慣用の磁気記録媒体において公知かつ有用な
任意のものでよい。代表例には針状又は小粒状のｒ−Ｆ
ｅ、０３、Ｆｅ５０４、Ｃｏドープしたｒ−Ｆｅ、Ｏ，
、Ｃｏドーグしたｒ−Ｆ２０３、Ｃｏドープしたｒ−Ｆ
ｅ２０３−ＦｅｓＯ４固溶体、Ｃｏ−ベース−化合物−
吸着γ−Ｆｅ、Ｏｓ、Ｃｏ−ベース−化合物−吸着Ｆｅ
５０．　（それ自身とγ−Ｆｅ、Ｏ，との間の中間状態
に酸化されたものを包含する）及び針状ＣｒＯｔが包含
される。（ここに使用されるｒ　Ｃｏ−ベース化合物」
とは磁気粒子がコバルトの保磁力を改良するに当ってコ
バルトの磁気異方性を利用することのできるようにする
酸化コバルト、水酸化コバルト、コバルトフェライト、
コバルトイオン吸着剤などを意味する。）、また磁気粒
・子はｃＡｌ響をｃｏ−Ｎｉなどのような強磁性の金属
元素又は合金であることもできる。このような微細磁気
粒子はＮａＢＨ，のよ５な還元剤による出発物質の湿式
還元　、酸化鉄表面全Ｓｉ化合物により処理し、次いで
Ｈ，ガス又はその類似物により乾式還元すること、及び
低圧アルゴン気流中における減圧蒸発などを包含する多
数の方法において製造される。単結晶バリウムフェライ
トの微粒もまた使用することができる。該微細磁気粉末
は得られる磁気記録媒体の用途によって針状又は小粒子
状の粒子の形態に使用される。

被覆層において比較的に大量の磁気粒子を使用すること
が一般的に望ましい。したがって被覆層の典型的な組成
は被覆層の全重量を基準にして約６５又は７０％から約
８５又は９０％までの磁気粒子を含む。公知のように、
比較的に均一の大きさの顔料粒子を使用することが望ま
しく、典型的には約ｏ、４ミクロンの長袖を有する粒子
が使用され、それ以下のものさえも使用される。

被覆層の残りは、硬化性樹脂、及び典型的にはエラスト
マー重合体、分散剤、架橋剤及び任意の補助剤を包含す
る結合剤系より成る。使用される本発明の新規なホスホ
リル化物により、上記のような分散剤は最小化し、又は
除外さえもすることができる。更に、十分な電子ビーム
放射線硬化性物を使用する場合は架橋を使用する必要は
ない。

したがって、かつ概念的に、顔料粒子のほかへ本発明に
よる唯一の追加の必須成分は硬化性樹脂自体である。し
かしながら典型的な被覆層は個々の最終用途によって確
認される追加の成分を含む。

顔料粒子の典型的な処方物に使用される量から明らかで
あるように、被覆層の残分は一般的に該被覆層の約１０
又は１５％から３０又は３５％を示ｆ。

さきに論じたように、一般的に結合剤系は所望の弾力性
などを有する被覆層を得るのに十分な量のゴム状重合体
を包含することか好ましい。この目的に適する多くのゴ
ム状重合体が公知であり、利用可能である。ポリエステ
ルウレタンは高機能用に屡々選ばれる。適当な物質が市
販されている。

これらの物質は一般的にポリエステルポリオール、短鎖
ジオール及びインシアネートの反応物として記載される
。これらの樹脂は丁ぐれた靭性と耐摩耗ａ特性とを有す
る。

広範囲にわたる種々のポリイソシアネート架橋剤が公知
であり、かつ使用することができる。一つの例としてト
ルエンジイソシアネート（ＴＤＩ）を使用することが好
適である。使用される架橋剤の量は典型的には化学量論
的に必要とされる量の約２０ないし３０％である。

公知のように、磁気被覆層には種々の補助成分が時々使
用される。このような添加剤は公知であり、かつ特定の
用途に対して所望されるならば使用することもできる。

このような補助成分の例には帯電防止剤、潤滑剤、増感
剤、均展剤、耐摩耗剤及びフィルム強化剤が包°含され
る。

本発明によれば、磁気被覆層は本発明のホスホリル化物
質を使用して被覆の必要な分散特性及び配向特性を与え
、しかも成る場合には硬化性樹脂としても機能する。も
しホスホリル化物質が、磁気被覆層に対して必要なモジ
ュラス等を与える特性を有するならば、その他の硬化性
樹脂を使用する必要はない。しかしながら所望により、
本発明のホスホリル化物質は相客性の硬化性樹脂と共に
使用して所望の磁気被覆層を得ることができる。

本発明によれば、本発明のホスホリル化物質の使用によ
り、改良された分散特性と配向特性とが得られる。しか
しながら所望により、その他の慣用の分散剤を使用する
ことができる。

記録媒体は一般的には、バインダー系を充分に揮発性の
ビヒクル（展色剤）Ｋ溶解させて微細な磁性粒子の塗布
可能な分散液を提供するようにして製造する。次【（、
この分散液を基材の上に塗布して、被覆物を得る。磁気
記録媒体は例えば、Ｓ。

トチハラ著「日本における磁気塗料及びその応用」有機
塗料における進歩第１Ｏ巻（１９８２年）第１９５〜２
０４頁におけるような文献に記載の方法によって製造す
ることができる。

後−添加剤処理 本発明の更に他の様相によれば、本発明のフォスフォリ
レート化した物質は、使用に先立って成る期間貯蔵した
磁気塗料の衰退した性質を実際上活気づけるのに使用す
ることができる。貯蔵後産々、製造の間に満足な分散を
発揮する磁気塗料が、貯蔵の間に塗料中の変化により、
テープなどを形成するように加工する場合、望ましくな
い配合特性を有することがある。本発明の適当なフォス
フォリレート化した物質を添加すると、最初の場合に磁
気塗料を製造するのに使用した高エネルギー混合技術を
繰り返すことなしに、その塗料に、配向に対して適当な
磁気の性質を与えることになる。

このように使用する場合には、本発明の低分子量のフオ
スフオリレート化した物質を使用することが好ましい。

適当な物質は一般的に約４０００以下の分子量を有する
ものである。一般には、より一層低分子量の物質が一層
効果的である。かくして、４０００以下の数平均分子量
を有するフォスフオリレート化したラクトン−付加物及
びフォスフォリレート化したビニル樹脂を使用すること
が好ましい。

これらの物質を使用すると、諸性質を実質的に回復する
ことかでき、しかも直角度によって証明されるように、
配向を一層適切に達成することが出来る。後−添加剤と
してこれらの物質を選択使用すると、添加剤のブルーミ
ング（表面浸出）或は移行がない利点が更に得られる。

この目的に対して、フォスフォリレート化したビニル樹
脂は、インシアネート硬化すべきバインダー系に使用す
るのに特に望せしい。何故ならば、インシアネート硬化
の結果として塗料中で交差結合し、ま之化学的に結合し
得る残留ヒドロキシル基がビニル樹脂上に存在するから
である。他方、ラクトン−付加物は電子ビーム照射によ
って硬化すべきバインダー系に使用するのに特に望まし
い。何故ならば、アジリレートまたはメタクリレート残
基の不飽和炭素−炭素結合が存在するからである。上記
それぞれのバインダー系に使用する場合、これらの物質
は、硬化した塗料に化学的に結合して、移行まｆｃはブ
ルーム（表面浸出）を起こさない。

本発明のフオスフオリレート化した物質を使用すると、
磁気記録媒体に非常に有利な特性を示し、本発明はこの
応用に関して詳述したけれども、このような物質はかか
るフォスフォリレート化した物質の特性を包含すること
が望ましい任意その他の応用において分散剤及び／又は
硬化用樹脂としても同様に使用することが出来るものと
認めら詐る。例えば、慣用のジンク−リッチ塗料は、耐
蝕性などを必要とでる多（の用途に対して有用である。

このような組成物は代表的Ｋｆｌ、亜鉛粒子のような随
意成分と共に成るものである。多くのこのような応用は
高温ださらすことを必要とするから、本発明のフォスフ
ォリレート化したフェノキシ樹脂を使用することは有利
な用途であることが判る６ジンクーリツチを保持する塗
料及び他の綺麗な且つ顔料を含む塗料に対して、本発明
のフォスフォリレート化した物質のうちの任意のものが
、改良された分散性を示し、かくて、基材に対し改良さ
れた接着を発揮する。したがって、本発明のフオスフオ
リレート化した物質は、このような塗料に関して容易に
使用することができる。

実際のところ、本発明のフオスフオリレート化したラク
トン−付加物は、乳化重合における表面活性剤として望
オしくに使用することが出来る。

更に、本発明の一層高度に７オス７オリレート化した物
質は、水分散性であり、したがって、この性質が例えば
水保持塗料（ｗａｔｅｒ−ｂｏｒｎｅ　ｃｏａｔｉｎｇ
ｓ　）におけるような所望される用途に有用である。

実施例 下記実施例は本発明を代表するものであって、　　・そ
れを限定するものではない。使用する出発物質、磁気媒
体処方物の調製、下記実施例において使用される技術の
評価は次のとおりである：出発物質 比重１．１７〜１．１９．４０％メチルエチルケトン溶
液中、２５℃における粘度４５００〜７０００　ｃｐｓ
、非揮発性分含量９９重量％、及びＴｇ９８〜１００１
？：ヲ有する市販の、ビスフェノールＡとエピクロルヒ
ドリンとの反応生成物。

ビニル樹脂 ビニル樹脂Ａ 数平均分子量約２０００、平均ヒドロキシル含量４重量
％、及び固体ペースのヒドロキシル当量４ｏＯ’ｅ有す
る市販のビニルクロリドービニルアセテートーヒドロキ
シブロビルアクリレートターボリ　マ　− ビニル樹脂Ｂ 数平均分子量約４０００、平均ヒドロキシル含量３重量
％及びＴｇ４０℃を有する市販のビニルクロリドービニ
アセテートーヒドロキシブロビルアクリレートターポリ
マー。

ビニル樹脂Ｃ 数平均分子量約８０００、平均ヒドロキシル含量２．３
重量％、及び１ｇ６５℃を有する市販のビニルクロリド
−ビニルアセテート−ヒドロキシプロビルアクリレート
共重合体。

ビニル樹脂り 数平均分子量約２３，０００、平均ヒドロキシル含量２
．３重量％、及び１ｇ７９℃を有する市販の部分加水分
解したビニルクロリド−ビニルアセテート共重合体。

ビニル樹脂Ｅ 数平均分子量約２．３，０００、平均ヒドロキシル含量
５重量％及びＴｇ　７９℃を有する市販の部分加水分解
したビニルクロリド−ビニルアセテート共重合体。

ビニル樹脂Ｆ 数平均分子量約２０，０００．平均ヒドロキシル含量２
重量％、及びＴｇ７４℃を有する部分加水分解したビニ
ルクロリド−ビニルアセテート−マレイン酸ターポリマ
ー。

ラクトン付加物 ヒドロキシエチルアクリレートとε−カプロラクトンと
から製造し、アクリレート１個当り平均２個のカプロラ
クトン単位を有するラクトン付加物。

エラストマーＡ 比重１，２１、’ｒｇ−２５℃、及びテトラヒドロフラ
ン中、全固形分１５％の溶液に対するブルックフィール
ド粘度３００　ｃｐｓ　’ｆｒ：有するＢ、　Ｆ、グツ
ドリッチ社製「ニスタン（Ｅｓｔａｎｅ　）（商標）　
５７０１、Ｆ−１」磁気媒体処方物の調製 樹脂の１５％シクロヘキサノン溶液１３４ｆとシクロヘ
キサノン１６０？とを予め混合し、次いでコバルト改質
した酸化鉄磁性顔料２０　Ｏｆｆ長軸約０．４ミクロン
を有する粒子の状態〔ファイブ（Ｐｆｉｚｅｒ　）社製
のｒ　ＰＦＥＲＩＣＯ２５６６Ｊ　　磁性顔料〕におい
て添加することにより処方物を調製した。該混合物を空
気かくはん機により１５〜３０分間、十分に混合した後
、得られたスラリーを、１、３　ｔｍ　のガラスピーズ
を満たしたプレマイヤーミルに添加し、約１時間粉砕し
た。　　　　　　　　　　１本発明のホスホリル化誘導
体を包含するビニル樹脂又はフェノキシ樹脂のみを含有
する、それら処方物をこの時点に訃いて取り出し、評価
した。

エラストマーＡｋ含有するそれらをこの段階においセ停
止させ、エラストマーＡｔ−添加した（シクロヘキサノ
ン中の１５％溶液１３４Ｐ）。次いで該処方物を追加の
時間にわたって粉砕し、取り出した。

この段階においてスパチュラ又はかくはんｓ’を使用し
て手動で部分を混合することにより、すべての後添加を
行った。このような後添加の１００分率はすべて処方物
中における顔料の重量を基準とする。

磁気媒体の評価 光沢 これはガラス上に１ミルのドローダウン（垂れ下り）を
つくり、処方物を風乾し、−次いで６０’クロスメータ
ーにより光沢を測定した。

直角度 これはマイラー基板上に３ミルと湿潤ドローダウンをつ
くり、次いで棒磁石を越えてマイラーを引っ張って磁性
粒子の方向を定めることにより測定した。次いでＬＤＪ
モデル７０００ＡＢ−Ｈメーターを使用して、この方向
を定めた２×２インチの部片について直角度（５ｑｕａ
ｒｅｎｅｓｓ　）を測定した。

顔料製造者によれば、磁性顔料について達成できる最大
直角度は０．８４である。

実施例１〜８ これらの実施例は、フェノキシ樹脂と種々のリン含有前
駆物質及び中間体とを反応させることにより、本発明の
新規なフェノキシリン酸エステルの製造について例証す
る。

シクロヘキサノン中のフェノキシ樹脂の２５重量％固溶
体に該リン含有前駆物質を添加し、得られた溶液ｆ、７
５〜１４５℃の温度において数時間（２〜４時間）、か
くはんしながら反応させた。

試薬状の塩化ホスホリル及び五酸化リン（ついて起こる
ことのある架橋を最小化するために、これら試薬の中間
体を製造した。塩化ホスホリルについては、このものを
室温においてｎ−ブタノールの２．５モル当量と反応さ
せて中間体を製造し、次いでそれをフェノキシ樹脂と反
応させた。五酸化リンは６０〜１００℃におけるシクロ
ヘキサノン中に溶解さ家□次いで成るモル量の成る種の
ヒドロキシル含有物と反応させて種々の中間体を形成さ
せ、次いでそれをフェノキシ樹脂と反応させた。

表Ｉは、使用したホスホリル化剤、反応温度及び置換バ
ーセントラ示し、該置換パーセントはホスホリル化する
ことのできたフェノキシ樹脂上のヒドロキシル基の理論
パーセントとして示す。

Ｉ　　　ＰＯＣＡ’、＋２．５　ｎ−ブタノ−＃　　　
　１００　　　１０２　　　ＰＯＣＩｔｓ＋２．５　ｎ
−ブタノール　　　１００　　２０３　　ジエチルクロ
ロホスフェート７５２０４　　　Ｐ、Ｏ，＋　４ラクト
ン−付加物　　　１ｏｏ　　　　１０５　　　Ｐ、Ｏ，
＋　４ラクトン−付加物　　　１００　　２０６　　　
Ｐ、Ｏ，＋　２ラクトン−付加物　　　１００　　　２
０７　　　Ｐ２Ｏ，＋　２フエノール　　　　　　１４
５　　２０８　　　Ｐ２Ｏ，７０２０ 実施例９〜２２ これらの実施例は、ビニル樹脂と、ラクトン−付加物と
から製造した本発明による新規なフォスフェートエステ
ルの製造を示すものである。

これらのフォスフェートエステルは、ビニル樹脂または
ラクトン−付加物先駆体を非プロトン性溶媒のアセトン
またはシクロヘキサノンのいずれかに溶解し、五酸化リ
ンを攪拌しながら添加することによって製造する。この
反応は室温において、攪拌しながら、２４時間または五
酸化リンの総てが溶解するまで（どちらか長い方）行う
。試料は総て、室温において、使用時まで貯菫した。試
料は総て、更に精製することなしに使用した。ただし、
実施例１５は例外であって、この場合はアセトンから沈
澱させ、温かい水で洗浄し、真空オープン中で恒量とな
るまで乾燥した。

表■は、使用原料を説明するものであって、五酸化リン
の百分率は原料の重量を基準とし念ものであり、また置
換％は、３フオスフエートエステルが各Ｐ、０３分子か
ら製造されると仮定して、存在する最初のヒドロキシル
基を、フォスフェートエステルに変換する理論百分率（
％）である。

表　■ ９　　　ビニル　レジンＡ４３２ １０　　　　ビニル　レジンＡ　　　　　　１　　　　
　８１１　　　ビニル　レジンＡ　　　　　２　　　１
６１２　　　　ビニル　レジンＡ　　　　　　５　　　
　４０１３　　　　ビニル　レジンＡ　　　　　　７．
５　　　６０１４　　　ビニル　レジンＢ　　　　　　
３．３　　　４０１５　　　ビニル　レジンＣ６１００ １６ビニル　レジンＤ　　　　　Ｏ，５１１１７ビニル
　レジンｌ）　　　　　　１．０　　　２２１８　　　
ビニル　レジンＤ　　　　　１．３　　　２２１９　　
　ビニル　レジンＤ　　　　　　２．５　　　５５２０
　　　　ビニル　レジンＤ　　　　　４．０　　　８１
２１　　　　ビニル　レジンＥ　　　　　　３．３　　
　２４２２　　　ラクトン−付加物　　　１４　　　１
００実施例２３〜２４ 実施例２３ 上記のように、実施例１５の反応生成物（レジンＣ）を
、次の手順に従って精製した。すなわち、実施例１５の
溶液約８０ｍＡ？急速に攪拌し、この間イソプロパツー
ル／　Ｈ，Ｏの８０／２０　　混合物の等容ｔｔ−徐々
に添加した。沈澱が生成した。２０分間、室温で攪拌し
た後、Ｈ，Ｏの１６０ｍ１を加え、その混合物を更に約
２０分間攪拌した。沈澱ｔ濾過によって集め、温かい水
で２回洗浄し、真空下５０℃で恒量となるまで乾燥した
。沈澱の原子吸着分光分析により、ビニルレジンＣフォ
スフェートは、０．３４重量％のリンを含有することが
判明した。

実施例２４ ５００ｆの’／　ｌ　ｏヘキサノン中ビニルレジンＤの
１５％溶液を、ｐ、ｏ、の４２と、攪拌しながら室温で
反応させた。反応の開始時から２４時間後に、ランニン
グ・ブレンダー中で該溶液をその容積の約５倍量の氷水
に徐々に添加することによって、溶液の一部分を沈澱さ
せた。こうして得られるボリマーｋｆ’過によって集め
、温水で数回洗浄し、真空オープン中で４０〜５０℃で
恒量となるまで乾燥した。このポリマーを、リン含量に
関して分析したところ、原子吸着分光分析により、重合
体の０．４重量％のリンを含有することが判明した。

試料の他の一部分について、最初のサンプリングから４
８時間後、すなわちフォス７才リレート化反応の開始か
ら７２時間後に、同じ沈澱操作を行った。かくて、重量
によるリン含量は実験誤差内の同一であることが判明し
た。

実施例２５〜３に れらの実施例は、本発明の新規フォスフォリレート化し
た物質を、原料の樹脂と比較して達成した。改良特性を
説明するものである。

塗料は、原料から、及び実施例４．５．７．９及び１４
〜２１１Ｃおいて製造し之新規フオスフオリレート化し
た樹脂反応生成物から、上述のよう例して製造した　対
照或はフォスフォリレート化した樹脂のいずれについて
も分散剤は添加しなかった。光沢及び面角度特性を表■
に示す。

表　　■ ３６　　　央ｔｍｖａｒ　　　９４　　ｏｙｂ理解し得
るように、本発明の新規フォスフォリレート化した物質
は、原料樹脂に比し、総ての場合、より高い光沢及び／
又は改良された面角度を有する塗料を提供する。ビニル
レジンＥに対する面角度は測定しなかった。フェノキシ
樹脂原料を用いた分散液は、非常に貧弱であるので、光
沢測定も、面角度値も、いずれも求めなかった。何故な
らば、これは有意味とは考えられないからである。

実施例３７〜４４ これらの実施例は、エラストマーＡの存在における、本
発明のフォスフォリレート化したビニル丞びフェノキシ
樹脂の分散特性を示すものであって、塗料に添加するエ
ラストマーＡの量は一般的配合物に説明したとおりであ
る。これらの結果を表■に説明する。

表■ ３７　　　　実施例　４　　　６９　　０．７４＝３８
　　　　実施例　５　　　７１　　０．８１３９　　　
　実施例　７　　　４４　　０．７２４０　　　　　ビ
ニルレジンＤ　　　　　５０　　　０．７４４１　　　
　実施例１６　　　５８　　０゜７５４２　　　　実施
例１７　　　６１　　０．７６４３　　　　実施例１９
　　　４２　　０．８１４４　　　　実施例２０　　　
４０　　０．８２これらの実施例、及び先行実施例３４
〜３６に関して製造した親の７エノキシ樹脂の特性に関
する所見から理解し得るように、本発明のフオスフオリ
レート化したビニル及びフェノキシ樹脂は、それらの親
（元）のフオスフオリレート化しなかった樹脂に比較し
て磁気塗料に対して改良された分散及び磁気特性を提供
する。

実施例４５〜４に れらの実施例は、磁気塗料中における分散体としての、
本発明のフオスフオリレート化したラクト／−付加物の
有用性を説明するものである。

ビニルレジンＤとフェノキシ樹脂とから塗料全製造し、
これらの塗料の光沢及び直角度の特性を、本発明のラク
トン−付加物フォスフニートラ添加した塗料と比較した
。これらの結果を表Ｖに説明する。

表Ｖから理解し得るように、本発明のラクトン−付加物
を使用すると、光沢及び直角度の双方が高められる結果
となった。

実施例４７〜５０ これらの実施例は、従来製造した処方物の直角度を改良
するために、後−添加剤分散液としての、本発明のラク
トン−付加物フォスフェートの機能を説明するものであ
る。

弾性ホリマー（エラストマーＡ）と、ビニルレジンＦと
を使用して磁気塗料全製造した。処方物の直角度は、こ
の処方物に本発明のラクトン−付加物フォスフェートの
種々の量を、後−添加剤（ｐｏｓｔ−ａｄｄｉｔｉｖｅ
　）として添加したものと比較して評価した。先行技術
による表面活性剤によって達成され得る結果を比較の目
的のために説明する。

これらの結果を表■に説明する。

表■ フォスフェート 理解されるように、本発明のラクトン−付加物フォスフ
ェートの後−添加は、磁気塗料の直角度を高める。先行
技術の表面活性剤も同様に改良をも次らすげれども、本
発明のラクトン−付加物フォスフェートを使用すると、
電子ビーム硬化性バインダー系における先行技術の表面
活性剤の公知の移行問題を解決することになる。

実施例５１〜５３ これらの実施例は、後−添加剤としての、本発明のフオ
スフオリレート化したビニル樹脂の効果を証明するもの
である。

ビニルレジンＦとエラストマーＡとの５０−５０混合物
を使用して、磁気塗料を製造した。次に、この対照物の
直角度を、ビニルレジンＡと、実施例１１〜１３のフォ
スフォリレート化した生成物との等量による後−添加処
理と対比し、並びに従来技術の表面活性剤によって得ら
れた結果とによって評価した。これらの結果を表■に説
明する。

表■ 対照例　　　　　　　　　　　　　　　　−０，７２対
照例　　　　４％ビニルレジンＡ　　　　　−０，７４
５１４％一実施例１１　　　　　１６　　０．７６５２
　　　　４％一実施例１２　　　　　４０　　　０．７
８５３　　　　４％一実施例１３　　　　６０　　０．
８３理解し得るように、本発明のフオスフオリレート化
したビニル樹脂を使用すると、磁気塗料の直角度特性が
向上する。ビニル樹脂はインシアネート硬化バインダー
系に特に有用であり、そしてバインダー系のイソシアネ
ート硬化の間のビニル樹脂の交差結合による先行技術の
表面活性剤の公知移行またはプルーミング（ｂｌｏｏｍ
ｉｎｇ　）の問題を回避する。

実施例５４ この実施例は、本発明のフオスフオリレート化したフェ
ノキシポリマーが、親（元）のフェノキシ樹脂から製造
した慣用の亜鉛に豊む（ジンク−リッチ）塗料よりも一
層良好な耐溶媒性及び一層良好な腐蝕保護を有するジン
ク−リッチ塗料を提供するのに使用できることを説明す
るものである。

ジンク−リッチペイントは、亜鉛末２００ｆ、実施例５
の反応生成物１１８．２　ｆ、　ｒ　ＭＰＡ　６０Ｘ　
Ｊ抗沈降剤６．２２、ｒ　Ａｅｒｏｓｉｌ　Ｒ−９７２
Ｊ濃厚化剤１．８２及びＣａＯ（水捕集剤）１．Ｏｒ’
ｔ、媒質用のミル（摩砕機）中で混合することによって
製造する。この溶液をシクロヘキサノン４７９で低下さ
せ、そして冷間圧延鋼板（パネル）に塗布した（乾燥時
の厚さ二０．４ミル）。このパネルを室温で１時間、風
乾し、次いで１８０℃で３０分間焼成した。

比較の目的のため【、上記処方物における実施例５の反
応生成物の代りに、親（元）のフェノキ　　′□シ樹脂
の２５％溶液１２５　ｔｆ使用して、ジンク−リッチペ
イントを製造した。この処方物を用いて、鋼パネルを被
覆し、そしてフォスフォリレート化したフェノキシ樹脂
・ジンク−リッチ塗料を用いて塗布したのと同様なやり
方で処理した。

これら双方のパネルのセットを、焼戻し、メチルエチル
ケトン往復摩擦（ｄｏｕｂｌｅ　ｒｕｂ　）及び塩噴霧
試験にも次らした。双方のパネルセット共往復焼戻しカ
ップ試験（ａ　ｄｏｕｂｌｅ　ｄｒａｗ　ｃｕｐ　ｔｅ
ｓｔ）に合格して良好な可撓性を示したけれども、本発
明のフォスフォリレート化した樹脂を使用したジンク−
リッチ塗料は一層良好な耐溶媒性であった〔２４摩擦対
（ｖｓ、　）　３　）。塩噴霧試験の３００時間後に、
親のフェノキシ樹脂を使用したジン／−ＩＪツチ塗料を
塗布したパネルは、ツクネルの平滑部分に若干の腐蝕と
、パネルのオルセン・ボタン（Ｏｌｓｅｎ　ｂｕｔｔｏ
ｎｓ　）に可成りの腐蝕とを示したのに対し、本発明の
フオスフオリレート化した樹脂を使用したジンク−リッ
チ塗料は、平滑部分或は延伸部分（ｄｒａｗｎ　ａｒｅ
ａ　）　（Ｏｌｓｅｎ　ｂｕｔｔｏｎ　Ｊのいづれにも
、本質的に何等の腐蝕を示さなかった。

手　　　続　　　補　　　正　　　書 昭和ｌθ年を月３０日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、（ａ）下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｘは▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式
   、化学式、表等があります▼ またはそれらの混合体であり、ここにＡｒは芳香族の２
   価炭化水素であり、Ｙ及びＹ＿１はアルキル基、ハロゲ
   ン原子またはアルコキシ基であり、ｒ及びｚは０ないし
   置換基によつて置き換えることが可能なＡｒにおける水
   素原子の数に相当する最大値までの値を有する整数であ
   り、Ｒ＾１は隣接炭素原子間の結合、２価の基、２価の
   炭化水素基、ポリアルコキシ基、ポリシロキシ基、芳香
   族環によつて離たれた２個またはそれ以上のアルキリデ
   ン基、第３級アミノ基、エーテル結合、カルボキシル基
   または硫黄含有基であり；Ｒは水素原子であるか、また
   は１ないし２０個の炭素原子を有するアルキルであり；
   そしてｎは少くとも５０である）を有するフェノキシ樹
   脂、 （ｂ）ビニルクロリドコポリマーまたはターポリマであ
   つて、このものは少くとも１０００の数平均分子量及び
   該ビニルクロリドコポリマーまたはターポリマーに存在
   するか、或は該ビニルクロリドコポリマーまたはターポ
   リマーがフオスフオリル化反応に先立つて製造されるモ
   ノマー中に存在する少くとも約０．１重量％のヒドロキ
   シル基を有し、そして （ｉ）ビニルクロリド−ビニルエステルコポリマー及び
   ターポリマー（ここに該ビニルエステル基の少くとも若
   干は加水分解されているものであるとし、該ビニルエス
   テルは１〜６個の炭素原子を有する飽和カルボン酸のエ
   ステルである）と、（ｉｉ）ビニルクロリドのヒドロキ
   シ官能コポリマーまたはターポリマー、ヒドロキシアル
   キルのアクリレートまたはメタクリレート（ここにアル
   キルセグメントには２〜５個の炭素原子を有する）、及
   び１〜６個の炭素原子を有する飽和カルボン酸のビニル
   エステル とより成る群から選択するものとする、及び（ｃ）下記
   の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＾３は水素またはメチルであり、Ｒ＾４は２〜
   １０個の炭素原子を有するアルキル基であり、Ｒ＾５は
   水素原子であるか、或は１〜１２個の炭素原子を有する
   アルキル基であり、ｘは４〜７であり、そしてｙは１〜
   １０である） を有するヒドロキシアルキルアクリレートまたはメタク
   リレート−ラクトン付加物 より成る群から選択した因子のフオスフオリレート化し
   た組成物であつて、該フェノキシ樹脂中に存在するヒド
   ロキシル基の少くとも１％はフオスホリレート化されて
   いるものとし、また該モノマーまたはこれから得られる
   ビニルクロリドコポリマーまたはターポリマー中に存在
   するヒドロキシル基の充分な量の百分率（割合）が、該
   ビニルクロリドコポリマーまたはターポリマーの重量を
   基準にして少くとも０．０３％の燐を提供するようにフ
   オスフオリレート化されていることを特徴とする、前記
   組成物。 ２、フェノキシ樹脂において、Ｘがビスフェノール−Ａ
   である特許請求の範囲第１項に記載の組成物。 ３、フェノキシ樹脂において、Ｘがビスフェノール−Ａ
   と、ヒドロキノンとの混合物である特許請求の範囲第１
   項に記載の組成物。 ４、フェノキシ樹脂において、Ｘがビスフェノール−Ａ
   と、レゾルシノールとの混合物である特許請求の範囲第
   １項に記載の組成物。 ５、フェノキシ樹脂において、Ｒが水素である特許請求
   の範囲第１項記載の組成物。 ６、フェノキシ樹脂において、ｎが少くとも約８０であ
   る特許請求の範囲第１項に記載の組成物。 ７、フェノキシ樹脂において、ｎが少くとも約１００で
   ある特許請求の範囲第１項に記載の組成物。 ８、フェノキシ樹脂において、ｎが少くとも約１２０で
   ある特許請求の範囲第１項に記載の組成物。 ９、フェノキシ樹脂において、Ｘがビスフェノール−Ａ
   であり、そしてＲが水素である特許請求の範囲第１項に
   記載の組成物。 １０、フェノキシ樹脂において、ｎが少くとも約８０で
   ある特許請求の範囲第９項に記載の組成物。 １１、フェノキシ樹脂において、ｎが少くとも約１００
   である特許請求の範囲第９項に記載の組成物。 １２、フェノキシ樹脂において、ｎが少くとも約１２０
   である特許請求の範囲第９項に記載の組成物。 １３、ビニルクロリドコポリマーまたはターポリマーの
   数平均分子量が少くとも約２０００である特許請求の範
   囲第１項に記載の組成物。 １４、ビニルクロリドコポリマーまたはターポリマーの
   数平均分子量が少くとも約４０００である特許請求の範
   囲第１項に記載の組成物。 １５、ビニルクロリドコポリマーまたはターポリマーの
   数平均分子量が少くとも約８０００である特許請求の範
   囲第１項に記載の組成物。 １６、ビニルクロリドコポリマーまたはターポリマーの
   数平均分子量が少くとも約２３０００である特許請求の
   範囲第１項に記載の組成物。 １７、ビニルクロリドコポリマーまたはターポリマーが
   約２８〜３２のビニルクロリド対約０．５〜８のビニル
   アルコール、並びに、対約０〜４のビニルエステルのモ
   ル比を有するものである特許請求の範囲第１項に記載の
   組成物。 １８、ビニルエステルがビニルアセテートである特許請
   求の範囲第１７項に記載の組成物。 １９、ビニルクロリドコポリマーまたはターポリマーが
   、約１２〜２０のビニルクロリド対約１〜３のヒドロキ
   シアルキルアクリレートまたはメタクリレート、並びに
   、対約０〜３のビニルエステルのモル比を有するヒドロ
   キシ官能コポリマーまたはターポリマーである特許請求
   の範囲第１項に記載の組成物。 ２０、ビニルエステルがビニルアセテートである特許請
   求の範囲第１９項に記載の組成物。 ２１、ビニルクロリドコポリマーまたはターポリマーが
   、ビニルクロリド−ヒドロキシエチルアクリレートコポ
   リマーである特許請求の範囲第１９項に記載の組成物。 ２２、ビニルクロリドコポリマーまたはターポリマーが
   、ビニルクロリド−ヒドロキシプロピルアクリレートコ
   ポリマーである特許請求の範囲第１９項に記載の組成物
   。 ２３、ビニルクロリドコポリマーまたはターポリマーが
   、ビニルクロリド−ヒドロキシエチルアクリレート−ビ
   ニルアセテートコポリマーである特許請求の範囲第１９
   項に記載の組成物。 ２４、ビニルクロリドコポリマーまたはターポリマーが
   、ビニルクロリド−ヒドロキシプロピルアクリレートー
   ビニルアセテートターポリマーである特許請求の範囲第
   １９項に記載の組成物。 ２５、ヒドロキシアルキルアクリレートまたはメタクリ
   レート−ラクトン付加物がヒドロキシエチルアクリレー
   ト付加物である特許請求の範囲第１項に記載の組成物。 ２６、ヒドロキシアルキルアクリレートまたはメタクリ
   レート−ラクトン付加物が、ヒドロキシエチルメタクリ
   レート付加物である特許請求の範囲第１項に記載の組成
   物。 ２７、ヒドロキシアルキルアクリレートまたはメタクリ
   レート−ラクトン付加物がヒドロキシプロピルアクリレ
   ート付加物である特許請求の範囲第１項に記載の組成物
   。 ２８、ヒドロキシアルキルアクリレートまたはメタクリ
   レート−ラクトン付加物がヒドロキシプロピルメタクリ
   レート付加物である特許請求の範囲第１項に記載の組成
   物。 ２９、ヒドロキシアルキルアクリレートまたはメタクリ
   レート−ラクトン付加物が、ヒドロキシアルキルアクリ
   レートまたはメタクリレートと、イプシロン−カプロラ
   クトンとの付加物であつて、この場合特許請求の範囲第
   １項における式中Ｙが約１〜４の平均値を有するもので
   ある特許請求の範囲第１項に記載の組成物。 ３０、Ｙが約２の平均値を有するものである特許請求の
   範囲第２９項に記載の組成物。 ３１、ヒドロキシアルキルアクリレートまたはメタクリ
   レートが、ヒドロキシエチルアクリレートまたはメタク
   リレートである特許請求の範囲第２９項に記載の組成物
   。 ３２、反応体がフェノキシ樹脂である特許請求の範囲第
   １項に記載の組成物。 ３３、存在するヒドロキシル基の少くとも５％がフオス
   フオリレート化されているものである特許請求の範囲第
   ３２項に記載の組成物。 ３４、存在するヒドロキシル基の少くとも１０％がフオ
   スフオリレート化されているものである特許請求の範囲
   第３２項に記載の組成物。 ３５、存在するヒドロキシル基の少くとも２０％がフオ
   スフオリレート化されているものである特許請求の範囲
   第３２項に記載の組成物。 ３６、反応体がビニルクロリドコポリマーまたはターポ
   リマーである特許請求の範囲第１項に記載の組成物。 ３７、存在するヒドロキシル基の充分な百分率が少くと
   も０．１％の燐を提供するようにフオスフオリレート化
   されているものである特許請求の範囲第３、６項に記載
   の組成物。 ３８、存在するヒドロキシル基の充分な百分率が少くと
   も約０．３重量％の燐を提供するようにフオスフオリレ
   ート化されているものである特許請求の範囲第３６項に
   記載の組成物。 ３９、フオスフオリレート化されたヒドロキシル基の燐
   部分が一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＾６は水素、１〜２０個の炭素原子を有するア
   ルキルまたはアルケニル基、アルキルセグメントに２〜
   １０個の炭素原子を有するアルキルアクリレートまたは
   メタクリレート、置換及び未置換のフェニル、該ラクト
   ン付加物またはそれらの混合物よりなる） によつて特徴づけられるものである特許請求の範囲第１
   項に記載の組成物。 ４０、Ｒ＾６が水素より成るものである特許請求の範囲
   第３９項に記載の組成物。 ４１、Ｒ＾６がヒドロキシアルキルアクリレートまたは
   メタクリレート−ラクトン付加物の残基より成るもので
   ある特許請求の範囲第３９項に記載の組成物。 ４２、ヒドロキシアルキルアクリレートまたはメタクリ
   レートが、ヒドロキシエチルアクリレートであり、そし
   てラクトンがイプシロン−カプロラクトンであり、ここ
   に特許請求の範囲第３９項における式中のＹが約１〜４
   の平均値を有するものである特許請求の範囲第４１項に
   記載の組成物。 ４３、Ｒ＾６がフェニルより成る特許請求の範囲第３９
   項に記載の組成物。 ４４、Ｒ＾６が１〜２０個の炭素原子を有するアルキル
   より成る特許請求の範囲第３９項に記載の組成物。 ４５、アルキルがエチルである特許請求の範囲第４４項
   に記載の組成物。 ４６、アルキルがｎ−ブチルである特許請求の範囲第４
   ４項に記載の組成物。 ４７、反応体がフェノキシ樹脂であり、ただしこの場合
   Ｘはビスフェノール−Ａであり、Ｒは水素であり、ｎは
   少くとも約８０であり、そしてＲ＾６はフェニルより成
   るものである特許請求の範囲第３９項に記載の組成物。 ４８、反応体がフェノキシ樹脂であり、この場合Ｘはビ
   スフェノール−Ａであり、Ｒは水素であり、ｎは少くと
   も約８０であり、そしてＲ＾６はｎ−ブチルより成るも
   のである特許請求の範囲第３９項に記載の組成物。 ４９、反応体がフェノキシ樹脂であり、この場合Ｘはビ
   スフェノール−Ａであり、Ｒは水素であり、ｎは少くと
   も約８０であり、そしてＲ＾６は該ラクトン−付加物の
   残基より成る特許請求の範囲第３９項に記載の組成物。 ５０、媒体、その中に分散した粒子、及び該媒体中の該
   粒子の分散の程度を増大させるのに充分な量において存
   在する特許請求の範囲第１項による組成物より成る分散
   体。 ５１、粒子が亜鉛粒子であり、そして反応生成物がフェ
   ノキシ樹脂である特許請求の範囲第５０項に記載の分散
   体。 ５２、粒子が亜鉛粒子であり、そして反応生成物がビニ
   ルクロリドコポリマーまたはターポリマーである特許請
   求の範囲第５０項に記載の分散体。 ５３、基材、及びその上に硬化したバインダー系と磁気
   粒子とより成る磁気記録層から成る磁気記録媒体であつ
   て、該バインダー系は前記媒体中に特許請求の範囲第１
   項による組成物を該磁気被覆層の分散特性を増大させる
   のに充分な量において存在包含されているものとする前
   記磁気記録媒体。 ５４、組成物がフェノキシ樹脂である特許請求の範囲第
   ５３項に記載の磁気記録媒体。 ５５、Ｘがビスフェノール−Ａであり、Ｒ＾１が水素で
   あり、そしてｎが少くとも約１００である特許請求の範
   囲第５５項に記載の磁気記録媒体。 ５６、反応生成物がビニルクロリドコポリマーまたはタ
   ーポリマーである特許請求の範囲第５３項に記載の磁気
   記録媒体。 ５７、ビニルクロリドコポリマーまたはターポリマーが
   、約２８〜３２のビニルクロリド対約０．５〜８のビニ
   ルアルコール、並びに、対約０〜４のビニルエステルの
   分子比を有するものである特許請求の範囲第５６項に記
   載の磁気記録媒体。 ５８、ビニルクロリドコポリマーまたはターポリマーが
   、約１２〜２０のビニルクロリド対約１〜３のヒドロキ
   シアルキルアクリレートまたはメタクリレート、並びに
   、対約０〜３のビニルエステルのモル比を有するヒドロ
   キシ−官能性コポリマーまたはターポリマーである特許
   請求の範囲第５６項に記載の磁気記録媒体。 ５９、バインダー系と、その中に分散させた磁気粒子と
   より成る磁気被覆体の磁気特性、次いでその貯蔵を増大
   させる方法において、該磁気被覆体に、特許請求の範囲
   第１項による組成物を、それらの磁気特性を増大させる
   のに充分な量において添加することより成る前記方法。 ６０、組成物がヒドロキシアルキルアクリレートまたは
   メタクリレート−ラクトン付加物である特許請求の範囲
   第５９項に記載の方法。