RU1775752C - Способ ориентации полупроводниковых подложек по базовому срезу и устройство дл его осуществлени - Google Patents

Способ ориентации полупроводниковых подложек по базовому срезу и устройство дл его осуществлени

Info

Publication number
RU1775752C
RU1775752C SU894739331A SU4739331A RU1775752C RU 1775752 C RU1775752 C RU 1775752C SU 894739331 A SU894739331 A SU 894739331A SU 4739331 A SU4739331 A SU 4739331A RU 1775752 C RU1775752 C RU 1775752C
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
substrate
base
rotation
recorder
slice
Prior art date
Application number
SU894739331A
Other languages
English (en)
Inventor
Леонид Михайлович Банный
Геннадий Алексеевич Петкевич
Original Assignee
Конструкторское бюро точного электронного машиностроения
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Конструкторское бюро точного электронного машиностроения filed Critical Конструкторское бюро точного электронного машиностроения
Priority to SU894739331A priority Critical patent/RU1775752C/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU1775752C publication Critical patent/RU1775752C/ru

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

Сущность изобретени : подложку центрируют и начинают вращать, фиксируют уровни сигнала датчика углового положени  подложки в начале и конце электрического импульса регистратора базового среза, остановив подложку, вычисл ют полусумму уровней этих сигналов и поворачивают подложку в обратную сторону до совпадени  уровн  сигнала датчика углового положени  подложки с вычисленной полусуммой. 8 ил.

Description

Изобретение относитс  к производству интегральных микросхем и полупроводниковых приборов и может быть использовано в устройствах дл  проведени  литографических операций на поверхности полупровод- никовых подложек методами фото-, электронно-, ионно- и рентгенолитографии, а также в оборудовании дл  зондового контрол  параметров интегральных микросхем и скрайбировани  дл  ориентации полупроводниковых подложек в базовое положение , определ емое наибольшим боковым сегментным срезом по круговому периметру подложек.
Полупроводниковые подложки (из кремни , германи , арсенида галли  и т.д.), на поверхности которых изготавливают интегральные микросхемы или полупроводниковые приборы имеют на своем круговом периметре р д сегментных срезов. Один наибольший (базовый) соответствует кристаллографической ориентации полупроводниковой подложки и один или несколько меньших , которые позвол ют характеризовать
(обозначить) р д электрофизических (тип материала, электропроводность и др.) параметров полупроводниковых подложек.
По наибольшему сегментному срез/, используемому в качестве базового дл  задани  кристаллографического направлени , относительно которого ориентируетс  топологи  изготавливаемых полупроводниковых структур на поверхности подложки, подложка должна ориентироватьс  в широкой гамме технологического оборудовани  при проведении всей совокупности технологических операций по изготовлению и контролю параметров интегральных микросхем и полупроводниковых приборов.
Известен способ ориентации полупроводниковых подложек в базовое положение , реализованный в устройствах ориентации, в котооом опознание наибольшего среза осуществл етс  сравнением момента вращени , передаоаемспо полупроводниковой подложке приводным роликом с моментом торможени  сепии j ощим при контакте плоского уч стка мзчбольшего
vj
|
СЛ VJ
СЛ
ю
среза подложки с плоским базирующим упором или с двум  роликами. Вращение подложки прекращаетс , когда момент торможени , образующийс  при контакте наибольшего среза с плоским базовым упором или с двум  роликами, превысит момент вращени . Недостатком указанного способа опознани  наибольшего среза подложки и ее базировани   вл етс  низка  надежность , обусловленна  необходимостью нормировать моменты вращени  и торможени  подложки, определ емые усилием прижима подложки к приводному ролику и базовому упору, их коэффициентами трени , колебани ми размеров срезов в пределах допуска, наличием эпитаксиальных шипов и пленок фоторезиста по контуру подложки.
Известен также способ ориентации полупроводниковых подложек, вращение подложки , наход щейс  на воздушной подушке осуществл етс  приводным роликом или боковыми (тангенциальными) воздушными стру ми, а поиск и индентификаци  наибольшего среза подложки осуществл етс  двум  фотоэлектрическими датчиками (зондами ) в виде оптронных пар (излучатель - фотоприемник), расположенных по линии параллельной плоскости базового упора механизма ориентации, световой поток в которых одновременно перекрыт подложкой только лишь при контактировании наибольшего среза подложки, с плоским базовым упором. По сигналу одновременного перекрыти  (срабатывани ) двух датчиков привод вращени  подложки выключаетс  и воздушными стру ми или пружинами она прижимаетс  к базовым упорам механизма базировани , которые определ ют базовое положение подложки, Такому способу ориентации присущи недостатки , вызывающие ненадежную работу устройств ориентации из-за наличи  мелких сколов, искривлени  подложки из-за термодиффузионных процессов и других дефектов (эпитаксиэльные шипы, валики пленки фоторезиста и т.д.) по круговому периметру подложки.
Известен способ, в котором полупроводниковую подложку укладывают на столик соосно и вращают с помощью этого же столика, определ   наибольший срез трем  оптронными парами, имеющими возможность совершать возвратно-поступательное движение и отслеживать край подложки. Недостатком данного способа  вл етс  наличие подвижной след щей системы.
Всем устройствам ориентации, использующим в процессе ориентации контакт с | г;ко8ыми поверхност ми подложек (обкатка роликом,, трение по базовым упорам) и (или)имеющих воздушную подушку, присущ один общий недостаток - большое выделение пыли и других микроскопических частиц , которые попада  на поверхность фоторезиста полупроводниковой подложки вызывают уменьшение процента выхода годных полупроводниковых приборов и интегральных микросхем.
0 Наиболее близким по технической сути к предлагаемому  вл етс  способ ориентации полупроводниковых подложек, согласно которому полупроводниковую подложку центрируют, закрепл ют на толике вакуу5 мом и вращают столиком, провод  с помощью преобразовател  развертывающее угловое преобразование кругового периметра со срезами в электрические импульсы и, по наибольшему из них, определ ют наи0 больший боковой срез, середину которого затем совмещают с положением, прин тым за базовое с помощью датчика угла поворота . Исходное положение столика от которого начинают отсчет определ ют с помощью
5 датчика базового положени .
Недостатком данного способа  вл етс  необходимость вращать полупроводниковую подложку на полный оборот дл  получени  электрической развертки периметра,
0 после чего уже ее вращают до совмещени  середины наибольшего среза с базовым положением (хот  бы и по кратчайшему пути), то есть необходимо Совершить дополнительно полный (или почти полный) оборот,
5 что увеличивает врем  ориентации. Кроме этого способ требует сложного устройства управлени  и процессора дл  обработки сигналов регистратора от всех боковых срезов и датчиков угла поворота и базового по0 лржени  и дл  вычислени  углового положени  середины выбранного наибольшего электрического импульса относительно базовой точки ориентации,
Ориентируют полупроводниковые под- х
5 ложки только по наибольшему боковому срезу (базовому). Поэтому получать и обрабатывать информацию о других боковых срезах в подавл ющем большинстве технологического оборудовани  нет никакой не0 обходимости.
Цель изобретени  - повышение производительности и упрощение устройства.
Поставленна  цель достигаетс  тем, что в способе ориентации полупроводниковых
5 подложек по базовому срезу, включающем центрирование, круговое вращение подложки , поиск базового среза и базирование новым  вл етс  то, что круговое вращение подложки осуществл ют до получени  электрического импульса от регистратора Пэзового среза, в моменты начала и конца этого импульса регистрируют величины сигнала от аналогового датчика углового положени  подложки, вычисл ют полусумму этих величин , соответствующую середине базового среза, а базирование осуществл ют путем поворота подложки в обратную сторону до совпадени  величины сигнала от аналогового датчика с вычисленной величиной
В устройстве дл  ориентации полупро- водниковых подложек по базовому срезу, содержащем поворотный столик дл  вращени  подложек с приводом, датчики углового и базового положени  поворотного столика, механизм центрировани  подложек относи- тельно оси вращени  столика, регистратор базового среза и блок управлени , соединенный с приводом столика, регистратором базового среза и датчиками углового и базового положени  поворотного столика, новым  вл етс  то, что в качестве датчиков углового и базового положени  использован круговой потенциометр, а регистратор базового среза расположен на рассто нии I
. Ri + R2 0 от оси вращени  столика, где I - 
ON - рассто ние от центра подложки до базового среза (см,фиг. 1), Ra OK ОМ - рассто ние от центра подложки до вспомогательных боковых срезов.
Размещение оптронной пары регистра- тооа базового среза на указанном выше рассто нии I от центр 1 вращени  столика позвол ет получить сигнал только от наибольшего бокового среза подложки и не за- мечать все остальные боковые срезы и возможные сколы глубиной не больше вспомогательных боковых срезов. В результате чего исчезает необходимость вращать полупроводниковую подложку на полный обо- рот, осуществл ть преобразование профил  подложки в электрический сигнал, анализировать в нем количество импульсов, находить из них наибольший.
Использование вместо датчиков угла поворота и базового положени  кругового потенциометра с линейным сигналом, завис щим только от угла поворота столика, позвол ет находить середину наибольшего бокового среза путем нахождени  полусуммы величин сигнала от этого же потенциометра в моменты открыти  и перекрыти  оптронной пары регистратора базового среза. Уравнивание сигнала потенциометра с вычисленной полусуммой приводит к подводу середины базового среэа подложки к базовой точке, т.е. к ориентации подложки в базовом положении
На основании вышеизложенною, мпж но заключить что использование и устройстве в качестве датчиков углового и базового положени  столика кругового потенциоме - ра и расположение регистратора базового среза на рассто нии I от оси вращени  сто лика позвол ет уменьшить врем  ориента ции и упростить устройство.
На фиг.1 дано устройство дл  ориентации полупроводниковых подложек; на фиг.2 -- показана полупроводникова  подложка; на фиг.З - прин тое первоначальное положение подложки после загрузки на столик и центрировани , начало вращени , регистратор базового среза перекрыт; на фиг.4 - момент, когда регистратор открылс ; на фиг.5 - момент, когда регистратор перекрылс , останов подложки и начало вращени  в обратную сторону; на фиг.6 - подложка в базовом положении; на фиг.7 - возможное начальное положение при загрузке подложки, когда регистратор открыт; на фиг.8 - эпюра электрических сигналов от регистратора базового среза и аналогового датчика (кругогого потенциометра).
Последовательность операций дл  реализации предлагаемого способа ориентации полупроводниковых подложек следующа : ,
-укладывают подложку на столик;
-центрируют ее относительно оси вращени  столика;
-закрепл ют подложку на столике вакуумом;
-совершают вращение подложки вокруг ее центра О (фиг.2) с помощью столика.
-получают электрический импульс от регистратора базового среза 3 (фиг.7). Открытие и перекрытие его оптронной пары происходит в моменты, показанные соответственно на фиг.З и 4.
Одновременно регистрируют величины сигнала от потенциометра Ui и Uz (фиг.8) в эти моменты;
-останавливают подложку после перекрыти  регистратора.
-наход т полусумму величин сигнала потенциометра
Ui +U2
U
ср
- в моменты открыти  и
перекрыти  регистратора базового среза;
- вращают полупроводниковую подложку в обратную сторону до совпадени  сигнала от потенциометра с вычисленной величиной Urp.
Устройство дл  реализации него способа содержит поворотный cm.-iu 1 с вакуумными каналами центрирующий ч-онус 2. pei ист ратор базового cpi. v4 3 . fp:, .зщпи
оптронную пару 4 и 5, потенциометр б (датчики углового положени  подложки).
Привод вращени  столика, привод дл  центрировани , блок управлени  и пнев- моклапан не показаны
Центрирующий конус 2 установлен со- осно с осью вращени  столика 1. Регистратор базового среза 3 закреплен на конусе 2 так, что оптическа  ось, проход ща  через еистодиод 4- и фотоприемник 5 оптронной пары расположена на рассто нии I
Ri +R2 ,- - от оси вращени  столика.
Потенциометр 6 закреплен в корпусе 7, который, в свою счередь, закреплен на ползуне 8, имеющим возможность опускатьс  дл  центрировани  подложки. В ползуне 8 на подшипниках установлен также вал столика 1. В корпусе 7 на подшипниках закреплена ось барабана 10, соединенна  с валом потенциометра 6. Барабан 10 и столик 1 св заны друг с другом нат нутым гибким шнуром 11.
Работает устройство следующим образом .
Полупроводниковую подложку в произвольном по углу и координатам положении укладывают на столик 1. Столик 1 опускаетс  и подложка центрируетс  в конусе 2, со осном с осью вращени  столика. Затем подложку закрепл ют на столике вакуумном и начинают вращать, например, почасовой стрелке. В момент прохождени  наибольшего бокового среза подложки через ось оптронной пары 4, 5 регистратора 3, она открываетс , а затем снова перекрываетс . В это врем  от регистратора поступает электрический импульс оптронна  пара открыта . Ему соответствует участок LE (см.фиг.8). В момент открыти  оптронной пары величина сигнала от потенциометра - Ui, а в момент перекрыти  - Uz (см.фиг.8). После перекрыти  огпронной пары столик с подложкой останавливают и вращают в обратную сторону до по влени  сигнала от
потенциометра, равного Urp --к. При
достижении этого, столик останавливают. Ориентаци  закончена. Подложка сбазиро- вана.
В случае, когда базовый срез после загрузки сразу откроет оптронную пару (см.фиг.6). то необходимо начать вращение в сторону, противоположную первоначаль- ( .) выбранною направлени  до перекрыти  оптронной пары Затем остановить столик и начать вращение п первоначально выбр1Гн- ногл направлении и далее по циклу описанному вмш1
В предлагаемом способе имеетс  возможность выбрать базовой точкой ориентации любую точку, например, отсто щую от оптронной пары на угол 90° по ходу вращени , Тогда нет необходимости останавливать подложку после перекрыти  оптронной пары и вращать ее в обратную сторону на угол /3/2, а достаточно довернуть ее еще на угол (90°-/3/2) (см. фиг. 4). Это можно осу0 ществить путем добавлени  к вычисленной величине сигнала Ucp какой-нибудь посто нной величины 1)з. соответствующей, например , повороту подложки на угол (90° - -/3/2), и вращени  подложки по ходу после
5 перекрыти  оптронной пары до тех пор, пока величина сигнала от потенциометра не станет равной U UCp + Ua. Константу Кз можно сделать регулируемой дл  выставлени  базовой точки ориентации.
0 Следует отметить, что используемые полупроводниковые подложки имеют допуск на свой диаметр и на длины базового и остальных боковых срезов. С учетом этих допусков вычисл етс  гарантированна  зона
5 S в середине которой размещаетс  оптронна  пара (см.фиг, 1). Исход  из величины этой зоны, определ етс  диаметр перекрываемого луча оптронной пары и погрешность установки оптронной пары (допуск на
0 размер I). Расчеты показывают, что у подложек 6 60 мм S 0,6 мм;$7б мм S 0,68 мм; г 100мм5 1,26 мм; о125 мм S 1.42 мм;0150 мм S 2,23 мм.
Так как, высокоточные круговые потен5 циометры. известные авторам, типа ПТП-21 и СП5-21А, могут работать только частью окружности, т.е. от 0° до 330°, а дл  ориентации подложки по данному способу необходимо иметь возможность вращать столик
на угол а; (360° +/), то необходимо соединить столик с потенциометром беззазорной механической передачей, например, гибким шнуром с соответствующим передаточным отношением и после сьема каждой сориентированной подложки возвращать потенциометр в исходное положение.
Исходное положение выбираетс  так, чтобы обратного хода столика хватило, как минимум, на угол наибольшего бокового среза р (см.фиг.4) и пр мого - как минимум на 360°.
При выносе точки базировани  вперед по направлению вращени  угол необходимого пр мого хода столика соответственно
5
увеличиваетс .
Устройство, реализующее предлагаемый способ ориентации подложек, позвол ет уменьшить врем  ориентации, так как исчезает необходимость совершать дополнительный оборот, а также упрощает процесс обработки полученной информации и следовательно упрощает устройство и повышает надежность его работы.
Перечислен, ые выше достоинства предлагаемого способа и устройства ориентации полупроводниковых подложек позвол ют примен ть их в широкой гамме технологического оборудовани  и получить при этом экономический эффект.

Claims (2)

  1. Формула изобретени  1. Способ ориентации полупроводниковых подложек по базовому срезу, включающий центрирование и круговое вращение подложки, поиск базового среза посредством регистратора базового среза, нахожде- ние середины базового среза и базирование подложки, отличающий- с   тем, что, с целью повышени  производи- гельности в работе, при круговом вращении подложки посредством датчика углового положени  подложки вырабатывают электрический сигнал, уровень которого пр мо пропорционален углу поворота подложки, круговые вращени  подложки осуществл ют и после начала электрического импульса регистратора базового среза до окончани 
    этого импульса, фиксируют уровни сигнапз датчика углового положени  в начале и конце электрического импульса регистратора базового среза и вычисл ют полусумму уровней этих сигналов, а базирование подложки осуществл ют поворотом подложки в обратную сторону до совпадени  уровн  сигнала датчика углового положени  подложки с вычисленной полусуммой
  2. 2. Устройство дл  ориентации полупроводниковых подложек по базовому срезу, содержащее поворотный столик дл  вращени  подложек с приводом, датчики углового и базового положени  поворотного столика, механизм центрировани  подложек относи тельно оси вращени  столика, регистратор базового среза и блок управлени , электрически соединенный с приводом столика, регистратором базового среза и датчиками углового и базового положени  поворотного столика, отличающеес  тем, что, с целью повышени  производительности и упрощени  устройства, датчики углового и базового положени  столика выполнены в виде прибора, вырабатывающего электрический сигнал, пр мо пропорциональный углу поворота столика.
    /
    /
    ж „
    фиг.1
    3 С
    м
    О
    W фиг. 2
    л
    D
    фие.З
    five. Ц
    фиг. 6
    .В &и. 7
SU894739331A 1989-09-25 1989-09-25 Способ ориентации полупроводниковых подложек по базовому срезу и устройство дл его осуществлени RU1775752C (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU894739331A RU1775752C (ru) 1989-09-25 1989-09-25 Способ ориентации полупроводниковых подложек по базовому срезу и устройство дл его осуществлени

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU894739331A RU1775752C (ru) 1989-09-25 1989-09-25 Способ ориентации полупроводниковых подложек по базовому срезу и устройство дл его осуществлени

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU1775752C true RU1775752C (ru) 1992-11-15

Family

ID=21470697

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU894739331A RU1775752C (ru) 1989-09-25 1989-09-25 Способ ориентации полупроводниковых подложек по базовому срезу и устройство дл его осуществлени

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU1775752C (ru)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Патент US Ms 4.042.944, кл. 198-394. от 24.05.77. Авторское свидетельство СССР 1438523, кл. Н 01 L 21/00 от 03.01.86. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5644400A (en) Method and apparatus for determining the center and orientation of a wafer-like object
US5822213A (en) Method and apparatus for determining the center and orientation of a wafer-like object
US7944165B1 (en) Inspection system with dual encoders
US5851102A (en) Device and method for positioning a notched wafer
JP2000340639A (ja) ディスク状素子のアライメント装置及びアライメント方法
JP2683933B2 (ja) 半導体ウエーハの表裏および方位判定検査装置
RU1775752C (ru) Способ ориентации полупроводниковых подложек по базовому срезу и устройство дл его осуществлени
JPS5864043A (ja) 円板形状体の位置決め装置
US6882413B2 (en) Rotating head ellipsometer
US7032287B1 (en) Edge grip chuck
JPH01169939A (ja) 半導体ウエハのセンタ合せ装置
JP3908054B2 (ja) アライナー装置
JP2580757B2 (ja) ウェーハ搬送装置およびそれの原点復帰方法
JPH01295421A (ja) 周辺露光装置
JPH10173031A (ja) 円形基板位置決め装置
US11041714B2 (en) Method and apparatus for characterizing objects
JPS62127191A (ja) レ−ザトリミング装置
US20210247328A1 (en) Wafer inspection device and method of manufacturing semiconductor device by using the wafer inspection device
JPS5965429A (ja) ウエハのプリアライメント装置
JP2662524B2 (ja) X線分析における試料の方位の判定方法および装置
JPS6136702B2 (ru)
JPS62238445A (ja) 表面検査装置
JPS60252542A (ja) カセツト変換装置
JPS5818937A (ja) 円板物体の位置決め装置
JPH0563061A (ja) ウエフアのオリエンテ−シヨンフラツト位置決め装置