JPS5818937A - 円板物体の位置決め装置 - Google Patents

円板物体の位置決め装置

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JPS5818937A
JPS5818937A JP57050921A JP5092182A JPS5818937A JP S5818937 A JPS5818937 A JP S5818937A JP 57050921 A JP57050921 A JP 57050921A JP 5092182 A JP5092182 A JP 5092182A JP S5818937 A JPS5818937 A JP S5818937A
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wafer
disk
stand
notch
rotary table
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JP57050921A
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English (en)
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Jiro Kobayashi
二郎 小林
Kazuhiko Kobayashi
一彦 小林
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Nippon Kogaku KK
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    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D3/00Control of position or direction

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はウェハ等の円板物体を、測定装置、検査装置、
又は露光装置等に載置する際、その円板物体を常に所定
の向きに定めるだめの位置決め装置に関する。
一般に仁の種の位置決め装置は、ウェハの周囲の一部に
設けられた切欠きを用いるように構成されている。普通
、この切欠きは円板状のウェハの周囲を直線状に切欠い
たオリエンテーションフラット(0−Fl!:呼ばれる
尚、このフラットに基づいて位置決めすることを単に「
0・F」と呼ぶことにする。
従来のO−F方式として、ウェハのフラットを非接触、
例えば光電的、静電容量的に検出して位置を求めること
が知られている。その−例として、特公昭55−399
01号[板状物の位置合わせ゛方法JK光電検出にょる
0・F機構が開示されている。この機構によれば、少な
くとも2つの受光素子を、位置合わせすべきフラットの
位置に対応して設け、この受光素子に投光しつつウェハ
を回転させる。この回転に伴って、例えばウェハの円周
部は2つの受光素子を共に遮光状態にし、フラットが所
定位置になると2つの受光素子は共に等しい光電出力を
発生する。従って、2つの受光素子の光電出力の状態を
調べることによ2て、ウェハのフラットを所定位置に合
わせることができる。しかしながら、この方法ではウェ
ハを回転するとき、ウェハの中心を回転中心と一致させ
ないと偏心が生じてしまう。その結果、受光素子はウェ
ハの円周部でもフラットを検知したような光電出力を発
生することになり、フラットの位置合わせが極めていい
加減なものになるという欠点があった。。
そこで本発明は、ウェハを回転してフラットを非接触で
検知する際、ウェハの回転に伴う偏心を取り除き得る位
置決め装置を提供することを目的とする。
この目的を達成するために、本発明においては以下の如
く構成する。すなわち、ウェハの如き周囲の一部に切欠
き、例えばフラットを有する円板物体を載置して回転さ
せる回転台を設け、円板物体の周端部を押圧するように
回転台の周囲に複数の往復部材を設け、そして各往復部
材の円板物体との接触部が回転台の回転中心までの各距
離をほぼ等しく保ちつつ、回転台に近づくように各往復
部材を移動させる駆動手段とを設けることにより、円板
や体の回転の前に円板物体の中心と回転台の回転中心と
を一致させて偏心を取り除くようにした。
以下、図面を参照して詳しく説明する。
牙1,2.3図は本発明の実施例を示し、牙1図は位置
決め機構部の斜視図、J−2図はその機構部の正面図、
そして牙3図は牙2図のA −A’矢視断面図である。
尚、牙1,2図中、2点鎖線で表わしたウェハ1は、偏
心を取り除いて位置合わせされた状態を示し、実線で表
わしたウェハ1は最終的に位置決めされた状態を示す。
まず初めに機械的な構成について説明する。
ウェハ1は内部を中空にした円筒状のテーブル2に真空
吸着されて回転する。テーブル2の下部には全周に渡っ
て歯2aが形成されている。そして歯2aと噛合する歯
車4、及び歯車4を回転するモータ5によって、テーブ
ル2は中心010回りを矢印R1の方向(時計方向)に
回転する。このテーブル2の端面部、すなわちウェハ1
の裏面と接触する端面2bの中央には環状に溝2cが設
けられている。溝2cはウェハ1を真空吸着したり、ウ
ェハ1と端面2bとの間にエアベアリングを作るだめの
エアガイドとして設けられている。
一方、テーブル2の中空部にはウェハ1を上下動させる
ために円柱状のシリンダ3が配置されており、ウェハ1
の裏面と接触する端面には真空吸着用の吸気孔3aが設
けられている。但し、シリンダ3の端面部は、ウェハ1
を上方に持ち上げる時以外は、牙3図に示すように、テ
ーブル2の端面2bよりもわずかに沈んでおり、ウェハ
1の裏面に接触しないように設けられている。
またウェハ1の中心をテーブル2の中心01と一致させ
るだめに、矛1,2図の如く7本のレバー6a〜6gが
設けられている(尚矛1図では図面の都合上レバー6f
+6gを省略しである)。
レバー68〜6gはテーブル20円周をほぼ7等分する
間隔で中心01を中心とする円周上に配置されている。
各レバー6a〜6gは牙1図のレバー6aで代表的に示
すように、先端側がテーブル2に対して揺動進退する如
、く、他端側を軸10によって軸支されている。
また各レバー68〜6gの先端部の高さは牙3図に示す
ように、テーブル2の端面2bの高さSよシ、少なくと
もウェハ1の厚み分身上高くしておく。従って、各レバ
ーの先端部はその揺動によってウェハ1の円周端面を抑
圧可能となる。尚、レバーの先端部でウェハ1の端面と
の接触部分には合成樹脂性のローラが設けられている。
さらに、レバー68〜6gは、各先端部がテーブル2の
中心01から外側に開くようにバネ8によって常に付勢
されている。
そして、レバー6a〜6gの各先端部がウェハ1の端面
を押圧するとき、各先端部のウェハ1との接触部分がテ
ーブル2の中心01までの各距離を略同−にしつつ変化
するように矛1,3図に示すような円環状のカムリング
9を設ける。カムリング9は、テーブル2の中心01を
中心とした回転が可能なように、外周の複数の位置に設
けられたガイドローラ15により支持されている。カム
リング9には、その回転運動をレバー6a〜6gの揺動
に変えるために、内周に牙1図の如くカム部9aが設け
られている。尚、実際は、レバー6a〜6gに対応して
カムリング9の内周には7つのカム部9aが設けられて
いるが、図面の都合上省略しである。この実施例におい
て、カム部9aはカムリング9の内周を一部えぐること
によって形成されている。その形状は7つのカム部で全
て同一に形成されている。カム部9aには、レバー68
〜6gの中程に回転自在に設けられたベアリング7が、
バネ8の付勢力によって当接する。
、3・1図に示すように、カム部9aは、カムリング9
が矢印R2の方向(時計方向)に回動したとき、ベアリ
ング7が中心01方向へ移動するようなカム面になって
おり、そのカムリフト量は7つのカム部とも全て同一に
定められている。従って牙2図に示すようにカムリング
90回動により、レバー6a〜6gの各先端部はテーブ
ル2の中心01から互いに等距離を保ちつつ揺動する。
また、カムリング9は、バネ11によってレバー6a〜
6gの各先端部がバネ8に抗して常に中心01に向けて
窄むように、即ち、時計方向に付勢されている。そして
このカムリング9の実際の回動は牙1図に示すモータ1
4によって制御される。モータ14の軸には円板13が
固定され、円板13にはモータ14の軸に対して偏心し
た位置に回転自在なベアリング12が軸支されている。
このベアリング12は、カムリング9に設けられた切欠
き9b内に位置しており、初期位置ではバネ11の付勢
力のため切欠き9bの端面9cに当接する。
また、円板13の外周一部には突出部が設けられており
、その突出部と保合することにより作動するスイッチ1
6が設けられている。
このスイッチ16はベアリング12と端面9cとの当接
状態を検出するために設けられている。詳しくは後述す
るが円板130回転に伴ってベアリング12が端面9c
からほぼ離れる時点にスイッチ16の状態が変わるよう
に、ベアリング12の軸支位置や突出部の形成位置等が
調整されている。従って厳密にベアリング12が端面9
cから離れることを検出したければ、単にベアリング1
2とカムリング9との電気的な良導、絶縁状態を検知す
ればよい。
また以上の説明において、レバー6a〜6gは7等分す
る位置に設けであるが、これはウェハ1のフラット及び
サブフラットを考慮して定めたものである。サブフラッ
トとは矛4図に示すように位置合わせのために設けたフ
ラット(以下、「主フラットF」とする)とは別に、ウ
ェハの種類等を表わすために設けた直線状の切欠きF′
であり、その切欠き量は主フラットFよりも少ない。ま
たサブフラットビは主フラットFに対して90°若しく
は135°の方向に設けられる。
一般に円板状の物の周囲端面を押圧して中心を求めるこ
と、即ちセンタリングするのに、少なくとも3方向から
押圧する必要がある。
このことから、本発明の実施例では、ウェハ1の主フラ
ットF、サブフラットF′がどの位置にあろうとも確実
にセンタリングできる押圧位置として、ウェハの周囲を
ほぼ7等分した7か所に定める。ここでレバー6a〜6
gが7本必要なのは、主フラットF、サブフラットF′
に各々1本のレバーが対向したときでも、他の5本のレ
バーによってセンタリングできるからである。すなわち
、ウェハ9外周のうち半周以上に渡ってウェハの円周端
面と接触するように複数のレバーを等分割した位置に立
てればよい。尚、ウェハ1にサブフラットF′がない場
合は、周囲を5等分した位置に5本のレバーを立てれば
よい。
さて、主フラットFを検出するために、オ・2.3図に
示すようにセンタリングされたウェハ1の周辺部下方に
配置された1つの光電素子33と、ウェハ1の上方より
光電・素子33に投光する投光器40と、モータ5の軸
に直結されて、軸の回転数に比例したパルス数を発生す
るパルスジェネレータPGとが設けられる。尚、受光素
子33の受光面は主フラットFやサブフラットF′の傾
きに対して光電出力が変化するように、例えば矛2図に
示す如くテーブル2の中心01に向けて細長に形成され
ている。
また、ウェハ1の主フラットFの微小な傾きを修正する
ために基準部材としての固定ローラ18a、18b、1
8cが設けられている。固定ローラ18a、18bの外
周は主フラットFに共に当接するように、互に回転軸の
間隔が定められている。そして固定ローラ18eは、固
定ローラ18a、18bに対して約90°の角度をなし
た位置に回転自在に軸支されている。そしてウェハ1の
端面を固定ローラ18a〜18cに当接させるために、
牙1,2図に示すように位置決めしi<−19が設けら
れている。位置決めしt<−19は通常センタリングさ
れたウェハ1の外周よりも遠方に退避していて、不図示
のエアシリンダによってウェハ1の端面を押圧するよう
駆動される。
さらに矛2図中、固定ローラ18bの近傍には光電素子
34が配置されている。この光電素子34は、主フラッ
トFが正しく固定ローラ18a、18bの両方に当接し
ているか否かを検出するために設けられている。もちろ
ん、牙3図に示した投光器40と同様の投光器によって
上方から投光されている。そのため光電素子34の受光
面は、主フラットFの傾き(固定ローラ18a、18b
のうち、・いずれか一方が主フラットFから離れている
状態)が光電出力の変化として生じる、ように、例えば
位置決めされるべき主フラットFの直線方向に沿って細
長に形成されている。
また、矛2図及び牙3図に示すように、ウェハ1を搬送
するベルト30がテーブル2を挾み込むように設けられ
る。このベルト30は、テーブル2の周辺に設けられた
4つのプーリ31に支えられている。プーリ31は不図
示の支持部材に取り付けられて上下動する。
ウェハ1がベルト30に載って搬送されてくるときには
、牙3図に示すようにウェハ1がテーブル2やレバー6
a〜6gと空間的に干渉しないように、ベルト30の高
さが定められている。また、ウェハ1がテーブル2の上
方に位置したか否かを光電検出するために、固定ローラ
18cの近傍に光電センサ32が設けられる。尚、本実
施例では、テーブル2の中心01とシリンダ3の中心0
2とは偏心して設けられている。これは、ウェハ1を真
空吸着する際、なるべくウェハ1の中心を吸着力の中心
と一致させるためである。従って、シリンダ3の吸着力
が比較的強ければ、テーブル2の中心01 と中心02
とを一致するようにシリンダ3を配置してもよい。
次にウェハ1を回転して、主フラットFを光電検出する
だめの制御系の構成を、牙5図に基づいて説明する。
本装置では、各種動作をマイクロ・コンピュータ(以下
単に「マイコン」とする)100によって制御する。一
般のマイコンと同様、本装置のマイコン100にも、シ
ーケンスを進行するだめのプログラムを納めたメモリ部
と、各種演算や条件判断をするだめの演算処理部と、制
御対象からの情報を入力したり、演算、判断結果の情報
を制御対象へ出力するだめの入出力制御部(I10ボー
ト)とが設けられている。
そしてテーブル2の真空吸着、エアベアリングの作動、
シリンダ3の真空吸着及び上下動の動作、モータ14の
駆動、位置決めレバー19の押圧動作、光電素子34の
光電出力のモニタ、ベルト30の駆動、そして光電セン
サ32の光電出力のモニタ等は全てマイコン100のI
10ポートからのパスライン120を介して情報のやり
取りが行なわれる。尚、以下の説明において、マイコン
100のI10ポートの情報は実際は所定のインターフ
ェイスを介して外部の装置とやり取りされるが、便宜上
、I10ポートに代表して説明する。
牙5図において、光電素子33の光電出力はアンプ11
0によって増幅され、その出力信号E1は次のバンドパ
スフィルタ5111(以下、[BPF 111 Jとす
る)によって微分される。そしてBPF 111の出力
信号E2は、主フラットFのみを検出するための牙1検
出回路112と、主フラットFとサブフラットF′の切
欠きの中心部の位置を検出するための牙2検出回路11
3との両方に入力する。
牙1検出回路112、牙2検出回路113の各出力信号
E3.E4はデジタル化された2値信号として発生し、
マイコン100のI10ボートのうち、入力動作を行な
うポート■1.■2にそれぞれ入力する。
1一方、モータ5は、直列接続された2つのトランジス
タ(以下「Tr」とする)117゜118によって駆動
と急停止が制御される。
そのためTr 117 、118の各ベースは、マイコ
ン100のI10ポートのうち、出力動作を行なうポー
トP3.P4からデジタル信号を入力する。尚;モータ
5は、エミッタを電源に接続したpnpTr117のみ
が導通することによってコレクタから給電される。そし
てモータ5の急停止は、モータ5の端子に並列接続され
たnpnTrllBのみを導通することによって、モー
タ5の端子を短絡する、いわゆるダイナミック・ブレー
キにより行なわれる。そして、モータ5に給電される電
源、ヒ圧はスイッチ116によυ高電圧Hvと低電圧L
vとに切替え可能であシ、モータ5の回転速度を2段階
に選択できる。このスイッチ116はマイコン100の
I10ポートのうち、出力動作を行なうポートP2から
のデジタル信号、例えば論理値rHj、rLJ  によ
って切替え動作を行なう。
またモータ5の回転軸に連結したパルスジェネレータP
Cのパルス信号は、スイッチ115を介してカウンタ1
14に入力する。
そしてカウンタ114はこのパルス信号のパルス数を計
数すると共に、その計数値をマイコン100のI10ポ
ートのうちポートDsに送り出す。尚、カウンタ114
はポートDaを介してマイコン100から任意のデジタ
ル値をプリセット可能である。また、スイッチ115は
パルスジェネレータPGのパルス信号をカウンタ114
へ入力するが否かを切替えるためにマイコン100のI
10ボートのうち出力動作を行なうボートP1 からの
デジタル信号、論理値rHJ 、 rLJ  によって
制御される。
以上のような構成において、ウェハを位置決めするまで
の全体の動作を、2・6図のフローチャートを参照して
述べる。
まず初めにマイコン100はウェハ1をベルト30によ
って搬送するローディング動作60を実行する。これは
ベルト30を駆動するDCモータ等にマイコン100の
パスライン1′20から駆動信号を送ることによって行
なわれる。このとき、ウェハ1はベルト30に載ってテ
ーブル2の上方まで移動してくるが、ウェハ1が所定位
置に達したか否かは、】・2図に示した光電センサ32
によって逐次モニタされている。すなわち、ウェハ1の
円周端面部が光電センサ32の真上にくると、光電セン
サ32の光電出力が変化する。マイコン100はこの光
電出力の情報をパスライン120を介して読み込み、次
の条件分岐処理61を実行する。条件分岐処理で光電セ
ンサ32の光電出力に基づいて、ウェハ1が光電センサ
32まで達していないときは、ローディング動作60を
続行するように判断し、ウェハ1が光電センサ32まで
達していれば、DCモータへ出力されていた駆動信号を
中断する。
そして、ベルト30の搬送が停止してウェハ1の中央部
がテーブル2の上方に位置すると、マイコン100は、
矛2図に示したプーリ31を降下させるだめの指令を出
力する。
この指令に基づいて1、プーリ31が支持される不図示
の支持部材をモータ、又はエアシリンダ等により所定位
置まで降下させる。この動作によって、ウェハ1はテー
ブル2に受は渡されると共に、マイコン100は次のセ
ンタリング動作62を実行する。センタリング動作62
は、テーブル2の端面2bとウェハ裏面との間にエアベ
アリングを形成することから始められる。このため、マ
イコン100はテーブル2の溝2cからエアを排気する
ように不図示のバルブを制御するだめの指令を出力する
。しかる後、センタリングを行なうだめ・のモータ14
に駆動信号を出力する。
これによりモータ14が作動してウェハ1のセンタリン
グを行なう訳であるが、この時モータ14の回転は、ベ
アリング12がバネ11の付勢力に最も抗してカムリン
グ9の端面9cに当接するような初期位置として円板1
3が1回転するように制御さ、れる。すなわち、初期位
置においてカムリング9はバネ11の付勢力に最も抗し
た位置にあり、レバー6a〜6gの各先端部は外側に最
も開いた状態にある。そこでモータ14が作動すると、
カムリング9はバネ11の付勢力に従って時計方向に回
動を始める。同時にレバー68〜6gの各先端部はカム
部9a、ベアリング7によってテーブル2の中上・01
に向けて窄むように移動する。そしてウェハ1の端面が
レバー6a〜6gの各先端部によって周囲から挾み込壕
れると、カムリング90回動は停止する。仁の時、ウェ
ハ1の中心はテーブル2の中心01に整合即ちセンタリ
ングされたことになる。一方、モータ14はさらに回転
を続け、ベアリング12が端面9cから離れて、スイッ
チ16の状態が変わると共に、切欠き9b内を空転した
後、再び端面9cK当接する。この当接時から円板13
が初期位置に戻る間に、レバー68〜6gの各先端部は
、再び外側に開くように移動する。
一方、マイコン100は、センタリングの達成時点、す
なわち牙1図に示したようにベアリング12がカムリン
グ9の端面9cからほぼ離れるときに状態が変化するス
イッチ16の開閉時点を読み取って、溝2cかC)の排
気を吸気に切替えるだめの指令を出力する。
このように、ウェハ1の中心とテーブル2の中心01と
が一致した時点からウニI\裏面の真空吸着を開始する
ので、吸着時の位置ずれは防止される。以上の動作によ
り、センタリングされたウェハ1はテーブル2に固定さ
れる。
センタリング動作63が終了すると、マイコン100は
次のO−F (A)動作63を実行する。このO−F動
作63はウニl\1を回転して光電的に主フラットFを
検出するものである・オフ図のタイミングチャートを参
照してその動作を述べる。0・F (A)動作63が開
始されると、初めにマイコン100はボートDsを介し
て所定のデジタル値をカウンタ114にプリセットする
。このデジタル値は、ここでは牙1〜3図で示したテー
ブル2が、1回転する間にパルスジェネレータPGから
出力されるパルス数と同じ値とする。次にマイコン10
0はボートP1に例えば論理値rLJを出力し゛てスイ
ッチ115を開き、ボートP2に論理値「)■」を出力
してスイッチ116を高電圧Hv側にし、ボートP3.
P4 に論理値rLJを出力してモータ5の高速回転を
開始する。
一方、ウェハ1の回転に伴って、アンプ110の信号E
1は牙7図のように変化する。
尚、矛7図は横軸を時間に、縦軸を電位として定めであ
る。モータ5が時刻t。で高速回転を始め、その後ウェ
ハ1のサブフラットF′の中心部が光電素子3.3の真
上に位置すると、アンプ110は時刻t1においてピー
クpsとなる信号E、を発生する。さらにウェハ1の回
転が続くと、主フラットFの中心部が光電素子33の真
上に位置する時刻t2において、信号E1はピークpM
となる。
先にも述べたように主フラットFの切欠き量はサブフラ
ットF′よりも多いので、矛7図の如くピークpMの波
高値の方がピークT)Sよりも大きくなる。従ってピー
クpMのみを判別して検出することによってウェハ1の
主フラットFに対する0・Fが正確に行なわれる。しか
しながら、ウェハ1に回転に伴う偏心が生じていると、
信号E1は牙7図のようにきれいに発生せず、ウェハ1
の円周部分で生じる信号E1の直流電位が偏心に伴って
変動してしまい、最悪の場合ピークP8 ・PMの波高
値の関係が逆になってしまうこともある。これに対して
本装置ではこの点を考慮しで、あらかじめセンタリング
動作によりウェハ1の偏心を取り除いであるので、1つ
の光電素子33で十分フラットの判別検出が可能となる
そして、上述の如き信号E1はBPF 111によって
微分されて、矛7図のような信号E2を得る。信号E 
にピークP8が生じると、信号E には単振動的な過渡
応答波T8が生じ、ピークP が生じると、過渡応答波
T8よりも振動が大きい過渡応答波TMが生じる。
この応答波T 、TMの振動中心は、ピークP8 、P
Mの波高値の時刻t1.t2に対応している。
この信号E2は矛1検出回路112に入力して、所定の
スライスレベルVrと比較すると共に、振動の大きな応
答波TMのみを検出して時刻t2の前後でパルスD1と
なるような信号E を発生する。さらに信号E2は才2
検出回路113に入力して、応答波T8゜TMの振動中
心である零クロス点をウィンド・コンパレータ等で検出
して、時刻1..12においてパルスD  、D3とな
るような信号? E4を発生する。
さてマイコン100は、□モータ5が回転し始めた時刻
t からボート’I、I、、に入力1 する信号E、E4を読み込みつつ、内部の演算処理部に
て、両信号のアンドを演算している。従って、信号t 
、E は専用のアン4 ド回路で演算して、その結集をマイコン100に入力し
てもよい。そして時刻t2において、信号E、と信号E
4とでアンドがとれたとき、すなわちウェハ1の回転中
に主フラットFの中心部が光電素子33の真上に位置し
たとき、マイコン100はポートP1に論理値rHJを
出力してスイッチ115を閉じると共に、ポートDSを
入力動作にしてカウンタ114のデジタル値の読み込み
を開始する。そして牙7図の如く時刻t2からパルスジ
ェネレータPGのパルス信号EPはカウンタ114に入
力し、カウンタ114はそのパルスを前述の如くプリセ
ットされたデジタル値から順次減算していく。マイコン
100は時刻t2以降、カウンタ114の計数値のみに
基づいて主フラットFの位置を定める。すなわち、マイ
コン100はポートDsから計数値を逐次読み込み、内
部の演算処理部でその値が零になったことを検出したと
き、モータ5を急停止するように動作する。
詳しく述べるなら、マイコン100は計数値が零に近づ
いて所定値になったことを検知したとき、例えば矛7図
で時刻t3のときポートP2に論理値「L」を出力し、
スイッチ116を低電圧Lv側に切替えてモータ5を低
速回転にする。すなわち、ウェハ1が時刻t2から1回
転を終了する前にウェハ1の回転を減速して、慣性によ
るオーバランの影響を防止する。さらにその状態で、マ
イコン100は計数値が零になったか否かを判定しつつ
、時刻t4において零のときポートP5゜P4 から共
に論理値rHJを出力して’rr117を不導通に、T
r 118を導通状態に切替える。これによりモータ5
の逆起電力はTr118で短絡されて、ウェハ1の回転
は急停止する。従ってウェハ1の主フラットFの中心部
は、時刻t2から正確に1回転した後、光電素子33の
真上に位置合わせされる。
このように、ウェハ1は高速に回転されるから、信号E
、のピークP8.PMが鈍ることはなく、比較的鋭い波
形を得ることができる。従って主フラットFの中心部は
精度よく検出できると共に、ピークPMのピーク点から
パルスジェネレータPGのパルス数を計数してモータ5
を減速させ友後、急停止を行なうので、主フラットFの
位置合わせは極めて正確なものとなる。また、本実施例
では、主フラットFの中心部が光電素子33の真上にな
るように位置合わせされているが、カウンタ114への
プリセット値を変えることによって、主フラットFの向
きを任意の位置に合わせることができる。さらに、主フ
ラットFの位置を検出するのに、従来のように2つの光
電素子を設けて、2つの光電素子の出力が主フラットF
によって共に最大値になったときや、主フラットFによ
って静電容量が最も変化したときに力“ウンタ114の
減算計数を開始するようにしてもよい。
尚、牙5図の制御系において、牙1検出回路112は、
単に信号E1を入力して、ピークPM のみを所定のス
ライスレベルと比較してパルスD1を発生するコンパレ
ータ等により構成できることは言うまでもない。また、
カウンタ114はマイコン100の内部にあらかじめ備
えられた演算用のレジスタ等を使つてもよく、この場合
パルスジェネレータPGのパルス信号は直接マイコ゛ン
100のI10ポートから読み込むようにする。そして
プログラム上で、時刻t2からパルスジェネレータPG
のパルスをレジスタ内のデジタル値から減算するように
すればよい。
さて、牙6図の説明に戻り、0・F (A)動作63が
終了すると、次に、マイコン100は0・F (B)動
作64を実行する。このとき0− F (A)動作63
においてテーブル2に真空吸着されていたウェハ1は、
センタリングのときと同様に再びエアベアリングによっ
て支持される。マイコン100は、パスライン120を
介しで溝2Cからエアを排気するようにバルブ等を制御
する指令を出力し、次に位置決めレバー19を駆動する
だめの指令を出力して、ウェハ1の端面を押圧する・次
にマイコン100は牙2図に示した光電素子34の光電
出力の情報をパスライン120を介して読み込み、条件
分岐処理65を実行する。このとき、マイコン100は
光電素子34の光電出力が極小、若しくはほぼ零である
ことを検知すると、主フラットFに傾きがないものと判
断して次のリフト動作66へ実行を移す。もし光電出力
が所定値以上であると、マイコン100は位置決めレバ
ー19の抑圧動作を解除して、再びセンタリング動作6
2から上述のようにくり返し実行する。
条件分岐処理65でYESと判断されると、マイコン1
00はリフト動作66としてシリンダ3を上昇するだめ
の指令を不図示のシリンダ上下動機構に出力する。これ
と同時に、位置決めレバ“−19の押圧動作を解除する
だめの指令と、シリンダ3の吸気孔3aから吸気してウ
ェハ裏面をシリンダ3に真空吸着するだめの指令を出力
する。この動作によってウェハ1の中心部はシリンダ3
の端面に固定されて、ウェハ1は上方の所定位置まで移
動する。
以上のシーケンスにより本装置のO−F動作は完了する
が、以後ウェハ1は露光装置、検査装置等のウェハ載置
台へ位置決めされた状態で搬送される。
次に上記実施例の変形例を牙8図ンζ基づいて説明する
。矛8図は、7本のレバー68〜6gの先端部を具体的
に示した実施例である。
前述のように各レバーの先端部、ウェハ1の端面と接触
する部分には合成樹脂性のローラ52が設けられている
。図示のようにレバー6の先端には、ウェハ1の平面と
略平行な面で約180度回動するようにバー51の一端
が軸50を介して軸支されている。さらにローラ52は
バー51の他端に軸53を介して回転自在に軸支されて
いる。矢印Mはレバー6の揺動方向を示しバー51がこ
の揺動り向に沿って約180度回動することによって、
ローラ52をレバー6に対して実線と点線で示した2つ
の位置に定めることができる。このようにローラ52を
2つの位置に切替えるとき、2つの位置におけるウェハ
1との接触位置のずれdを例えばイインチにしておくと
、直径が4インチのウェハと、5インチのウェハとの両
方が使えることになる。このように、先端のローラ52
を変位可能とすることによって、レバー6はウェハ1の
平面に対して常に垂直な位置でセンタリングすることが
可能となる。このことは、牙1図に示したカムリング9
0回転をウェハ1の大きさにかかわらず常に一定にする
ことを意味するものであり、カム部9a、切欠き9b等
をウェハの大きさを考慮して何ら変更する必要がないと
いう利、点がある。尚、ローラ52は軸50に対して回
転するのではなく、直線的移動可能にし、途中でクラン
プするようにしても良い。
以上に述べてきた実施例によれば、センタリング動作の
ときにレバー6a〜6gはウェハ1の周端面に当接する
だけであるから、ウェハのシリコン粉の発生やウェハに
塗布されたレジストの剥離を非常に少なくすることがで
きる。また、ウェハ1はテーブル2との間に設けられた
エアベアリングによって支えられてセンタリングされる
が、し/<−6a〜6gがウェハ1の周端面に当接した
状態でエアベアリングは真空吸着に切替えられるから、
ウェハ1のセンタリングは極めて高悄度に達成できる。
また、レバー6a〜6gはウニI\10円周に沿って等
分割した位置に設けられているから、ベルト30で搬送
されソ<るウニ/X1のフラットの方向がどちらを向い
ていても、かならずセンタリングできる利点がある。
尚、本実施例において、レバー6a〜6gはウェハ′1
の面と垂直でテーブル2の中心O4を含む面上を揺動す
る如く設けられているが、ウェハ1の面と平行な面上を
揺動するような構成としても同様の効果が得られる。ま
たレバー6a〜6gは必ずしもテーブル2の中心01 
を中心とする円周上に配置する必要はなく、この円周か
ら多少ずれていても、カム部9aのカムリフト量をこの
ずれに応じて調整すれば前述同様の効果が得られる。
また、円板物体としてのウェハ1は、切欠きを検出して
から所定量だけ回転した後停止するから、切欠きを検出
した信号のみに基づいてウェハ1の回転を停止するより
も正確な位置決めが達成できる。ざらにウェハ1の最終
的な回転停止位置は切欠きを検出した後の回転量によっ
て制御されているから、少なくとも切欠きを検出するま
では比較的高速に回転させることができ、このため切欠
きの検出信号も極めて精度よく得られるという効果もあ
る。
以上説明したように本発明によればウェハの如き円板物
体の向きを所定の位置に定める際、円板物体の回転に伴
う偏心は除去されるから、非接触の切欠き検出を、極め
て精度よく行なうことができる効果が奏される。
【図面の簡単な説明】
矛1図は本発明の実施例による位置決め装置を示す斜視
図であり、牙2図は牙1図を上方よりみた正面図、第3
図は第2図におけるA−&方向矢視断面図、第4図はウ
ェハのフラットを表わした斜視図、第5図は本装置の制
御系の一部を示す回路図、第6図は本装置の動作のシー
ケンスを示すフローチャート図、第7図は第5図に示し
た回路の各電位を表わす回路図、第8図はレバー68〜
6gの先端部を示す斜視図である。 〔主要部分の符号の説明〕 1・・・・・・・回転部材 2・・・・・・・回転台 6a〜6g・・・・・往復部材 9.14・・・・・駆動手段 F・・・・・切欠き −て 第4図 1 、第5図 オ胃図 オ8図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、切欠きを設けた円板物体を載置して回転する回転台
    と;該回転台の周囲に配置され、円板物体の端部を押圧
    する如く往復運動可能な複数の往復部材と;該各往復部
    材から前記回転台の回転中心までの各距離を略等しく保
    ちつつ、前記回転台に近づくように各往復部材を駆動す
    る駆動手段とを備え、該駆動手段を作動した後に前記回
    転台を回転し、該回転に伴って円板物体の切欠きを検出
    して、該切欠きが所定の位置にきたとき前記回転台を停
    止することを特徴とする円板物体の位置決め装置。 2、前記往復部材は、前記回転台の回転中心を中心とす
    る円上に配置されると共に、その円を少なくとも5等分
    する各位置に設けられている特許請求の範囲矛1項に記
    載の位置決め装置。 3、前記回転台は、前記円板物体を気体によって浮上し
    たり、又は減圧によって吸着する吸排気手段を偏え、前
    記駆動手段の作動中は該吸排気手段によって円板物体を
    浮上する特許請求の範囲牙1項に記載の位置決め装置。 4、前記往復部材のうち円板物体と接触する部分を、円
    板物体の径に応じて往復部材の運動方向に変位可能とし
    た特許請求の範囲牙1項に記載の位置決め装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61134814A (ja) * 1984-12-05 1986-06-21 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 円形基板の位置決め装置
JP2014138092A (ja) * 2013-01-17 2014-07-28 Disco Abrasive Syst Ltd 分離装置
JP2015136755A (ja) * 2014-01-22 2015-07-30 株式会社ディスコ 分離装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5565445A (en) * 1978-11-13 1980-05-16 Toshiba Corp Positioning device for plate-shaped body

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