JPS61234544A - ウエハ−の位置決め装置 - Google Patents
ウエハ−の位置決め装置Info
- Publication number
- JPS61234544A JPS61234544A JP7743485A JP7743485A JPS61234544A JP S61234544 A JPS61234544 A JP S61234544A JP 7743485 A JP7743485 A JP 7743485A JP 7743485 A JP7743485 A JP 7743485A JP S61234544 A JPS61234544 A JP S61234544A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- angle
- boundary line
- point
- encoder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
利用分野 この発明は半導体製造の際使用する薄い円板
状のウェハーの方向、位置を決めるものである。このと
き第３図に示すようにウェハー１にはその結晶軸を規制
するためにオリエンテーションフラット（以下ＯＦとす
る）２の弦による欠円部分が設けられ、これを基準とし
て加工工程が行なわれる。なおウェハーは同形のものが
連続して搬送され、これをＯＦを基準として一定方向に
揃える必要があり、本発明はこのための装置に係わるも
のである。
状のウェハーの方向、位置を決めるものである。このと
き第３図に示すようにウェハー１にはその結晶軸を規制
するためにオリエンテーションフラット（以下ＯＦとす
る）２の弦による欠円部分が設けられ、これを基準とし
て加工工程が行なわれる。なおウェハーは同形のものが
連続して搬送され、これをＯＦを基準として一定方向に
揃える必要があり、本発明はこのための装置に係わるも
のである。
従来技術 これには従来種々な装置が考えられ、基準と
なる定規にＯＦを当てるもの、複数のローラーをウェハ
ーの外周に当てて、ウェハーを回転して、ＯＦにて駆動
０−ラーを浮せる等である。
なる定規にＯＦを当てるもの、複数のローラーをウェハ
ーの外周に当てて、ウェハーを回転して、ＯＦにて駆動
０−ラーを浮せる等である。
しかしいずれも正確な位置決めの点、並びにウェハーの
形が変更になったときの処置に手数を要する等の欠点が
あった。
形が変更になったときの処置に手数を要する等の欠点が
あった。
また結晶軸とＯＦとの関係にもずれが発生することがあ
り、これを修正して位置決めすることが困難であった。
り、これを修正して位置決めすることが困難であった。
この発明はこの修正をも自由にかつ高精度に簡単に可能
としたものである。
としたものである。
実施例 第１図において、ウェハーは図の左から右に案
内５．６の問を押し出されてストッパー３によって停止
しする。その下には回転テーブル４があって、ウェハー
はテーブル４の上に中心を合せて置かれる。テーブルに
はパルスモータ−７が取り付けられ、その回転角度はロ
ータリーエンコウダー８によって検出器される。
内５．６の問を押し出されてストッパー３によって停止
しする。その下には回転テーブル４があって、ウェハー
はテーブル４の上に中心を合せて置かれる。テーブルに
はパルスモータ−７が取り付けられ、その回転角度はロ
ータリーエンコウダー８によって検出器される。
また回転するウェハーのＯＦ部分にかかる位置に反射光
検出器９を下から上向きに取り付ける。
検出器９を下から上向きに取り付ける。
ここで反射光検出器９は第４図にその一例を示すように
、中央に受光器１１（光−電気変換素子）を有し、その
周囲を光源１２をもって取り巻く。そしてウェハー１の
下面に投射された光の反射光は受光器１１によって検出
されて、その上のウェハーがＯＦの位置か、ＯＦのない
正常な位置かを検出する。
、中央に受光器１１（光−電気変換素子）を有し、その
周囲を光源１２をもって取り巻く。そしてウェハー１の
下面に投射された光の反射光は受光器１１によって検出
されて、その上のウェハーがＯＦの位置か、ＯＦのない
正常な位置かを検出する。
このような装置において、テーブル４にウェハー１を載
せると、テーブルは静かに回転を開始する。検出器の上
をＯＦの位置から、ＯＦでない正常な位置への第１の境
界線が通過するとき、電気信号は零から次第に上昇する
。そこで電気量のレベルを決めて、このレベルを切った
時点をＯＦの境界線位置とする。そしてこのときの角度
ａをエンコウダーによって読み取る。
せると、テーブルは静かに回転を開始する。検出器の上
をＯＦの位置から、ＯＦでない正常な位置への第１の境
界線が通過するとき、電気信号は零から次第に上昇する
。そこで電気量のレベルを決めて、このレベルを切った
時点をＯＦの境界線位置とする。そしてこのときの角度
ａをエンコウダーによって読み取る。
次にモーター７を逆転して検出器９を再びＯＦ位置より
第２の境界線を越させる。そして前記同様なレベルによ
って第２の境界線の角度すをエンコーダによって読む。
第２の境界線を越させる。そして前記同様なレベルによ
って第２の境界線の角度すをエンコーダによって読む。
ついで角度値ａ、ｂによってその中間角Ｃの角度を演算
し、特定の位置に中間角Ｃがくるようにテーブルを回転
させる。
し、特定の位置に中間角Ｃがくるようにテーブルを回転
させる。
ここでＯＦの方向を修正する必要があれば、その修正角
に応じて、ａｃ ｂｃの比を前記のように等しくとらず
に、変更して調整する。
に応じて、ａｃ ｂｃの比を前記のように等しくとらず
に、変更して調整する。
なお検出器の上にウェハーのＯＦの境界線が通る方向は
どちらからでもよいが、一定とすることが望ましい。ま
たウェハーには弦をもって切ったＯＦではなく、切り込
みのノツチ（第１図の１０）を入れたものがあるが、こ
の場合にもノツチの両側の境界線を検知して、前記同様
にして、その中間角によって位置決めすることができる
。
どちらからでもよいが、一定とすることが望ましい。ま
たウェハーには弦をもって切ったＯＦではなく、切り込
みのノツチ（第１図の１０）を入れたものがあるが、こ
の場合にもノツチの両側の境界線を検知して、前記同様
にして、その中間角によって位置決めすることができる
。
効果 本発明によって、検出器９の取り付は位置を可変
とすれば、ウェハーの大さ、ＯＦの寸法が変更になった
場合にも簡単に対応可能である。またＯＦが大小２ケ所
に設けられたウェハーに対しても、ＯＦの角度が検出で
きるので、特定のＯＦを検出して、その中間点Ｃを位置
決めることが簡単にできる。
とすれば、ウェハーの大さ、ＯＦの寸法が変更になった
場合にも簡単に対応可能である。またＯＦが大小２ケ所
に設けられたウェハーに対しても、ＯＦの角度が検出で
きるので、特定のＯＦを検出して、その中間点Ｃを位置
決めることが簡単にできる。
またこれはノツチが２ケ所にある場合でも同様である。
このようにしてウェハーの寸法、ＯＦ及びノツチの広い
範囲の適合性を有し、かつ角度のずれの修正をも簡単に
可能となった。
範囲の適合性を有し、かつ角度のずれの修正をも簡単に
可能となった。
第１図は本発明の平面図。第２図は側面図。第３図はウ
ェハーの平面図。第４図は反射光検出器の一例を示す断
面図及び平面図。
ェハーの平面図。第４図は反射光検出器の一例を示す断
面図及び平面図。
Claims (1)
- 角度検出機構を有する回転テーブルと、その回転中心と
ウェハーの中心とをほぼ一致させるウェハーの搬入案内
と、ウェハーの欠円部分の境界線を、投射光のウェハー
の表面による反射光の検出により検知する光電検出器と
、その出力により境界線の角度を決定し、二つの境界線
の角度ａ、ｂより中間点ｃを演算して、特定点にｃ点を
移動させる演算、指令装置とを有するウェハーの位置決
め装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7743485A JPS61234544A (ja) | 1985-04-11 | 1985-04-11 | ウエハ−の位置決め装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7743485A JPS61234544A (ja) | 1985-04-11 | 1985-04-11 | ウエハ−の位置決め装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61234544A true JPS61234544A (ja) | 1986-10-18 |
Family
ID=13633903
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7743485A Pending JPS61234544A (ja) | 1985-04-11 | 1985-04-11 | ウエハ−の位置決め装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61234544A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62157150U (ja) * | 1986-03-26 | 1987-10-06 |
-
1985
- 1985-04-11 JP JP7743485A patent/JPS61234544A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62157150U (ja) * | 1986-03-26 | 1987-10-06 | ||
| JPH0121563Y2 (ja) * | 1986-03-26 | 1989-06-27 |
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