JPS59219931A - ウエハの位置決め装置 - Google Patents

ウエハの位置決め装置

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JPS59219931A
JPS59219931A JP58095190A JP9519083A JPS59219931A JP S59219931 A JPS59219931 A JP S59219931A JP 58095190 A JP58095190 A JP 58095190A JP 9519083 A JP9519083 A JP 9519083A JP S59219931 A JPS59219931 A JP S59219931A
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剛 楢木
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/7075Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の技術分野) 本発明は周辺の一部に直線的な切欠きを有する円板、例
えば半導体ウェハを位置決めする装置に関し、特に、I
C製造用の露光装置に適したウェハの位置決め装置に関
する。
(発明の背景) IC製造用の露光装置として、近年マスクやレチクルの
回路パターン像をウェハ上に縮小投影して1シヨツト露
光転写しては、ウニノ・を一定量移動させることを繰返
す、いわゆるステップ・アンド・リピート方式の縮小投
影型露光装置(ステツバ−)が普及してきている。
このような光学的リゾグラフィー用のステッパーは、通
常、ウェハを高速に2次元移動させるステージを備えて
いる。ところで、このステージにはウェハが予め定めら
れた誤差範囲内で位置決めして載置される必要がある。
この種の位置決めは、一般にフェノ1の直線的な切欠き
、すなわちフラットを用いてフェノ・を一方向に配向す
るという意味から、オリエンテーション・フラットと呼
ばれている。従来より知られているオリエンテーション
・フラット(以下、オリ・フッと呼ぶ)の装置は、例え
ば特開昭58〜18713  号に開示されているよう
に、フェノ)の搬送装置内に設けられておシ、フラット
を用いてブリ・アライメントされたウニ/1を搬送アー
ムやスライダー尋を用いて、ステージ上に移送するよう
になっていた。
ところが、ステージ上にフェノ・を載置して真空吸着す
る際、フェノ・のフラットによる位置決め精度が悪化口
ていて、位置決めが誤差範囲内に納まらないという問題
が生じていた。そこで、ステージ上に受は渡されたフェ
ノ・を再度フラットを使ってノリ・アライメントするこ
とが考えられている。
具体的罠はステージ上のつ二ノ九ホルダ(フェノ−チャ
ック)K設けられた基準部材にフェノ・のフラットを押
圧することによって、フェノ・をブリ・アライメントす
るものである。
すなわち、ウェハ・搬送装置側でブリ・アライメントを
行ない、ステージのウェハホルダ側で再度ブリ・アライ
メントを行なう、いわゆる2回ブリ・アライメントによ
って、ステージに対するウェハの位置決め精度を向上さ
せるものである。
ところで、IC(2)1チツプ(又はlショットの露光
領域)は回路パターンの設計上、正方形の領域になるこ
とは少なく、長方形になる場合が多へこのため長方形の
長辺側と短辺側とをウニへの結晶構造に合わせて決定す
る必要が生じてくる。ところが上述のような装置ではフ
ラットを常に一方向(0°方向)に配向することしかで
きず、露光領域の長方形化に伴い、ウェハのフラットを
0°ト90゜の2方向に配向したいという要求に対して
は位置決めが不可能であるという欠点があった。
(発明の目的) そこで本発明は、これらの欠点を解決し、通常露光方向
の位置決め(以下、θ°のオリ7うとする)のほかに、
そとからウェハを90°回転した位置での位置決め(以
下90°のオリフラとする)も可能とした位置決め装置
を得ることを目的とする。
(発明の概要) そこで本発明は、円板状のつ二ノ・の直線的な切欠き(
フラット)を基準部材に当接させて位置決めする装置に
おいて、第1方向(X方向)に沿って少なくとも2ケ所
に設けられたローラ等の当接部を有する第1基準部材と
、その第1方向と略直交する第2方向(X方向)に沿っ
て少なくとも2ケ所に設けられたロー2等の当接部を有
する第2基準部材とを備え、フェノ・を0°方向、すな
わち切欠きの直線方向が第1方向と一致するように位置
決めするときは、第1基準部材の2つの当接部が切欠き
に当接すると共に、第2基準部材の1つの当接部がウェ
ハの円周の1ケ所に当接し、フェノ・を900方向、す
なわち、切欠きの直線方向が第2方向と一致するように
位置決めするときは、第2基準部材の2つの尚接部が切
欠きに当接すると共に、第1基準部材の1つの当接部が
フェノ・の円周の1ケ所に当接するように、第1.第2
基準部材を設けることによって、上記目的を達成するよ
うにした。
(実施例の説明) 以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図は、投影型露光装置のフェノ・搬送装置の一例を
示す全体構成の平面図でらシ、本発明の実施例である。
第2図は、そのウェハ搬送装置内に設けられたプリアラ
イメント機構部の一部断面図であフ、第3図はステージ
上のウェハホルダの平面図である。
尚、上記第1図、第2図に示した装置は、基本的には%
開昭58−18713号と同様に構成される。
第1図において、1a〜1fはフェノSWの搬送ベルト
、2は環状テーブルで、搬送ベル)la〜1fによって
搬送されたウェハwtよ、この環状テーン。
ル2の上面に載置される。環状テーブル2は、矢印に示
す時計方向に回転可能であるとともに、載置されたウェ
ハWを真空吸着あるいは吸着とは反対にエアフローでき
るようになっている。破線で示すウェハhが、ベルト搬
送によってテーブル2の上方に位置すると、ベル)la
〜1fの送シが止められるとともに、ベル)la〜1f
が下降して、ウェハりがテーブル2上に受は渡される。
41〜4gはセンタリングアームで、テーブル2の回転
中心O8から距離を等しく保ちつつ、放射方向に往復運
動可能に設置されている。このセンタリングアーム4a
〜4gは、テーブル2によつでエアフローされたウェハ
りの周辺を当接保持し、クエへ%の中心とテーブル2の
回転中心01とを一致させる。フェノ・異の中心と、中
心01とが一致すると、この段階でテーブル2は真空吸
着動作をし、ウェハW、をテーブル2上に吸着させる。
この後、センタリングアーム4a〜4gは退避する。
さて、テーブル2には、第2図のように載置面2b内に
環状の溝2Cが形成され、この溝2Cを介してエアフロ
ーや真空吸着が行なわれる。
またテーブル2の下側円周端には歯部2aが刻設されて
いる。歯部2aは、モータ5によって回転する歯車5&
と歯合しておル、モータ5の回転数(回転角)はパルス
ジェネレータ7 (以下、 PO2とする)のパルス数
によって検出される。また、ウェハW1のフラン)Ft
−検出するために、第1図のように72ツ)Fの直線方
向がX方向と一致する0°のオリ・フラの位置に光電素
子PDが設けられ、第2図のように光電素子PDの上方
からウェハW1の周端部を平行光束で照射する投光器4
0が設けられている。
さて、モータ5によってテーブル2が回転し、ウェハW
1のフラン)Fを光電素子PDで光学的に検出すると、
0°のオリ・7うの場合、フラットFがX方向に並んだ
2つのローラ6a 、6bにくる所定位置でテニプル2
が停止する。この位置で再びテーブル2はエアフローし
、アーム8を中心01に向けて移動させ、ウェハ類をロ
ー76a、6b、6dに当接させる。この時、オリエン
テーションフラット(粗い)が確立され、ウェハは一点
鎖線鳥で示すようにフラットFがX方向と千′行となる
ように位置する。
こうして位置次めされたフェノ・W2の中心は、センタ
ーアンプ10の中心O2と一致する。ここで、中心01
と、中心0.とはアーム8の押圧によるウェハの#動弁
だけ偏心している。
さて、このローラ6a、6bは0°のオリ・フラの際は
ウェハのフラットFに当接し、ローラ6dは円周端部O
−ケ所に当接する。一方、90°のオリ・72の際は、
アーム8の移動によってローラ6c 、6dがフェノh
のフラットFIC当接し、ローラ6bがウェハの円周端
部の一ケ所に当接する。
さて、センターアンプ10の上昇によシウニノー鵬はテ
ーブル2からセンターアップ10へ受は渡される。この
とき吸気孔10&によってウニ/z %は吸着されてい
る。14はスライダーアームで、先端に吸着孔14a 
、14bを備えておル、ガイドレール12に沿ってX方
向に往復運動する。このスライタ”−アーム14は、セ
ンターアンプ10で持ち上げられたフェノ・当の下まで
移動し、吸着孔14a、14bを真空に引いて、フェノ
%W、を吸10&による吸着を解除し、降下する。これ
Kよって、ウェハhがスライダーアーム14に受は渡さ
れる。その後スライダーアーム14は、フェノ・% k
ステージ上の9エバホルダ20側に受は渡すためにX方
向に移動する。
ウェハホルダ20は、第1図では不図示の露光装置の2
次元移動ステージ上に設けられてお多、このステージを
移動すること罠よって、投影露光位置でウェハをステッ
プアンドリピート方式で露に上下動可能に設置されてい
るセンターアンプである。
ステージは、θ°のオリ・7うの場合、ウェハホルダ2
0の載置面21が受は渡し位置、即ち、載置面21の中
心0□とセンターアップ10の中心O鵞を結ぶ線がy軸
方向とほぼ一致(平行)する位置にくるように送るもの
で、この位置でセンターアップ22が上昇し、吸着孔1
4a 、14bの吸着を解その後スライダーアーム14
が後退し、ウェハhを吸着しているセンターアップ22
は降下し、ウェハ鶴が載置面21上に載置される。なお
、載置面21は、真空吸着、エアフローが可能である。
その後、ステージは図示してない投影レンズの直下(露
光位置)まで移動する。
ところで、このような装置において、センターアンプl
Oからスライダーアーム14へのウェハの受は渡し、及
びスライダーアーム14からセンター7ツプ22へのウ
ェハの受は渡しのそれぞれo時点−c、ウェハ成のフラ
ン)Fが、所定位置からずれることなく受は渡され、正
確につ二ノ1ホルダ20上に載置されることが要求され
る。
第3図は、このような要求を満足するためにステージ上
で再度ウェハの位置決めを行なう装置の要部の構成平面
図であシ、本発明のよシ望ましい実施例である。
第3図において、ウェハホルダ20の載置面21には、
特開昭57.−85235号に開示されたような螺旋状
の溝21aが形成されている。この溝21a内には、載
置面21の中心03よりも円周側で、かつ載置面21を
3等分するような3ケ所に真空吸着用の吸気孔21bが
設けられている。t−た、載置面21の中心O8から放
射方向の3ケ所で溝21&中にエアフロー用の排気孔2
1cが設ケラれている。
さて、0°のオリ・フジによって搬送されたウェハが載
置面21上に載置されると、フラン)Fに沿うように並
んで配置された回転自在の3つのローラ25a 、25
b 、25cに対向する。
一方、90°のオリ・フジによって搬送されたウェハが
載置面21上に載置されると、フラットFは3つのロー
ラ25a 、25b 、25cからほぼ906回転した
位置に並んで配置された回転自在の3つのローラ26a
 、26b 、26cと対向する。
また、ウェハホルダ20上にはウェハの周辺を押圧する
プランジャ23が設けられ、押圧部材24が中心O1に
向けて巡遊するよう移動する。このとき、ウェハの押圧
力はウェハがローラ25JL〜25aの方向と、ローラ
26a〜26cの方向の両方に共に働くように抑圧方向
が定められている。
さらに、これら6つのロー2のうち、ooのオリ・フジ
のウェハを押圧部材24で押圧すると、ウェハのフラン
)Fがローラ25b 、25cに当接し、ウェハの円周
の1ケ所がロー226aに当接する。
また90’のオリ・ンラのウェハの場合は、ローラ26
b 、26cがフラットFK当接し、ローラ25aがウ
ェハの円周の1ケ所に当接する。このように、ウェハの
載置面21上での位置決めも、0°方向、90°方向の
オリ・フジのウェハに対して常に3つのローラによって
行なわれる。
尚、以上のようにウェハのフラン)Fの位置がローラ2
5a〜25c側、及びローラ26a〜26c側にくるの
で、螺旋状の溝21aのその部分はフラン)Fの形状に
合わせて不連続としつつ、ウェハの載置面21への密着
性は高めである。尚、第1図、第2図においてウェハW
、 、 W、のフラットFは、いわゆる主フラットと呼
ばれるものを表わしておシ、ウェハによっては主フラッ
トよシも切欠き景が小さいサブ・フラットが形成されて
いることもある。
次に本発明の実施例に2いて、前述のウェハ搬送装置の
具体的な制御系を第4図に基づいて説明する。
本装置のシーケンスは全てマイコy100により制御さ
れてお多、テーブル2の真空吸着、エアーフローの動作
、センターアップ10.22の真空吸着及び上下動の動
作、スライダーアーム14の移動、センタリングアーム
4a〜4gの作動、アーム8の移動、プランジャ23の
作動、ベル)la〜1hの駆動及びステージの2次元移
動等は全てマイコン100め工10ボートからのパスラ
イン120を介して情報のやシ取多が行なわれる。
尚、以下の説明において、マイコン100 OI10ポ
ートの情報は実際は所定のインターフェイスを介して外
部の装置とやシ取シ逼れるが、便宜上、I10ポー)K
代表して説明する。
第4図において、光電素子PDO光電出力はアンプ11
0によって増幅され、その出力信号E、は次のバンドパ
スフィルタ111(以下、BPFIIIとする。)によ
って微分される。モしてBPF 111の出力信号E、
は、ウェハの切欠きのうち、切欠き量の大きい主フラッ
トのみを検出するための第1検出回路112と、主フラ
ットとサブフラットの切欠きの中心部の位置を検出する
ための第2検出回路113との両方に入力する。第1検
出回路112、第2検出回路113の各出力信号EB 
tE4はデジタル化された2値化号として発生し、信号
Es、E4はアンド回路G1を介してマイコン100の
I10ポートのうち、人力動作を行なうボート■□に入
力する。
一方、モータ5は、直列接続された2つのトランジスタ
(以下、Trとする。)117.118によって駆動と
急停止が制御される。そのためTr、117.118の
各ベースは、マイコン100のI10ボートのうち、出
力動作を行なうボートPapP4からデジタル信号を入
力する。尚、モータ5はエミッタを電源に接続したpn
pTrl17のみが導通することによってコレクタから
給電される。
そして、モータ5の急停止は、モータ5の端子に並列接
続されたnpnTrl18のみを導通することによって
、モータ5の端子を短絡する。いわゆるダイナミック・
ブレーキによル行なわれる。そして、モータ5に給電さ
れる電源電圧はスイッチ116によル高電圧HVと低電
圧LMとに切替え可能でアシ、モータ5の回転速度を2
段階に選択できる。このスイッチ116はマイコン10
0のI/。
ボートのうち、出力動作を行なうボートP鷹からのデジ
タル信号、例えば論理値[HJ 、rLJによって切替
え動作を行なう。
またモータ5の回転軸に連結してPGTのパルス信号は
、スイッチ115を介してカウンタ114&C入力する
そしてカウンタ114は、このパルス信号のパルス数を
計数すると共に、その計数値をマイコン100のI10
ポートのうちボー)Dsに送ル出す。
尚、カウンタ114はボー)Dae介してマイコン10
0から任意のデジタル値をプリセット可能である。また
、スイッチ115はPGTのパルス信号をカウンタ11
4へ入力するか否かを切替えるためにマイコン100の
I10ボートのうち出力動作を行なうボートP1からの
デジタル信号、論理値rHJ、「L」によって制御され
る。また、スイッチ119は0°のオリ・フンと90°
のオリ・フンとを切替えるものである。
スイッチ119の切替えが端子a側のとき、マイコン1
000入力動作を行なうボートI!には「H」が印加さ
れたものと見なされ、0°のオリ・フンが指定される。
端子す側のときは、ボートエ、に「L」が印加されたも
のと見なされ、90°のオリ・フンが指定される。
次に、本装置の全体の動作を第5〜第1O図を′参照し
て説明する。
第5図は、第1.第2図に示したウニノ・搬送装置によ
シ0°のオリ・フン、90°のオリ・7うを実行するた
めのマイコン100のフローチャート図である。第6図
は第4図中の各信号のタイムチャート図であ夛、0°の
オリ・フンの場合を示す。
さて、第1図のようにウニノ・がセンタリングされた状
態で、テーブル2の真空吸着が行なわれる。
その後、第5図のステップ200で、ボートP1に「L
」、ボー) P2に「H」、ボートP4に「L」を出力
して、スイッチ115をOFFに、スイッチ116′f
r、高電圧HV側に、Tr 118をOFFにイニシャ
ライズする。次のステップ201でマイコン100はボ
ートl、を読み込み、スイッチ119が「H」(解放)
状態ならばステップ202に進み、「L」 (接地)状
態ならばステップ203に進む。
ステップ202は0°のオリ・フンのために1カウンタ
114にプリセットするデータを、テーブル2の1回転
(360°)中にPGTから発生するパルス数と等しく
して、ボー)Dsから出力するものである。
また、ステップ203は90’のオリ・フンのために、
カウンタ114にプリセットするデータを、テーブル2
の3/4回転(270°)中にPGTから発生するパル
ス数と等しくして、ボー)Daから出力するものである
次に、ステップ204で、マイコン100はポ−トP、
にrLJを出力してTrl17を導通してモータ5に高
電圧Hvを印加する。これKよシモータ5は高速回転を
開始する。
さて、ウニへ鳥の回転に伴って、アンプ110の信号E
1は第6図のように変化する。尚、#I6図は横軸を時
間に、縦軸を電位として定めである。
モータ5が時刻t0で高速回転を始め、その後ウェハの
サブフラットの中心部が光電素子PDの真上に位置する
と、アンプ110は時刻t、において信号E1が極大値
となるピークP8を発生する。さらにウェハの回転が続
くと、主7ラツトの中心部が光電素子FDの真上に位置
する時刻t、において、アンプ110は信号E、が最大
値となるピークPMを発生する。主フラットの切欠き量
はサブフラットよルも多いので、第6図の如くピークP
Mの波高値の方がピークpsよシも大きくなる。従って
ピークPMのみを判別して検出することによってウェハ
の主フラットの検出が正確に行なわれる。しかしながら
、ウェハに回転に伴う偏心が生じていると、信号E、は
第6図のようにきれいに発生せ男ウェハの円周部分で生
じる信号Eiの直流電位が偏心に伴って変動してしまい
、最悪の場合ビークPR、PMの波高値の関係が逆にな
ってしまうこともある。本装置ではこの点を考慮して、
あらかじめセンタリング動作によルウエノ−の偏心を取
ル除いであるので、1つの光電素子PDで十分フラット
の判別検出が可能となる。
そして、上述の如き信号E1はBPFIIIによって微
分されて、第6図のような信号Ex を得る。信号Et
KPaが生じると、信号E、には単振動的な過渡応答波
T8が生じ、ピークPMが生じると、過渡応答波Taよ
シも振動が大きい過渡応答波Tytが生じる。この応答
波Ta 、 TMの振動中心は、ピークPs 、 PM
の波高値の時刻t、 t ”*に対応している。
この信号E2は第1検出回路112に入力して、所定の
スレッシホールドレベル±vrと比較すると共に、振動
の大きな応答波TMのみを検出して時刻t!の前後でパ
ルス込を生じるような信号鳥を発生する。さらに信号E
、は第2検出回路113に入力して、応答波Ts 、 
TMの振動中心である零クロス点をウィンド・コンパレ
ータ等で検出して、時刻t1 z t、においてパルス
p、 t Dlを生じるような信号E4を発生する。
さて、マイコン100は第5図のステップ205で、モ
ータ5が回転し始めた時刻t0からポー)Isを読み込
む。
そして時刻t!において、パルスD1とパルスDsとで
アンドがとれると、すなわちウェハ鳥の回転中に主フラ
ットの中心部が光電素子PDの真上に位置したとき、マ
イコンZooは11=rHJを検出して、ステップ20
6に進み、ボートP1に論理rHJt出力してスイッチ
115t−閉じると共に1ボートD8を入力動作にして
カウンタ114のデジタル値の読み込みを開始する。そ
して第7図の如く時′jgJt、からPO2のパルス信
号EPはカウンタ114に入力し、カウンタ114はそ
のパルスを前述の如くプリセットされたデジタル値から
順次減算していく。マイコン100は時刻t!以降、カ
ウンタ114の計数値のみに基づいて主フラットの位置
を定める。
詳しく述べるなら、マイコン100はステップ207で
計数値が零に近づいた所定値nになったことを検知した
とき、例えば第6図で時刻t、のときステップ208に
進み、ポート烏に論理rLJを出力し、スイッチ116
を低電圧Lv側に切替えてモータ5を低速回転にする。
すなわち、ウェハが時刻t、から1回転又は3/4回転
を終了する前にウェハの回転を減速して、慣性によるオ
ーバランの影響を防止する。さらにその状態で1.マイ
コン100はステップ209でカウンタ114の計数値
が零になったか否かを判定しつつ、時刻t4において零
のときステップ210に進み、ポートP、 j p、か
ら共に論理rHJを出力してTrl17を不導通に、T
r 118を導通状態に切替える。
これによシモータ5の逆起電力1jTrl18で短絡さ
れて、ウェハの回転は急停止する。
従って、ウェハ鳥の主フラン)Fが光電素子PDの真上
に位置し、かつ主フラン)Fの直線的な切欠き方向がX
方向と一致する時刻1.から、ウェハ鳥は正確に1回転
(360°)又は374回転(270°)した後、停止
する。
さて、ウェハhの主フラン) F 7!Ii O’方向
又は90°方向に向くと、マイコン100はテーブル2
の真空吸着を解除して、エアフローに切替える。そして
、アーム8がウェハ% tl”押圧して、ウェハ鳥をロ
ーラ6a〜6dK尚接させる。そこで00方向と90°
方向のウェハ搬送装置上での位置決めについて、第7図
、第8図に基づいて説明する。
θ°方向の位置決めは第7図のように行なわれる。
第7図はアーム8がウニへ鳥を押圧して、位置決めされ
た状態を示し、主フラン)FはX方向の直線上に配置さ
れたローラ6aと6bと当接し、ウェハhの円周の一ケ
所がロー、y6dと当接する。これによって、W8の主
フラン)Fの切欠き方向がX方向と一致するように位置
決めされる。尚00方向の位置決めが達成された状態で
、ウェハW8の中心0番とセンターアップlOの中心0
.とは一致するように定められている。
一方、90°方向の位置決めは第8図のように行なわれ
る。
第8図は、ウェハ鳥が90°方向に位置決めされた状態
を示し、主フラットFはX方向の直線上に配置されたロ
ーラ6cと6dと当接し、ウェハhの円周の−り所がロ
ーラ6bと当接する。これによってウェハ鳥の主フラッ
トFの切欠き方向がX方向と一致するように位置決めさ
れる。尚、この場合、ウェハ鳥の中心0.はセンターア
ップlOの中心0.からずれて位置決めされる。
また、位置決めの精度、再現性を向上するため、ローラ
6aと6bの間隔及びローラ6cと6dの間隔は、フラ
ン)Fのできるだけ離れた2欠所が当接するようK、す
なわちフラットFの長さよシも若干短かめに定めておく
ことが望ましい。
以上のように、ウェハ搬送装置上では、X方向の、直線
上に配置された第1基準部材の当接部としての2つのロ
ーラ6a 、6bと、X方向と直交するX方向の直線上
に配置された第2基準部材の当接部としての2つのロー
ラ6e 、6dとを設け、ウェハの72ツ)Fの直線方
向をX方向と一致させて位置決めするときは、フラン)
Fがローラsa 、6bK当接すると共に、ウェハの円
周の−り所がローラ6dK尚接し、フラットFの直線方
向をX方向と一致させて位置決めするときは、フラット
Fがローラ6c 、6dK当接すると共に、ウェハの円
周の一ケ所がローラ6bK尚接するように、4つのロー
、y6a〜6dを配置することによって、ウェハの2方
向の位置決めを行なうものである。
尚、第7図(第8図)では、o−ラ6a、6b(6a、
6d)がフラン)FK当接した状態で、ウェハ鳥の円周
の−り所はローラ6d (6b)K当接するが、各ロー
ラの配置によっては、ローラ6o (6a)に当接する
場合もある。
さて、テーブル2上でブリ・アライメントされたウェハ
鳥は、前述のようにセンターアップ10の上昇、スライ
ダーアーム14の搬送によって、ステージ上のウェハホ
ルダ2oに受ケ渡すれる。
まず0°のオリ・フジの場合は第9図のように2回目の
ブリ・アライメントが行なわれる。ウェハりが載置面2
1上に載置されると、第3図に示した排気孔21cによ
ってエアフローされ、ウェハhはわずかに浮上する。そ
のてプランジャ23が作動して押圧部材24がウェハ鳥
の周端部を押圧する。
これによって第1図のようにウェハ鳥の主フラットはロ
ーラ25b 、25eに当接し、ウェハ鳥の円周の一ケ
所はロー226alC尚接する。この時、ローラ25b
 、25cは主フラットの、なるべく離れた2ケ所で当
接することが望ましく、また、ローラ26aはウェハW
、の径方向を規定するために、ウェハ鳥の中心04を通
り、主フラットFと平行な直線t1とウェハ鳥の円周が
交わる位置、すなわちウェハ鳥の最大径の位置で当接す
ることが望ましい、このように3つのローラ25b・2
5c。
26a′t−配置することによって、ウェハ鳥のホルダ
20に対する位置決めは極めて正確なものとなる。また
この時、ロー225LはX方向に主フラットFよシもδ
だけ退避した位置にあシ、ロー226b 、26cはX
方向にローラ26aよルもδだけ離れた位置にある。こ
のため、抑圧部材24の押圧にょシウェハW、が位置決
めされたとき、ローラ25a、26b、26cは’;l
’ 工/X wzと当接することはない。
さて、90°のオリ・フジの場合は、第10図のように
行なわれる。このとき、ウェハw2の主フラットFはo
−、y26b 、26cVca接し、ウェハW、の円周
の−り所はロー225aに当接する。
この場合も0°のオリ・フジのときの条件と同様に、ロ
ーラ26b 、26cは主フラットFのなるべく離れた
2ケ所で当接し、ローラ25aはウェハW、の中心04
を通ル、フラットFと平行な直線t、上でウェハ鳥と当
接する。
以上のよ5乱 6つのローラ25a〜25c。
266〜26eのうち、3つのローラが00のオリ・フ
ン、90°のオリ・フジの各々に対して同一条件でウェ
ハhと当接するため、両方向の位置決めに対して精度が
異なることなく、極めて再現性のよい位置決めが達成さ
れる。
さて、このように押圧部材24がウェハ尚を押圧してO
oのオリ・フン又は90’のオリ・ンラが達成された段
階で、第3図に示した吸気孔21bによって真空吸着が
行なわれると共に、排気孔21eによるエアフローが停
止する。そして真空吸着時のバキュームセンサーに基づ
いて、吸着完了が確認されると、プランジャ23の作動
を停止し、押圧部材24をクエへW、から退避させる。
こりしてウェハ鳥は2回目Ωプリアライメントが達成さ
れた状態でウェハホルダ2oの載置面21に平坦化され
て固定される。
また、上記排気孔21aはエアフローのために気体を排
出するだけでなく、吸気孔21bと同様に吸気動作する
ようにすれば、載置面21上の6ケ所で真空引きされる
がら、ウェハはより均一に吸着され、平坦度も向上する
尚、第9図、第10図からもわかるように、ウェハホル
ダ2oの中心o8に対するウェハhの中心04は oO
のオリ・フジ時と、9o0のオリ・ フジ時とで若干ず
れている。このため 00のオリ・フジ時と906のオ
リ・フジ時とで、スライダーアーム14からウェハホル
ダ2oへの受は渡し位置が若干ずれることになる。
この制御はマイコン100がボー1’ Itを読み込み
、ステージを受は渡し位置に移動させる際に若干補正す
ることKよって行なわれる。この中心O。
のずれは第7図、第8図のように1回目のブリ・アライ
メント時においても同様に発生するから、このときのず
れも含めてウェハのステージへの受は渡し位置を補正す
るように、ステージを移動させる。
尚、本実施例においては、ウェハをウェハ搬送装置内の
テーブル2上でローラ6a、6b、6c、6dに当接さ
せた後、再度ステージ上のウェハホルダ20で同様にロ
ーラ25a〜25c 、268〜26cに当接させて位
置決めした。しかしながら、ウェハホルダ20上の位置
決め完了までの総合時間を短縮したい場合は、ウニノ・
のローラ6a、6b 、6c 、6dへの当接ステップ
を省略してもよい。これは本実施例では、ウニノ1のテ
ーブル2への搬送後、センタリング動作を行ない、ウェ
ハの中心とテーブル2の回転中心とを一致させるため、
回転に伴う偏芯がなく、フラットFがテーブル2上て正
確に位置決めされるからである。
具体的には、テーブル2f、回転させてフラットFが光
電素子PDの真上に位置したとき、テーブル20回転を
停止させる。そしてセンターアップ10の真空吸着t−
m始すると共に、センターアップ10′f、上昇させ、
テーブル2の真空吸着を解除し、ウェハをセッターアッ
プ10に受は渡す。以後は本実施例と同様にステージま
で搬送すれによい。
さて、以上の実施例では、抑圧部材24によってウェハ
の抑圧を斜め45°の一方向カ1ら行ない、その分力で
ウェハの17方向の位置決めを行なった。しかしながら
、X方向、X方向の押圧を第11図のように独立に行な
うようにしてもよい。
第11図において、ウェハWx k X方向に押圧する
揺動部材30と、X方向に押圧する揺動部材31とを設
ける。
今、θ°のオリ・7,7のウェハ尚が載置されると、ま
ず初めに揺動部材31が揺動し、回転自在に取付けられ
たローラ30aが、ウェハ鳥をローラ26alllJK
押圧する。その後、揺動部材3五が揺動し、回転自在に
取付けられたローラ31aがウェハ鵬ヲローラ25b 
、25c側に押圧する。このとき、ローラ30aはウェ
ハ鳥の中心0番を通電、フラン)Fに平行な直線t□に
対して角度θだけ72ツトFから離れた位置でウェハ鵬
に当接し、中心0番に向う押圧力を発生する。
このよう処することによって、ロー>30aとローラ2
6aによってウェハw8がはさまれたとき、ウェハ鳥は
回転可能であると共に、揺動部材31側に浮動すること
なく、ローフ25b 、25c側に当接しようとする。
そして、その後ローラ31aがウェハ鳥を押圧するから
、フラン)Fが微小に傾いていたとしてもローラ25b
 、25cの両方に当接し、正確な位置決めが達成され
る。
また、90°のオリ・フンのウェハの場合も同様であル
、このときウェハ凧の中心は中心04′となシ、直線t
1は直線t1′となる。
そして、初めに揺動部材31が揺動して、ウェハW、 
tロー225mと311Lではさみ込み、続いて揺動部
材30を揺動させて、ウェハ鳥のフラットFをローラ2
6b 、26cに当接させる。
このため、ローラ31aは直線t1′に対して角度θだ
けフラン)Fから離れた位置て、中心04′に向う押圧
力を発生する。
以上の実施例によれば、浮上したウェハ鳥を確実に押圧
することができ、斜め45°の方向から押圧するよ)も
安定した位置決めが達成される。
また、その他の変形例として、基準部材の当接部をロー
ラとせずに、単なる突出部として形成してもよい。例え
ば第12図のように、第1基準部材40と第2基準部材
41とを各々、X方向とX方向に沿って配置する。そし
て第1基準部材40には第3.9,10.11図のロー
ラ25a、25b、25cのかわルに突出部40a 、
 40b 、 40aを設け、第2基準部材41にはロ
ーラ26a 。
26b 、26cのかわシに突出部41a 、41b、
41cを設ける。突出部40bと40cを結ぶ線分はX
方向と一致し、突出部40aはその線分よりaだけウェ
ハホルダ20の外側に変位して形成されている。また突
出部41bと41cを結ぶ線分はX方向と一致し、突出
部41aはその線分よりaだけウェハホルダ20の外側
に変位して形成される。
(発明の効果) 以上、本発明によればO0方向と90°方向との2方向
のウェハ位置決めに両用できると共に1両方向の位置決
めに関して、3つの当接部がウェハと当接するだけなの
で、ウェハを押圧したとき、ウェハは回転しやすく、極
めて精度よく位置決めされる。
さらにウェハと当接するKxs第2基準部材悼、それぞ
れ0°方向と90°方向の2ケ所にのみ設けられている
から、0°方向での位置決め完了時のウェハの位置と、
90°方向での位置決め完了時のウェハの位置とは若干
ずれるだけであシ、引き続く真空吸着を考慮して、ウェ
ハホルダの載置面の形状を特別なものにする必要がなく
、両方向で位置決めされたウェハを確実に固定できると
いう利点もある。
さらに、第1と第2基準部材が、O0方向と90゜方向
のそれぞれに−設けられているだけであるからウェハの
円周上その他の方向には空間的に干渉するものがなく、
抑圧部材の配置の自由度が大きくなると共に、ウェハの
ロー′ドやアン・ロードの方向性にも自由度が大きくな
るという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る装置が用いられる投影型露光装置
において、ウェハ搬送装置上で位置決めする本発明の実
施例を示す全体構成の平面図、第2図はそのウェハ搬送
装置の一部断面図、第3図は本発明のよシ望ましい実施
例を示すウェハホルダの平面図、第4図はウェハ搬送装
置でウェハの位置決めを行なうための制御回路の回路ブ
ロック図、第5図は、その制御回路中で用いられるマイ
クロコンピュータのフローチャート図、第6図は、その
制御回路中の各信号の様子を示すタイムチャート図、第
7図、第8図は、第1.第2図に示した本発明の実施例
による装置の位置決め動作を説明する図、第9図、第1
0図は第3図に示した本発明のよシ望ましい実施例によ
るウェハホルダの位置決め動作を説明する図、第11図
、第12図は本発明の他の実施例による位置決め装置の
平面図である。 〔主要部分の符号の説明〕 2・・・回転テーブル、6a、6b、25a、25b。 25c・・・第1基準部材の笛接部としてのローン、6
a、6d、26JL、26b、26e・・・第2基準部
材の嶋接部としてのローラ、8・・・アーム、20・・
・ウェハホルダ、24・・・押圧部材、30.31・・
・揺動部材、40・・・第1基準部材、41・・・第2
基準部材出願人  日本光学工業株式会社 代理人 渡 辺 隆 男

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 円板状のウェハの周辺を押圧して、該ウェハの周辺に形
    成された直線的な切欠き全基準部材に当接させることに
    よシ、該ウェハを位置決めする装置において、第1方向
    に沿って設けられた複数の当接部を有する第1基準部材
    と;前記第1方向と略直交する第2方向に沿って設けら
    れた複数の当接部を有する第2基準部材とを備え、前記
    切欠きの直線方向が前記第1方向と略一致するように前
    記ウェハを位置決めするときは、前記第1基準部材の2
    つの尚接部が前記切欠きに当接すると共に、前記第2基
    準部材の1つの当接部がウェハの円周端に当接し、前記
    切欠きの直線方向が前記第2方向と略一致するように前
    記ウェハを位置決めするときは、前記第2基準部材の2
    つの当接部が前記切欠きに当接すると共に、前記第1基
    準部材の1つの当接部がウェハの円周端に当接するよう
    に、前記第1及び第2基準部材を設けたことを特徴とす
    るウェハの位置決め装置。
JP58095190A 1983-05-30 1983-05-30 ウエハの位置決め装置 Granted JPS59219931A (ja)

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JPH0330990B2 JPH0330990B2 (ja) 1991-05-01

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6323322A (ja) * 1986-07-16 1988-01-30 Kyushu Denshi Kinzoku Kk 半導体ウエハ−の保護膜除去装置
US6094255A (en) * 1997-02-04 2000-07-25 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method that floats a plate
KR100558774B1 (ko) * 1997-07-15 2007-04-25 동경 엘렉트론 주식회사 위치결정장치및위치결정방법

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