JPS6147648B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はワイヤカツト放電加工用電極ガイドユ
ニツト、特にワイヤ電極通電部へ効果的に加工液
を供給することのできる改良された電極ガイドユ
ニツトに関するものである。

所望の加工形状の送りが与えられるワイヤ電極
を被加工物に貫通走行させ、両者間に放電電力を
供給することにより被加工物を切断するワイヤカ
ツト放電加工装置が周知であり、複雑な形状の切
断加工に極めて好適である。この種の装置におい
て、ワイヤ電極は電極ガイドユニツトにより所望
の送り部に導かれ、またワイヤ電極に放電電力が
供給される給電接触子から被加工物の加工部まで
のワイヤ電極部分がいわゆるワイヤ電極通電部に
は電極ガイドユニツトから加工液が供給され、冷
却、気中放電の防止及び加工粉の排除が行なわれ
ている。ワイヤ電極通電部において、前記加工液
はワイヤ電極を包む液柱を形成するように噴射さ
れることが望ましいが、従来装置では、良好な加
工液柱が形成されずに異常放電あるいはワイヤ電
極の断線が生じるという問題があつた。従来の加
工液柱の乱れは主としてオーバフロー液流が加工
液柱に対して干渉を起すということに起因し、従
来装置では、この干渉を防止することができなか
つたために加工液柱の乱れが生じ易く、ワイヤ電
極断線等の事故がしばしば生じていた。

第１図には従来の電極ガイドユニツトが示さ
れ、電極ガイドユニツト１０は被加工物１２の上
部電極ガイドユニツトとして用いられ、被加工物
１２を貫通走行するワイヤ電極１４が電極ガイド
ユニツト１０に導かれて巻取リール１６に巻取ら
れる。ワイヤ電極１４には給電接触子１８から放
電電力が供給され、加工部１００にて被加工物１
２の切断加工が行なわれる。給電接触子１８との
接触部から加工部１００までのワイヤ電極通電部
には大電流が通電され、この間における冷却、気
中放電防止及び加工粉除去のため加工液が供給さ
れ、第１図において、加工液は電極ガイドユニツ
ト１０の流入口２０及び補助供給ノズル２２から
供給されている。流入口２０は支持体２４に一体
形成され、支持体２４のテーバ状の受孔２４ａに
はダイス状のワイヤ電極ガイド２６が挿入保持さ
れ、支持体２４にねじ固定された締付体２８によ
り電極ガイド２６が支持体２４に位置決め固定さ
れている。支持体２４の外周にはキヤツプ３０が
ねじ固定され、そのノズル３０ａから加工液がワ
イヤ電極１４へ向つて噴射され加工液柱が形成さ
れる。

従来の上部電極ガイドユニツト１０は以上の構
成から成り、以下にその加工液供給作用を説明す
る。流入口２０から供給された加工液はノズル３
０ａから噴射してワイヤ電極１４を包む加工液柱
を形成するが、第１図から明らかなように、電極
ガイドユニツト１０の上方にある給電接触子１８
からユニツト１０までの冷却及び気中放電防止の
ため補助供給ノズル２２からも加工液の供給が行
なわれ、この結果、オーバフロー液流が加工液柱
に干渉して加工液柱の乱れが生じるという欠点が
あつた。すなわち、ノズル２２からの加工液はそ
の一部が締付体２８の中空孔２８ａ及び支持体２
４の透孔２４ｂを通つてキヤツプ３０のノズル３
０ａに導かれ加工液柱の形成に寄与するが、その
一部は電極ガイドユニツト１０からオーバフロー
し、矢印Ａで示されるようにキヤツプ３０の外周
に沿つてノズル３０ａに落下し、この結果、加工
液柱はノズル３０ａの下方でオーバフロー液流と
の干渉により乱れが生じ、ワイヤ電極１４を包む
ことができなくなる。従つて、加工部１００へは
加工液の供給がなくなり、気中放電を生じ易くワ
イヤ断線事故等が容易に生じるという欠点があつ
た。

第２図には、前述した電極ガイドユニツト１０
が下部電極ガイドとして用いられている状態が示
され、加工液は流入口２０からユニツト１０に供
給され、キヤツプ３０のノズル３０ａから加工部
へ噴射されるとともに、締付体２８の中空孔２８
ａからワイヤ電極１４を包む加工液柱として噴射
される。第２図の下部電極ガイドユニツトにおい
ては、加工部１００へは良好な加工液柱を供給す
ることができるが、ユニツト１０から給電接触子
１８までのワイヤ電極通電部には、キヤツプ３０
の外周を回つたオーバフロー液流が中空孔２８ａ
から噴射される加工液柱に干渉を与え、図示した
ように加工液柱の乱れが生じ、ワイヤ電極１４と
接触子１８との接触部２００においてワイヤ断線
事故等が生じ易くなる。

本発明は上記従来の課題に鑑みなされたもので
あり、その目的は、オーバフロー液流による干渉
のない良好な加工液柱を得ることのできる改良さ
れた電極ガイドユニツトを提供することにある。

上記目的を達成するために、本発明は、ワイヤ
電極を被加工物の加工部へ導くとともにワイヤ電
極の通電部へ加工液を噴出するワイヤカツト放電
加工用電極ガイドユニツトにおいて、フローガイ
ドを設けることにより通電部を包む加工液柱と、
この液以外の液流との干渉を除去したことを特徴
とする。

以下図面に基づいて本発明の好適な実施例を説
明する。

第３図には上部電極ガイドユニツトに本発明を
適用した好適な第１実施例が示され、第１図の従
来装置と同一部材には同一符号を付して説明を省
略する。

第１実施例において特徴的なことは、キヤツプ
３０に、通電部への液流以外の液流、例えばオー
バフローなどを案内するフローガイドの役目をす
るスカート部３２が設けられていることである。
スカート部３２はノズル３０ａと同軸のリング状
張出部から成り、矢印Ａで示されるオーバフロー
液流とノズル３０ａから噴射される加工液柱とを
完全に分離することができる。すなわち、オーバ
フロー液流は下方に張出したスカート部３２の外
周に沿つて落下し、ノズル３０ａから噴射される
加工液柱と合流することがないので、両者の干渉
が確実に防止され、加工液柱はキヤツプ３０のノ
ズル３０ａからの噴射液のみにより形成され、こ
の結果、ワイヤ電極１４の周囲にはワイヤ電極１
４を包む加工液柱が形成されることとなる。

第４図には本発明の好適な第２実施例が示され
第１実施例と同一部材には同一符号を付して説明
を省略する。

第２実施例においては、電極ガイドユニツト１
０が下部電極ガイドユニツトとして用いられ、こ
の結果、キヤツプ３０には第２実施例と逆方向に
張出したスカート部３２が形成されている。第２
実施例と同様に、キヤツプ３０のノズル３０ａか
ら加工部１００に向つて噴射された加工液のオー
バフロー液流はキヤツプ３０の外周をスカート部
３２により導かれ、締付体２８の中空孔２８ａか
ら噴射される加工液柱とは合流することなく、確
実に両者に分離が行なわれ、この結果、加工液柱
の乱れが生じることはない。従つて、ワイヤ電極
１４と給電接触子１８との接触部２００も良好な
加工液柱に包まれ、異常放電あるいはワイヤ電極
切断事故の発生が確実に防止される。

実施例において、スカート部３２はキヤツプ３
０に一体成形されているが、本発明において、加
工液柱とオーバフロー液流とを分離するスカート
部は任意の個所に設けることが可能である。

以上説明したように、本発明によれば、加工液
柱とオーバフロー液流とを確実に分離し加工液柱
の乱れを防止しているので、ワイヤ電極通電部は
安定した加工液柱に包まれ、良好な冷却、気中放
電防止あるいは加工粉除去作用を得ることがで
き、ワイヤ電極の断線事故を確実に防止すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の上部電極ガイドユニツトを示す
断面図、第２図は従来の下部電極ユニツトを示す
断面図、第３図は本発明に係る電極ガイドユニツ
トの好適な第１実施例を示す断面図、第４図は本
発明の好適な第２実施例を示す断面図である。各
図中同一部材には同一符号を付し、１０は電極ガ
イドユニツト、１２は被加工物、１４はワイヤ電
極、２６はワイヤ電極ガイド、３２はスカート
部、３４はオーバフロー液溜、３６は排出口であ
る。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ ワイヤ電極を被加工物の加工部へ導くワイヤ
   電極ガイドを有し、このワイヤ電極ガイドの上下
   部において導かれているワイヤ電極に上下部の加
   工液噴出ノズルからそれぞれ加工液を噴出してワ
   イヤ電極に沿つた液柱を形成するワイヤカツト放
   電加工用電極ガイドユニツトにおいて、液柱を形
   成した後にワイヤ電極ガイドの上方から流れてく
   る加工液をワイヤ電極ガイドの下方に形成されて
   いる液柱と別個の流路に誘導するスカート部が下
   部の加工液噴出ノズルの外周に設けられているこ
   とを特徴とするワイヤカツト放電加工用電極ガイ
   ドユニツト。