RU1775752C - Способ ориентации полупроводниковых подложек по базовому срезу и устройство дл его осуществлени - Google Patents
Способ ориентации полупроводниковых подложек по базовому срезу и устройство дл его осуществлениInfo
- Publication number
- RU1775752C RU1775752C SU894739331A SU4739331A RU1775752C RU 1775752 C RU1775752 C RU 1775752C SU 894739331 A SU894739331 A SU 894739331A SU 4739331 A SU4739331 A SU 4739331A RU 1775752 C RU1775752 C RU 1775752C
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- substrate
- base
- rotation
- recorder
- slice
- Prior art date
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Сущность изобретени : подложку центрируют и начинают вращать, фиксируют уровни сигнала датчика углового положени подложки в начале и конце электрического импульса регистратора базового среза, остановив подложку, вычисл ют полусумму уровней этих сигналов и поворачивают подложку в обратную сторону до совпадени уровн сигнала датчика углового положени подложки с вычисленной полусуммой. 8 ил.
Description
Изобретение относитс к производству интегральных микросхем и полупроводниковых приборов и может быть использовано в устройствах дл проведени литографических операций на поверхности полупровод- никовых подложек методами фото-, электронно-, ионно- и рентгенолитографии, а также в оборудовании дл зондового контрол параметров интегральных микросхем и скрайбировани дл ориентации полупроводниковых подложек в базовое положение , определ емое наибольшим боковым сегментным срезом по круговому периметру подложек.
Полупроводниковые подложки (из кремни , германи , арсенида галли и т.д.), на поверхности которых изготавливают интегральные микросхемы или полупроводниковые приборы имеют на своем круговом периметре р д сегментных срезов. Один наибольший (базовый) соответствует кристаллографической ориентации полупроводниковой подложки и один или несколько меньших , которые позвол ют характеризовать
(обозначить) р д электрофизических (тип материала, электропроводность и др.) параметров полупроводниковых подложек.
По наибольшему сегментному срез/, используемому в качестве базового дл задани кристаллографического направлени , относительно которого ориентируетс топологи изготавливаемых полупроводниковых структур на поверхности подложки, подложка должна ориентироватьс в широкой гамме технологического оборудовани при проведении всей совокупности технологических операций по изготовлению и контролю параметров интегральных микросхем и полупроводниковых приборов.
Известен способ ориентации полупроводниковых подложек в базовое положение , реализованный в устройствах ориентации, в котооом опознание наибольшего среза осуществл етс сравнением момента вращени , передаоаемспо полупроводниковой подложке приводным роликом с моментом торможени сепии j ощим при контакте плоского уч стка мзчбольшего
vj
|
СЛ VJ
СЛ
ю
среза подложки с плоским базирующим упором или с двум роликами. Вращение подложки прекращаетс , когда момент торможени , образующийс при контакте наибольшего среза с плоским базовым упором или с двум роликами, превысит момент вращени . Недостатком указанного способа опознани наибольшего среза подложки и ее базировани вл етс низка надежность , обусловленна необходимостью нормировать моменты вращени и торможени подложки, определ емые усилием прижима подложки к приводному ролику и базовому упору, их коэффициентами трени , колебани ми размеров срезов в пределах допуска, наличием эпитаксиальных шипов и пленок фоторезиста по контуру подложки.
Известен также способ ориентации полупроводниковых подложек, вращение подложки , наход щейс на воздушной подушке осуществл етс приводным роликом или боковыми (тангенциальными) воздушными стру ми, а поиск и индентификаци наибольшего среза подложки осуществл етс двум фотоэлектрическими датчиками (зондами ) в виде оптронных пар (излучатель - фотоприемник), расположенных по линии параллельной плоскости базового упора механизма ориентации, световой поток в которых одновременно перекрыт подложкой только лишь при контактировании наибольшего среза подложки, с плоским базовым упором. По сигналу одновременного перекрыти (срабатывани ) двух датчиков привод вращени подложки выключаетс и воздушными стру ми или пружинами она прижимаетс к базовым упорам механизма базировани , которые определ ют базовое положение подложки, Такому способу ориентации присущи недостатки , вызывающие ненадежную работу устройств ориентации из-за наличи мелких сколов, искривлени подложки из-за термодиффузионных процессов и других дефектов (эпитаксиэльные шипы, валики пленки фоторезиста и т.д.) по круговому периметру подложки.
Известен способ, в котором полупроводниковую подложку укладывают на столик соосно и вращают с помощью этого же столика, определ наибольший срез трем оптронными парами, имеющими возможность совершать возвратно-поступательное движение и отслеживать край подложки. Недостатком данного способа вл етс наличие подвижной след щей системы.
Всем устройствам ориентации, использующим в процессе ориентации контакт с | г;ко8ыми поверхност ми подложек (обкатка роликом,, трение по базовым упорам) и (или)имеющих воздушную подушку, присущ один общий недостаток - большое выделение пыли и других микроскопических частиц , которые попада на поверхность фоторезиста полупроводниковой подложки вызывают уменьшение процента выхода годных полупроводниковых приборов и интегральных микросхем.
0 Наиболее близким по технической сути к предлагаемому вл етс способ ориентации полупроводниковых подложек, согласно которому полупроводниковую подложку центрируют, закрепл ют на толике вакуу5 мом и вращают столиком, провод с помощью преобразовател развертывающее угловое преобразование кругового периметра со срезами в электрические импульсы и, по наибольшему из них, определ ют наи0 больший боковой срез, середину которого затем совмещают с положением, прин тым за базовое с помощью датчика угла поворота . Исходное положение столика от которого начинают отсчет определ ют с помощью
5 датчика базового положени .
Недостатком данного способа вл етс необходимость вращать полупроводниковую подложку на полный оборот дл получени электрической развертки периметра,
0 после чего уже ее вращают до совмещени середины наибольшего среза с базовым положением (хот бы и по кратчайшему пути), то есть необходимо Совершить дополнительно полный (или почти полный) оборот,
5 что увеличивает врем ориентации. Кроме этого способ требует сложного устройства управлени и процессора дл обработки сигналов регистратора от всех боковых срезов и датчиков угла поворота и базового по0 лржени и дл вычислени углового положени середины выбранного наибольшего электрического импульса относительно базовой точки ориентации,
Ориентируют полупроводниковые под- х
5 ложки только по наибольшему боковому срезу (базовому). Поэтому получать и обрабатывать информацию о других боковых срезах в подавл ющем большинстве технологического оборудовани нет никакой не0 обходимости.
Цель изобретени - повышение производительности и упрощение устройства.
Поставленна цель достигаетс тем, что в способе ориентации полупроводниковых
5 подложек по базовому срезу, включающем центрирование, круговое вращение подложки , поиск базового среза и базирование новым вл етс то, что круговое вращение подложки осуществл ют до получени электрического импульса от регистратора Пэзового среза, в моменты начала и конца этого импульса регистрируют величины сигнала от аналогового датчика углового положени подложки, вычисл ют полусумму этих величин , соответствующую середине базового среза, а базирование осуществл ют путем поворота подложки в обратную сторону до совпадени величины сигнала от аналогового датчика с вычисленной величиной
В устройстве дл ориентации полупро- водниковых подложек по базовому срезу, содержащем поворотный столик дл вращени подложек с приводом, датчики углового и базового положени поворотного столика, механизм центрировани подложек относи- тельно оси вращени столика, регистратор базового среза и блок управлени , соединенный с приводом столика, регистратором базового среза и датчиками углового и базового положени поворотного столика, новым вл етс то, что в качестве датчиков углового и базового положени использован круговой потенциометр, а регистратор базового среза расположен на рассто нии I
. Ri + R2 0 от оси вращени столика, где I -
ON - рассто ние от центра подложки до базового среза (см,фиг. 1), Ra OK ОМ - рассто ние от центра подложки до вспомогательных боковых срезов.
Размещение оптронной пары регистра- тооа базового среза на указанном выше рассто нии I от центр 1 вращени столика позвол ет получить сигнал только от наибольшего бокового среза подложки и не за- мечать все остальные боковые срезы и возможные сколы глубиной не больше вспомогательных боковых срезов. В результате чего исчезает необходимость вращать полупроводниковую подложку на полный обо- рот, осуществл ть преобразование профил подложки в электрический сигнал, анализировать в нем количество импульсов, находить из них наибольший.
Использование вместо датчиков угла поворота и базового положени кругового потенциометра с линейным сигналом, завис щим только от угла поворота столика, позвол ет находить середину наибольшего бокового среза путем нахождени полусуммы величин сигнала от этого же потенциометра в моменты открыти и перекрыти оптронной пары регистратора базового среза. Уравнивание сигнала потенциометра с вычисленной полусуммой приводит к подводу середины базового среэа подложки к базовой точке, т.е. к ориентации подложки в базовом положении
На основании вышеизложенною, мпж но заключить что использование и устройстве в качестве датчиков углового и базового положени столика кругового потенциоме - ра и расположение регистратора базового среза на рассто нии I от оси вращени сто лика позвол ет уменьшить врем ориента ции и упростить устройство.
На фиг.1 дано устройство дл ориентации полупроводниковых подложек; на фиг.2 -- показана полупроводникова подложка; на фиг.З - прин тое первоначальное положение подложки после загрузки на столик и центрировани , начало вращени , регистратор базового среза перекрыт; на фиг.4 - момент, когда регистратор открылс ; на фиг.5 - момент, когда регистратор перекрылс , останов подложки и начало вращени в обратную сторону; на фиг.6 - подложка в базовом положении; на фиг.7 - возможное начальное положение при загрузке подложки, когда регистратор открыт; на фиг.8 - эпюра электрических сигналов от регистратора базового среза и аналогового датчика (кругогого потенциометра).
Последовательность операций дл реализации предлагаемого способа ориентации полупроводниковых подложек следующа : ,
-укладывают подложку на столик;
-центрируют ее относительно оси вращени столика;
-закрепл ют подложку на столике вакуумом;
-совершают вращение подложки вокруг ее центра О (фиг.2) с помощью столика.
-получают электрический импульс от регистратора базового среза 3 (фиг.7). Открытие и перекрытие его оптронной пары происходит в моменты, показанные соответственно на фиг.З и 4.
Одновременно регистрируют величины сигнала от потенциометра Ui и Uz (фиг.8) в эти моменты;
-останавливают подложку после перекрыти регистратора.
-наход т полусумму величин сигнала потенциометра
Ui +U2
U
ср
- в моменты открыти и
перекрыти регистратора базового среза;
- вращают полупроводниковую подложку в обратную сторону до совпадени сигнала от потенциометра с вычисленной величиной Urp.
Устройство дл реализации него способа содержит поворотный cm.-iu 1 с вакуумными каналами центрирующий ч-онус 2. pei ист ратор базового cpi. v4 3 . fp:, .зщпи
оптронную пару 4 и 5, потенциометр б (датчики углового положени подложки).
Привод вращени столика, привод дл центрировани , блок управлени и пнев- моклапан не показаны
Центрирующий конус 2 установлен со- осно с осью вращени столика 1. Регистратор базового среза 3 закреплен на конусе 2 так, что оптическа ось, проход ща через еистодиод 4- и фотоприемник 5 оптронной пары расположена на рассто нии I
Ri +R2 ,- - от оси вращени столика.
Потенциометр 6 закреплен в корпусе 7, который, в свою счередь, закреплен на ползуне 8, имеющим возможность опускатьс дл центрировани подложки. В ползуне 8 на подшипниках установлен также вал столика 1. В корпусе 7 на подшипниках закреплена ось барабана 10, соединенна с валом потенциометра 6. Барабан 10 и столик 1 св заны друг с другом нат нутым гибким шнуром 11.
Работает устройство следующим образом .
Полупроводниковую подложку в произвольном по углу и координатам положении укладывают на столик 1. Столик 1 опускаетс и подложка центрируетс в конусе 2, со осном с осью вращени столика. Затем подложку закрепл ют на столике вакуумном и начинают вращать, например, почасовой стрелке. В момент прохождени наибольшего бокового среза подложки через ось оптронной пары 4, 5 регистратора 3, она открываетс , а затем снова перекрываетс . В это врем от регистратора поступает электрический импульс оптронна пара открыта . Ему соответствует участок LE (см.фиг.8). В момент открыти оптронной пары величина сигнала от потенциометра - Ui, а в момент перекрыти - Uz (см.фиг.8). После перекрыти огпронной пары столик с подложкой останавливают и вращают в обратную сторону до по влени сигнала от
потенциометра, равного Urp --к. При
достижении этого, столик останавливают. Ориентаци закончена. Подложка сбазиро- вана.
В случае, когда базовый срез после загрузки сразу откроет оптронную пару (см.фиг.6). то необходимо начать вращение в сторону, противоположную первоначаль- ( .) выбранною направлени до перекрыти оптронной пары Затем остановить столик и начать вращение п первоначально выбр1Гн- ногл направлении и далее по циклу описанному вмш1
В предлагаемом способе имеетс возможность выбрать базовой точкой ориентации любую точку, например, отсто щую от оптронной пары на угол 90° по ходу вращени , Тогда нет необходимости останавливать подложку после перекрыти оптронной пары и вращать ее в обратную сторону на угол /3/2, а достаточно довернуть ее еще на угол (90°-/3/2) (см. фиг. 4). Это можно осу0 ществить путем добавлени к вычисленной величине сигнала Ucp какой-нибудь посто нной величины 1)з. соответствующей, например , повороту подложки на угол (90° - -/3/2), и вращени подложки по ходу после
5 перекрыти оптронной пары до тех пор, пока величина сигнала от потенциометра не станет равной U UCp + Ua. Константу Кз можно сделать регулируемой дл выставлени базовой точки ориентации.
0 Следует отметить, что используемые полупроводниковые подложки имеют допуск на свой диаметр и на длины базового и остальных боковых срезов. С учетом этих допусков вычисл етс гарантированна зона
5 S в середине которой размещаетс оптронна пара (см.фиг, 1). Исход из величины этой зоны, определ етс диаметр перекрываемого луча оптронной пары и погрешность установки оптронной пары (допуск на
0 размер I). Расчеты показывают, что у подложек 6 60 мм S 0,6 мм;$7б мм S 0,68 мм; г 100мм5 1,26 мм; о125 мм S 1.42 мм;0150 мм S 2,23 мм.
Так как, высокоточные круговые потен5 циометры. известные авторам, типа ПТП-21 и СП5-21А, могут работать только частью окружности, т.е. от 0° до 330°, а дл ориентации подложки по данному способу необходимо иметь возможность вращать столик
на угол а; (360° +/), то необходимо соединить столик с потенциометром беззазорной механической передачей, например, гибким шнуром с соответствующим передаточным отношением и после сьема каждой сориентированной подложки возвращать потенциометр в исходное положение.
Исходное положение выбираетс так, чтобы обратного хода столика хватило, как минимум, на угол наибольшего бокового среза р (см.фиг.4) и пр мого - как минимум на 360°.
При выносе точки базировани вперед по направлению вращени угол необходимого пр мого хода столика соответственно
5
увеличиваетс .
Устройство, реализующее предлагаемый способ ориентации подложек, позвол ет уменьшить врем ориентации, так как исчезает необходимость совершать дополнительный оборот, а также упрощает процесс обработки полученной информации и следовательно упрощает устройство и повышает надежность его работы.
Перечислен, ые выше достоинства предлагаемого способа и устройства ориентации полупроводниковых подложек позвол ют примен ть их в широкой гамме технологического оборудовани и получить при этом экономический эффект.
Claims (2)
- Формула изобретени 1. Способ ориентации полупроводниковых подложек по базовому срезу, включающий центрирование и круговое вращение подложки, поиск базового среза посредством регистратора базового среза, нахожде- ние середины базового среза и базирование подложки, отличающий- с тем, что, с целью повышени производи- гельности в работе, при круговом вращении подложки посредством датчика углового положени подложки вырабатывают электрический сигнал, уровень которого пр мо пропорционален углу поворота подложки, круговые вращени подложки осуществл ют и после начала электрического импульса регистратора базового среза до окончаниэтого импульса, фиксируют уровни сигнапз датчика углового положени в начале и конце электрического импульса регистратора базового среза и вычисл ют полусумму уровней этих сигналов, а базирование подложки осуществл ют поворотом подложки в обратную сторону до совпадени уровн сигнала датчика углового положени подложки с вычисленной полусуммой
- 2. Устройство дл ориентации полупроводниковых подложек по базовому срезу, содержащее поворотный столик дл вращени подложек с приводом, датчики углового и базового положени поворотного столика, механизм центрировани подложек относи тельно оси вращени столика, регистратор базового среза и блок управлени , электрически соединенный с приводом столика, регистратором базового среза и датчиками углового и базового положени поворотного столика, отличающеес тем, что, с целью повышени производительности и упрощени устройства, датчики углового и базового положени столика выполнены в виде прибора, вырабатывающего электрический сигнал, пр мо пропорциональный углу поворота столика.//ж „фиг.13 С/тмОW фиг. 2лDфие.Зfive. Цфиг. 6.В &и. 7
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU894739331A RU1775752C (ru) | 1989-09-25 | 1989-09-25 | Способ ориентации полупроводниковых подложек по базовому срезу и устройство дл его осуществлени |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU894739331A RU1775752C (ru) | 1989-09-25 | 1989-09-25 | Способ ориентации полупроводниковых подложек по базовому срезу и устройство дл его осуществлени |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU1775752C true RU1775752C (ru) | 1992-11-15 |
Family
ID=21470697
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU894739331A RU1775752C (ru) | 1989-09-25 | 1989-09-25 | Способ ориентации полупроводниковых подложек по базовому срезу и устройство дл его осуществлени |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU1775752C (ru) |
-
1989
- 1989-09-25 RU SU894739331A patent/RU1775752C/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Патент US Ms 4.042.944, кл. 198-394. от 24.05.77. Авторское свидетельство СССР 1438523, кл. Н 01 L 21/00 от 03.01.86. * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5644400A (en) | Method and apparatus for determining the center and orientation of a wafer-like object | |
US5822213A (en) | Method and apparatus for determining the center and orientation of a wafer-like object | |
US7944165B1 (en) | Inspection system with dual encoders | |
US5851102A (en) | Device and method for positioning a notched wafer | |
JP2000340639A (ja) | ディスク状素子のアライメント装置及びアライメント方法 | |
JP2683933B2 (ja) | 半導体ウエーハの表裏および方位判定検査装置 | |
RU1775752C (ru) | Способ ориентации полупроводниковых подложек по базовому срезу и устройство дл его осуществлени | |
JPS5864043A (ja) | 円板形状体の位置決め装置 | |
US6882413B2 (en) | Rotating head ellipsometer | |
US7032287B1 (en) | Edge grip chuck | |
JPH01169939A (ja) | 半導体ウエハのセンタ合せ装置 | |
JP3908054B2 (ja) | アライナー装置 | |
JP2580757B2 (ja) | ウェーハ搬送装置およびそれの原点復帰方法 | |
JPH01295421A (ja) | 周辺露光装置 | |
JPH10173031A (ja) | 円形基板位置決め装置 | |
US11041714B2 (en) | Method and apparatus for characterizing objects | |
JPS62127191A (ja) | レ−ザトリミング装置 | |
US20210247328A1 (en) | Wafer inspection device and method of manufacturing semiconductor device by using the wafer inspection device | |
JPS5965429A (ja) | ウエハのプリアライメント装置 | |
JP2662524B2 (ja) | X線分析における試料の方位の判定方法および装置 | |
JPS6136702B2 (ru) | ||
JPS62238445A (ja) | 表面検査装置 | |
JPS60252542A (ja) | カセツト変換装置 | |
JPS5818937A (ja) | 円板物体の位置決め装置 | |
JPH0563061A (ja) | ウエフアのオリエンテ−シヨンフラツト位置決め装置 |